CN114591626B - 一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法 - Google Patents

一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114591626B
CN114591626B CN202210258302.3A CN202210258302A CN114591626B CN 114591626 B CN114591626 B CN 114591626B CN 202210258302 A CN202210258302 A CN 202210258302A CN 114591626 B CN114591626 B CN 114591626B
Authority
CN
China
Prior art keywords
transparent polyimide
polyimide material
bis
fully
glass plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210258302.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114591626A (zh
Inventor
杨洪
朱晓晴
王猛
侯燚
周正峰
胡文婷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Southeast University
Original Assignee
Southeast University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Southeast University filed Critical Southeast University
Priority to CN202210258302.3A priority Critical patent/CN114591626B/zh
Publication of CN114591626A publication Critical patent/CN114591626A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114591626B publication Critical patent/CN114591626B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1046Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • C08G73/105Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain with oxygen only in the diamino moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C08G73/1071Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/54Improvements relating to the production of bulk chemicals using solvents, e.g. supercritical solvents or ionic liquids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

本发明公开了一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺材料及制备方法,所述制备方法先将1,4‑双(4‑氨基‑2‑三氟甲基苯氧基)苯溶于无水N,N‑二甲基乙酰胺中,在0℃水浴中搅拌至充分溶解,再加入六氟二酐使其充分反应,后分别滴加三种不同的离子液体,充分掺杂混合得到透明聚酰胺酸,最后置于真空干燥箱中梯度升温,充分热酰亚胺化得到透明聚酰亚胺材料。该方法制备的透明聚酰亚胺材料光学性能优异,柔韧度强,其中掺杂1‑乙基‑3‑甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺离子液体的聚酰亚胺光学和机械性能最优,且具有良好的抗电子辐照与应力场耦合作用的性能。该方法反应条件温和,制备工艺简易,操作成本低廉,可用于大规模生产。

Description

一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法
技术领域
本发明涉及一种聚酰亚胺材料及制备方法,尤其涉及一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺材料及制备方法。
背景技术
航空航天技术目前已经成为综合国力的重要标志,而太空光学器件是航空技术应用中不可或缺的组成部分,已成为人类探索太空的重要手段之一。传统的光学成像系统主镜越来越无法满足深空探测对大口径、轻量化、高尺寸稳定性、可折叠以及太空环境下性能稳定性的要求,薄膜主镜逐渐成为空间成像系统应用的主流。有机高分子材料具有其他材料所无法比较的优点,其在空间光学器件领域的应用范围不断拓展,其中聚酰亚胺——一种主链上含有特殊结构酰亚胺环(-CO-N-CO-)的高分子聚合物由于其优良的热稳定性、化学稳定性、介电性能、机械性能、耐辐射性能等脱颖而出,得到了广泛的应用。
然而在太空应用领域,只考虑聚酰亚胺薄膜的光学性能是远远不够的,聚酰亚胺薄膜在空间环境服役过程中,会受到电子、质子、离子、原子氧等粒子辐照以及冷热循环产生的应力作用,在这些因素的复合作用下材料的结构损伤会导致性能的下降和寿命的缩短,带来潜在的风险隐患。
目前报导的无色透明聚酰亚胺薄膜无法兼顾光学性能和力学性能,难以对抗太空中复杂的应力场及带电粒子辐照的耦合作用致使材料性能大幅度下降,达不到太空光学领域应用的要求。
发明内容
发明目的:本发明旨在提供一种高透明高柔韧度抗电子辐照与应力场耦合作用的透明聚酰亚胺材料;本发明的另一目的在于提供一种反应条件温和,操作简易,可用于大规模生产的抗电子辐照与应力场耦合作用的透明聚酰亚胺材料的制备方法。
技术方案:本发明所述的一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺材料,其结构式为:
式Ⅰ。
所述抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺的制备方法,具体步骤如下:
(1)将1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯溶于无水DMAc中,在0~5 oC水浴中搅拌至充分溶解,后加入六氟二酐,在上述水浴中继续搅拌,接着室温下搅拌,使其充分反应,得到透明的聚酰胺酸溶液;
(2)将含氟离子液体加入上述透明聚酰胺酸溶液中,继续搅拌,使其充分混合;
(3)将所得的聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上;
(4)将玻璃板放入真空干燥箱进行干燥,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温使聚酰胺酸充分热酰亚胺化;
(5)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(6)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
优选地,所述六氟二酐与1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯两种单体的摩尔比在1.005~1.01范围内。
优选地,该复合材料引入含氟离子液体仅通过共混掺杂的方式。
优选地,所述六氟二酐和1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯单体的总固含量在10%~11%范围内。
优选地,所述离子液体的固含量为5%~6%。
优选地,所述含氟离子液体为1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺、1-正丁基-1-甲基吡咯烷二(三氟甲基磺酰)酰亚胺或N-丁基吡啶双(三氟甲烷磺酰)亚胺盐。
优选地,步骤(1)中所述水浴中搅拌时间为2~3小时,室温下搅拌时间为10~12小时;步骤(2)中所述搅拌时间为6~8h;步骤(4)中所述干燥温度为75~80 oC,干燥时间为10~12小时。
所述的透明聚酰亚胺材料可应用于抗电子辐照与应力场耦合作用中。
有益效果:与现有技术相比,本发明具有如下显著优点:(1)本发明制备的抗电子辐照与应力场耦合作用的透明聚酰亚胺材料,选用含有三氟甲基和柔性醚键的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯作为二胺单体,以六氟二酐作为二酐单体,然后将含氟离子液体通过掺杂的方法引入体系,运用热酰亚胺化的方法合成了高透明高柔韧度的聚酰亚胺复合膜材料,改善了传统透明聚酰亚胺薄膜光学性能不良、柔韧度低等缺陷;(2)本发明制备得到的透明聚酰亚胺材料光学性能优异,在450nm波长下的光学透过率均大于85%,在600nm波长下的光学透过率均大于90.2%;(3)本发明制备得到的透明聚酰亚胺材料在电子辐照与应力场耦合作用下仍能维持良好的光学性能,在1×1016 cm-2注量的电子辐照下,600 nm处的透光率下降率仅为2.7%,在40%形变量与1×1016 cm-2注量电子辐照耦合作用下,600 nm处的透光率下降率仅为3.4%;(4)本发明使用的单体原料简单易得,实验装置简单,工艺要求不高,操作方便,可用于大规模生产。
附图说明
图1为透明聚酰亚胺分子结构示意图;
图2为透明聚酰亚胺的紫外可见光谱图;
图3为应力和电子辐照耦合下聚酰亚胺的紫外可见光谱图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的技术方案作进一步说明。
本发明所述的抗电子辐照与应力场耦合作用的透明聚酰亚胺,其结构式如上述式Ⅰ所示。图1为透明聚酰亚胺分子的结构示意图。
实施例1
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜S1。
实施例2
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-正丁基-1-甲基吡咯烷二(三氟甲基磺酰)酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜S2。
实施例3
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的N-丁基吡啶双(三氟甲烷磺酰)亚胺盐,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜S3。
实施例4
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
(8)采用DD1.2型电子加速器对得到的薄膜施加1 MeV下注量为2×1014 e/cm2的电子辐照,样品标记为S4。
实施例5
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
(8)利用高精度拉力机对薄膜样品施加拉伸比例为40%的应变量并夹持一段时间,经过较长时间的松弛过程后达到稳定状态,得到纵向拉伸形变40%的透明聚酰亚胺薄膜;
(9)采用DD1.2型电子加速器对得到的薄膜施加1 MeV下注量为2×1014 e/cm2的电子辐照,样品标记为S5。
实施例6
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
(8)采用DD1.2型电子加速器对得到的薄膜施加1 MeV下注量为2×1015 e/cm2的电子辐照,样品标记为S6。
实施例7
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
(8)利用高精度拉力机对薄膜样品施加拉伸比例为40%的应变量并夹持一段时间,经过较长时间的松弛过程后达到稳定状态,得到纵向拉伸形变40%的透明聚酰亚胺薄膜;
(9)采用DD1.2型电子加速器对得到的薄膜施加1 MeV下注量为2×1015 e/cm2的电子辐照,样品标记为S7。
实施例8
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
(8)采用DD1.2型电子加速器对得到的薄膜施加1 MeV下注量为1×1016 e/cm2的电子辐照,样品标记为S8。
实施例9
上述透明聚酰亚胺的制备方法步骤如下:
(1)称取1.0709 g的1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯于100 mL圆底烧瓶中,并向烧瓶中加入20 mL的N,N-二甲基乙酰胺,在冰水浴中搅拌至充分溶解;
(2)称取1.1217 g的六氟二酐加入上述(1)的混合溶液中,0 oC水浴下继续搅拌3小时,接着室温下搅拌12小时,使其充分反应;
(3)向上述(2)溶液中缓慢滴加1.1013 g的1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺,继续反应8小时,得到相应的聚酰胺酸溶液。
(4)将聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上,将玻璃板放入真空干燥箱;
(5)调节干燥箱温度为80 oC保持12小时,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温,依次调节干燥箱温度为110 oC/2h、150 oC/2h、170 oC/2h、190 oC/2h;
(6)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(7)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
(8)利用高精度拉力机对薄膜样品施加拉伸比例为40%的应变量并夹持一段时间,经过较长时间的松弛过程后达到稳定状态,得到纵向拉伸形变40%的透明聚酰亚胺薄膜;
(9)采用DD1.2型电子加速器对得到的薄膜施加1 MeV下注量为1×1016 e/cm2的电子辐照,样品标记为S9。
由图2所示,掺杂三种不同含氟离子液体所得到的聚酰亚胺薄膜光学性能有所差异,但这三种薄膜在450nm波长下的光学透过率均大于85%,在600nm波长下的光学透过率均大于90.2%,其中,掺杂1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺的S1光学性能最为优越,在600nm波长下的光学透过率高达90.85%。
由图3所示,未经纵向拉伸和电子辐照作用的透明聚酰亚胺薄膜S1具有良好的光学性能,截止波长为319 nm,600 nm处的透过率高达90.85%。随着辐照注量的增大,透明聚酰亚胺薄膜的光学透过率也逐渐下降。在2×1014 cm-2、2×1015 cm-2、1×1016 cm-2三种不同电子辐照注量下的透明聚酰亚胺薄膜S4、S6、S8在600 nm处的透光率分别为90.58%、89.67%、88.34%,相较原始薄膜下降率分别为0.24%、1.24%、2.7%;在40%形变量和三种电子辐照注量耦合作用下的透明聚酰亚胺薄膜S5、S7、S9在600 nm处的透光率分别为90.03%、89.44%、87.71%,相较原始薄膜下降率分别为0.85%、1.5%、3.4%。这说明此种聚酰亚胺薄膜在电子辐照和应力耦合作用下依然可以保持优异的光学性能,这为该材料在空间光学领域的应用前景提供了依据。

Claims (8)

1.一种透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,所述透明聚酰亚胺材料结构式为:
该材料由以下步骤制备:
(1)将1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯溶于无水DMAc中,在0~5℃水浴中搅拌至充分溶解,后加入六氟二酐,在上述水浴中继续搅拌,接着室温下搅拌,使其充分反应,得到透明的聚酰胺酸溶液;
(2)将含氟离子液体加入上述透明聚酰胺酸溶液中,继续搅拌,使其充分混合;
(3)将所得的聚酰胺酸溶液均匀地涂覆在光滑洁净的玻璃板上;
(4)将玻璃板放入真空干燥箱进行干燥,保证溶剂充分挥发,接着进行梯度升温使聚酰胺酸充分热酰亚胺化;
(5)干燥箱自然冷却至室温,取出玻璃板并将其浸泡在常温去离子水中;
(6)等待薄膜自然脱落后用滤纸吸去表面水分并自然风干,得到透明聚酰亚胺薄膜。
2.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,所述六氟二酐与1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯两种单体的摩尔比在1.005~1.01范围内。
3.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,所述透明聚酰亚胺材料引入含氟离子液体仅通过共混掺杂的方式。
4.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,所述六氟二酐和1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯单体的总固含量在10%~11%范围内。
5.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,所述含氟离子液体的固含量为5%~6%。
6.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,所述含氟离子液体为1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺、1-正丁基-1-甲基吡咯烷二(三氟甲基磺酰)酰亚胺或N-丁基吡啶双(三氟甲烷磺酰)亚胺盐。
7.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,步骤(1)水浴中搅拌的时间为2~3小时,室温下搅拌时间为10~12小时;步骤(2)中搅拌时间为6~8h。
8.根据权利要求1所述的透明聚酰亚胺材料在抗电子辐照与应力场耦合作用中的应用,其特征在于,步骤(4)中干燥温度为75~80℃,干燥时间为10~12小时。
CN202210258302.3A 2022-03-16 2022-03-16 一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法 Active CN114591626B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210258302.3A CN114591626B (zh) 2022-03-16 2022-03-16 一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210258302.3A CN114591626B (zh) 2022-03-16 2022-03-16 一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114591626A CN114591626A (zh) 2022-06-07
CN114591626B true CN114591626B (zh) 2023-12-12

Family

ID=81808513

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210258302.3A Active CN114591626B (zh) 2022-03-16 2022-03-16 一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114591626B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103788650A (zh) * 2013-12-31 2014-05-14 杭州福斯特光伏材料股份有限公司 一种无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法
CN107286344A (zh) * 2017-07-17 2017-10-24 安徽国风塑业股份有限公司 一种无色透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN110016138A (zh) * 2019-04-22 2019-07-16 东华大学 一种高阻燃性聚酰亚胺薄膜及其制备方法
CN110437613A (zh) * 2019-07-26 2019-11-12 宁波今山新材料有限公司 无色透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN114015044A (zh) * 2021-08-30 2022-02-08 山东中柔新材料有限公司 一种无色透明聚酰亚胺树脂薄膜及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103788650A (zh) * 2013-12-31 2014-05-14 杭州福斯特光伏材料股份有限公司 一种无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法
CN107286344A (zh) * 2017-07-17 2017-10-24 安徽国风塑业股份有限公司 一种无色透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN110016138A (zh) * 2019-04-22 2019-07-16 东华大学 一种高阻燃性聚酰亚胺薄膜及其制备方法
CN110437613A (zh) * 2019-07-26 2019-11-12 宁波今山新材料有限公司 无色透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN114015044A (zh) * 2021-08-30 2022-02-08 山东中柔新材料有限公司 一种无色透明聚酰亚胺树脂薄膜及其制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Ionic liquid embedded polyimides with ultra-foldability,ultra-flexibility,ultra-processability and superior optical transparency;Yang hong等;《Polymer》;第153卷;538-547页 *
Yang hong等.Ionic liquid embedded polyimides with ultra-foldability,ultra-flexibility,ultra-processability and superior optical transparency.《Polymer》.2018,第153卷538-547页. *

Also Published As

Publication number Publication date
CN114591626A (zh) 2022-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ouyang et al. Super‐Tough, Self‐Healing Polyurethane Based on Diels‐Alder Bonds and Dynamic Zinc–Ligand Interactions
Liu et al. Colorless Polyamide–Imide Films with Enhanced Thermal and Dimensional Stability and Their Application in Flexible OLED Devices
CN112940502B (zh) 一种聚酰亚胺薄膜、制备方法及其应用
CN114085379B (zh) 柔性无色透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN114874440B (zh) 一种聚酰亚胺/还原氧化石墨烯复合材料及其制备方法和应用
CN105254881B (zh) 一种高储能的聚酰亚胺金属络合物及其制备方法
CN111072964B (zh) 一种聚酰亚胺前体组合物及其制备方法和应用
CN114621436B (zh) 一种高耐热透明聚酰亚胺薄膜及制备方法和用途
CN104478788A (zh) 一种透明聚酰亚胺材料及其制备方法
KR20130088362A (ko) 무색 투명한 폴리이미드 필름의 제조방법
CN114591626B (zh) 一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法
CN111072962A (zh) 耐高温光纤涂料用光敏聚酰亚胺的合成与应用
CN112574411B (zh) 聚酰亚胺前体、聚酰亚胺薄膜及其制备方法以及显示装置
CN109251333A (zh) 一种高透明和低介电聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN105085912B (zh) 一种透明聚酯酰亚胺树脂及其制备方法
CN110387041B (zh) 一种聚酰亚胺复合膜及其制备方法
CN110776741B (zh) 一种耐高低温压阻传感聚酰亚胺复合气凝胶及其制备方法
CN102358770A (zh) 一种具有湿气自修复功能的共聚物涂层及制备方法
EP3348599B1 (en) Polyimide-based block copolymer and polyimide-based film comprising same
CN110551281A (zh) 一种抗辐射聚酰亚胺复合膜的制备方法
CN115746380A (zh) 一种聚酰亚胺多孔复合薄膜制备方法
CN105694035B (zh) 一种含四甲基二苯砜双醚结构高透明聚酰亚胺膜材料及其制备方法
CN111690135B (zh) 含金刚烷结构的二胺单体、聚酰亚胺薄膜、其制法与应用
CN111057238B (zh) 一种聚酰亚胺前体组合物及其制备方法和应用
CN114507374B (zh) 一种氟化镁/聚酰亚胺材料及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant