CN113727594A - 电磁波吸收片 - Google Patents

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Abstract

本发明实现一种能够良好地吸收毫米波频带以上的高频电磁波且具有充分可挠性的电磁波吸收片。该电磁波吸收片具备包含粒子状的电磁波吸收材料(1a)和橡胶制粘合剂(1b)的电磁波吸收层(1)、以及配置于所述电磁波吸收层的背面的电介质层(2),所述电磁波吸收材料为在毫米波频带以上的频带进行磁共振的磁性氧化铁,所述电介质层为非磁性且具有可挠性,所述电介质层的复相对介电常数的实部为2以上6以下,进一步,所述电介质层为二层以上。

Description

电磁波吸收片
本申请是原申请、申请日为2018年3月13日,申请号为201880008120.2,发明名称为“电磁波吸收片”的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本公开涉及一种吸收电磁波的电磁波吸收片,特别是涉及一种具有通过磁共振来吸收电磁波的电磁波吸收材料、吸收毫米波频带以上的高频电磁波且具有可挠性的电磁波吸收片。
背景技术
为了避免从电路等释放到外部的泄漏电磁波、不期望反射的电磁波的影响,使用吸收电磁波的电磁波吸收片。
近年来,在手机等移动通信、无线LAN、自动收费系统(ETC)等中,作为具有几千兆赫兹(GHz)的频带的厘米波,进一步具有从30千兆赫到300千兆赫频率的毫米波带、超过毫米波频带的高频频带的电磁波,也正在进行利用具有1太赫兹(THz)频率的电磁波的技术研究。
与利用这种更高频率的电磁波的技术趋势相对应,即使在吸收不需要的电磁波的电磁波吸收体、形成为片状的电磁波吸收片中,对能够吸收从千兆赫频带到太赫兹频带的电磁波的期望也提高了。
作为吸收毫米波带以上的高频频带的电磁波的电磁波吸收体,提出了一种具有在磁性相中具有在25~100千兆赫范围内发挥电磁波吸收性能的ε-氧化铁(ε-Fe2O3)晶体的粒子的填充结构的电磁波吸收体(参照专利文献1)。另外,还提出了一种片状取向体,通过使ε-氧化铁的微细粒子与粘合剂一起混炼,在粘合剂的干燥固化时从外部施加磁场而提高了ε-氧化铁粒子的磁场取向性(参照专利文献2)。
进一步,作为具有弹性的电磁波吸收片,提出了一种在硅橡胶中分散有碳纳米管的能够吸收厘米波的电磁波吸收片(参照专利文献3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2008-60484号公报
专利文献2:日本特开2016-135737号公报
专利文献3:日本特开2011-233834号公报
发明内容
发明要解决的课题
在将从产生电磁波的产生源泄漏的泄漏电磁波屏蔽的情况下,必须对覆盖作为对象的电路部件的外壳等配置电磁波吸收材,特别是在配置部位的形状不是平面形状的情况下,与使用固体状的电磁波吸收体相比,使用具备可挠性的电磁波吸收片时便利性高,因此优选。
但是,作为能够吸收毫米波频带即几十千兆赫以上频率的电磁波的电磁波吸收构件,并未实现具有充分可挠性的片状的电磁波吸收片。
本公开为了解决以往的课题,其目的在于实现一种能够良好地吸收毫米波频带以上的高频电磁波、且具有充分可挠性的电磁波吸收片。
用于解决课题的方法
为了解决上述课题,本申请中公开的电磁波吸收片的特征在于,具备包含粒子状的电磁波吸收材料和橡胶制粘合剂的电磁波吸收层、以及配置于上述电磁波吸收层的背面的电介质层,上述电磁波吸收材料为在毫米波频带以上的频带进行磁共振的磁性氧化铁,上述电介质层为非磁性且具有可挠性,上述电介质层的复相对介电常数的实部为2以上6以下,进一步,上述电介质层的厚度为10μm以上100μm以下。
发明效果
关于本申请中公开的电磁波吸收片,通过在电磁波吸收层中具备在毫米波频带以上的高频频带进行磁共振的磁性氧化铁作为电磁波吸收材料,并在电磁波吸收层的背面配置有非磁性的电介质层,从而能够实现将几十千兆赫以上的高频频带的电磁波转换为热并吸收而且输入阻抗高水平的匹配。另外,由于由使用了橡胶制粘合剂的电磁波吸收层和具有可挠性的电介质层构成,因此能够实现片材整体上具备高可挠性、且配置部位的形状对应性高的电磁波吸收片。
附图说明
图1是说明实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成的截面图。
图2是说明将Fe位点的一部分置换后的ε-氧化铁的电磁波吸收特性的图。
图3是说明在电磁波吸收层的背面具备非磁性的电介质层的电磁波吸收片的电气特性的模型图。图3(a)是说明本实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成的简图。图3(b)是以等效电路的形式表示本实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成的图。
图4是说明实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成的截面图。
图5是表示因实施方式涉及的电磁波吸收片中的电介质层的介电常数差异引起的电磁波吸收特性的变化的图。
图6是表示因实施方式涉及的电磁波吸收片中的电介质层的介电常数差异引起的电磁波吸收特性的变化的第2图。
图7是表示因实施方式涉及的电磁波吸收片中的电介质层的厚度差异引起的电磁波吸收特性的变化的图。
图8是表示实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成的电磁波吸收特性的变化的图。
图9是表示在实施方式涉及的电磁波吸收片中使用锶铁氧体作为磁性氧化铁时因电介质层的厚度差异引起的电磁波吸收特性的变化的图。
图10是表示在实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成中使用锶铁氧体作为磁性氧化铁时的电磁波吸收特性的变化的图。
具体实施方式
本申请中公开的电磁波吸收片具备包含粒子状的电磁波吸收材料和橡胶制粘合剂的电磁波吸收层、以及配置于上述电磁波吸收层的背面的电介质层,上述电磁波吸收材料为在毫米波频带以上的频带进行磁共振的磁性氧化铁,上述电介质层为非磁性且具有可挠性,上述电介质层的复相对介电常数的实部为2以上6以下,进一步,上述电介质层的厚度为10μm以上100μm以下。
通过如此操作,本申请中公开的电磁波吸收片通过电磁波吸收材料的磁共振而能够吸收毫米波频带即30千兆赫以上的高频频带的电磁波,通过形成于电磁波吸收层的背面的电介质层而能够使电磁波吸收片整体的输入阻抗与空气中的阻抗容易地匹配。另外,通过使用了橡胶制粘合剂的电磁波吸收层和电介质层具有可挠性,从而使电磁波吸收片整体上具备可挠性,因此电磁波吸收片的操作容易性提高,特别是容易在复杂弯曲的表面配置电磁波吸收片。
本申请中公开的电磁波吸收片中,优选进一步在上述电介质层的背面形成有将透过了上述电磁波吸收层和上述电介质层的电磁波反射的反射层。通过如此操作,能够确实地进行毫米波频带以上的高频频带的电磁波的屏蔽和吸收,能够实现所谓的反射型且具备可挠性的电磁波吸收片。
本申请中公开的电磁波吸收片中,上述电磁波吸收材料优选为ε-氧化铁、或锶铁氧体。通过将作为吸收高于30千兆赫频率的电磁波的电磁波吸收体的ε-氧化铁、锶铁氧体用作电磁波吸收材料,能够实现吸收高频电磁波的电磁波吸收片。
另外,优选上述电磁波吸收材料为ε-氧化铁,且上述ε-氧化铁的Fe位点的一部分被三价金属原子置换。通过如此操作,利用因置换Fe位点的材料而使磁共振频率不同的ε-氧化铁的特性,能够实现吸收所期望频带的电磁波的电磁波吸收片。
另外,上述电介质层可以采用形成为二层以上的层叠体的构成。通过如此操作,能够容易地进行电磁波吸收片整体的厚度和输入阻抗的调节。
进一步,上述电介质层优选具备粘着性。通过如此操作,能够将电介质层在功能上用于电磁波吸收片的粘接,能够将电磁波吸收层与电介质层的层叠体容易地与作为电磁波吸收片的配置位置的其他基材的表面、根据需要设置的反射层粘接。
需要说明的是,由于“电波”更广义而言可以理解为电磁波的一种,因此本说明书中,使用将电波吸收片称为电磁波吸收片等的“电磁波”这样的用语。
以下,对于本申请中公开的电磁波吸收片,参照附图进行说明。
(实施方式)
[第1构成例]
图1是表示本申请的实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成的截面图。
图1所示的实施方式是在电磁波吸收片的背面侧具备反射层的、所谓的反射型的电磁波吸收片的构成例。
需要说明的是,图1和后述的表示透过型的电磁波吸收片的构成例的图4均是为了容易理解本实施方式涉及的电磁波吸收片的构成而记载的图,对于图中所示的构件的大小、厚度,并非按照实际来表示。
另外,在以下本说明书中,将吸收对象的电磁波入射至电磁波吸收片一侧的面称为电磁波吸收片的前面侧。进一步,将与前面侧相反一侧的面,即在电磁波吸收片为透过型的情况下释放电磁波一侧的面称为电磁波吸收片的背面侧。
如图1所示,作为本实施方式的第1构成例所说明的反射型的电磁波吸收片,从图1的上方侧即电磁波吸收片的前面侧开始将电磁波吸收层1、作为电介质层的粘着层2、反射层3依次层叠而构成。
[电磁波吸收层]
电磁波吸收层1具备包含作为粒子状的电磁波吸收材料的磁性氧化铁粉1a和橡胶制的粘合剂1b的电磁波吸收层1。
本实施方式的电磁波吸收片利用各种橡胶材料作为构成电磁波吸收层1的粘合剂1b。因此,能够得到特别是在电磁波吸收片的面内方向容易伸缩的电磁波吸收片。需要说明的是,本实施方式涉及的电磁波吸收片由于形成有在橡胶制的粘合剂1b中包含磁性氧化铁粉1a的电磁波吸收层,因此其为弹性高的电磁波吸收片,同时可挠性也高,在操作电磁波吸收片时能够卷起电磁波吸收片,另外,能够使电磁波吸收片沿着弯曲面容易地配置。
在本实施方式涉及的电磁波吸收片中,作为粒子状的电磁波吸收材料,可以使用ε-氧化铁磁性粉、钡铁氧体磁性粉、锶铁氧体磁性粉等磁性氧化铁的粉体。在这些中,ε-氧化铁由于铁原子的电子在旋转运动时的进动频率高,且吸收毫米波频带即30~300千兆赫、或其以上的高频电磁波的效果高,因此特别适合作为电磁波吸收材料。
ε-氧化铁(ε-Fe2O3)是氧化铁(Fe2O3)中在α相(α-Fe2O3)与γ相(γ-Fe2O3)之间出现的相,是通过将反胶束法和溶胶-凝胶法组合而成的纳米微粒合成方法以单相的状态得到的磁性材料。
ε-氧化铁虽然是几nm到几十nm的微细粒子但在常温下具备约20kOe这样的作为金属氧化物最大的矫顽力,进一步,由基于进动的旋磁效应引起的自然磁共振会在几十千兆赫以上的所谓的毫米波带的频带发生。
进一步,通过将ε-氧化铁制成使晶体的Fe位点的一部分被铝(Al)、镓(Ga)、铑(Rh)、铟(In)等三价金属元素置换后的晶体,能够使磁共振频率、即在用作电磁波吸收材料时所吸收的电磁波的频率不同。
图2示出了与Fe位点置换的金属元素不同时ε-氧化铁的矫顽力Hc与自然共振频率f的关系。需要说明的是,自然共振频率f与所吸收的电磁波的频率一致。
根据图2,Fe位点的一部分被置换后的ε-氧化铁根据所置换的金属元素的种类和所置换的量的不同而自然共振频率不同。另外可知,自然共振频率的值变得越高,该ε-氧化铁的矫顽力变得越大。
更具体而言,在镓置换的ε-氧化铁、即ε-GaxFe2-xO3的情况下,通过调节置换量“x”,从而在从30千兆赫到150千兆赫程度的频带具有吸收峰,在铝置换的ε-氧化铁、即ε-AlxFe2-xO3的情况下,通过调节置换量“x”,从而在从100千兆赫到190千兆赫程度的频带具有吸收峰。因此,按照成为电磁波吸收片要吸收的频率的自然共振频率的方式来决定与ε-氧化铁的Fe位点置换的元素的种类,进一步通过调节与Fe的置换量,能够将要吸收的电磁波的频率设为期望的值。进一步,在将置换的金属设为铑的ε-氧化铁、即ε-RhxFe2-xO3的情况下,能够使所吸收电磁波的频带从180千兆赫到其以上移向更高的方向。
ε-氧化铁包含一部分的Fe位点被金属置换后的物质,由于可市售因此可以容易地得到。需要说明的是,ε-氧化铁粉的平均粒径为约30nm程度,具有大致球形或短棒形状(棒状)。
另外,作为电磁波吸收材料,可以适宜地使用锶铁氧体的磁性粉。作为锶铁氧体磁性粉,优选使用磁铅石型锶铁氧体磁性粉。具体地说,如果使用组成式SrFe(12-x)AlxO19(x:1.0~2.2)所表示的磁铅石型锶铁氧体磁性粉,则能够有效地吸收76GHz±10GHz频带的电磁波。特别是从电磁波吸收特性的观点考虑,优选使用激光衍射散射粒度分布的峰粒径为10μm以上的物质。
构成电磁波吸收层1的橡胶制的粘合剂1b可以使用天然橡胶(NR)、异戊二烯橡胶(IR)、丁二烯橡胶(BR)、丁苯橡胶(SBR)、丁基橡胶(IIR)、丁腈橡胶(NBR)、乙丙橡胶(EPDM)、氯丁橡胶(CR)、丙烯酸橡胶(ACM)、氯磺化聚乙烯橡胶(CSR)、聚氨酯橡胶(PUR)、硅橡胶(Q)、氟橡胶(FKM)、乙烯-乙酸乙烯酯橡胶(EVA)、环氧氯丙烷橡胶(CO)、多硫化橡胶(T)等各种橡胶材料。
在这些橡胶材料中,从耐热性高的方面出发,可以适宜地使用丙烯酸橡胶、硅橡胶。在丙烯酸橡胶的情况下,即使被置于高温环境下耐油性也优异,而且较便宜且性价比也优异。另外,在硅橡胶的情况下,除了耐热性以外耐寒性也高。进一步,物理特性对温度的依赖性在合成橡胶中最小,耐溶剂性、耐臭氧性、耐候性也优异。进一步,电绝缘性也优异,在宽的温度范围和频率区域内物质稳定。
在本实施方式涉及的电磁波吸收片的电磁波吸收层1中,在例如使用ε-氧化铁粉作为电磁波吸收材料1a的情况下,由于ε-氧化铁粉如上所述是粒径为几nm到几十nm的微细纳米粒子,因此在形成电磁波吸收层1时,重要的是使ε-氧化铁粉良好地分散于粘合剂1b内。因此,优选使用高分子分散剂、硅烷偶联剂。更具体而言,可以使用信越化学工业株式会社制的“KEM-3103”(商品名)等。
需要说明的是,作为电磁波吸收层1的组成,作为一例,可以设为相对于100份ε-氧化铁粉,橡胶制粘合剂为2~50份,分散剂的含量为0.1~15份。如果橡胶制粘合剂少于2份,则不能使磁性氧化铁良好地分散。另外不能维持作为电磁波吸收片的形状,而且难以得到电磁波吸收片的伸长率。如果多于50份,则虽然可得到电磁波吸收片的伸长率,但由于磁性氧化铁在电磁波吸收片中的体积含率变小,导磁率变低,因此电磁波吸收的效果变小。
如果分散剂的含量少于0.1份,则不能使用橡胶制粘合剂使磁性氧化铁良好地分散。如果多于15份,则使磁性氧化铁良好地分散的效果饱和。由于磁性氧化铁在电磁波吸收片中的体积含率变小,导磁率变低,因此电磁波吸收的效果变小。
[电磁波吸收层的制造方法]
这里,对本实施方式涉及的电磁波吸收片的电磁波吸收层1的制造方法进行说明。在本实施方式的电磁波吸收片中,制作至少包含磁性氧化铁粉和橡胶制粘合剂的磁性复合物,以预定的厚度将其成型,并使其交联,从而形成电磁波吸收层1。
首先,制作磁性复合物。
磁性复合物可以通过将ε-氧化铁粉和分散剂、橡胶制粘合剂混炼来得到。作为一例,混炼物通过使用加压式的间歇式捏合机进行混炼来得到。需要说明的是,此时可以根据需要配合交联剂。
作为一例,使用油压机等在150°(以下,温度为摄氏)的温度下将得到的磁性复合物交联/成型为片状。
然后,可以在恒温槽内在170°的温度下实施2次交联处理而形成电磁波吸收层。
[电介质层]
如图1所示,本实施方式涉及的电磁波吸收片在电磁波吸收层1的背面侧形成有作为非磁性的电介质层的粘着层2。
在本实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成中,在电磁波吸收层的背面侧隔着电介质层配置反射层。在这种情况下,为了实现作为电磁波吸收片的预定的输入阻抗,重要的是将预定厚度的电磁波吸收层与预定厚度的电介质层、以及该电介质层与反射层在彼此密合的状态下固着。这是因为:如果在各层之间具有间隙,则该间隙部分具有介电常数,电磁波吸收片整体的输入阻抗不会成为预定的值。因此,通过使用具有粘接功能的片状粘着层2作为电介质层,能够容易地实现使电磁波吸收层1、电介质层(粘着层2)、反射层3彼此密合而构成的层叠结构。
在本实施方式涉及的电磁波吸收片中,电介质层具备如下条件:具有作为电介质层本身的可挠性,复相对介电常数的实部ε’为2以上6以下,电介质层的厚度为10μm以上100μm以下。
为了在配置有反射层的电磁波吸收片中得到良好的电磁波吸收特性,必须如后所述使电磁波吸收片的输入阻抗与空气中的阻抗相匹配。即使复相对介电常数的实部ε’为2以上6以下的范围,在电介质层的厚度比10μm薄的情况或比100μm厚的情况下,由于不能使由电磁波吸收层的阻抗与电介质层的阻抗合成的电磁波吸收片整体的输入阻抗与空气中的阻抗相匹配,因此也得不到电磁波衰减量变大的效果。另外,即使电介质层的厚度为10μm以上100μm以下的范围,在复相对介电常数的实部ε’小于2的情况或大于6的情况下,同样地由于不能使电磁波吸收片整体的输入阻抗与空气中的阻抗相匹配,因此也得不到电磁波衰减量变大的效果。
作为具有可挠性的粘着层2,可以使用例如玻璃化温度(Tg)低的丁基橡胶系粘着剂、丙烯酸橡胶系粘着剂、硅橡胶系粘着剂等橡胶系的粘着剂、除橡胶系以外的各种粘着剂,并且为了调节介电常数而配合钛酸钡、二氧化钛等高介电陶瓷粉末或炭黑、金属等导电性粉末来构成。另外也可以在通常的粘着剂层中包含用于调节粘着力的增粘剂、交联剂来构成。
需要说明的是,如上所述在本实施方式涉及的电磁波吸收片中,由于电磁波吸收层1形成为包含粒子状的电磁波吸收材料的膜,因此有时会受到电磁波吸收材料的含量、粒子的形状、大小等的限制而不能具备一定以上大小的可挠性。与此相对,粘着层2通过主要使用如上所述的橡胶系、或树脂系的粘接剂层,从而能够较容易地实现为具备大可挠性的层。因此,在形成粘着层2时,在其材料、形成状态等方面下功夫,构成为具有不妨碍电磁波吸收层1的弹性变形的程度以上的可挠性的层。
[反射层]
反射层3只要是密合形成于粘着层2的背面侧的金属层即可。其中,本实施方式的电磁波吸收片由于电磁波吸收层1和粘着层2均具有可挠性,电磁波吸收片整体上具有可挠性,因此作为反射层3,使用金属箔、金属蒸镀膜、网状的导电体、银纳米线(Ag-NW)、导电性高分子膜等,在电磁波吸收层1和粘着层2弯曲时追随其形状变化而变形,形成为在表面电阻值不上升的情况下能够维持1Ω/□程度的电阻值的层。
需要说明的是,构成反射层3的金属种类没有特别限制,除上述银以外,还可以使用铝、铜、铬等电阻尽可能小且耐腐蚀性高的金属。
在图1所示的本实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成中,通过在电磁波吸收层1和粘着层2的背面侧设有反射层3,能够确实地避免电磁波贯通电磁波吸收片的情形。因此,可以特别适合地用作防止从由高频驱动的电路部件等释放到外部的电磁波泄漏的电磁波吸收片。
[阻抗匹配]
这里,在本实施方式涉及的电磁波吸收片中,对设置于电磁波吸收层的背面侧的电介质层的作用效果进行说明。
图3是说明在图1所示的本实施方式涉及的电磁波吸收片的第1构成例中因在电磁波吸收层与反射层之间配置了电介质层而引起的对电磁波吸收片的输入阻抗的影响的图。
如图3(a)所示,本实施方式涉及的电磁波吸收片通过从吸收对象的电磁波11的入射侧开始将电磁波吸收层1、作为电介质层的粘着层2、反射层3层叠而构成。需要说明的是,如图3(a)所示,将电磁波吸收层1的厚度设为d1,将粘着层2的厚度设为d2。反射层3是在与粘着层2的边界面使电磁波反射的层,因此从研究电磁波吸收片整体的输入阻抗的方面出发,不需要考虑反射层3的厚度。
图3(a)所示的电磁波吸收片的等效电路可以如图3(b)所示,在电磁波吸收片中,电磁波吸收层1的阻抗Z1与粘着层2的阻抗Z2成为串联连接的状态。需要说明的是,将电磁波11入射至电磁波吸收片之前的空气中的阻抗设为Z0
计算将反射层3计入在内的粘着层2的输入阻抗(Zin2),将其作为负载阻抗,计算来自电磁波吸收层1的前面的输入阻抗(Zin1)。该Zin1成为电磁波吸收片的输入阻抗Zin
需要说明的是,如后所述,电磁波吸收层和电介质层均可以设为多层的层叠构成。例如,在电磁波吸收片为从电磁波11的入射侧起的各层的阻抗为Z1、Z2、Z3、…、ZN的N个层配置于反射层的前方的构成的情况下,可以通过重复上述步骤来求出整体的输入阻抗Zin
如此,本实施方式涉及的电磁波吸收片的输入阻抗Zin表示为下述算式(1)。
[数1]
Figure BDA0003252846240000101
需要说明的是,在上述式(1)中,μrN为第N层的复导磁率,εrN为第N层的复介电常数,λ为入射的电磁波的波长,dN为第N层的厚度。这里,Z0是真空状态的阻抗值,约377Ω,为与空气中的阻抗大致相等的值。因此,通过使Zin的值等于Z0,从而使空气中与电磁波吸收层1之间的阻抗匹配,在空气中传播的电磁波不会在电磁波吸收片的电磁波吸收层1的表面反射或散射而能够直接入射至电磁波吸收层1。如此,通过进行电磁波吸收层1的阻抗匹配,减少电磁波吸收层1的表面的电磁波反射而直接入射,能够最大限度地发挥电磁波吸收层1本身所具有的电磁波吸收特性。
可知:在上述式(1)中,为了使Zin的值等于Z0,如果确定电磁波的波长λ的值以及电磁波吸收层和电介质层的材料,则只要将电磁波吸收层1的厚度d1与粘着层2的厚度d2的值设为预定的值即可。
电磁波吸收层1包含作为粒子状的电磁波吸收材料的磁性氧化铁粉1a和橡胶制的粘合剂1b来构成,但为了具有预定的可挠性、且发挥一定以上的电磁波吸收特性,必须以所需的体积含率包含磁性氧化铁粉1a,因此有时不一定能够使电磁波吸收层1的阻抗Z1与期望的值一致。但是,在本实施方式涉及的电磁波吸收片的情况下,由于在电磁波吸收层1的背面形成有作为电介质层的粘着层2,因此即使在电磁波吸收层1的阻抗受到限制的情况下,如上所述,也可以通过调节粘着层2的厚度来调节电磁波吸收片的输入阻抗Zin,使其与空气中的阻抗Z0=377Ω匹配。
其结果,能够实现一种具备期望的可挠性和电磁波吸收特性的电磁波吸收片。另外,与仅通过电磁波吸收层1的材料、厚度来使电磁波吸收片的输入阻抗Zin与空气中的阻抗Z0匹配的情况相比,通过以预定厚度具备具有预定阻抗Z2的粘着层2,能够减薄电磁波吸收层1的厚度,由于包含磁性氧化铁粉1a,因此能够减少重的电磁波吸收层1而实现电磁波吸收片整体的轻量化,能够减少高价的磁性氧化铁粉1a的使用量而实现电磁波吸收片的低成本化。
[第2构成]
接着,对本实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成进行说明。
图4是说明本实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成的截面图。
如图4所示,第2构成由电磁波吸收层1和粘着层2构成,并非如第1构成那样在粘着层2的背面具有反射层3。
关于本实施方式涉及的电磁波吸收片,电磁波吸收层1包含作为电磁波吸收材料的磁性氧化铁粉1a,通过磁性氧化铁粉1a产生磁共振而利用磁损耗将作为电磁波的电磁波转换为热能并吸收。因此,如图4所示,即使在电磁波吸收层1与粘着层2的层叠构成的背面侧没有设置反射层的方式中,也可以作为吸收透过电磁波吸收层1的电磁波的所谓的透过型电磁波吸收片使用。
需要说明的是,在本实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成中,由于电磁波吸收层1和粘着层2可以使用与构成图1所示的第1构成的电磁波吸收片相同的材料,因此在图4中也赋予相同符号并省略详细的说明。
在图4所示的电磁波吸收片的第2构成中也可以使用粘着层2作为电介质层。在第2构成的电磁波吸收片中,在粘着层2的背面不配置反射层,而是在电磁波吸收片的背面侧形成有粘着层2,由此在将电磁波吸收片贴附于预定部位时有利。另外,在图4所示的电磁波吸收片的第2构成中,认为:电磁波吸收层1与粘着层2充分密合地配置很重要,因此优选将电介质层设为具有粘接功能的粘着层2。
需要说明的是,即使在作为第2构成的不具有反射层的电磁波吸收片中,在复相对介电常数的实部ε’不是2以上6以下的范围、且电介质层的厚度不是10μm以上100μm以下范围的情况下,也得不到电磁波衰减量变大的效果。其理由是因为:电磁波吸收层与电介质层的阻抗发生背离(差异),在电磁波吸收层与电介质层的界面产生电磁波的反射,从而电磁波吸收效果降低。
实施例
以下,使用本实施方式涉及的电磁波吸收片的实施例,对作为电介质层优选的条件进行研究。
首先,制作图4所示的不具备反射层的透过型形态的电磁波吸收片。
实施例的电磁波吸收片中,作为电磁波吸收层,具备平均粒径为30nm的ε-氧化铁作为电磁波吸收材料,作为橡胶制粘合剂,使用信越化学工业株式会社制的“KE-510-U”(商品名),另外,作为分散剂,使用信越化学工业株式会社制的“KEM-3103”(商品名),准备一边为120mm的正方形的电磁波吸收片。
需要说明的是,关于电磁波吸收层的厚度,在反射型的电磁波吸收片中统一为0.9mm,在透过型的电磁波吸收片中统一为2.5mm。
关于电介质层,使用加压式捏合机使作为高介电陶瓷的平均粒径为0.21μm的二氧化钛(石原产业株式会社制的“CR-60”(商品名))以预定的比例分散于丁基橡胶系粘着剂中,从而形成为具有粘着性的粘着层,并粘附于电磁波吸收层的背面。
为了使电介质层的介电常数变化,改变二氧化钛的添加量,在以下的各实施例、比较例中,在介电常数为3.2的情况下,相对于100份丁基橡胶系粘着剂为3份,在介电常数为5.8的情况下为10份,在介电常数为7.7的情况下为15份,在仅使用丁基橡胶系粘着剂的情况下介电常数为2.1。另外,介电常数为1.9的电介质层通过相对于100份丁基橡胶系粘着剂配合20份滑石来制作。
作为反射型的电磁波吸收片,在测定时在具备上述制作的电磁波吸收层和电介质层的电磁波吸收层背面层压厚度7μm的铝箔来形成。
电磁波吸收量的测定通过自由空间法进行。具体地说,使用安捷伦科技株式会社制的毫米波网络分析仪N5250C(商品名)进行,使用一个端口,从收发天线隔着电介质透镜对电磁波吸收片照射预定频率的输入波(毫米波),测量来自电磁波吸收片的反射波,比较输入波的强度和反射波的强度,以dB计求出作为其衰减程度的反射衰减率RL(ReturnLoss)。
需要说明的是,RL通过以下的式(2)计算。
[数2]
Figure BDA0003252846240000131
另外,在透过型的电磁波吸收片中,在电磁波吸收片的背面配置接收天线,测定从发射天线发射的透过了电磁波吸收片后的电磁波。
需要说明的是,电介质层的介电常数的测定也与上述同样地通过自由空间法对电介质层照射电磁波,由电磁波的反射/透过特性(S参数)算出介电常数。
表1和图5是测定在反射型的电磁波吸收片中因电介质层的介电常数差异引起的电磁波吸收效果的变化的测定结果。
[表1]
Figure BDA0003252846240000141
如表1所示,在将电介质层的厚度固定保持为20μm的状态下,在如上所述调节二氧化钛的添加量来使电介质层的介电常数变化的情况下,介电常数最高为5.8的实施例1(图5中的符号51)的电磁波吸收片的电磁波吸收特性最大,为-35.4dB,介电常数为3.2的实施例2(符号52)的电磁波吸收片的电磁波吸收特性为-29.1dB,介电常数为2.1的实施例3(符号53)的电磁波吸收片的电磁波吸收特性为-26.5dB,随着介电常数变小,电磁波吸收特性也降低。但是,实施例3的电磁波吸收片的作为电磁波吸收特性的衰减量大大超过-25dB,如果换算为衰减率则成为接近99.9%的值,因此可以说发挥了充分的衰减特性。
另一方面,在作为比较例1(符号54)制作的不具有电介质层而仅具有电磁波吸收层的电磁波吸收片的情况下,衰减量为-25.4dB,与具有电介质层的各实施例的情况相比,处于不能说是充分值的水平。
另外,即使形成电介质层,在其介电常数为1.9的比较例2(符号55)的电磁波吸收片的情况下,也确认到衰减量为-25.4dB,不能发挥充分的衰减效果。
即可知,在比较例1的电磁波吸收片中,电磁波吸收层的阻抗Zin1与空气中的阻抗Z0不并未取得充分的阻抗匹配,与此相对在实施例1、实施例2、实施例3的电磁波吸收片中,由于电磁波吸收层的阻抗Zin1与电介质层的阻抗Zin2相加作为电磁波吸收片的输入阻抗Zin,因此在与空气中的阻抗Z0之间更良好地进行了阻抗匹配。另外可知,在比较例2的电磁波吸收片中,与电介质层的阻抗Zin2合成得到的电磁波吸收片的输入阻抗Zin未能与空气中的阻抗Z0相匹配。
需要说明的是,在图5中,以符号51表示的实施例1的电磁波吸收特性中,吸收峰为约78GHz,与此相对实施例2、实施例3、比较例1、比较例2的电磁波吸收片的吸收峰频率为约76GHz,但从此次的测定目的即验证具备电介质层对电磁波吸收特性产生的效果方面出发,这不是大问题。
接着,表2和图6中示出对因反射型的电磁波吸收片中的电介质层2的介电常数差异引起的电磁波吸收效果的变化进行测定的第2测定结果。
[表2]
Figure BDA0003252846240000161
作为第2测定,将电介质层的厚度为50μm或100μm、即与表1、图5所示的情况相比具备厚的电介质层时因电介质层的介电常数差异引起的电磁波吸收特性的变化表示为衰减量。如表2所示,可知:即使在电介质层的厚度为50μm的情况下,在设有介电常数为5.8的电介质层的实施例4(图6中的符号61)的电磁波吸收片中衰减量为-28.7dB,设有介电常数为2.1的电介质的实施例5(符号62)的电磁波吸收片的衰减量为-28.5dB,与没有设置电介质层的比较例1(符号63)的衰减量-25.4dB相比,电磁波吸收特性均高。
需要说明的是,即使在形成有电介质层的情况下,在介电常数为7.7的电介质层的情况下,在电介质层的厚度为50μm的比较例3(符号64)时衰减量为-23.8db,在厚度为100μm的比较例4(符号65)时衰减量为-15.9dB,与不具备电介质层的比较例1的电磁波吸收片相比,电磁波吸收特性均降低。
这认为是因为:由电磁波吸收层的介电常数与比较例3、比较例4的电介质层的介电常数合成得到的电磁波吸收片整体的输入阻抗Zin与空气中的阻抗Z0即377Ω偏离更大。
需要说明的是,在图6中,实施例4、比较例3、比较例4的吸收频率的峰为约78GHz,而实施例5的吸收频率的峰不同,与比较例1同样为76GHz,但此次测定中应当予以重视的是吸收峰处的衰减量的大小,实施例4和实施例5的曲线的峰与比较例1、比较例3、比较例4的峰相比更靠下侧的位置,能够明确地理解为发挥了更大的衰减效果。
接着,表3和图7示出对反射型的电磁波吸收片中因电介质层2的厚度差异引起的电磁波吸收效果的变化进行测定的测定结果。
[表3]
Figure BDA0003252846240000171
这里,如表3所示,在将电介质层的介电常数固定设为3.2的情况下,以衰减量的形式比较因改变电介质层的厚度引起的电磁波吸收片的电磁波吸收特性。
如表3所示,在将介电常数固定设为3.2的情况下,将电介质层的厚度设为70μm的实施例6(图7中的符号71)的衰减量最大,为-35.8dB。与此相对,在电介质层的厚度减薄至厚度20μm时的实施例2(符号72)中的衰减量为-29.1dB,电介质层增厚至100μm的实施例7(符号73)中的衰减量减少至-27.3dB。由此可知:在与此次测定所使用的电磁波吸收层的组合中使用介电常数为3.2的电介质层的情况下,优选将电介质层的厚度设定为70μm前后。
需要说明的是,在电介质层变得更薄而为厚度10μm的实施例8(符号74)的情况下,衰减量为-26.9dB,与没有设置电介质层的比较例1(符号75)的电磁波吸收片的衰减量-25.4dB相比,发挥了较大的衰减效果。
另一方面,在将电介质层的厚度增厚的情况下,在厚度为超过100μm的120μm的比较例5(符号76)的情况下,衰减量大大降低,为-2.37dB。由此显示,在电介质层的厚度超过100μm的情况下,难以实现具备良好的电磁波吸收特性的电磁波吸收片。
另外,作为相反地电介质层的厚度过薄的例子,在厚度为比10μm薄的8μm的比较例6(符号77)的情况下,衰减量为-25.4dB,与没有形成电介质层的比较例1的情况处于同样的水平。由此可知:在电介质层的厚度不足10μm的情况下也难以实现具备良好的电磁波吸收特性的电磁波吸收片。
进一步,对于使用锶铁氧体作为电磁波吸收材料的情况,同样地以电磁波衰减量的形式测定在设置介电常数为3.2的厚度不同的电介质层时的电磁波吸收特性。
在作为上述各实施例、比较例所制作的试样中将电磁波吸收材料从ε-氧化铁粉替换为锶铁氧体粉,从而制作测定试样。用作电磁波吸收材料的锶铁氧体粉使用组成(摩尔比)为SrFe10.56Al1.44O19且平均粒径为12.7μm的材料。
将测定结果示于表3和图9中。在表3中,从中间的双划线开始的下侧部分为使用了锶铁氧体的电磁波吸收片的吸收特性。
图9中以符号93表示的比较例7是没有设置电介质层的情况。与此相对,设有厚度70μm的电介质层的实施例9(图9的符号91)、设有厚度10μm的电介质层的实施例10(图9的符号92)的电磁波吸收特性均提高了。
另一方面,在介电常数同样为3.2但厚度为8μm而不满足10μm以上100μm以下这样的适合条件的比较例8(图9中的符号94)中,仅得到与没有设置电介质层的比较例7大致相同的电磁波吸收特性,未观察到设有电介质层的效果。
由此能够确认:即使在电磁波吸收材料的种类不同的情况下,通过满足电介质层的复相对介电常数的实部为2以上6以下、进一步电介质层的厚度为10μm以上100μm以下这样的条件,可得到具有适宜的电磁波吸收特性的电磁波吸收片。
接着,对透过型的电磁波吸收片的电磁波吸收特性的测定结果进行说明。
表4和图8示出对在使用ε-氧化铁粉作为电磁波吸收材料时的透过型的电磁波吸收片中因电介质层的介电常数差异引起的电磁波吸收效果的变化进行测定的第2测定结果。
[表4]
Figure BDA0003252846240000191
在透过型的电磁波吸收片的情况下,与反射型的电磁波吸收片相比整体上电磁波吸收特性降低。如表4所示,具备介电常数为5.8且厚度为100μm的电介质层的实施例11(图8中的符号81)的电磁波吸收片的衰减量为-16.2dB,具备介电常数为3.2且厚度为100μm的电介质层的实施例12(符号82)的电磁波吸收片的衰减量为-15.5dB,具备介电常数为3.2且厚度为70μm的电介质层的实施例13(符号83)的电磁波吸收片的衰减量为-15.2dB,具备介电常数为2.1且厚度为100μm的电介质层的实施例14(符号84)的电磁波吸收片的衰减量为-15.0dB。
与此相对,在没有形成电介质层的比较例11(符号85)的电磁波吸收片中,衰减率低至-14.1dB。另外,在电介质层的厚度为20μm但介电常数小至1.9的比较例12(符号86)的情况下,进一步在电介质层的厚度薄至9μm的比较例13(符号89)的情况下,即使介电常数与实施例14相同为2.1的任一情况下,均处于与没有形成电介质层的比较例11同样的衰减率-14.1dB。
如此可知,即使在透过型的电磁波吸收片的情况下,为了实现以衰减量计相当于衰减率约90%以上的衰减量-15dB的目标,通过具备介电常数为2以上6以下且厚度为70μm到100μm的电介质层,能够实现电磁波吸收特性更高的电磁波吸收片。
在透过型的电磁波吸收片的情况下,也与上述反射型的情况同样地制作将电磁波吸收材料替换为锶铁氧体的电磁波吸收片,并测定其电磁波吸收特性。
用作测定试样的锶铁氧体粉与上述反射型时的试样相同,使用组成(摩尔比)为SrFe10.56Al1.44O19且平均粒径为12.7μm的材料。
将透过型的电磁波吸收片的测定结果示于表4和图10中。在表4中,与表3同样地从中间的双划线开始的下侧部分为使用了锶铁氧体的电磁波吸收片的吸收特性。
图10中以符号103表示的比较例14是没有设置电介质层的情况。与此相对,设有厚度100μm、介电常数为5.8的电介质层的实施例15(图10的符号101),设有厚度100μm、介电常数为2.1的电介质层的实施例16(图10的符号102)的电磁波吸收特性均提高了。
另一方面,在介电常数与上述实施例16相同为2.1但电介质层的厚度为不满足10μm以上100μm以下的9μm这样适宜条件的比较例15(图10中的符号104)中,虽然所吸收的电磁波的波长稍微偏移,但电磁波衰减量本身仅得到与没有设置电介质层的比较例14大致相同的电磁波吸收特性,未观察到设有电介质层的效果。
如此能够确认,即使在透过型的电磁波吸收片的情况下,通过根据电磁波吸收材料的种类不同而满足适宜的电介质层的条件,即复相对介电常数的实部为2以上6以下、厚度为10μm以上100μm以下这样的条件,可得到具有适宜的电磁波吸收特性的电磁波吸收片。如上所说明,在本实施方式涉及的电磁波吸收片中,不管是反射型的情况还是透过型的情况,通过在电磁波吸收层的背面具备非磁性的电介质层,都能够在不会因电磁波吸收层的电磁波吸收材料对电磁波吸收特性产生影响的情况下调节电磁波吸收片的输入阻抗Zin,通过取得与空气中的阻抗Z0的匹配而能够提高电磁波吸收特性。
需要说明的是,电介质层的介电常数和厚度的条件严格来说根据由电磁波吸收层的材料、厚度决定的电磁波吸收层的阻抗来决定。但是,本申请中公开的电磁波吸收片中,受到作为电磁波吸收层包含橡胶制的粘合剂、电介质层具有可挠性等具体条件的限制。因此,如示出了上述实施例的研究结果的表1至表4所示,需要电介质层的介电常数(在这种情况下由于考虑了电气特性因此成为复相对介电常数的实部)为2以上6以下,电介质层的厚度为10μm以上100μm以下。
需要说明的是,在上述实施方式中,对使用具备粘着性的粘着层作为电介质层的情况进行了说明。但是,在本实施方式涉及的电磁波吸收片中,电介质层并非必须是粘着层,作为电介质层,可以不构成为具备其他特别功能的功能层而仅形成为具有预定的介电常数的层、使用具备阻燃性的介电材料以具备阻燃性这样功能的功能层的形式形成电介质层等。
另外,例如在可以层叠于电磁波吸收层而形成电介质层的情况等可确实得到电磁波吸收层与电介质层的密合性的情况下,通过仅在电介质层与反射层之间形成粘着层,能够构成电磁波吸收层、电介质层、反射层彼此密合而构成的电磁波吸收片。在这种情况下,作为电介质层,成为由电磁波吸收层侧的不具备粘着性的电介质层和反射层侧的具备粘着性的电介质层这二层层叠而成的构成,关于电介质层所具备的介电常数、电介质层的厚度,以作为二层结构的电介质层整体的数值的形式来获得。另外,还可以使用利用具有粘着性的电介质层夹持不具有粘着性的电介质层的两面而成的三层构成的电介质层、或四层以上的层叠构成的电介质层。
另外,作为在不具有粘着性的电介质层的背面侧形成反射层的方法,可以采用将银纳米线、或导电性高分子吹送或涂布于电介质层的背面侧的方法。另外也可以采用如下方法:使银纳米线、导电性高分子分散于包含与电介质层同样的介电材料的粘合剂中而制作具有弹性的反射层,并热压接于电介质层的背面的方法;进一步在形成具有弹性的反射层后,将电介质层与电磁波吸收层层叠而制作电磁波吸收片,对包含电介质层的橡胶系粘合剂与金属箔、导电性膜、导电性网进行硫化粘接的方法等。
(其他构成)
需要说明的是,在上述实施方式涉及的电磁波吸收片中,对在反射型的第1构成和透过型的第2构成中作为电磁波吸收层所含的电磁波吸收材料使用了ε-氧化铁和使用了锶铁氧体这两种情况进行了例示并说明。如上所述,通过使用ε-氧化铁,能够形成吸收毫米波频带即30千兆赫至300千兆赫的电磁波的电磁波吸收片。另外,通过使用铑等作为置换Fe位点的金属材料,能够实现吸收以电磁波的形式规定的最高频率即1太赫兹的电磁波的电磁波吸收片。
另外,即使在使用锶铁氧体作为电磁波吸收材料的情况下,也能够得到适当地吸收频率为75GHz的电磁波的电磁波吸收片。
但是,在本申请中公开的电磁波吸收片中,用作电磁波吸收层的电磁波吸收材料的磁性氧化铁不限于ε-氧化铁和锶铁氧体。
作为铁氧体系电磁吸收体的六方晶铁氧体在76千兆赫频带发挥电磁波吸收特性。因此,通过使用除ε-氧化铁、锶以外也在这种毫米波频带即30千兆赫至300千兆赫中具有电磁波吸收特性的磁性氧化铁的粒子和橡胶制粘合剂来形成电磁波吸收层,能够实现吸收毫米波频带的电磁波且具有可挠性的电磁波吸收片。
需要说明的是,例如六方晶铁氧体的粒子与上述实施方式中例示的ε-氧化铁的粒子相比,粒径大至十几μm程度,另外,粒子形状也不是大致球状而是板状、针状的晶体。因此,在使用橡胶制粘合剂形成磁性涂料时,优选调整分散剂的使用、与粘合剂的混炼条件,在以磁性涂料的形式涂布的状态下,以磁性氧化铁粉尽可能均匀地分散于电磁波吸收层中的状态且按照空隙率尽可能变小的方式进行调整。
上述实施方式中说明的电磁波吸收片通过使用橡胶制的粘合剂作为构成电磁波吸收层的粘合剂,能够实现具备可挠性的电磁波吸收片。特别是通过具备在毫米波频带以上的高频频带中进行磁共振的磁性氧化铁作为电磁波吸收材料,能够实现吸收高频电磁波、且具有可挠性的电磁波吸收片。
需要说明的是,在使用通过磁共振吸收电磁波的磁性氧化铁作为电磁波吸收材料的电磁波吸收片的情况下,通过提高电磁波吸收片中的电磁波吸收材料的体积含率,能够实现更大的电磁波吸收效果。但是,另一方面,在具备由橡胶制的粘合剂和电磁波吸收材料构成的电磁波吸收层的电磁波吸收片中,在因使用了粘合剂而确保可挠性的方面,必然规定了电磁波吸收材料的体积含率的上限。另一方面,通过将磁性氧化铁在电磁波吸收层中的体积含率的下限设为30%以上,能够确保所需水平的反射衰减量。
另外,在上述说明中,作为形成电磁波吸收层的方法,对制作磁性复合物并将其进行交联/成型的方法进行了说明。作为本申请中公开的电磁波吸收片的制作方法,除将上述磁性复合物进行成型等的方法以外,还可考虑使用例如挤出成型法。
更具体而言,预先使用加压式捏合机、挤压机、辊磨机等将磁性氧化铁粉、粘合剂、和根据需要的分散剂等混合,将混合的这些材料从挤出成型机的树脂供给口供给至增塑性料筒内。需要说明的是,作为挤出成型机,可以使用通常的挤出成型机,其具备:增塑性料筒、设置于增塑性料筒的前端的模口、在增塑性料筒内旋转自如地配设的螺杆、以及使螺杆驱动的驱动机构。使用挤出成型机的带式加热器进行了增塑化的熔融材料通过螺杆的旋转被送至前方并从前端挤出为片状,从而能够得到预定厚度的电磁波吸收层。
另外,在上述实施方式中,对电磁波吸收层由一层构成的电磁波吸收片进行了说明,但作为电磁波吸收层,也可以采用将多层层叠而成的层。在作为本实施方式涉及的电磁波吸收片的第2构成示出的透过型的电磁波吸收片的情况下,作为电磁波吸收层具备一定程度以上的厚度时,电磁波吸收特性提高。另外,即使在作为第1构成示出的反射型的电磁波吸收片的情况下,通过调节电磁波吸收层的厚度,从而也容易使输入阻抗值与空气中的阻抗值进行匹配。因此,根据形成电磁波吸收层的电磁波吸收材料、粘合剂的特性,在不能由一层而形成预定厚度的电磁波吸收层的情况下,以层叠体的形式形成电磁波吸收层是有效的。
除此以外,根据磁性复合物的粘度,可以使用注射成型、压延(辊)成型方法。
另外,可以通过涂布磁性涂料来形成电磁波吸收层。
磁性涂料可以通过得到ε-氧化铁粉与作为分散剂的磷酸化合物、树脂制粘合剂的混炼物,使用溶剂将其稀释,进一步分散后,使用过滤器进行过滤来得到。作为一例,混炼物通过利用加压式的间歇式捏合机进行混炼来得到。另外,作为一例,混炼物的分散可以使用填充了氧化锆等珠的混砂机以分散液的形式得到。需要说明的是,此时可以根据需要配合交联剂。
使用台式涂布机、棒涂机等将得到的磁性涂料涂布于具有剥离性的支撑体、作为一例为通过有机硅涂布进行了剥离处理的厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的片材上。
然后,可以将湿状态的磁性涂料在80℃干燥,进一步使用压延装置在预定温度和压力下进行压延处理,在支撑体上形成电磁波吸收层。
作为一例,通过将涂布于支撑体上的湿状态下的磁性涂料的厚度设为1mm,能够使干燥后的厚度为400μm,使压延处理后的电磁波吸收层的厚度为300μm。
如此操作,特别是即使在使用nm级的微细ε-氧化铁粉作为电磁波吸收材料的情况下,也能够形成ε-氧化铁粉良好地分散于树脂制粘合剂内的状态的电磁波吸收层。
产业上的可利用性
本申请中公开的电磁波吸收片作为吸收毫米波频带以上的高频频带的电磁波、进一步具有可挠性的电磁波吸收片是有用的。
符号说明
1 电磁波吸收层
1a ε-氧化铁(电磁波吸收材料)
1b 粘合剂
2 粘着层(电介质层)
3 反射层。

Claims (7)

1.一种电磁波吸收片,其特征在于,具备电磁波吸收层、以及配置于所述电磁波吸收层的背面的电介质层,所述电磁波吸收层包含粒子状的电磁波吸收材料和橡胶制粘合剂,
所述电磁波吸收材料为在毫米波频带以上的频带进行磁共振的磁性氧化铁,
所述电介质层为非磁性且具有可挠性,所述电介质层的复相对介电常数的实部为2以上6以下,
所述电介质层为二层以上。
2.根据权利要求1所述的电磁波吸收片,进一步在所述电介质层的背面形成有将透过了所述电磁波吸收层和所述电介质层的电磁波反射的反射层。
3.根据权利要求1或2所述的电磁波吸收片,所述电磁波吸收材料为ε-氧化铁、或锶铁氧体。
4.根据权利要求1或2所述的电磁波吸收片,所述电磁波吸收材料为ε-氧化铁,所述ε-氧化铁的Fe位点的一部分被三价金属原子置换。
5.根据权利要求1或2所述的电磁波吸收片,所述电介质层的厚度为10μm以上100μm以下。
6.根据权利要求1或2所述的电磁波吸收片,所述电介质层具备粘着性。
7.根据权利要求1或2所述的电磁波吸收片,所述磁性氧化铁在电磁波吸收层中的体积含率的下限为30%以上。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018168859A1 (ja) * 2017-03-13 2018-09-20 マクセルホールディングス株式会社 電磁波吸収シート
US10649585B1 (en) * 2019-01-08 2020-05-12 Nxp B.V. Electric field sensor
WO2020230448A1 (ja) * 2019-05-14 2020-11-19 富士フイルム株式会社 電波吸収体及びコンパウンド
CN110277649B (zh) * 2019-06-27 2021-09-21 南京理工大学 基于微米尺度周期单元的电路模拟吸收体
DE102020112939A1 (de) * 2020-05-13 2021-11-18 Rittal Gmbh & Co. Kg Schaltschrank mit von hochfrequenz-absorbierender folie bedeckter seitenwand
CN113571919B (zh) * 2021-07-07 2023-06-16 佛山(华南)新材料研究院 一种吸波器件及其制备方法
CN117957925A (zh) * 2021-09-24 2024-04-30 麦克赛尔株式会社 电磁波吸收体

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002198685A (ja) * 2000-12-26 2002-07-12 Otari Kk 積層型電波吸収体の製造方法
JP2004281632A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Mitsui Chemicals Inc 電波吸収体
US20100238063A1 (en) * 2006-09-01 2010-09-23 Ohkoshi Shin-Ichi Magnetic crystal for radio wave absorbing material and radio wave absorbent
CN104465006A (zh) * 2013-09-20 2015-03-25 株式会社东芝 电波吸收体
CN110235537A (zh) * 2017-03-13 2019-09-13 麦克赛尔控股株式会社 电磁波吸收片

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001189586A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Daido Steel Co Ltd 準ミリ−ミリ波帯用電磁波吸収体
JP4330812B2 (ja) * 2001-03-09 2009-09-16 横浜ゴム株式会社 電波吸収体の作製方法およびプログラム
JP2007019287A (ja) * 2005-07-08 2007-01-25 Denki Kagaku Kogyo Kk 誘電損失材料とそれを用いた電磁波吸収体
JP4787978B2 (ja) 2006-09-01 2011-10-05 国立大学法人 東京大学 電波吸収性磁性結晶および電波吸収体
WO2010150853A1 (ja) * 2009-06-24 2010-12-29 国立大学法人東京大学 磁性薄膜の製造方法、磁性薄膜及び磁性体
JP2011233834A (ja) 2010-04-30 2011-11-17 Shachihata Inc 電波吸収体
JP6017416B2 (ja) * 2010-05-10 2016-11-02 コリア インスティチュ−ト オブ マシナリ− アンド マテリアルズ 広帯域電磁気波吸収体及びその製造方法
JP2012124466A (ja) * 2010-11-18 2012-06-28 Nitto Denko Corp 半導体装置用接着フィルム、及び、半導体装置
JP5831921B2 (ja) * 2011-03-30 2015-12-09 日東電工株式会社 電磁波吸収体及び電磁波吸収体の製造方法
CN104582458A (zh) * 2013-10-29 2015-04-29 深圳光启创新技术有限公司 吸波超材料
CN103601482B (zh) * 2013-11-26 2017-01-04 北矿磁材科技股份有限公司 一种用于etc的吸波材料的制备方法
CN204104291U (zh) * 2014-10-15 2015-01-14 昆山雅森电子材料科技有限公司 薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜
EP3029771B1 (en) * 2014-12-03 2019-10-16 The University of Tokyo Electromagnetic wave absorber and film forming paste
JP6756483B2 (ja) 2015-01-19 2020-09-16 国立大学法人 東京大学 ε酸化鉄を含む配向体とその製造方法、並びに製造装置
JP6661445B2 (ja) * 2016-03-31 2020-03-11 国立大学法人 東京大学 高周波アンテナ素子、及び高周波アンテナモジュール

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002198685A (ja) * 2000-12-26 2002-07-12 Otari Kk 積層型電波吸収体の製造方法
JP2004281632A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Mitsui Chemicals Inc 電波吸収体
US20100238063A1 (en) * 2006-09-01 2010-09-23 Ohkoshi Shin-Ichi Magnetic crystal for radio wave absorbing material and radio wave absorbent
CN104465006A (zh) * 2013-09-20 2015-03-25 株式会社东芝 电波吸收体
CN110235537A (zh) * 2017-03-13 2019-09-13 麦克赛尔控股株式会社 电磁波吸收片

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