CN114267807B - 一种显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种显示面板。显示面板包括阵列基板、发光层、钝化层以及彩膜层，钝化层包括与至少部分发光像素对应设置的像素开口，彩膜层包括：与发光像素对应的色阻、以及遮光部，遮光部对应发光像素设置有透光开口。色阻的折射率大于钝化层的折射率。从而通过叠层结构提高显示面板的出光率及显示效果。

Description

一种显示面板

技术领域

本发明涉及显示面板的制造技术领域，具体涉及一种显示面板。

背景技术

随着柔性显示屏技术的发展，人们对显示面板的质量以及性能均提出了更高的要求。

有机发光二极管(Organic light-emitting diode，OLED)器件因其较传统的液晶显示器(Liquid crystal display，LCD)相比具有重量轻巧，广视角，发光效率高等优点，而被广泛应用于各种领域。目前，目前OLED显示产品朝着大尺寸，高刷新率，高亮度的方式发展，因此，对OLED器件的发光率以及发光性能均提出了更高的要求。现有技术中，在制备形成OLED发光器件时，为了提高出光效率，通常采用彩色滤光片(colorfilter，CF)替代传统的偏光片的POL-less等技术方案，这一技术不仅能将功能层的厚度从原先的100um降低至几微米，从而减小光线在膜层中的损耗，并且能够将光线的出光率从原先的40％提升到61％，从而实现提高显示面板出光率和显示效果的目的。但是，随着OLED器件对发光性能以及显示效果的进一步要求，POL-less等制备技术所达到的出光率仍不能满足使用需求，还需进一步对显示面板的出光率进行提高。

综上所述，现有技术中制备得到的OLED发光器件在对显示画面进行显示时，还存在着发光器件发光效率低，显示效果不理想等问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板，以有效的改善现有技术中制备得到的OLED发光器件的出光率低，发光效果不理想等问题。

为解决上述技术问题，本发明实施例所提供的技术方法如下：

本发明实施例的第一方面，提供了一种显示面板，包括：

阵列基板；

发光层，所述发光层设置于所述阵列基板的一侧，所述发光层包括多个发光像素；

钝化层，设置在所述发光层远离所述阵列基板的一侧，所述钝化层包括：与至少部分所述发光像素对应设置的像素开口；

彩膜层，设置在所述钝化层远离所述阵列基板的一侧，所述彩膜层包括：与所述发光像素对应的色阻、以及遮光部，所述遮光部对应所述发光像素设置有透光开口，且所述遮光部设置在所述钝化层远离所述阵列基板的一侧；

其中，至少部分所述色阻填充所述像素开口，并且所述色阻的折射率大于所述钝化层的折射率。

根据本发明一实施例，多个所述发光像素包括：显示第一颜色的第一发光像素、显示第二颜色的第二发光像素，所述第一颜色与所述第二颜色不同；

所述色阻包括：透射所述第一颜色的第一色阻、透射所述第二颜色的第二色阻，所述遮光部包括：对应所述第一发光像素的第一透光开口、对应所述第二发光像素的第二透光开口，

其中，所述钝化层包括：对应所述第一发光像素设置的第一像素开口，且所述钝化层与所述第二发光像素不重叠设置；

所述第一色阻填充所述第一像素开口，所述第二色阻填充所述第二透光开口。

根据本发明一实施例，所述第一色阻底面到所述阵列基板的高度等于所述第二色阻底面到所述阵列基板的高度。

根据本发明一实施例，所述第一透光开口边缘的所述遮光部遮盖部分所述第一色阻，所述第二色阻填充所述第二透光开口并覆盖部分所述遮光部。

根据本发明一实施例，所述黑色矩阵层设置在所述有机层上，所述第一像素开口对应的中心线与所述第一透光开口对应的中心线重合。

根据本发明一实施例，所述第一透光开口的开口口径大于所述第一像素开口的开口口径。

根据本发明一实施例，多个所述发光像素还包括：显示第三颜色的第三发光像素，所述第一颜色、所述第二颜色、所述第三颜色均不相同，所述第二发光像素的面积和所述第三发光像素的面积均小于所述第一发光像素的面积，

所述色阻还包括：透射所述第三颜色的第三色阻，所述遮光部还包括：对应所述第三发光像素的第三透光开口；

其中，所述钝化层不与所述第三发光像素重叠设置，所述第三色阻填充所述第三透光开口。

根据本发明一实施例，所述第一色阻底面到所述阵列基板的高度、所述第二色阻底面到所述阵列基板的高度、以及所述第三色阻底面到所述阵列基板的高度均相等。

根据本发明一实施例，所述第二透光开口对应的所述第二色阻与所述第三透光开口对应的所述第三色阻不重合。

根据本申请一实施例，所述显示面板还包括：

触控层，设置在所述发光层和所述彩膜层之间，所述触控层包括：触控金属层和所述钝化层，所述钝化层设置在所述触控层靠近所述彩膜层的一侧；

其中，所述触控金属层包括对应所述第一发光像素、所述第二发光像素、所述第三发光像素设置的开口，所述钝化层覆盖环绕所述第一发光像素设置的所述触控金属层，且所述遮光层覆盖环绕所述第二发光像素和所述第三发光像素设置的所述触控金属层。

根据本申请一实施例，所述像素开口的截面形状包括梯形或弧形中的至少一种。

根据本申请一实施例，所述梯形截面对应的所述像素开口的侧边坡度为30°～45°。

根据本申请一实施例，所述色阻的折射率为1.6～1.8，所述钝化层的折射率为1.4～1.6。

综上所述，本发明实施例的有益效果为：

本申请实施例提供一种显示面板。显示面板包括阵列基板、发光层、钝化层以及彩膜层，其中，钝化层包括与至少部分发光像素对应设置的像素开口，彩膜层包括：与发光像素对应的色阻、以及遮光部，遮光部对应发光像素设置有透光开口。本申请实施例中，至少部分色阻填充像素开口，并且色阻的折射率大于钝化层的折射率。通过在像素开口内填充色阻，并且色阻的折射率大于钝化层的折射率，从而通过设置上述的叠层结构以有效的提高显示面板的出光率，并最终实现提高显示面板显示效果的目的。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果更显而易见。

图1为本申请实施例提供的显示面板的各膜层结构示意图；

图2为本申请实施例提供的像素开口对应的又一示意图；

图3为本申请实施例中提供的又一显示面板的结构示意图；

图4-图8为本申请实施例提供的显示面板制备工序对应的膜层结构示意图；

图9为本申请实施例提供的又一显示面板的膜层结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，下文的公开提供了不同的实施方式或例子来实现本发明的不同结构。为了简化本发明，下文对特定例子的部件和设置进行描述。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用。本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

随着显示面板制备技术的不断发展，人们对显示面板的各项性能以及质量均提出了更高的要求。希望制备得到的显示面板不仅具有较好的质量，同时还具有较好的综合性能。

为了进一步提高显示面板的各项性能，现有技术在制备形成高性能的显示面板时，通常采用彩色滤光片替代传统偏光片的技术方案。上述技术方案能在一定程度上对显示面板的出光率进行提升，但是，显示面板的出光率以及对应的显示效果仍不能满足人们的需求。

本申请实施例中，提供一种显示面板，以有效的提高显示面板的显示效果以及综合性能。

如图1所示，图1为本申请实施例提供的显示面板的各膜层结构示意图。显示面板包括基板100、发光层101、封装层102、触控层11以及彩膜层12。

具体的，发光层101设置在基板100上，封装层102设置在发光层101上，同时，触控层11设置在封装层102上，并且彩膜层12设置在触控层11上，本申请实施例中，基板100为阵列基板，通过阵列基板内设置的薄膜晶体管以对发光层101进行驱动，并使发光层101正常发光。其中，在设置发光层101时，发光层101内还可包括多个发光像素区域15，在发光像素区域15内设置有发光像素150。本申请实施例中，发光像素区域15可阵列排布的设置在发光层101上，多个发光像素区域15最终形成显示面板的发光显示区域。

进一步的，本申请实施例中，封装层102设置在发光层101上，通过封装层102对显示面板的发光膜层进行密封，从而有效的防止外界的水汽等物质通过发光层101的层间间隙渗入到显示面板内部，而影响显示面板的性能和质量。在设置上述封装层102时，封装层102可设置为多膜层的叠加结构，如设置为无机-有机-无机膜层依次叠加的结构，从而有效的增加封装层102的封装效果。

优选的，在封装层102上还设置有触控层11，通过设置触控层11进而实现显示面板的触控操作。本申请实施例中，触控层11设置在发光层101和彩膜层12之间。通过对触控层11的膜层结构进行改善，达到提高显示面板出光率的效果。

具体的，触控层11上还可设置钝化层105，或者直接将该钝化层105设置在触控层11的其他膜层上，并与其他膜层共同形成该触控层11。上述钝化层对应的两种结构在实质上是相同的。因此，本申请实施例中，以触控层11包括该钝化层105为例进行说明。具体的，触控层11包括第一无机绝缘层103、第二无机绝缘层104以及钝化层105。其中，第一无机绝缘层103设置在封装层102上，第二无机绝缘层104设置在第一无机绝缘层103上，同时，钝化层105设置在第二无机绝缘层104上。

本申请实施例中，触控层11内还设置有触控金属层，如触控电极层。具体的，触控电极层设置在显示面板的非发光像素区域16内，如触控电极层围绕发光区域对应的发光像素设置，从而防止触控电极层对发光层101发出的光线遮挡。本申请实施例中，触控电极层可包括第一触控电极层109和第二触控电极层110。其中，第一触控电极层109和第二触控电极层110可设置在不同的膜层之中，如第一触控电极层109设置在第一无机绝缘层103上，第二触控电极层110设置在第二无机绝缘层104上，并且第二无机绝缘层104覆盖第一触控电极层109，钝化层105覆盖第二触控电极层110。本申请实施例中，触控电极层可在对应的膜层上呈网格结构设置，从而提高显示面板中触控层的触控效果。

进一步的，本申请实施例中，在设置钝化层105时，对钝化层105进行开口，并使钝化层105形成像素开口14。具体的，在与发光像素区域15对应的位置上，在钝化层105上制备形成像素开口14。且该像素开口14设置在相邻的第二触控电极层110之间，当发光层101中的发光像素区域15发出光线后，光线进一步的传播到与该发光像素区域15相对应的像素开口14内。

本申请实施例中该像素开口14对应的截面形状可设置为梯形结构或者弧形结构。优选的，像素开口还可为其他形状结构，这里不再详细赘述。以下实施例中以梯形结构为例进行说明。且该梯形结构设置为倒置梯形结构。

其中，该像素开口14的开口口径不小于与其对应的发光像素区域15的开口口径，从而保证由发光像素区域15内发射的光线能够完全的进入到像素开口14内。进一步的，本申请实施例中设置的该像素开口14可完全贯穿钝化层105并暴露出第二无机绝缘层104。

本申请实施例中，在设置像素开口14对应的梯形截面时，该梯形截面对应的两侧边远离像素开口14的中心倾斜，从而该梯形截面对应的钝化层105的侧壁与第二无机绝缘层104的表面之间具有一倾斜角，该倾斜角即为该钝化层105侧壁的斜度。本申请实施例中，该斜度设置为30°～45°。从而保证光线能达到最佳的出射效果，并有效的提高显示面板的出光率。

进一步的，如图2所示，图2为本申请实施例提供的像素开口对应的又一示意图。本申请实施例中，该像素开口14的截面形状还可设置为弧形或者半圆形。图2中的像素开口14的截面形状设置为半圆形结构，由于设置为半圆形结构，该半圆形的底部可与第二无机绝缘层104相接触或者不与第二无机绝缘层104的表面接触。当像素开口14的底部不与第二无机绝缘层104相接触时，即该像素开口14只蚀刻至部分钝化层105。上述像素开口14的结构均能保证光线的作用效果。当发光层的光线达到该像素开口14内时，会在像素开口14对应的截面处发生折射，并有效的提高进入到像素开口14内的入光量。优选的，本申请实施例中，为了减小各膜层的厚度，钝化层105的厚度设置为1微米～10微米。

进一步的，本申请实施例中，显示面板还包括彩膜层12，彩膜层12设置在钝化层105远离基板100的一侧，通过设置彩膜层12来替代传统偏光片结构。具体的，彩膜层12包括遮光部106以及色阻107。其中，色阻107与显示面板的发光像素相对应，遮光部106设置在钝化层105远离基板100的一侧，遮光部106在触控层11上围出间隔设置的多个透光开口13，且每个透光开口13与像素开口14以及发光像素区域15对应设置，从而使得显示面板达到最佳的出光效果。

本申请实施例中，色阻107设置在每个透光开口13内，并且至少部分色阻107填充对应的像素开口14。在设置透光开口13时，保证像素开口14的对应的中心线或中轴线与透光开口13对应的中心线或中轴线相重合，即从显示面板的俯视图上观察，像素开口14的中心与对应的透光开口13的中心位于同一中心点。且使得透光开口13对应的口径大于像素开口14对应的开口口径。

进一步的，在设置本申请实施例中的遮光部106时，遮光部106还覆盖色阻107的四周边缘区域，即遮光部106将色阻107的边缘遮盖，从而保证该区域内膜层对光线的作用效果。

具体的，遮光部106包括遮盖部1061以及主体部1062，遮盖部1061与遮光部106的主体部1062相连接。且遮盖部1061靠近透光开口13的一侧进行设置。在透光开口13内，相邻的两遮光部106之间形成一容纳空间，遮光部106的遮盖部1061将色阻107的边缘包裹并遮盖，并保证透光开口13中心区域对应的色阻107完全暴露出。本申请实施例中，通过在色阻107的四周边缘区域处设置遮盖部，防止相邻两色阻之间出现干涉的问题，从而有效的提高了显示面板的显示效果。

本申请实施例中，在子像素区域14内，遮光部106的侧面到子像素区域14中心的距离大于钝化层105的侧面到子像素区域14中心的距离。即遮光部106的侧面与钝化层105的斜面之间具有一定的距离，这样，黑色矩阵层的主体部1062与钝化层105在像素开口边缘之间就形成一平台，该平台的距离设定为1um～10um。且本申请实施例中设置的遮盖部的宽度为2um～5um之间。同时，在设定遮盖部1061时，控制遮盖部1061的宽度，使得遮盖部1061的边缘区域与像素开口所形成的区域不相互重叠，即该遮盖部1061的边缘不超出平台的边缘。

进一步的，在设置本申请实施例中提供的色阻107和钝化层105时，色阻107对应的折射率与钝化层105的折射率不同，具体的，色阻107的折射率大于钝化层105的折射率。优选的，色阻的折射率为1.6～1.8，触控层中的钝化层105的折射率为1.4～1.6。从而在像素开口区域14内形成折射率不同的微阵列结构，通过微阵列结构以有效的提高显示面板的性能。

进一步的，如图3所示，图3为本申请实施例中提供的又一显示面板的结构示意图。具体的，该显示面板的显示区域内包括多个发光像素区域，具体的，各发光像素区域包括显示第一颜色的第一发光像素151、显示第二颜色的第二发光像素152、以及显示第三颜色的第三发光像素153。本申请实施例中，第一颜色发光像素以红色发光像素、第二颜色发光像素以蓝色发光像素，第三颜色发光像素以绿色发光像素为例进行说明。具体的，与该不同颜色的发光像素所对应的像素开口内还设置有对应颜色的色阻。本申请实施例中，图3中的色阻107以第一色阻、第二色阻以及第三色阻为例进行说明。具体的，第一色阻为红色色阻1071、第二色阻为蓝色色阻1072以及第三色阻为绿色色阻1073。红色色阻1071对应的设置在第一像素开口141区域内，蓝色色阻1072对应设置在第二像素开口142区域内，同时绿色色阻1073对应设置在第三像素开口143区域内。

进一步的，遮光部106包括与第一发光像素151对应的第一透光开口131，与第二发光像素152对应的第二透光开口132，以及与第三发光像素153对应的第三头开口133。

结合图1中的膜层示意图，本申请实施例中，第一像素开口141、第二像素开口142以及第三像素开口143内设置的色阻的底面位于同一平面内，即红色色阻1071、蓝色色阻1072和绿色色阻1073的底部在同一高度上。当像素开口贯穿钝化层105时，上述各不同颜色的色阻的底面均位于钝化层105的表面。优选的，上述遮光部可为黑色矩阵层。

进一步的，本申请实施例中，还提供一种显示面板的制备方法。在制备形成本申请实施例中的显示面板时，其对应的各膜层结构示意图如图4-图8所示，图4-图8为本申请实施例提供的显示面板制备工序对应的膜层结构示意图。

详见图4，依次制备并形成显示面板的阵列基板100、发光层101以及封装层102。其中，发光层101设置在阵列基板100上，封装层102设置在发光层101上，同时，该发光层101包括发光像素区域15。

上述各功能膜层的制备可按照现有的制备工艺进行制备，这里不再详细赘述。制备完成后，再在封装层102上制备形成触控层11。本申请实施例中触控层11包括多层膜层，具体的，触控层11包括第一无机绝缘层103、第一触控电极层109、第二无机绝缘层104、第二触控电极层110以及钝化层105。

具体的，第一无机绝缘层103设置在封装层102上，第一触控电极层109设置在第一无机绝缘层103上，第二无机绝缘层104设置在第一无机绝缘层103上并覆盖该第一触控电极层109，同时，钝化层105设置在第二无机绝缘层104并覆盖第二触控电极层109，在制备触控电极层时，将触控电极层制备在非发光像素区域16内。

本申请实施例中，在制备形成钝化层105时，可通过旋涂、喷墨打印或者狭缝涂覆的方式进行整面涂覆，且该钝化层105的折射率为1.4～1.6，且该钝化层105的膜层厚度为1微米～10微米。制备完成后，形成图1中的结构。

详见图5，上述各膜层制备完成后，对图1中的膜层进行处理。具体的，通过曝光显影制备工艺对发光像素区域15对应的膜层进行光刻处理。光罩蚀刻完成后，在发光像素区域15对应的钝化层105上形成像素开口14。该像素开口14的截面为一梯形结构，梯形的两斜边形成了像素开口14的侧壁。预选的，该像素开口14的形状、尺寸以及侧壁的倾斜角度可根据实际产品进行设计。

在蚀刻形成像素开口的过程中，保证像素开口14的中轴线与发光像素区域15对应的中轴线相重合。

详见图6-图7，蚀刻完成后，再在触控层上制备并形成色阻107。将色阻107填充在对应的像素开口14内，并使色阻107的四周延伸至像素开口14的边缘外。色阻107制备完成后，该色阻107形成一透光开口13。

本申请实施例中，色阻107制备完成后，继续制备并形成显示面板的遮光部106。在制备遮光部106时，遮光部106对应设置在显示面板的非发光像素区域16内，并且遮光部106围绕对应的色阻107进行设置。本申请实施例中的示意图为单个发光像素对应的制备工序，当制备多个发光像素时，其制备工序与制备单个发光像素时相同。

进一步的，在制备遮光部106时，遮光部106还包括遮盖部1061，遮盖部1061覆盖色阻107的四周边缘，且在同一色阻107上，该黑色矩阵层的遮盖部1061之间形成一透光开口13。发光层发出的光线可通过透光开口13到达其他各膜层。本申请实施例中，还保证黑色矩阵层对应的透光开口13的中轴线与对应的像素开口14的中轴线相重合，从而使得像素开口中出射的光线能够完全从对应的子像素区域中射出。

详见图8，本申请实施例中的遮光部106和色阻107制备完成后，该遮光部106和色阻107形成本申请实施例中彩膜层，从而替代传统的偏光片膜层，以有效的提高显示面板的性能。进一步的，彩膜层制备完成后，再在彩膜层上制备一平坦化层108。制备平坦化层108时，通过旋涂、喷墨打印或者狭缝涂覆的方式进行制备，且该平坦化层108的膜层厚度为1微米～10微米。平坦化层108制备完成后，同时对该平坦化层108进行平坦化，最终形成本申请实施例中提供的膜层结构。

进一步的，如图9所示，图9为本申请实施例提供的又一显示面板的膜层结构示意图。结合图3中提供的显示面板的膜层结构，本实施例中，在制备各不同颜色的色阻时，使得该红色色阻1071、蓝色色阻1072以及绿色色阻1073的结构不完全相同。但是保证红色色阻1071、蓝色色阻1072以及绿色色阻1073的底部位于同一平面上。

具体的，详见图9，在第一发光像素151对应区域内，设置有钝化层105，该钝化层105与第一发光像素151重叠设置。而在第二发光像素152以及第三发光像素153对应的区域内，钝化层105不与发光像素重叠设置，即不设置该钝化层105。此时，各像素开口内对应设置的第一色阻1071、第二色阻1072以及第三色阻1073的底面到基板100表面的高度均相同。

同时，本申请实施例中，在第一透光开口131边缘的遮光部106遮盖部分第一色阻1071，而第二透光开口132和第三透光开口133内的色阻填充对应的开口，并设置到遮光部106的上表面，以覆盖部分遮光层106。

进一步的，本申请实施例中，第二发光像素152对应的发光面积和第三发光像素153对应的发光面积均小于第一发光像素151对应的发光面积，且第二透光开口132对应的第二色阻与第三透光开口133内设置的第三色阻不重合。

具体的，在各发光像素区域内，第二触控金属层110环绕该发光像素的像素开口设置。具体的，在第一发光像素区域内，第二触控金属层110环绕第一像素开口141设置。

同时，在第一发光像素151对应的区域内，钝化层105覆盖该第二触控金属层110。在第二发光像素区域和第三发光像素区域内，遮光部106覆盖对应的第二触控金属层110。

进一步的，在设置绿色色阻1073时，在第三像素开口143对应的区域内，首先在该触控层11上制备一钝化层105，使该钝化层105覆盖对应区域内的第二触控电极层110，并对钝化层105图案化处理，使其形成第三像素开口143，而在第二像素开口142和第一像素开口141内不设置钝化层105。

钝化层105制备完成后，在第三像素开口143内设置绿色色阻1073，使绿色色阻1073填充第三像素开口143并覆盖至少部分钝化层105。

绿色色阻1073制备完成后，继续制备遮光部106。具体的，在该第三像素开口143对应的区域内，围绕绿色色阻1073设置遮光部106，并且使遮光部106覆盖绿色色阻1073的四周边缘区域。最终形成图9中所示的结构。

而对于第二像素开口142和第一像素开口141对应的区域内，在该触控层上设置遮光部106。其中，遮光部106覆盖对应区域内的触控电极。并且对不同区域内的遮光部106进行蚀刻处理，使其形成第二像素开口142以及第一像素开口141。本申请实施例中，在形成第一像素开口141、第二像素开口142以及第三像素开口143时，使各像素开口的底部位于同一平面高度内。

遮光部106制备完成后，再在第二像素开口142和第一像素开口141对应的位置内设置蓝色色阻1072和红色色阻1071。在设置蓝色色阻1072和红色色阻1071时，使色阻填充满对应的像素开口，并且将色阻延伸至像素开口区域外一定的距离，使色阻至少覆盖部分像素开口边缘的黑色矩阵层。同时，蓝色色阻1072和红色色阻1071之间存在一定的距离，即蓝色色阻1072和红色色阻1071不接触，从而有效的防止不同颜色的色阻之间出现混色的问题。

最后再在色阻和黑色矩阵层上制备一平坦化层108，并形成图中所述的显示面板的结构。本申请实施例中，其他膜层的材料以及制备方式与上述实施例中的相同，这里不再详细赘述。通过对像素单元中绿色色阻对应的膜层结构进行改进，使绿色色阻对应的膜层结构与蓝色色阻和红色色阻对应的膜层结构不同，从而可根据实际产品对发光像素的发光效果进行调节，以使显示面板达到最佳的显示效果。优选的，还可对蓝色色阻或者绿色色阻的结构进行改进，以达到提高显示面板出光率和显示效果的目的。

进一步的，本申请实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板，显示面板通过本申请实施例中的制备方法制备形成。该显示装置具有较好的出光效率以及显示效果。

以上对本发明实施例所提供的一种显示面板以及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板；

发光层，所述发光层设置于所述阵列基板的一侧，所述发光层包括多个发光像素，所述发光像素包括显示第一颜色的第一发光像素、设置在所述第一发光像素一侧的显示第二颜色的第二发光像素，所述第一颜色与所述第二颜色不同；

钝化层，设置在所述发光层远离所述阵列基板的一侧，所述钝化层包括：对应所述第一发光像素设置的第一像素开口；

彩膜层，设置在所述钝化层远离所述阵列基板的一侧，所述彩膜层包括：与所述发光像素对应的色阻、以及遮光部，所述遮光部对应所述发光像素设置有透光开口，且所述遮光部设置在所述钝化层远离所述阵列基板的一侧；

其中，所述色阻包括：透射所述第一颜色的第一色阻、透射所述第二颜色的第二色阻，所述遮光部包括：对应所述第一发光像素的第一透光开口、对应所述第二发光像素的第二透光开口，

至少部分所述第一色阻填充所述第一像素开口，所述第二色阻填充所述第二透光开口；

其中，所述色阻的折射率大于所述钝化层的折射率，所述钝化层与所述第二发光像素不重叠设置，且所述第一色阻的底面到所述阵列基板之间的高度与所述第二色阻的底面到所述阵列基板之间的高度相同。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一透光开口边缘的所述遮光部遮盖部分所述第一色阻，所述第二色阻填充所述第二透光开口并覆盖部分所述遮光部。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素开口对应的中心线与所述第一透光开口对应的中心线重合。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一透光开口的开口口径大于所述第一像素开口的开口口径。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，多个所述发光像素还包括：显示第三颜色的第三发光像素，所述第一颜色、所述第二颜色、所述第三颜色均不相同，所述第二发光像素的面积和所述第三发光像素的面积均小于所述第一发光像素的面积，

所述色阻还包括：透射所述第三颜色的第三色阻，所述遮光部还包括：对应所述第三发光像素的第三透光开口；

其中，所述钝化层不与所述第三发光像素重叠设置，所述第三色阻填充所述第三透光开口。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻底面到所述阵列基板的高度、所述第二色阻底面到所述阵列基板的高度、以及所述第三色阻底面到所述阵列基板的高度均相等。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第二透光开口对应的所述第二色阻与所述第三透光开口对应的所述第三色阻不重合。

8.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

触控层，设置在所述发光层和所述彩膜层之间，所述触控层包括：触控金属层和所述钝化层，所述钝化层设置在所述触控层靠近所述彩膜层的一侧；

其中，所述触控金属层包括对应所述第一发光像素、所述第二发光像素、所述第三发光像素设置的开口，所述钝化层覆盖环绕所述第一发光像素设置的所述触控金属层，且遮光层覆盖环绕所述第二发光像素和所述第三发光像素设置的所述触控金属层。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素开口的截面形状包括梯形或弧形中的至少一种。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述梯形截面对应的侧边坡度为30°~45°。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述色阻的折射率为1.6~1.8，所述钝化层的折射率为1.4~1.6。