CN114545741B - 一种pcb板曝光设备 - Google Patents

一种pcb板曝光设备 Download PDF

Info

Publication number
CN114545741B
CN114545741B CN202210149847.0A CN202210149847A CN114545741B CN 114545741 B CN114545741 B CN 114545741B CN 202210149847 A CN202210149847 A CN 202210149847A CN 114545741 B CN114545741 B CN 114545741B
Authority
CN
China
Prior art keywords
pcb
mounting
sliding seat
exposure
driving motor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210149847.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114545741A (zh
Inventor
王�华
陈志特
黄海浩
何增灿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Original Assignee
Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd filed Critical Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Priority to CN202210149847.0A priority Critical patent/CN114545741B/zh
Publication of CN114545741A publication Critical patent/CN114545741A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114545741B publication Critical patent/CN114545741B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种PCB板曝光设备,包括支架、第一滑动座、双轴气缸、第二滑动座、曝光灯组件、PCB板安装件;支架顶部的两侧分别设置有第一滑动座和第二滑动座,第一滑动座和第二滑动座分别与双轴气缸的输出端连接,第一滑动座上设置有曝光灯组件,第二滑动座上设置有PCB板安装件;PCB板安装件的第二驱动电机安装在第二滑动座的中部上,且第二驱动电机的输出端上环形阵列设置有多个第二连接轴,两个第二连接轴的端部之间设置有安装板,安装板内转动设置有用于固定PCB板体的安装框,本发明实现了同时对多个PCB板体进行正反面曝光处理,以及该清洗件可以有效控制清洗液的用量并在擦拭辊的作用下,对PCB板体进行高效清洗。

Description

一种PCB板曝光设备
技术领域
本发明涉及PCB板技术领域,具体涉及一种PCB板曝光设备。
背景技术
中国专利CN105278259A公开了一种单机双台面多工位自动PCB板曝光设备及其曝光方法,包括PCB板洁净机、PCB板曝光机、两个机械手、待曝光料仓和完成曝光料仓;曝光方法:a.机械手将PCB板由待曝光料仓放置在PCB板洁净机上;b.PCB板在PCB板洁净机清洁;c.清洁完成后,该机械手将PCB板由PCB板洁净机放置在第一工位进行PCB板正面曝光;d.曝光完成后,该机械手将PCB板取出传递给另一个机械手;e.另一个机械手将PCB板放在第二工位进行PCB板反面曝光;f.曝光完成后该机械手将正反两面的曝光完成的PCB板放置在完成曝光料仓上;
现有技术中,在对PCB板体进行曝光处理时,可以实现PCB板双面曝光,但是更多地基于一个PCB板体,另外,在曝光时,曝光灯等设置,使得曝光设备使用性能比较低,不能满足更多PCB板体生产工艺的要求;以及在对PCB板体进行清洗效率,也是比较低,从而也将影响对PCB板体曝光的效率。
发明内容
本发明的目的就在于解决上述背景技术的问题,而提出一种PCB板曝光设备,该PCB板安装件将实现了同时对多个PCB板体进行正反面曝光处理,以及该清洗件可以有效控制清洗液的用量并在擦拭辊的作用下,对PCB板体进行高效清洗。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种PCB板曝光设备,包括支架、第一滑动座、双轴气缸、第二滑动座、曝光灯组件、PCB板安装件;
支架顶部的两侧分别设置有第一滑动座和第二滑动座,第一滑动座和第二滑动座分别与双轴气缸的输出端连接,第一滑动座上设置有曝光灯组件,第二滑动座上设置有PCB板安装件;
PCB板安装件的第二驱动电机安装在第二滑动座的中部上,且第二驱动电机的输出端上环形阵列设置有多个第二连接轴,两个第二连接轴的端部之间设置有安装板,安装板内转动设置有用于固定PCB板体的安装框;
每个安装板的顶部设置有传动轮,多个传动轮通过传动带相互连接,多个传动轮与安装框连接。
作为本发明进一步的方案:安装板为U型结构,多个安装板呈正多边形排布在第二连接轴上。
作为本发明进一步的方案:安装框内设置有用于固定PCB板体的夹具。
作为本发明进一步的方案:第二连接轴的中部设置有气缸,气缸的输出端与连接板连接,连接板安装在连接框的内壁之间,连接框也为正多边形结构,连接框位于多个安装框的内部中,连接框的每条边框上分别设置有清洗件。
作为本发明进一步的方案:清洗件的上框体和下框体均安装在连接框上,上框体内设置有装有清洗液的溶剂腔;上框体靠近安装框的一侧设置有擦拭辊,上框体的顶部设置有多个出口;下框体的内腔中设置有电加热板。
作为本发明进一步的方案:擦拭辊转动安装上框体上,且上框体上设置有与擦拭辊相适配的槽体,出口分布在上框体弧形槽体的上方。
作为本发明进一步的方案:下框体的靠近安装框的侧壁上设置有开口,开口处设置有连接板,连接板上均匀设置有多个风机。
作为本发明进一步的方案:曝光灯组件的第一驱动电机安装在第一滑动座的中部上,且第一驱动电机的输出端上设置有第一连接轴,第一连接轴的端部设置有安装轴,安装轴的顶端安装有曝光灯本体。
作为本发明进一步的方案:第一连接轴环形阵列设置有多个。
作为本发明进一步的方案:第二连接轴的分布与第一连接轴的分布相同。
本发明的有益效果:
(1)根据不同工艺的要求,启动第一驱动电机工作,带动第一连接轴进行转动,将对应的曝光灯本体旋转至靠近PCB板安装件的一侧上,对PCB板体进行曝光处理,所以该曝光灯组件在双轴气缸的基础上,对曝光灯本体进行转动调节,选择适合工艺要求的曝光灯本体,进一步提高该曝光设备的适用性能;
(2)当一个PCB板体处理完成后,通过启动第二驱动电机工作,带动安装板进行间歇转动,对下一个PCB板体进行曝光处理,实现了连续性地对多个PCB板体进行曝光处理,从而解决现有技术中,曝光设备只能处理一个PCB本体的问题,大大提高本发明曝光设备的工作效率;当多个PCB板体的正面均曝光处理结束后,同时启动传动电机工作,使得多个安装框进行转动调节,将多个PCB本体的背面朝向曝光灯进行反面曝光处理;所以该PCB板安装件也将实现了同时对多个PCB板体进行正反面曝光处理;
(3)该清洗件与该PCB板安装件结构相适配,同时完成对每个PCB板体清洗的工作;以及该清洗件的具体结构设置,使得可以有效控制清洗液的用量并在擦拭辊的作用下,对PCB板体进行高效清洗;相较于直接将清洗液洒在擦拭辊或将擦拭辊直接浸泡在清洗液,其可以更加节省清洗液的用量,以及保证在擦拭时,擦拭辊在PCB板体每处的清洗液用量都比较均匀;
(4)风机可以将电加热板工作产生的热量,吹向刚刚擦洗的PCB板体表面上,使得PCB板体在清洗完成后,可以得到更快地干燥,从而缩短对PCB板体清洗的时间。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
图1是本发明的结构示意图;
图2是本发明中支架的结构示意图;
图3是本发明中安装板的结构示意图;
图4是本发明中安装板与连接框连接关系的结构示意图;
图5是本发明中清洗件的结构示意图;
图6是本发明中清洗件的剖视图。
图中:1、支架;2、第一滑动座;3、双轴气缸;4、第二滑动座;5、曝光灯组件;6、PCB板安装件;51、第一驱动电机;52、第一连接轴;53、安装轴;54、曝光灯本体;61、第二驱动电机;62、第二连接轴;63、安装板;64、安装框;65、夹具;66、传动轮;67、传动电机;68、连接框;69、气缸;610、连接板;611、清洗件;6111、上框体;6112、下框体;6113、擦拭辊;6114、连接板;6115、风机;6116、出口;6117、溶剂腔;6118、加料口;6119、电加热板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1和图2所示,本发明为一种PCB板曝光设备,包括支架1、第一滑动座2、双轴气缸3、第二滑动座4、曝光灯组件5、PCB板安装件6;
支架1顶部的两侧分别设置有第一滑动座2和第二滑动座4,第一滑动座2和第二滑动座4分别与双轴气缸3的输出端连接,第一滑动座2上设置有曝光灯组件5,第二滑动座4上设置有PCB板安装件6;
其中,双轴气缸3位于第一滑动座2和第二滑动座4之间,且双轴气缸3安装在支架1的中部上;
工作时,将PCB板体固定在PCB板安装件6上,然后,在曝光灯组件5的照射下,光引发剂吸收了光能分解成游离基,游离基再引发光聚合单体 进行聚合交联反应,反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构;从而完成对PCB板体的曝光处理;其中,通过双轴气缸3工作,可以调节曝光灯与PCB板体之间的距离,从而满足不同工艺的曝光要求,使其提高该曝光设备的适用范围;
请参阅图2所示,曝光灯组件5包括第一驱动电机51、第一连接轴52、安装轴53、曝光灯本体54,第一驱动电机51安装在第一滑动座2的中部上,且第一驱动电机51的输出端上设置有第一连接轴52,第一连接轴52的端部设置有安装轴53,安装轴53的顶端安装有曝光灯本体54;
其中,第一连接轴52环形阵列设置有多个,使得在第一滑动座2上可以安装不同的曝光灯本体54,使得可以根据不同曝光要求而选择不同的曝光灯本体54;
在使用时,根据不同工艺的要求,启动第一驱动电机51工作,带动第一连接轴52进行转动,将对应的曝光灯本体54旋转至靠近PCB板安装件6的一侧上,对PCB板体进行曝光处理,所以该曝光灯组件5在双轴气缸3的基础上,对曝光灯本体54进行转动调节,选择适合工艺要求的曝光灯本体54,进一步提高该曝光设备的适用性能;
请参阅图2和图3所示,PCB板安装件6包括第二驱动电机61、第二连接轴62、安装板63、安装框64、夹具65、传动轮66、传动电机67;第二驱动电机61安装在第二滑动座4的中部上,且第二驱动电机61的输出端上设置有第二连接轴62,第二连接轴62的分布与第一连接轴52的分布相同,两个第二连接轴62的端部之间设置有安装板63,安装板63内转动设置有用于固定PCB板体的安装框64;
其中,安装板63为U型结构,安装板63的水平部通过紧固螺栓安装在第二连接轴62上,使其方便进行拆卸;多个安装板63呈正多边形排布在第二连接轴62上;所以该每个安装板63可以安装一个PCB板体,而PCB板安装件6可以一次性安装有多个PCB板体,从而可以对多个PCB板体进行曝光处理;
每个安装板63的顶部设置有传动轮66,多个传动轮66通过传动带相互连接,多个传动轮66与安装框64连接,其中一个安装板63上设置有传动电机67,传动电机67的输出端与传动轮66连接,所以通过控制传动电机67工作,带动传动轮66转动,然后通过传动带将带动其他的多个传动轮66转动,使得多个安装框64进行转动调节,使得对PCB本体的表面进行切换,当PCB板体的一侧曝光结束后,再通过传动电机67工作,使得对PCB板体的另一侧进行曝光处理,从而使得对多个PCB板体同时切换处理,并且可以完成对多个PCB板体进行正反面曝光处理;
安装框64内设置有用于固定PCB板体的夹具65;
在使用时,将多个PCB板体通过夹具65固定在安装框64内,然后,通过开启曝光灯组件5的曝光灯本体54,对PCB板体进行曝光处理,当一个PCB板体处理完成后,通过启动第二驱动电机61工作,带动安装板63进行间歇转动,对下一个PCB板体进行曝光处理,实现了连续性地对多个PCB板体进行曝光处理,从而解决现有技术中,曝光设备只能处理一个PCB本体的问题,大大提高本发明曝光设备的工作效率;当多个PCB板体的正面均曝光处理结束后,同时启动传动电机67工作,使得多个安装框64进行转动调节,将多个PCB本体的背面朝向曝光灯进行反面曝光处理;所以该PCB板安装件6也将实现了同时对多个PCB板体进行正反面曝光处理;
请参阅图4所示,第二连接轴62的中部设置有气缸69,气缸69的输出端与连接板610连接,连接板610安装在连接框68的内壁之间,连接框68也为正多边形结构,连接框68位于多个安装框64的内部中,连接框68的每条边框上分别设置有清洗件611,该清洗件611用于对PCB板体的正反表面进行清洗,去除表面的灰尘杂质,保证PCB板体曝光的质量;
请参阅图5和图6所示,清洗件611包括上框体6111、下框体6112、擦拭辊6113、出口6116、溶剂腔6117、加料口6118、电加热板6119,上框体6111和下框体6112均安装在连接框68上,且上框体6111安装在下框体6112上,上框体6111内设置有装有清洗液的溶剂腔6117;上框体6111靠近安装框64的一侧设置有擦拭辊6113,上框体6111的顶部设置有多个出口6116;下框体6112的内腔中设置有电加热板6119;
此外,擦拭辊6113转动安装上框体6111上,且上框体6111上设置有与擦拭辊6113相适配的槽体,出口6116分布在上框体6111弧形槽体的上方;上框体6111的顶部设置有加料口6118;
工作时,在曝光前,启动电加热板6119工作,该电加热板6119对上框体6111内清洗液进行加热,使得清洗液汽化,并沿着出口6116浸湿擦拭辊6113,然后,控制气缸69工作,带动连接框68向上移动,使得多个清洗件611同时向上移动,清洗件611的擦拭辊6113分别对应对每个PCB板体进行清洗;所以,该清洗件611与该PCB板安装件6结构相适配,同时完成对每个PCB板体清洗的工作;以及该清洗件611的具体结构设置,使得可以有效控制清洗液的用量并在擦拭辊6113的作用下,对PCB板体进行高效清洗;相较于直接将清洗液洒在擦拭辊6113或将擦拭辊6113直接浸泡在清洗液,其可以更加节省清洗液的用量,以及保证在擦拭时,擦拭辊6113在PCB板体每处的清洗液用量都比较均匀;
请参阅图5所示,以及,下框体6112的靠近安装框64的侧壁上设置有开口,开口处设置有连接板6114,连接板6114上均匀设置有多个风机6115;该风机6115可以将电加热板6119工作产生的热量,吹向刚刚擦洗的PCB板体表面上,使得PCB板体在清洗完成后,可以得到更快地干燥,从而缩短对PCB板体清洗的时间。
本发明的工作原理:通过双轴气缸3工作,可以调节曝光灯与PCB板体之间的距离,或者,启动第一驱动电机51工作,带动第一连接轴52进行转动,将对应的曝光灯本体54旋转至靠近PCB板安装件6的一侧上;
在曝光前,将多个PCB板体通过夹具65固定在安装框64内,启动电加热板6119工作,该电加热板6119对上框体6111内清洗液进行加热,使得清洗液汽化,并沿着出口6116浸湿擦拭辊6113,然后,控制气缸69工作,带动连接框68向上移动,使得多个清洗件611同时向上移动,清洗件611的擦拭辊6113分别对应对每个PCB板体进行清洗;所以,该清洗件611与该PCB板安装件6结构相适配,同时完成对每个PCB板体清洗的工作;
在曝光时,通过开启曝光灯组件5的曝光灯本体54,对PCB板体进行曝光处理,当一个PCB板体处理完成后,通过启动第二驱动电机61工作,带动安装板63进行间歇转动,对下一个PCB板体进行曝光处理,实现了连续性地对多个PCB板体进行曝光处理;当多个PCB板体的正面均曝光处理结束后,同时启动传动电机67工作,使得多个安装框64进行转动调节,将多个PCB本体的背面朝向曝光灯进行反面曝光处理。
以上对本发明的一个实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。

Claims (10)

1.一种PCB板曝光设备,其特征在于,包括支架(1)、第一滑动座(2)、双轴气缸(3)、第二滑动座(4)、曝光灯组件(5)、PCB板安装件(6);
支架(1)顶部的两侧分别设置有第一滑动座(2)和第二滑动座(4),第一滑动座(2)和第二滑动座(4)分别与双轴气缸(3)的输出端连接,第一滑动座(2)上设置有曝光灯组件(5),第二滑动座(4)上设置有PCB板安装件(6);
PCB板安装件(6)的第二驱动电机(61)安装在第二滑动座(4)的中部上,且第二驱动电机(61)的输出端上环形阵列设置有多个第二连接轴(62),相邻两个第二连接轴(62)的端部之间设置有安装板(63),安装板(63)内转动设置有用于固定PCB板体的安装框(64);
每个安装板(63)的顶部设置有传动轮(66),多个传动轮(66)通过传动带相互连接,每个传动轮(66)与各自的安装框(64)连接。
2.根据权利要求1所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,安装板(63)为U型结构,多个安装板(63)呈正多边形排布在第二连接轴(62)上。
3.根据权利要求2所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,安装框(64)内设置有用于固定PCB板体的夹具(65)。
4.根据权利要求3所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,第二连接轴(62)的中部设置有气缸(69),气缸(69)的输出端与连接板(610)连接,连接板(610)安装在连接框(68)的内壁之间,连接框(68)也为正多边形结构,连接框(68)位于多个安装框(64)的内部中,连接框(68)的每条边框上分别设置有清洗件(611)。
5.根据权利要求4所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,清洗件(611)的上框体(6111)和下框体(6112)均安装在连接框(68)上,上框体(6111)内设置有装有清洗液的溶剂腔(6117);上框体(6111)靠近安装框(64)的一侧设置有擦拭辊(6113),上框体(6111)的顶部设置有多个出口(6116);下框体(6112)的内腔中设置有电加热板(6119)。
6.根据权利要求5所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,擦拭辊(6113)转动安装上框体(6111)上,且上框体(6111)上设置有与擦拭辊(6113)相适配的槽体,出口(6116)分布在上框体(6111)弧形槽体的上方。
7.根据权利要求6所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,下框体(6112)靠近安装框(64)的侧壁上设置有开口,开口处设置有连接板(6114),连接板(6114)上均匀设置有多个风机(6115)。
8.根据权利要求1所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,曝光灯组件(5)的第一驱动电机(51)安装在第一滑动座(2)的中部上,且第一驱动电机(51)的输出端上设置有第一连接轴(52),第一连接轴(52)的端部设置有安装轴(53),安装轴(53)的顶端安装有曝光灯本体(5)。
9.根据权利要求8所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,第一连接轴(52)环形阵列设置有多个。
10.根据权利要求9所述的一种PCB板曝光设备,其特征在于,第二连接轴(62)的分布与第一连接轴(52)的分布相同。
CN202210149847.0A 2022-02-18 2022-02-18 一种pcb板曝光设备 Active CN114545741B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210149847.0A CN114545741B (zh) 2022-02-18 2022-02-18 一种pcb板曝光设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210149847.0A CN114545741B (zh) 2022-02-18 2022-02-18 一种pcb板曝光设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114545741A CN114545741A (zh) 2022-05-27
CN114545741B true CN114545741B (zh) 2022-10-18

Family

ID=81675709

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210149847.0A Active CN114545741B (zh) 2022-02-18 2022-02-18 一种pcb板曝光设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114545741B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115931039B (zh) * 2023-03-14 2023-06-02 广东科视光学技术股份有限公司 一种pcb板检测设备及其检测方法
CN115981116B (zh) * 2023-03-22 2023-05-16 广东科视光学技术股份有限公司 一种全自动曝光机
CN116339082B (zh) * 2023-05-30 2023-08-15 广东科视光学技术股份有限公司 一种全自动双装载台曝光机系统

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11330106A (ja) * 1998-05-18 1999-11-30 Hitachi Ltd 洗浄装置およびそれを使用した洗浄方法
CN201122229Y (zh) * 2007-08-10 2008-09-24 廖莉雯 光罩清洗设备
CN109407473B (zh) * 2018-12-24 2021-06-11 江苏影速集成电路装备股份有限公司 一种多波段光学曝光系统、设备及方法
CN213122597U (zh) * 2020-07-24 2021-05-04 湖南印之明智能制造有限公司 一种光刻机的成像装置
CN213690220U (zh) * 2020-11-11 2021-07-13 重庆汇鼎电子电路有限公司 一种可多数自动翻面的pcb板曝光机

Also Published As

Publication number Publication date
CN114545741A (zh) 2022-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114545741B (zh) 一种pcb板曝光设备
CN211330554U (zh) 一种ito玻璃清洗装置
CN112170083A (zh) 一种家具木板的喷漆装置
CN114100970A (zh) 一种晶圆匀胶烘烤机
CN218516987U (zh) 一种灭火器罐体清理喷漆一体机
CN213792995U (zh) 一种陶瓷金属化丝网印刷预处理装置
CN218108784U (zh) 一种适用于家电玻璃生产的玻璃清洗装置
CN112058545A (zh) 一种用于刹车片外表面烤漆涂匀装置及其操作方法
CN216261529U (zh) 一种笔记本电脑散热器表面喷涂处理装置
CN216539284U (zh) 一种晶圆匀胶烘烤机
CN218903891U (zh) 一种电火花线切割用清洁装置
CN218394376U (zh) 一种具有快速烘干功能的光盘喷涂装置
CN214469671U (zh) 一种用于电镀夹具的快速除水干燥装置
CN216268167U (zh) 一种自动数码印花设备
CN217251048U (zh) 一种pcba板除尘除湿装置
CN215337373U (zh) 一种平板电脑玻璃盖板打磨机的快速干燥装置
CN216888480U (zh) 一种清洗设备用输送装置
CN112808705A (zh) 一种家用电器控制面板表面处理装置及其清洗组件
CN215317761U (zh) 一种竹纤维边角打磨装置
CN215031680U (zh) 一种陶瓷基板清洗装置
CN211359363U (zh) 一种柳条型背板的表面喷涂装置
CN219581192U (zh) 一种工艺美术品加工用残料处理装置
CN214383076U (zh) 一种流水线式的抛光设备
CN220537926U (zh) 一种原料送料机
CN220836975U (zh) 一种动力电池铝壳清洗装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant