CN111384087A - 有机发光二极管显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种有机发光二极管显示面板，该有机发光二极管显示面板包括对应电子元件位置的电子元件显示区，所述电子元件显示区包括透光区，位于所述透光区内的电极层为透明导电层；本发明通过将透光区的电极层设置为透明电极层，使得无需去除显示物质，即无需挖孔电子元件显示区也可正常显示，解决现有技术的缺陷，实现全面屏。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其是一种有机发光二极管显示 面板。
背景技术
随着全面屏技术的发展，屏下摄像头等电子元件放置在显示 屏下的技术是发展趋势。
现有OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管) 显示面板的阴极结构为平铺显示面板，其材料为镁银合金、或者 镁银叠层结构，由于银对光线具有较大的反射率，外界光线穿过 阴极结构时，损耗较多。因此现有技术为了保证屏下电子元件， 如摄像头的采光效果，需要将摄像头上方的显示物质(包括TFT 电路、发光层、阴极结构等)去除，即挖孔技术，但是这种技术 对应的挖孔区域由于没有显示物质，不能显示，不是真正意义上 的全面屏。
所以，现有技术存在缺陷，需要改进。
发明内容
本发明提供一种有机发光二极管显示面板，用以解决现有技 术存在对显示屏进行挖孔的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种有机发光二极管显示面板，其包括对应电子 元件位置的电子元件显示区，所述电子元件显示区包括：透光区， 位于所述透光区内的电极层为透明导电层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，所述电子元件 显示区还包括：设置在所述透光区外的像素电路区，包括对应像 素单元的驱动电路设置位置的电路区、以及对应驱动电路信号线 设置位置的信号线区。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述电路 区内的电极层为透明导电层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述电路 区内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述电路 区内的电极层包括透明导电层和镁银合金层，或者透明导电层和 镁银叠层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，所述透明导电 层位于发光材料层上，所述镁银合金层或者镁银叠层位于所述透 明导电层上。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述信号 线区内的电极层为透明导电层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述信号 线区内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述信号 线区内的电极层包括透明导电层和镁银合金层，或者透明导电层 和镁银叠层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，所述有机发光 二极管显示面板还包括围绕所述电子元件显示区的标准显示区， 位于所述标准显示区内的电极层包括镁银合金层或者镁银叠层。
在本发明提供的有机发光二极管显示面板中，位于所述标准 显示区内的电极层还包括透明导电层。
本发明的有益效果为：本发明提供一种有机发光二极管显示 面板，该有机发光二极管显示面板包括对应电子元件位置的电子 元件显示区，所述电子元件显示区包括透光区，位于所述透光区 内的电极层为透明导电层；通过将电子元件显示区内透光区处的 电极层设置为透明电极层，外界光线通过透明电极层即可到达位 于显示屏下方的电子元件，使得无需去除电子元件上方的显示物 质，即无需挖孔，则电子元件显示区也可正常显示，解决现有技 术需要挖孔的缺陷，实现全面屏。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将 对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而 易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领 域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根 据这些附图获得其他的附图。
图1现有OLED显示面板示意图；
图2为本发明OLED第一显示面板示意图；
图3为本发明OLED第一显示面板AA’截面图；
图4为本发明OLED第二显示面板示意图；
图5为本发明OLED第二显示面板BB’截面图；
图6为本发明OLED第三显示面板示意图；
图7为本发明OLED第三显示CC’截面图；
图8为本发明OLED显示面板制备流程图；
图9为本发明OLED显示面板制备第一示意图；
图10为本发明OLED显示面板制备第二示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可 用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、 [下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是 参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解 本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以 相同标号表示。
本发明针对现有电子元件技术存在缺陷的技术问题，本发明 实施例可以解决该问题。
如图1所示，现有的OLED(有机发光二极管)显示器将摄像 头设置于显示屏下，即电子元件技术，而显示面板的阴极结构为 整面的镁银合金或者镁银叠层，由于银对光线具有较大的反射率， 为了使摄像头有更好的采光，一般将电子元件对应区域11的显示 物质进行挖除，即挖孔技术，则只有标准显示区12(即电子元件 对应区域11之外的所有显示区)能进行显示，电子元件对应区域 11无法显示，不是真正意义上的全面屏，即现有电子元件技术存 在缺陷，需要改进。
如图2、图3，图4、图5，图6、图7所示，本发明实施例提 供一种OLED显示面板，其包括对应电子元件位置的电子元件显示 区32，所述电子元件显示区32包括：
像素电路区322，包括对应像素单元的驱动电路的电路区 3221、以及对应驱动电路信号线的信号线区3222；
透光区321，包括所述像素电路区322之外的电子元件显示区；
其中，位于所述透光区321内的电极层为透明导电层2301， 这样外界光线即可穿过透光区321，到达设置在屏下的电子元件， 如摄像头、光线传感器等，使得这样电子元件实现对应的功能。
在一种实施例中，电极层为阴极层，整面铺设在像素定义层 上方。
在一种实施例中，位于所述电路区内的电极层为透明导电层。
在一种实施例中，位于所述电路区内的电极层为镁银合金层 或者镁银叠层。
在一种实施例中，位于所述电路区内的电极层为镁银合金层 或者镁银叠层。
在一种实施例中，位于所述电路区内的电极层包括透明导电 层和镁银合金层，或者透明导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述透明导电层位于发光材料层上，所述 镁银合金层或者镁银叠层位于所述透明导电层上。
在一种实施例中，位于所述信号线区内的电极层为透明导电 层。
在一种实施例中，位于所述信号线区内的电极层为镁银合金 层或者镁银叠层。
在一种实施例中，位于所述信号线区内的电极层包括透明导 电层和镁银合金层，或者透明导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述有机发光二极管显示面板还包括围绕 所述电子元件显示区的标准显示区(即显示区去除电子元件显示 区之外的所有区域)，位于所述标准显示区内的电极层包括镁银合 金层或者镁银叠层。
在一种实施例中，位于所述标准显示区内的电极层还包括透 明导电层。
在一种实施例中，位于电子元件显示区的透明导电层、和位 于标准显示区的透明导电层同层设置。
如图2、图3，图4、图5，图6、图7所示，本发明实施例提 供一种OLED显示面板，该OLED显示面板包括基板、驱动电路层、 像素定义层、发光层，所述基板包括衬底111、阻挡层112、第一 栅极绝缘层113、第二栅极绝缘层114、层间绝缘层115、平坦化 层116和像素定义层117，所述驱动电路层包括有源层120、源极 121、漏极122、第一栅极123和第二栅极124，所述发光层包括 发光单元和电极层，所述发光单元包括阳极层210，发光材料层 220。
在一种实施例中，如图2、图3所示，所述电极层包括设置于 所述标准显示区31和电子元件显示区32的透明电极层2301，所 述电子元件显示区32包括透光区321和像素电路区322，所述像 素电路区322包括对应像素单元的驱动电路的电路区3221、以及 对应驱动电路信号线的信号线区3222。
本发明实施例通过将所述电极层设置为透明电极层，使得在 保证正常显示的同时，使得外界光线穿过电极层时，损耗较小甚 至不损耗，从而使得电子元件区无需挖孔，可正常显示，从而实 现真正意义上的全面屏；而标准显示区由于电极层为透明电极层， 也会通过所有的外界光可能影响到显示质量，所以提出下述实施 例。
在一种实施例中，如图4、图5所示，所述电极层包括设置于 所述标准显示区31和电子元件显示区32的透明电极层2301，以 及设置于所述标准显示区31中透明电极层2301上的镁银合金层 2302，所述电子元件显示区32包括透光区321和像素电路区322， 所述像素电路区322包括对应像素单元的驱动电路的电路区3221、 以及对应驱动电路信号线的信号线区3222。
本发明实施例通过将电极层分为两层，将下面一层电极层设 置为透明电极层，然后在标准显示区的透明电极层上设置镁银合 金层，使得光线能较好的通过电子元件显示区，无需挖孔，实现 真正意义上的全面屏，同时使得外界光线难以进入标准显示区， 使外界光线难以影响显示质量。
在一种实施例中，如图6、图7所示，所述电极层包括设置于 所述标准显示区31和电子元件显示区32的透明电极层2301，所 述电子元件显示区包括透光区321和像素电路区322，所述电极层 还包括设置于所述标准显示区31和所述像素电路区322中透明电 极层2301上的镁银合金层2302，所述像素电路区322包括对应像 素单元的驱动电路的电路区3221、以及对应驱动电路信号线的信 号线区3222。
本发明实施例通过将电极层分为两层，将下面一层电极层设 置为透明电极层，然后在标准显示区和像素电路区的透明电极层 上设置镁银合金层，使得光线能较好的通过电子元件显示区，无 需挖孔，实现真正意义上的全面屏，进一步的防止了外界光线进 入非透光区，使外界光线难以影响显示质量。
在一种实施例中，所述透光区内的电极层为透明导电层，所 述电路区内的电极层为透明导电层，所述信号线区内的电极层为 透明导电层和镁银合金层，或者为透明导电层和镁银叠层，所述 标准显示区内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明 导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述透光区内的电极层为透明导电层，所 述电路区内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层，所述信号线区 内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明导电层和镁 银叠层，所述标准显示区内的电极层为透明导电层和镁银合金层， 或者为透明导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述透光区内的电极层为透明导电层，所 述电路区内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明导 电层和镁银叠层，所述信号线区内的电极层为透明导电层和镁银 合金层，或者为透明导电层和镁银叠层，所述标准显示区内的电 极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述透光区内的电极层为透明导电层，所 述电路区内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明导 电层和镁银叠层，所述信号线区内的电极层为透明导电层，所述 标准显示区内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明 导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述透光区内的电极层为透明导电层，所 述电路区内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明导 电层和镁银叠层，所述信号线区内的电极层为镁银合金层或者镁 银叠层，所述标准显示区内的电极层为透明导电层和镁银合金层， 或者为透明导电层和镁银叠层。
在一种实施例中，所述透光区内的电极层为透明导电层，所 述电路区内的电极层为透明导电层和镁银合金层，或者为透明导 电层和镁银叠层，所述信号线区内的电极层为镁银合金层或者镁 银叠层，所述标准显示区内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层。
在本发明实施例中，保证所述透光区内的电极层为透明电极 层，则可以使得外界光通过电子元件显示区时能较好的通过，损 耗较小，无需挖孔，从而显示真正意义上的全面屏，而在标准显 示区、电路区、像信号线区中的至少一个的透明电极层上设置镁 银合金层或者镁银叠层，或者使标准显示区、电路区、信号线区 中的至少一个内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层，不同的设 置方式将不同程度的防止光线进入非透光区，从而提高显示品质。
在一种实施例中，所述衬底可为柔性基板，并且可以由具有 良好耐热性和耐久性的塑料诸如聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇 酯(PET)、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯(PAR)、聚醚 酰亚胺等形成；所述衬底还可以由各种其它合适的材料诸如金属、 玻璃等形成。
在一种实施例中，所述阻挡层为无机材料，用于防止水汽入 侵以及离子注入，所述阻挡层材料为SiNx、SiOxNy、SiOx,、SiCxNy、 ZnO、AlOx，但本发明实施例不限于此。
在一种实施例中，栅极绝缘层用于使有源层和栅极绝缘，且 栅极绝缘层可为有机材料或者无机材料，无机材料包括氮化硅 (SiNx)或氧化硅(SiO2)，但本发明实施例不限于此，且第一栅极 层与第二栅极层可为相同材料或者为不同材料制成，例如第一栅 极层为有机材料制成，第二栅极层为无机材料制成。
在一种实施例中，所述平坦化层用于去除所述基板的不平， 所述像素定义层用于定义发光区域，所述平坦化层与所述像素定 义层的材料可相同或者不同，材料包括、聚丙烯酸酯类、聚碳酸 脂类、聚苯乙烯，但本发明不限于此。
在一种实施例中，所述有源层可以包括源区、漏区和沟道区， 所述有源层可由无机半导体诸如非晶硅或多晶硅、有机半导体、 或氧化物半导体形成。
在一种实施例中，栅极可以形成在栅极绝缘层上，栅极材料 可为金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、镍(Ni)、铂(Pt)、钯(Pd)、铝(Al)、 钼(Mo)或合金诸如铝钕合金、钼钨合金，但本发明实施例不限于 此，且第一栅极与第二栅极可为不同材料例如第一栅极为银，第 二栅极为铝。
在一种实施例中，所述发光材料层包括空穴注入层、空穴传 输层、激子复合层、电子传输层和电子注入层。
本发明实施例提供一种OLED显示装置，其包括OLED显示面 板和摄像头，所述OLED显示面板可为上述实施例中的任一OLED 显示面板，所述摄像头设置于所述OLED显示面板下，通过在显示 面板对应所述摄像头的电子元件显示区设置像素电路区和透光 区，并控制透光区内的电极层为透明导电层，使得外界光在通过 电极层时，损耗较小甚至无损耗，无需在电子元件显示区挖孔， 从而实现全面屏显示，且摄像头能有较好的采光，可呈现完整清 晰的像。
如图8所示，本发明实施例提供一种OLED显示面板制备方法， 其包括：
步骤S1，提供基板；
步骤S2，在所述基板上形成驱动电路层，所述驱动电路层图 案化形成有驱动电路以及驱动电路信号线；
步骤S3，在所述驱动电路层上形成像素定义层；
步骤S4，在所述像素定义层定义的发光区域内形成发光单元；
步骤S5，形成电极层；所述电极层位于透光区的部分为透明 导电层，所述透光区包括像素电路区之外的电子元件显示区，所 述电子元件显示区为显示面板对应电子元件位置的区域，所述像 素电路区包括所述电子元件显示区内显示面板对应像素单元的驱 动电路以及对应驱动电路信号线的区域。
在一种实施例中，所述形成电极层的步骤包括：形成平铺所 述显示面板的透明导电层；在所述透明导电层上形成平铺所述显 示面板的镁银合金层或者镁银叠层；去除位于所述透光区内的镁 银合金层或者镁银叠层。
如图9所示，本发明实施例提供一种OLED显示面板制备方法， 其包括：
步骤91，制备基板，所述步骤61包括提供衬底111，在所述 衬底111上形成阻挡层112，在所述阻挡层112形成有源层120， 在所述有源层120上形成第一栅极绝缘层113，在所述第一栅极绝 缘层113上形成第一栅极123，在第一栅极上123形成第二栅极绝 缘层114，在第二栅极绝缘层114上形成第二栅极124，在所述第 二栅极124上形成层间绝缘层115，在所述第一栅极绝缘层113、 第二栅极绝缘层114和所述层间绝缘层中间设置有过孔，在过孔中分别形成源极121和漏极122，在所述源极121与漏极122上形 成平坦化层116，在所述平坦化层116上形成像素定义层118，在 所述像素定义层118定义的发光区域内形成阳极层210，在所述阳 极层210上形成发光材料层220，效果如图9中的(1)所示；
步骤92，在所述发光材料层220上形成透明电极层2301，效 果如图9中的(2)所示；
步骤93，在所述透明电极层2301上形成镁银合金层2302， 所述镁银合金层设置在标准显示区31、透光区321和像素电路区 322，效果如图9中的(3)所示；
步骤94，去除透光区321的镁银合金层，效果如图9中的(4) 所示。
如图10所示，本发明实施例提供一种OLED显示面板制备方 法，其包括：
步骤101，制备基板，所述步骤71包括提供衬底111，在所 述衬底111上形成阻挡层112，在所述阻挡层112形成有源层120， 在所述有源层120上形成第一栅极绝缘层113，在所述第一栅极绝 缘层113上形成第一栅极123，在第一栅极上123形成第二栅极绝 缘层114，在第二栅极绝缘层114上形成第二栅极124，在所述第 二栅极124上形成层间绝缘层115，在所述第一栅极绝缘层113、 第二栅极绝缘层114和所述层间绝缘层中间设置有过孔，在过孔中分别形成源极121和漏极122，在所述源极121与漏极122上形 成平坦化层116，在所述平坦化层116上形成像素定义层118，在 所述像素定义层118定义的发光区域内形成阳极层210，在所述阳 极层210上形成发光材料层220，效果如图10中的(1)所示；
步骤102，在所述发光材料层220上形成透明电极层2301， 效果如图10中的(2)所示；
步骤103，在透明电极层2301上形成镁银合金层2302和无影 胶层2303，所述镁银合金层2302形成于标准显示区31和像素电 路区322，所述无影胶层2303形成于透光区321，效果如图10中 的(3)所示；
步骤104，去除透光区321上无影胶层2303，效果如图10中 的(4)所示。
在一种实施例中，透明电极层的材料可为金属氧化物如TiOx、 ITO、IZO、ZnOx、MgOx，也可以是石墨烯、碳纳米管，本实施例 选择具有低逸出功的材料，保证电子注入效率。
在一种实施例中，使透明电极层的覆盖面积不小于发光材料 层的面积，且透明电极层的覆盖面积不大于阳极覆盖层，使透明 电极层的厚度为5nm-100nm，本实施例选择透明电极层的厚度为 15nm，使得透明电极层具有较好的出光效率，且可有效保护发光 材料层。
在一种实施例中，使镁银合金层或者镁银叠层的厚度为5nm-300nm，本实施例选择140nm，可使其具有较好的出光效率。
在一种实施例中，去除镁银合金层或者镁银叠层的方式包括 在真空下等离子体轰击、湿蚀刻、激光切割等方式，但本发明实 施例不限于此。
在一种实施例中，可在透光区形成透明电极层、在像素电路 区设置镁银合金层或者镁银叠层，在标准显示区形成镁银合金层 或者镁银叠层，无需先在像素电路区和标准显示区形成透明电极 层，直接得到所需显示面板。
在一种实施例中，为了降低工艺难度，在电子元件显示区形 成透明电极层，在标准显示区形成镁银合金层或者镁银叠层，无 需在标注显示区形成透明电极层，直接得到所需显示面板。
根据以上实施例可知：
本发明实施例提供一种有机发光二极管显示面板及其制备方 法、显示装置，该有机发光二极管显示面板包括对应电子元件位 置的电子元件显示区，所述电子元件显示区包括像素电路区和透 光区，所述像素电路区包括对应像素单元的驱动电路的电路区、 以及对应驱动电路信号线的信号线区；所述透光区包括所述像素 电路区之外的电子元件显示区，位于所述透光区内的电极层为透 明导电层；通过将透光区的电极层设置为透明电极层，使得无需 去除显示物质，即无需挖孔，则电子元件显示区也可正常显示， 解决现有电子元件技术的缺陷，实现全面屏；本发明实施例通过 将透光区的电极层设置为透明电极层，然后在像素电路区设置透 明电极层，在标准显示区设置透明电极层，使外界光能较好的通 过电子元件显示区，无需挖孔，从而实现真正意义上的全面屏； 进一步的，为了防止外界光影响出射光，本发明实施例在标准显 示区的透明电极层上设置镁银合金层或者镁银叠层，使得外界光 线在经过标准显示区时被反射，不影响出射光；进一步的，为了 防止外界光影响出射光，本发明实施例在电路区和信号线区的透 明电极层上设置镁银合金层或者镁银叠层，使外界光线在经过像 素电路区时被反射，不影响出射光；通过在发光层上制备透明电 极层，然后在透明电极层上制备镁银合金层或者镁银叠层，然后 去除透光区的镁银合金层或者镁银叠层，使得在制备过程中不会 损坏透明电极层；而透明电极层的材料选取具有低逸出功的材料， 使其具有良好的显示性能；通过控制透明电极层的厚度，使其有 良好的出光效率的同时，保护发光材料层。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优 选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱 离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明 的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (11)
1.一种有机发光二极管显示面板，其特征在于，包括对应电子元件位置的电子元件显示区，所述电子元件显示区包括：
透光区，位于所述透光区内的电极层为透明导电层。
2.如权利要求1所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，所述电子元件显示区还包括：
设置在所述透光区外的像素电路区，包括对应像素单元的驱动电路设置位置的电路区、以及对应驱动电路信号线设置位置的信号线区。
3.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述电路区内的电极层为透明导电层。
4.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述电路区内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层。
5.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述电路区内的电极层包括透明导电层和镁银合金层，或者透明导电层和镁银叠层。
6.如权利要求5所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，所述透明导电层位于发光材料层上，所述镁银合金层或者镁银叠层位于所述透明导电层上。
7.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述信号线区内的电极层为透明导电层。
8.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述号线区内的电极层为镁银合金层或者镁银叠层。
9.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述信号线区内的电极层包括透明导电层和镁银合金层，或者透明导电层和镁银叠层。
10.如权利要求2所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，所述有机发光二极管显示面板还包括围绕所述电子元件显示区的标准显示区，位于所述标准显示区内的电极层包括镁银合金层或者镁银叠层。
11.如权利要求10所述的有机发光二极管显示面板，其特征在于，位于所述标准显示区内的电极层还包括透明导电层。
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