CN114740665B - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例公开了一种显示面板及显示装置；该显示面板包括第一基板、第二基板和液晶层，所述第一基板包括第一基底、薄膜晶体管层和像素电极，所述薄膜晶体管层包括位于绝缘层、以及位于所述绝缘层上方的多条数据线和多条扫描线，通过将数据线划分为与各像素电极相对应的多个第一子段、以及多个与各第一子段连接的第二子段，并将绝缘层和第一基底至少在对应各第一子段的位置的厚度之和设置成小于绝缘层和第一基底在对应像素电极的位置的厚度之和，从而降低了第一基板在对应数据线位置和对应像素电极位置的高度差，避免了由于第一基板平整度较低而产生配向不足的问题，保证了显示面板的正常显示。

Description

一种显示面板及显示装置
技术领域
本申请涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，大尺寸液晶显示技术受到广泛关注。
目前，在诸如采用氧化物薄膜晶体管的大尺寸显示面板中，通常通过增加数据信号线的厚度以降低数据信号线的阻抗，然而，随着数据信号线的厚度增加，降低了显示面板中阵列基板表面的平整度，尤其是阵列基板在对应数据信号线的位置形成有较高凸起，导致在使用诸如毛刷摩擦配向层进行配向的过程中，毛刷在经过阵列基板对应数据信号线的位置时无法及时下压，产生配向层在对应数据信号线附近位置的摩擦配向不足的问题，影响了显示面板的正常显示。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及显示装置，以解决大尺寸显示面板数据信号线厚度较厚导致配向不足的技术问题。
本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板、以及位于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，所述第一基板包括：
第一基底；
薄膜晶体管层，设置于所述第一基底上，所述薄膜晶体管层包括位于所述第一基底上的绝缘层、以及位于所述绝缘层上方的多条沿第一方向延伸的数据线和多条沿第二方向延伸的扫描线，所述第二方向设置成与所述第一方向呈一预设夹角；
多个像素电极，设置于所述薄膜晶体管层上且位于各所述数据线与各所述扫描线划分的区域内；
其中，所述数据线包括与各所述像素电极相对应的多个第一子段、以及多个与各所述第一子段连接的第二子段，任意相邻两所述像素电极之间均设有一所述第一子段，所述绝缘层和所述第一基底至少在对应各所述第一子段的位置的厚度之和小于所述绝缘层和所述第一基底在对应所述像素电极的位置的厚度之和。
在本申请实施例所提供的显示面板中，所述绝缘层包括多个与各所述第一子段相对应的第一凹槽，一所述第一凹槽内设有一所述第一子段；
在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽的深度小于或等于所述绝缘层的厚度。
在本申请实施例所提供的显示面板中，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽的深度等于所述绝缘层的厚度；
所述第一基底包括多个与各所述第一凹槽相对应的第二凹槽，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽与对应的所述第二凹槽连通，且所述第一子段至少部分位于所述第二凹槽内。
在本申请实施例所提供的显示面板中，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第二凹槽的深度小于所述第一基底的厚度。
在本申请实施例所提供的显示面板中，所述薄膜晶体管层还包括位于所述绝缘层与所述第一基底之间的第一金属层、设置于所述绝缘层远离所述第一金属层一侧第二金属层、以及设置于所述第二金属层和所述绝缘层上且覆盖所述第二金属层的钝化保护层，所述像素电极设置于所述钝化保护层上，所述第一金属层包括所述扫描线，所述第二金属层包括所述数据线；
在所述第一方向上，所述第一凹槽与任一所述扫描线的间距大于或等于1.5um。
在本申请实施例所提供的显示面板中，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽的深度小于所述绝缘层的厚度；
所述绝缘层包括多个与各所述第二子段相对应的连通槽，在所述第一方向上，相邻的两所述连通槽通过一所述第一凹槽连通，一所述连通槽内设有一所述第二子段。
在本申请实施例所提供的显示面板中，所述钝化保护层包括对应所述第一子段的凸台，所述凸台的厚度小于或等于300nm。
在本申请实施例所提供的显示面板中，所述第一基底包括多个与各所述第一子段相对应的第三凹槽，所述绝缘层设置于所述第一基底上且至少部分填充于所述第三凹槽内；
在垂直于所述第一基板的方向上，所述第三凹槽的深度小于所述第一基底的厚度。
在本申请实施例所提供的显示面板中，所述第二基板包括第二基底、以及设置于所述第二基底靠近所述第一基底一侧的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括多个与各所述像素电极一一对应的透光开口；
在所述第一方向上，所述第一凹槽的长度大于所述透光开口的长度。
本申请还提供一种显示装置，所述显示装置包括如前任意一项实施例所述的显示面板，还包括与所述显示面板结合的背光模组。
本申请实施例中，通过将数据线划分为与各所述像素电极相对应的多个第一子段、以及多个与各所述第一子段连接的第二子段，并将所述绝缘层和所述第一基底至少在对应各所述第一子段的位置的厚度之和设置成小于所述绝缘层和所述第一基底在对应所述像素电极的位置的厚度之和，从而降低了第一基板在对应数据线位置和对应像素电极位置的高度差，避免了由于第一基板平整度较低而产生配向不足的问题，保证了显示面板的正常显示。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例所提供显示面板的俯视图；
图2为本申请实施例所提供显示面板在所述像素电极位置的俯视图；
图3为本申请实施例所提供显示面板在图2B-B处截面的结构示意图；
图4为图2在A-A处截面的第一种结构示意图；
图5为图2在A-A处截面的第二种结构示意图；
图6为图2在A-A处截面的第三种结构示意图；
图7为图2在A-A处截面的第四种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
目前，在诸如采用氧化物薄膜晶体管的大尺寸显示面板中，通常通过增加数据信号线的厚度以降低数据信号线的阻抗，然而，随着数据信号线的厚度增加，降低了显示面板中阵列基板表面的平整度，尤其是阵列基板在对应数据信号线的位置形成有较高凸起，导致在使用诸如毛刷摩擦配向层进行配向的过程中，毛刷在经过阵列基板对应数据信号线的位置时无法及时下压，产生配向层在对应数据信号线附近位置的摩擦配向不足的问题，影响了显示面板的正常显示。
本申请实施例为了解决上述问题，提供一种显示面板及显示装置，以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
请参阅图1～图3，本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括第一基板100、与所述第一基板100相对设置的第二基板200、以及位于所述第一基板100与所述第二基板200之间的液晶层300，所述第一基板100包括第一基底110、薄膜晶体管层120和多个像素电极130，所述薄膜晶体管层120设置于所述第一基底110上，所述薄膜晶体管层120包括位于所述第一基底110上的绝缘层121、以及位于所述绝缘层121上方的多条沿第一方向10延伸的数据线122和多条沿第二方向延伸的扫描线123，所述第二方向20设置成与所述第一方向10呈一预设夹角，多个所述像素电极130设置于所述薄膜晶体管层120上且位于各所述数据线122与各所述扫描线123划分的区域内，其中，所述数据线122包括与各所述像素电极130相对应的多个第一子段1221、以及多个与各所述第一子段1221连接的第二子段1222，任意相邻两所述像素电极130之间均设有一所述第一子段1221，所述绝缘层121和所述第一基底110至少在对应各所述第一子段1221的位置的厚度之和小于所述绝缘层121和所述第一基底110在对应所述像素电极130的位置的厚度之和。本实施例中，通过将数据线122划分为与各所述像素电极130相对应的多个第一子段1221、以及多个与各所述第一子段1221连接的第二子段1222，并将所述绝缘层121和所述第一基底110至少在对应各所述第一子段1221的位置的厚度之和设置成小于所述绝缘层121和所述第一基底110在对应所述像素电极130的位置的厚度之和，从而降低了第一基板100在对应数据线122位置和对应像素电极130位置的高度差，避免了由于第一基板100平整度较低而产生配向不足的问题，保证了显示面板的正常显示。
需要说明的是，所述数据线122包括与各所述像素电极130相对应的多个第一子段1221、以及多个与各所述第一子段1221连接的第二子段1222，其中，所述第一子段1221可以是位于相邻两像素电极130之间，在一所述数据线122中，相邻两所述第一子段1221通过一所述第二子段1222连接，在所述第一方向10上，所述第一子段1221的长度可以大于所述像素电极130的长度，降低在所述第二方向20上相邻两所述像素电极130出现摩擦配向不足的几率；此外，本实施例中，所述显示面板还包括配向层(图中未出示)，所述配向层设置于所述薄膜晶体管层120和多个所述像素电极130上，所述像素电极130可以为四畴或八畴等结构，在此不以为限，多条沿第一方向10延伸的数据线122和多条沿第二方向20延伸的扫描线123均位于所述绝缘层121上方，也即是位于所述绝缘层121远离所述第一基底110的一侧，具体的，所述第一方向10与所述第二方向20相互垂直，所述第二方向20设置成与所述第一方向10呈一预设夹角为90度。
在一实施例中，请参阅图2～图4，所述绝缘层121包括多个与各所述第一子段1221相对应的第一凹槽1211，一所述第一凹槽1211内设有一所述第一子段1221，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211的深度小于或等于所述绝缘层121的厚度。
可以理解的是，所述绝缘层121包括多个与各所述第一子段1221相对应的第一凹槽1211，多个所述第一凹槽1211与多个所述第一子段1221一一对应，一所述第一凹槽1211内设有一所述第一子段1221，显然，通过在所述绝缘层121上对应各所述第一子段1221的位置开设所述第一凹槽1211，从而降低所述第一基板100在对应所述第一子段1221位置的整体厚度，提高了所述第一基板100整体的平整度，本实施例中，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211的深度小于或等于所述绝缘层121的厚度，具体可以采用半掩膜光罩在所述绝缘层121上形成所述第一凹槽1211。
在一实施例中，请参阅图6，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211的深度等于所述绝缘层121的厚度，所述第一基底110包括多个与各所述第一凹槽1211相对应的第二凹槽111，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211与对应的所述第二凹槽111连通，且所述第一子段1221至少部分位于所述第二凹槽111内。
可以理解的是，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211的深度等于所述绝缘层121的厚度，也即是所述第一凹槽1211在垂直于所述第一基板100的方向上穿过所述绝缘层121，通过增加所述第一凹槽1211的深度可以进一步降低所述第一基板100在对应所述第一子段1221位置的厚度，提高所述第一基板100整体的平整度，以更好避免在出现配向不足的问题；本实施例中，所述第一基底110包括多个与各所述第一凹槽1211相对应的第二凹槽111，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211与对应的所述第二凹槽111连通，显然，当所述第一子段1221的厚度大于所述绝缘层121厚度时，通过在所述第一基底110开设多个第二凹槽111，且一所述第二凹槽111对应一所述第一凹槽1211设置，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211与对应的所述第二凹槽111连通，从而使得所述第一子段1221至少部分位于所述第二凹槽111内，更好的降低所述第一基板100在对应所述第一子段1221位置的厚度，保证在所述第一基板100对应所述第一子段1221附近位置的配向效果。
承上，本实施例中，请参阅图6，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第二凹槽111的深度小于所述第一基底110的厚度。
可以理解的是，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第二凹槽111的深度小于所述第一基底110的厚度，也即是所述第二凹槽111在垂直于所述第一基板100的方向上不能穿过所述第一基底110，以避免所述第一子段1221与外部接触而影响所述薄膜晶体管层120中的器件性能。
在一实施例中，请参阅图2～图3，所述薄膜晶体管层120还包括位于所述绝缘层121与所述第一基底110之间的第一金属层124、设置于所述绝缘层121远离所述第一金属层124一侧第二金属层125、以及设置于所述第二金属层125和所述绝缘层121上且覆盖所述第二金属层125的钝化保护层126，所述像素电极130设置于所述钝化保护层126上，所述第一金属层124包括所述扫描线123，所述第二金属层125包括所述数据线122，在所述第一方向10上，所述第一凹槽1211与任一所述扫描线123的间距大于或等于1.5um。
可以理解的是，所述薄膜晶体管层120可以包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的结构并不做具体限制，本实施例中，以背沟道结构所述薄膜晶体管进行说明，所述第一金属层124包括所述扫描线123和栅极1241，所述第二金属层125包括所述数据线122。源极1251和漏极1252，所述薄膜晶体管层120还包括设置于所述绝缘层121上的有源层127，所述源极1251和所述漏极1252分别与所述有源层127连接，在所述第一方向10上，所述第一凹槽1211与任一所述扫描线123的间距大于或等于1.5um，显然，所述数据线122和所述扫描线123通过所述绝缘层121间隔绝缘设置，当所述第一凹槽1211在第一方向10上的距离过大，容易导致所述数据线122和所述扫描线123在重叠位置的间距过小，从而出现所述数据线122和所述扫描线123在重叠位置电性串扰的问题，通过使所述第一凹槽1211与任一所述扫描线123在所述第一方向10上的间距大于或等于1.5um，从而可以有效避免所述数据线122和所述扫描线123在重叠位置产生电性串扰。
在一实施例中，请参阅图2～图3，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第一凹槽1211的深度小于所述绝缘层121的厚度，所述绝缘层121包括多个与各所述第二子段1222相对应的连通槽(图中未出示)，在所述第一方向10上，相邻的两所述连通槽通过一所述第一凹槽1211连通，一所述连通槽内设有一所述第二子段1222。
可以理解的是，当所述第一凹槽1211所述在垂直于所述第一基板100的方向上的深度小于所述绝缘层121的厚度时，可以在所述绝缘层121上开设多个与各所述第二子段1222相对应的连通槽，相邻的两所述连通槽通过一所述第一凹槽1211连通，且一所述连通槽内设有一所述第二子段1222，从而降低所述第一基板100对应各所述数据线122的位置的厚度，提高所述第一基板100整体的平整度，并且，所述第一凹槽1211和所述第二凹槽111连通，也降低了所述绝缘层121图案化制作的复杂度，本实施例中，在垂直于所述第一基板100方向上，所述第一凹槽1211的深度与所述第二凹槽111的深度相等。
在一实施例中，请参阅图3～图7，所述钝化保护层126包括对应所述第一子段1221的凸台1261，所述凸台1261的厚度小于或等于300nm。
可以理解的是，通过将数据线122划分为与各所述像素电极130相对应的多个第一子段1221、以及多个与各所述第一子段1221连接的第二子段1222，并将所述绝缘层121和所述第一基底110至少在对应各所述第一子段1221的位置的厚度之和设置成小于所述绝缘层121和所述第一基底110在对应所述像素电极130的位置的厚度之和，从而降低了第一基板100在对应数据线122位置和对应像素电极130位置的高度差，避免了由于第一基板100平整度较低而产生配向不足的问题，本实施例中，使所述钝化保护层126中对应所述第一子段1221的所述凸台1261的厚度小于或等于300nm，从而避免诸如毛刷在经过第一基板100对应所述第一子段1221的位置出现无法及时下压的现象，保证配向的效果。
在一实施例中，请参阅图7，所述第一基底110包括多个与各所述第一子段1221相对应的第三凹槽112，所述绝缘层121设置于所述第一基底110上且至少部分填充于所述第三凹槽112内，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第三凹槽112的深度小于所述第一基底110的厚度。
可以理解的是，所述第一基底110包括多个与各所述第一子段1221相对应的第三凹槽112，所述绝缘层121设置于所述第一基底110上且至少部分填充于所述第三凹槽112内，通过仅在所述第一基底110开设第三凹槽112，也可以降低所述绝缘层121和所述第一基底110在对应各所述第一子段1221的位置的厚度之和，并且所述绝缘层121设置于所述第一基底110上且至少部分填充于所述第三凹槽112内，也即是所述绝缘层121在对应所述第三凹槽112的位置产生凹面，所述第一子段1221位于所述凹面内，从而提高所述第一基板100整体的平面度，本实施例中，在垂直于所述第一基板100的方向上，所述第三凹槽112的深度小于所述第一基底110的厚度，避免所述第三凹槽112在垂直于所述第一基板100的方向上穿过所述第一基底110。
在一实施例中，请参阅图2～图3，所述第二基板200包括第二基底210、以及设置于所述第二基底210靠近所述第一基底110一侧的黑色矩阵220，所述黑色矩阵220包括多个与各所述像素电极130一一对应的透光开口221，在所述第一方向10上，所述第一凹槽1211的长度大于所述透光开口221的长度。
可以理解的是，所述黑色矩阵220包括多个与各所述像素电极130一一对应的透光开口221，所述透光开口221为所述显示面板的出光位置，所述透光开口221内可以设置色阻，在所述第一方向10上，所述第一凹槽1211的长度大于所述透光开口221的长度，以使所述第一基板100在对应所述第一凹槽1211两侧的所述像素电极130能正常配向的部分能够覆盖所述透光开口221的区域，从而保证所述显示面板的正常显示。
相应的，本申请还提供一种显示装置，所述显示装置包括如前任意一项实施例所述的显示面板，还包括与所述显示面板结合的背光模组。
本申请实施例通过将数据线122划分为与各所述像素电极130相对应的多个第一子段1221、以及多个与各所述第一子段1221连接的第二子段1222，并将所述绝缘层121和所述第一基底110至少在对应各所述第一子段1221的位置的厚度之和设置成小于所述绝缘层121和所述第一基底110在对应所述像素电极130的位置的厚度之和，从而降低了第一基板100在对应数据线122位置和对应像素电极130位置的高度差，避免了由于第一基板100平整度较低而产生配向不足的问题，保证了显示面板的正常显示。
以上对本申请实施例所进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (8)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板、以及位于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，所述第一基板包括：
第一基底；
薄膜晶体管层，设置于所述第一基底上，所述薄膜晶体管层包括位于所述第一基底上的绝缘层、以及位于所述绝缘层上方的多条沿第一方向延伸的数据线和多条沿第二方向延伸的扫描线，所述第二方向设置成与所述第一方向呈一预设夹角；
多个像素电极，设置于所述薄膜晶体管层上且位于各所述数据线与各所述扫描线划分的区域内；
其中，所述数据线包括与各所述像素电极相对应的多个第一子段、以及多个与各所述第一子段连接的第二子段，任意相邻两所述像素电极之间均设有一所述第一子段，所述绝缘层和所述第一基底至少在对应各所述第一子段的位置的厚度之和小于所述绝缘层和所述第一基底在对应所述像素电极的位置的厚度之和；
其中，所述绝缘层包括多个与各所述第一子段相对应的第一凹槽，一所述第一凹槽内设有一所述第一子段；在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽的深度小于或等于所述绝缘层的厚度；在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽的深度等于所述绝缘层的厚度；所述第一基底包括多个与各所述第一凹槽相对应的第二凹槽，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽与对应的所述第二凹槽连通，且所述第一子段至少部分位于所述第二凹槽内。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第二凹槽的深度小于所述第一基底的厚度。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管层还包括位于所述绝缘层与所述第一基底之间的第一金属层、设置于所述绝缘层远离所述第一金属层一侧第二金属层、以及设置于所述第二金属层和所述绝缘层上且覆盖所述第二金属层的钝化保护层，所述像素电极设置于所述钝化保护层上，所述第一金属层包括所述扫描线，所述第二金属层包括所述数据线；
在所述第一方向上，所述第一凹槽与任一所述扫描线的间距大于或等于1.5um。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一凹槽的深度小于所述绝缘层的厚度；
所述绝缘层包括多个与各所述第二子段相对应的连通槽，在所述第一方向上，相邻的两所述连通槽通过一所述第一凹槽连通，一所述连通槽内设有一所述第二子段。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述钝化保护层包括对应所述第一子段的凸台，所述凸台的厚度小于或等于300nm。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基底包括多个与各所述第一子段相对应的第三凹槽，所述绝缘层设置于所述第一基底上且至少部分填充于所述第三凹槽内；
在垂直于所述第一基板的方向上，所述第三凹槽的深度小于所述第一基底的厚度。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板包括第二基底、以及设置于所述第二基底靠近所述第一基底一侧的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括多个与各所述像素电极一一对应的透光开口；
在所述第一方向上，所述第一凹槽的长度大于所述透光开口的长度。
8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1-7任意一项所述的显示面板，还包括与所述显示面板结合的背光模组。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4139530B2 (ja) * 1999-08-31 2008-08-27 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
CN102466933B (zh) * 2010-11-16 2014-11-26 上海中航光电子有限公司 液晶显示器的像素结构及其制作方法
TWI572960B (zh) * 2012-03-19 2017-03-01 群康科技(深圳)有限公司 液晶顯示裝置及導電基板的製作方法
CN103413813B (zh) * 2013-07-31 2016-05-25 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
CN103489878B (zh) * 2013-10-09 2016-08-31 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及其制备方法和显示装置
CN104393019B (zh) * 2014-11-07 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN105762154B (zh) * 2016-02-24 2018-12-18 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
CN106842741B (zh) * 2017-01-18 2018-09-04 深圳市华星光电技术有限公司 Coa基板及液晶显示面板
CN107132687B (zh) * 2017-07-07 2020-03-10 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及制备方法、液晶显示面板、显示装置
KR102601612B1 (ko) * 2018-12-19 2023-11-13 엘지디스플레이 주식회사 표시 장치
CN111090203B (zh) * 2020-03-22 2020-07-14 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及显示面板

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