CN114369820B - 一种反光材料及其制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种反光材料的制备方法,包括如下步骤:S101:在基板上刻蚀得到带有预设形状的基板;S102:在所述带有预设形状的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;S103:在所述模具上涂敷金属粉末后辊压并烧结,得到反光材料。本发明的反光材料的制备方法,可以在短时间制备反光材料,提高反光质量,具有很好的商业前景。
Description
技术领域
本发明涉及材料加工技术领域,具体设计一种反光材料及其制备方法和应用。
背景技术
现有反光材料中棱形凸起处喷涂反光涂料过程,难以保证全面充分的对棱形凸起处喷涂,导致反光材料质量不够理想,反光材料在室外使用时,长时间使用后表面会附着一定灰尘,可能影响其反光效果,同时反光材料加工完成后需要耗费较多时间进行干燥,因此亟待研究一种反光材料的制备工艺以解决现有技术中的反光材料制备耗时较多,反光质量不佳等问题。
发明内容
针对现有技术中的上述问题,本发明提出了一种反光材料的制备方法。
第一方面,本发明提出了一种反光材料的制备方法,包括如下步骤:
S101:在基板上刻蚀得到带有预设形状的基板;
S102:在所述带有预设形状的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;
S103:在所述模具上涂敷金属粉末后辊压并烧结,得到反光材料。
本发明的反光材料的制备方法,可以在短时间制备反光材料,提高反光质量,具有很好的商业前景。
作为本发明的具体实施方式,所述刻蚀包括物理刻蚀、化学刻蚀或生物刻蚀中的一种。
优选地,所述刻蚀为激光刻蚀。
作为本发明的具体实施方式,所述预设形状至少包括棱形、雪花形和梅花形中的一种。
作为本发明的具体实施方式,所涂敷的金属粉末的厚度为1nm~10μm。
作为本发明的具体实施方式,辊压的压力为0.2Mpa~2Mpa。
作为本发明的具体实施方式,烧结的温度为1680℃~1880℃。
作为本发明的具体实施方式,覆膜原料的制备包括如下步骤:将硫化锌和氧化硅进行研磨并选用100-300目筛网进行过滤,随后将去离子水、增稠剂、分散剂、水性环氧树脂乳液、硫化锌和氧化硅按照比例投入混合罐中进行混合搅拌,随后得到覆膜原料。
第二方面,本发明提出了所述的方法得到的反光材料。
第三方面,本发明提出了所述的方法制备反光器件中的应用,和/或所述的反光材料在制备反光器件中的应用。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明,但并不构成对本发明的任何限制。
实施例1
实施例1提供了一种反光材料,其制备方法包括如下步骤:
S101:在基板上激光刻蚀得到带有棱形凸出的基板;
S102:覆膜原料的制备包括如下步骤:将硫化锌和氧化硅进行研磨并选用200目筛网进行过滤,随后将去离子水、增稠剂、分散剂、水性环氧树脂乳液、硫化锌和氧化硅按照比例投入混合罐中进行混合搅拌,随后得到覆膜原料。
S103:在所述带有棱形凸出的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;
S104:在所述模具上涂敷厚度为1nm的金属粉末后在0.2MPa压力下辊压并在1700℃烧结,得到反光材料。
实施例2
实施例2提供了一种反光材料,其制备方法包括如下步骤:
S101:在基板上激光刻蚀得到带有棱形凸出的基板;
S102:覆膜原料的制备包括如下步骤:将硫化锌和氧化硅进行研磨并选用100-300目筛网进行过滤,随后将去离子水、增稠剂、分散剂、水性环氧树脂乳液、硫化锌和氧化硅按照比例投入混合罐中进行混合搅拌,随后得到覆膜原料。
S103:在所述带有棱形凸出的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;
S104:在所述模具上涂敷厚度为10nm的金属粉末后在0.5MPa压力下辊压并在1800℃烧结,得到反光材料。
实施例3
实施例3提供了一种反光材料,其制备方法包括如下步骤:
S101:在基板上激光刻蚀得到带有棱形凸出的基板;
S102:覆膜原料的制备包括如下步骤:将硫化锌和氧化硅进行研磨并选用100-300目筛网进行过滤,随后将去离子水、增稠剂、分散剂、水性环氧树脂乳液、硫化锌和氧化硅按照比例投入混合罐中进行混合搅拌,随后得到覆膜原料。
S103:在所述带有棱形凸出的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;
S104:在所述模具上涂敷厚度为100nm的金属粉末后在0.5MPa压力下辊压并在1680℃烧结,得到反光材料。
实施例4
实施例4提供了一种反光材料,其制备方法包括如下步骤:
S101:在基板上激光刻蚀得到带有棱形凸出的基板;
S102:覆膜原料的制备包括如下步骤:将硫化锌和氧化硅进行研磨并选用100-300目筛网进行过滤,随后将去离子水、增稠剂、分散剂、水性环氧树脂乳液、硫化锌和氧化硅按照比例投入混合罐中进行混合搅拌,随后得到覆膜原料。
S103:在所述带有棱形凸出的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;
S104:在所述模具上涂敷厚度为1微米的金属粉末后在0.5MPa压力下辊压并在1880℃烧结,得到反光材料。
在本发明中的提到的任何数值,如果在任何最低值和任何最高值之间只是有两个单位的间隔,则包括从最低值到最高值的每次增加一个单位的所有值。例如,如果声明一种组分的量,或诸如温度、压力、时间等工艺变量的值为50-90,在本说明书中它的意思是具体列举了51-89、52-88……以及69-71以及70-71等数值。对于非整数的值,可以适当考虑以0.1、0.01、0.001或0.0001为一单位。这仅是一些特殊指明的例子。在本申请中,以相似方式,所列举的最低值和最高值之间的数值的所有可能组合都被认为已经公开。
应当注意的是,以上所述的实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明的任何限制。通过参照典型实施例对本发明进行了描述,但应当理解为其中所用的词语为描述性和解释性词汇,而不是限定性词汇。可以按规定在本发明权利要求的范围内对本发明作出修改,以及在不背离本发明的范围和精神内对本发明进行修订。尽管其中描述的本发明涉及特定的方法、材料和实施例,但是并不意味着本发明限于其中公开的特定例,相反,本发明可扩展至其他所有具有相同功能的方法和应用。
Claims (8)
1.一种反光材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S101:在基板上刻蚀得到带有预设形状的基板;
S102:覆膜原料的制备包括如下步骤:将硫化锌和氧化硅进行研磨并选用100-300目筛网进行过滤,随后将去离子水、增稠剂、分散剂、水性环氧树脂乳液、硫化锌和氧化硅按照比例投入混合罐中进行混合搅拌,随后得到覆膜原料;
S103:在所述带有预设形状的基板上覆膜后干燥并脱模,得到模具;
S104:在所述模具上涂敷金属粉末后辊压并烧结,得到反光材料。
2.根据权利要求1所述的反光材料的制备方法,其特征在于,所述刻蚀包括物理刻蚀、化学刻蚀或生物刻蚀中的一种。
3.根据权利要求1所述的反光材料的制备方法,其特征在于,在所述步骤S101中,所述预设形状至少包括棱形、雪花形和梅花形中的一种。
4.根据权利要求1所述的反光材料的制备方法,其特征在于,在所述步骤S104中,所涂敷的金属粉末的厚度为1nm~10μm。
5.根据权利要求1所述的反光材料的制备方法,其特征在于,在所述步骤S104中,辊压的压力为0 .2MPa~2MPa。
6.根据权利要求1所述的反光材料的制备方法,其特征在于,在所述步骤S104中,烧结的温度为1680℃~1880℃。
7.权利要求1-6任一项所述的方法得到的反光材料。
8.权利要求1-6任一项所述的方法制备反光器件中的应用,和/或权利要求7所述的反光材料在制备反光器件中的应用。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202210121362.0A CN114369820B (zh) | 2022-02-09 | 2022-02-09 | 一种反光材料及其制备方法和应用 |
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CN114369820A CN114369820A (zh) | 2022-04-19 |
CN114369820B true CN114369820B (zh) | 2023-08-04 |
Family
ID=81145566
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Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN114369820B (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6094174A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-27 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 導電性塗膜の形成方法 |
US5780140A (en) * | 1996-09-23 | 1998-07-14 | Reflexite Corporation | Retroreflective microprismatic material with top face curvature and method of making same |
CN103348454A (zh) * | 2010-12-01 | 2013-10-09 | 株式会社东芝 | 等离子体蚀刻装置部件及其制造方法 |
CN104282824A (zh) * | 2014-09-26 | 2015-01-14 | 深圳市志金电子有限公司 | 大功率高反射率cob基板及光源的制作方法 |
CN112993069A (zh) * | 2021-02-08 | 2021-06-18 | 保定嘉盛光电科技股份有限公司 | 一种透明显色光学膜层及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7405852B2 (en) * | 2005-02-23 | 2008-07-29 | Pixtronix, Inc. | Display apparatus and methods for manufacture thereof |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6094174A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-27 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 導電性塗膜の形成方法 |
US5780140A (en) * | 1996-09-23 | 1998-07-14 | Reflexite Corporation | Retroreflective microprismatic material with top face curvature and method of making same |
CN103348454A (zh) * | 2010-12-01 | 2013-10-09 | 株式会社东芝 | 等离子体蚀刻装置部件及其制造方法 |
CN104282824A (zh) * | 2014-09-26 | 2015-01-14 | 深圳市志金电子有限公司 | 大功率高反射率cob基板及光源的制作方法 |
CN112993069A (zh) * | 2021-02-08 | 2021-06-18 | 保定嘉盛光电科技股份有限公司 | 一种透明显色光学膜层及其制备方法与应用 |
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