CN201122229Y - 光罩清洗设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种擦拭清洗光罩的设备，特别是指一种可迅速、且有效去除光罩表面微粒子与雾化污渍的设备，该设备至少包含有一输送装置、一侧边擦拭装置及一顶面擦拭装置，以利用输送装置载送光罩依序经由侧边擦拭装置与顶面擦拭装置，而利用含浸有清洗液的擦拭件直接接触擦拭该光罩的上、下边缘表面与顶部表面，借此可有效、且迅速的去除光罩护膜外表面的微粒子与雾化污渍等，以缩短光罩清洗及再运用时间，同时不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，并大幅提升光罩清洗后的洁净度。

Description

光罩清洗设备

技术领域

本实用新型涉及一种用于清洗光罩的技术领域，特别是涉及一种清洗效度快、且洁净度佳的光罩清洗方法及设备，详言之是一种利用湿润擦拭来清洁光罩表面的技术。

背景技术

按现有半导体制程中的微影制程，是将预先形成于光罩上的集成电路利用微影技术曝光于晶圆表面，因此为了改善晶圆微影制程的解析度，会利用相移式的微影制程，其是于光罩上添加部分相移层(Shifter Layer)，借此一相移层在曝光时所衍生的正反相干涉，可使曝光机投射在晶圆上的影像图案有较佳的解析度，而如图1所示，一般光罩10于对应影像图案区会设有一光罩护膜20(Pellicle)，以防止微粒子沾附在光罩10的图案区中，造成微影制程的缺陷。由于制程中，或因移载、或因摩擦、或因材料脱落等，会于制程环境中产生粉尘，且这些粉尘中的微粒子(Particle)会沾附于光罩10表面，甚至因制程中的水气与热气而于光罩10表面产生雾化的现象，因此目前光罩10于使用一段时间或次数后需要进行清洗，以去除光罩10表面的尘粉。

而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩10旋转而成，其是利用清洗过程中流体的牵引力造成微粒旋转，是微粒被移除的主要物理机制，但其除了会产生大量清洗后的废水外，更需增加废水处理的设备与成本，再者以大量清洗液进行清洗的动作，其因水份多、且湿度高，故其不易快速去除水渍、烘干，而容易在光罩10表面留下水痕，更甚者为了避免清洗液喷洗到前述的光罩护膜20，而影响到微影制程的解析度，因此需另外设置各种不同的防患措施，进一步增加设备的成本，且会增加光罩10的清洗时间。

关于光罩的清洗，近年来更发展出一种利用气体或流体所产生的震波来将粒子从光罩表面去除，这种清洗技术的设备成本极高，同时因其是令微粒受震波作用而扬起，但其真空设备不见得能有效的将微粒吸走，而造成微粒进一步污染其他设备与材料。

换言之，前述的清洗方法并无法有效的去除光罩10表面的微粒，同时存在有浪费清洗液与需另外处理废水的问题，而造成其清洗效率不佳等状况。

一或多数顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。

经由上述的说明，本实用新型通过前述技术手段的展现，可让本实用新型有效、且迅速的去除光罩护膜以外表面的微粒与雾化污渍等，以缩短光罩清洗时间，而不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，有效的提升光罩清洗效率，并大幅提升光罩清洗后的洁净度。

借由上述技术方案，本实用新型光罩清洗设备至少具有下列优点：

根据本实用新型的设计，是利用擦拭手段直接去除光罩表面的微粒与雾化污渍，同一表面仅需一次擦拭动作，无需重复以清洗液冲洗，故清洗速度较现有者快。

根据本实用新型的设计，本实用新型可直接将微粒与雾化污渍直接擦拭清洗，且更可同步清洗光罩侧边的上、下边缘表面，故其清洗效率佳。

根据本实用新型的设计，本实用新型是以含浸的湿润状擦拭，无需使用大量的清洗液，故可大幅减少清洗剂的使用，避免增加废水处理的困扰，且可减少清洗后产生水痕的现象，进一步可降低清洗处理的成本。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1所绘示的是光罩的外观示意图。

图2是本实用新型光罩清洗设备的外观示意图。

图3是本实用新型光罩清洗设备的内部状态示意图，其显示本实用新型的构成及相对关系。

图4是本实用新型光罩清洗设备的清洗动作示意图，用以说明光罩旋转及清洗的位置。

图5是本实用新型的侧边擦拭装置端面示意图，用于揭示其未夹掣光罩上、下边缘表面的状态。

图6是本实用新型的侧边擦拭装置端面示意图，进一步揭示其夹掣光罩上、下边缘表面擦拭的状态。

图7是本实用新型的侧边擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其连续擦拭光罩上、下边缘表面状态。

图8是本实用新型的顶面擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其顶部表面连续擦拭状态。

图9是本实用新型光罩清洗设备另一实施例的外观示意图，用以说明其构成及相对关系。

图10是本实用新型光罩清洗设备另一实施例的前视平面示意图，进一步说明其清洗动作的状态。

10：光罩          11：上边缘表面

12：下边缘表面    15：顶部表面

20：光罩护膜      30：机体

40：输送装置      45：承载单元

50：移载装置      51：光罩盒启闭单元

55：机械手臂单元  60：光罩盒

65：进出气元件    70：侧边擦拭装置

71：固定框体      72：卷布单元

721：第一卷料器   722：第二卷料器

73：导轮          74：擦拭布

75：清洗单元      76：清洗头

77：去除单元      78：烘干单元

79：压轮          80：顶面擦拭装置

81：固定框体      82：卷布单元

821：第一卷料器   822：第二卷料器

83：导轮          84：擦拭布

85：清洗单元      86：清洗压轮

87：去除单元      88：烘干单元

90：去除装置      91：固定框

92：第一去除单元  93：第二去除单元

95：烘干装置      96：固定框

97：第一烘干单元  98：第二烘干单元

100：检测装置     101：固定框

105：检知元件

具体实施方式

为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的以擦拭清洗光罩的方法及设备其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如启。

参考所附的图式，首先参考图1所示，是一般光罩10组件，该光罩10底面设有一保护电路影像区的光罩护膜20，该光罩10具有异于光罩护膜20的上、下边缘表面11、12及对应光罩护膜20的顶部表面15，本实用新型以擦拭清洁光罩的方法包含提供一含浸清洗液的侧边擦拭装置70，其可同步接触擦拭光罩10侧边的上、下边缘表面11、12，及提供一含浸清洗液的顶面擦拭装置80，其可压抵接触擦拭光罩10的顶部表面15，以形成一种含浸清洗液、且不滴水的湿润擦拭，而足以去除光罩10表面的微粒及雾化污渍等。

而本实用新型清洗设备是如图2、3所揭示，其至少包含有一承载、移动光罩10的输送装置40、一或多数用于同步清洗光罩10上、下边缘表面11、12的侧边擦拭装置70及一或多数清洗光罩10顶部表面15的顶面擦拭装置80。

在图2、3的实施例中，本实用新型清洗设备包含有一封闭式机体30，以确保清洗动作与清洗环境不受外界干扰。而输送装置40上设有一可夹掣、且载送光罩10移动的承载单元45，该承载单元45并可于输送装置40上不同的位置上原地旋转(如图4所示)，以供清洗光罩10不同侧的上、下边缘表面11、12与顶部表面15。

该清洗设备进一步包含有一移载装置50，该移载装置50具有一光罩盒启闭单元51及一机械手臂单元55，其中光罩盒启闭单元51可供置入一可选择性启闭的光罩盒60，且光罩盒60上设有一或多数进出气单元65，供对光罩盒60置于储存架或光罩盒启闭单元51时对内部进行气体充注，以避免光罩10硫化，该移载装置50操作上可利用光罩盒启闭单元51将光罩盒60开启，并以机械手臂单元55取出置于光罩盒60内的光罩10，且将此一光罩10移载至清洗设备的输送装置40承载单元45上。

至于前述一或多数侧边擦拭装置70可设于前述输送装置40对应光罩10的一侧或两侧，本实用新型以一组设于输送装置40一侧的侧边擦拭装置70为主要实施例，进一步配合参阅图5所示，其是于输送装置40一侧设有一固定框体71，固定框体71上设有一卷布单元72，该卷布单元72包含有一第一卷布器721与一第二卷布器722，且固定框体71上设有复数导轮73，并于卷布单元72的第一、二卷布器721、722与导轮73间卷绕有一擦拭布74，擦拭布74的一侧表面面向输送装置40上的光罩10侧缘，让擦拭布74受第一、二卷布器721、722作用卷收，且利用导轮73保持擦拭布74的张力，再者擦拭布74是选自具吸收性、且不产生微粒或纤维剥落的无尘布、无尘纸等。再者卷布单元72上进一步设有加水器(图中未绘)，可对擦拭布74提供清洗液，使擦拭布74于接触光罩10前预先含浸清洗液而成不滴水的湿润状，且为了增进去除微粒的效果，卷布单元72提供的清洗液进一步可预先加热至适当温度，前述清洗液可为不伤害光罩10表面的超纯水(D.I.Water)、氢氧化铵与过氧化氢的水溶液(A.P.M)、硫酸与过氧化氢溶液(S.P.M)等。再者侧边擦拭装置70于擦拭布74异于光罩10一侧的固定框体71上设有一清洗单元75，该清洗单元75具有一可对应光罩10伸出或缩回的清洗头76，且清洗头76上、下部可同步贴靠或远离光罩10侧边的上、下边缘表面11、12(如图6所示)，供清洗头76同步擦拭光罩10侧边的上、下边缘表面11、12。

另搭配图7所示，清洗单元75进一步于清洗头76两侧分设有一去除单元77及一烘干单元78。其中去除单元77是设于清洗头76对应光罩10进料的一侧，其可为吹气元件或吸气元件，用于操作上可在光罩10进入清洗头76擦拭前先行去除较大或沾附力较小的微粒，本实用新型以真空吸气元件为主要实施例，以避免微粒扬起沾附于光罩10其他表面或设备内。而烘干单元78是设于清洗头76对应光罩10出料的一侧，用于当光罩10经擦拭后，可利用压缩干燥空气(CDA)或氮气(N₂)立即烘干清洗后的光罩10，以避免于光罩10表面留下擦拭水痕，再者烘干单元78进一步可设置有加热器(图中未绘)，使烘干单元78可提供热压缩干燥空气(CDA)或热氮气(N₂)，进一步增进其烘干效果。另侧边擦拭装置70并于擦拭布74对应光罩10一侧的固定框体71上设有一或多数压轮79，让清洗单元75的清洗头76于对应光罩10伸出时，可利用压轮79预先形成夹掣空间，以防止光罩10边缘异常拉动擦拭布74。

又前述一或多数顶面擦拭装置80可设于前述输送装置40对应光罩10顶部表面15的上方，本实用新型以一组设于输送装置40上方的顶面擦拭装置80为主要实施例，进一步参阅图3、8所示，前述顶面擦拭装置80则于输送装置40一侧设有一固定框体81，该固定框体81上设有一卷布单元82，该卷布单元82包含有一第一卷布器821与一第二卷布器822，第一、二卷布器821、822与导轮83间卷绕有一擦拭布84，擦拭布84的一侧表面面向输送装置40上的光罩10顶面，且固定框体81上设有复数可保存擦拭布84张力的导轮83，再者擦拭布84一样亦是选自具吸收性、且不产生微粒或纤维剥落的无尘布、无尘纸等。又卷布单元82上进一步加设有一清洗液加水器(图中未绘)，可对擦拭布84提供清洗液，使擦拭布84于接触光罩10前预先含浸清洗液而成不滴水的湿润状，且卷布单元82另加设有一加热器(图中未绘)，以提供清洗液的预热作用，可增进去除微粒的效果，前述清洗液可为不伤害光罩10表面的超纯水(D.I.Water)、氢氧化铵与过氧化氢的水溶液(A.P.M)、硫酸与过氧化氢溶液(S.P.M)等。再者顶面擦拭装置80于固定框体71的擦拭布74对应光罩10上方设有一清洗单元85，该清洗单元85具有一可作动擦拭布84贴抵或远离光罩10顶部表面15的清洗头86(如图8所示)。

再者，清洗单元85进一步于清洗头86两侧分设有一去除单元87及一烘干单元88。其中去除单元87是设于清洗头86对应光罩10进料的一侧，其可为吹气元件或吸气元件，于操作上可在光罩10进入清洗头86擦拭前先行去除较大或沾附力较小的微粒，本实用新型以真空吸气元件为主要实施例，可避免微粒扬起而沾附于光罩10其他表面或设备内。另烘干单元88是设于清洗头86对应光罩10出料的一侧，用于当光罩10经擦拭后，可利用压缩干燥空气(CDA)或氮气(N₂)立即烘干清洗后的光罩10，以避免于光罩10表面留下擦拭水痕，再者烘干单元88进一步可设置有加热器(图中未绘)，使烘干单元88可提供热压缩干燥空气(CDA)或热氮气(N₂)，进一步增进其烘干效果。

借此，组构成一可迅速清洗、且清洗效率佳的以擦拭清洁光罩的设备结构者。

通过前述本实用新型的清洗设备结构，本实用新型于实际操作上，是如图2～4所示，将光罩盒60置于移载装置50的光罩盒启闭单元51内，并于开启光罩盒60后，利用机械手臂单元55将光罩10取出并转置于输送装置40的承载单元45上，进一步并利用输送装置40将承载单元45连同光罩10移入机体30内。

接着如图5～7所示，令承载单元45将光罩10移至对应侧边擦拭装置70处，且侧边擦拭装置70并令其清洗单元75的清洗头76相对光罩10侧边伸出，借由压轮79将预先含浸清洗液的湿润状擦拭布74压抵于清洗头76上、下表面，而当光罩10受承载单元45作动向清洗头76移动时，可先利用去除单元77的真空吸气作用将光罩10表面的微粒吸取(如图7所示)，接着令清洗头76将擦拭布74压贴于光罩10的上、下边缘表面11、12(如图6、7所示)，当其光罩10继续移动时，可利用该呈湿润状的擦拭布74擦拭该光罩10侧边的上、下边缘表面11、12，同时光罩10经擦拭后进一步可利用烘干单元78即时烘干光罩10的上、下边缘表面11、12，以避免于上、下边缘表面11、12形成擦拭的水痕，进而完成光罩10一侧的上、下边缘表面11、12。接着令清洗单元75的清洗头76退回后，使光罩10反向移至侧边擦拭装置70前方的A点(如图4所示)，并利用承载单元45旋转该光罩10，而以前述方式擦拭该光罩10另侧的上、下边缘表面11、12的清洗擦拭。

而于完成光罩10两侧的上、下边缘表面11、12的清洗擦拭后，则是如图8所示，利用承载单元45将光罩10移至顶面擦拭装置80，该顶面擦拭装置80并令其清洗单元85的清洗头86相对光罩10顶部表面15伸出，借由清洗头86将预先含浸清洗液的湿润状擦拭布84压抵于光罩10顶部表面1 5，而当光罩10受承载单元45作动向清洗头86移动时，可先利用去除单元87的真空吸气作用将光罩10表面的微粒吸取(如图8所示)，接着令清洗头86以擦拭布84擦拭该光罩10的顶部表面15，且光罩10于擦拭后进一步可利用烘干单元88即时烘干光罩10的顶部表面15，以避免于光罩10的顶部表面15形成擦拭的水痕，进而完成光罩10顶部表面15一侧的擦拭。接着令清洗单元85的清洗头86缩回，使光罩10反向移至顶面擦拭装置80前方的B点(如图4所示)，并利用承载单元45旋转该光罩10，再以前述方式擦拭该光罩10顶部表面1 5的另侧，最后将光罩10退出机体30，且以移载装置50的机械手臂单元55将清洗后的光罩10置入光罩盒启闭单元51的光罩盒60内，并于光罩盒60闭合后取出该置有光罩10的光罩盒60，而以自动、且连续式完成整个光罩10的清洗工作，大幅提升其清洗的速度，且由于是属直接接触的擦拭清洗，故可去除较小的微粒、沾附力较大的微粒，以及雾化污渍等，有效地增进光罩10清洗效率。

再者，本实用新型于实际操作上，进一步可于侧边擦拭装置70与顶面擦拭装置80利用加热器使含浸于擦拭布74、84上的清洗液预先加热，以增加其去除微粒与雾化污渍的效果。又侧边擦拭装置70与顶面擦拭装置80的烘干单元78、88进一步可利用加热器提供热压缩干燥空气(CDA)或热氮气(N₂)，而能提升其烘干效果。另侧边擦拭装置70与顶面擦拭装置80的卷布单元72、82可令擦拭布74于清洗擦拭过程中微量移动，以即时带走擦拭后的微粒，避免微粒伤害光罩10，并能增进其清洗擦拭效果。

又本实用新型另有一实施例，其是如图9、10所揭示，其中输送装置40两侧下方至少一侧设有两侧边擦拭装置70A、70B，本实施例以两侧均设有两侧边擦拭装置70A、70B为主要实施例，该两侧边擦拭装置70A、70B是于一固定框体71上设有一卷布单元72，该卷布单元72包含有一第一卷布器721与一第二卷布器722，且固定框体71上并设有一可选择性贴靠或远离光罩10两侧下边缘表面12的清洗头76A、76B，其中清洗头76A、76B是呈压轮状，而两侧边擦拭装置70A、70B的卷布单元72第一、二卷布器721、722与清洗头76A、76B间分别卷绕有一擦拭布74。再者其中前方的侧边擦拭装置70A卷布单元72上进一步可设有加水器(图中未绘)与加热器(图中未绘)，以对擦拭布74提供清洗液或具适当加热温度的清洗液。让前方侧边擦拭装置70A可对光罩10下边缘表面12进行湿润擦拭清洗，而后方的侧边擦拭装置70B对光罩10下边缘表面12进行干性擦拭。

而输送装置40上方设有两顶面擦拭装置80A、80B，该两顶面擦拭装置80A、80B是于一固定框体81上设有一卷布单元82，该卷布单元82包含有一第一卷布器821与一第二卷布器822，且固定框体81上并设有一可选择性贴靠或远离光罩10顶面1 5的清洗压轮86A、86B，而两顶面擦拭装置80A、80B的卷布单元82第一、二卷布器821、822与清洗压轮86A、86B间分别卷绕有一擦拭布84。再者其中前方的顶面擦拭装置80A卷布单元82上进一步可设有加水器(图中未绘)与加热器(图中未绘)，可对擦拭布84提供清洗液或具适当加热温度的清洗液。让前方顶面擦拭装置80A可对光罩10顶面15进行湿润擦拭清洗，而后方的顶面擦拭装置80B则对光罩10顶面15进行干性擦拭。

再者，输送装置40可于前端与后端分设有一去除装置90及一烘干装置95。其中去除装置90具有一光罩10穿过的固定框91，而固定框91于对应光罩10顶面15与下边缘表面12处分设有第一去除单元92与第二去除单元93，其可为真空吸气元件。于操作上，让光罩10进入擦拭前先行去除较大或沾附力较小的微粒。烘干装置95具有一光罩10穿过的固定框96，而固定框96于对应光罩10顶面15与下边缘表面12处分设有第一烘干单元97与第二烘干单元98，其立即烘干清洗后的光罩10，以避免于光罩10表面留下擦拭水痕。且输送装置40光罩10进出料口进一步设有一检测装置100，该检测装置100具有一可供光罩10穿过的固定框101，而固定框101于对应光罩10顶面15处设有一检知元件105，该检知元件105可光学或雷射检测元件，以检知光罩10顶面15的微粒状况，做为清洗擦拭前、后的比较，以确认其清洗效果。本实施例一样可达到前述的目的与功效。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (10)

1. 一种光罩清洗设备，尤指以擦拭手段去除光罩顶部表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备，其特征在于其包括：

一或多数个侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一面向光罩侧边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面；

一或多数个顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。

2. 根据权利要求1所述的光罩清洗设备，其特征在于其进一步包含有；

一机体，其可设置侧边擦拭装置与顶面擦拭装置设于一机体内；

一输送装置，其具有一可承载光罩的承载单元，可将光罩移入机体内，且侧边擦拭装置设于输送装置两侧或任一侧，又前述顶面擦拭装置设于输送装置上方；

一移转装置，其具有一光罩盒启闭单元及一机械手臂单元，光罩盒启闭单元可用于启闭容设光罩的光罩盒，而机械手臂单元可令光罩于光罩盒启闭单元与承载单元间移载。

3. 根据权利要求1或2所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的侧边擦拭装置具有一固定框体，固定框体上设有一具第一、二卷布器的卷布单元，且擦拭布是卷绕于第一、二卷布器间，卷布单元上进一步设有一可对擦拭布提供清洗液的加水器，再者侧边擦拭装置于擦拭布异于光罩一侧的固定框体上设有一清洗单元，该清洗单元具有一可对应光罩伸出或缩回的清洗头，且清洗头可同步擦拭光罩侧边的上、下边缘表面。

4. 根据权利要求3所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的清洗单元进一步于清洗头对应光罩进料一侧设有一去除单元，可于擦拭光罩前预先去除光罩上的微粒。

5. 根据权利要求3所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的清洗单元进一步于清洗头对应光罩出料一侧设有一烘干单，用于当光罩经擦拭后，可利用压缩干燥空气或氮气立即烘干清洗后的光罩。

6. 根据权利要求3所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的侧边擦拭装置并于擦拭布对应光罩一侧的固定框体上设有一或多数压轮，让清洗单元的清洗头于对应光罩伸出时，可利用压轮预先形成夹掣空间，以防止光罩边缘异常拉动擦拭布。

7. 根据权利要求1或2所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的顶面擦拭装置具有一固定框体，固定框体上设有一具第一、二卷布器的卷布单元，且擦拭布是卷绕于第一、二卷布器间，卷布单元上进一步设有一可对擦拭布提供清洗液的加水器，再者侧边擦拭装置于擦拭布异于光罩一侧的固定框体上设有一清洗单元，该清洗单元具有一可对应光罩伸出或缩回的清洗头，且清洗头可将擦拭布压抵于光罩的顶部表面，供进行擦拭清洗。

8. 根据权利要求7所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的清洗单元进一步于清洗头对应光罩进料一侧设有一去除单元，可于擦拭光罩前预先去除光罩上的微粒。

9. 根据权利要求7所述的光罩清洗设备，其特征在于所述的清洗单元进一步于清洗头对应光罩出料一侧设有一烘干单，用于当光罩经擦拭后，可利用压缩干燥空气或氮气立即烘干清洗后的光罩。

10. 根据权利要求1或2所述的光罩清洗设备，其特征在于其进一步于光罩进出口处设有一检测装置，该检测装置具有一对应光罩顶面处设有一检知元件，以检知光罩顶面的微粒状况，做为清洗擦拭前、后的比较，以确认其清洗效果。

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