CN113522551A - 一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺 - Google Patents

一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，在进行面板加工时，首先取面板基板，依次通过除油剂、去离子水超声清洗，以去除其表面含有的油污、杂质，避免后续涂层涂覆效果；接着本申请在面板基板表面涂覆UV光固化底漆和仿金属阳极氧化漆，以形成底漆层和面漆层，底漆、面漆的选择均为现有市面上购买的涂料，实际操作时可根据实际需求进行选择。本发明公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，工艺设计合理，操作简单，制备得到面板基板表面经镭雕加工后，图案颜色清晰，图案形状准确，且面板基板表面涂覆有抗菌光油，具有优异的抗菌性能，实用性较高。

Description

一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺
技术领域
本发明涉及镭雕工艺技术领域，具体为一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺。
背景技术
镭雕一般指激光雕刻。激光雕刻加工是利用数控技术为基础，激光为加工媒介。加工材料在激光雕刻照射下瞬间的熔化和气化的物理变性，能使激光雕刻达到加工的目的。激光镌刻就是运用激光技术在物件上面刻写文字，这种技术刻出来的字没有刻痕，物体表面依然光滑，字迹亦不会磨损。
在汽车仪表盘面板加工过程中，一般需要采用镭雕工艺进行图案雕刻，但现有的镭雕工艺加工时，图案边缘会因为激光雕刻而产生焦化，从而使图案模糊不清晰，在实际应用中带来不便。
针对该情况，我们公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，以解决该技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗，去离子水超声清洗，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，烘烤形成面漆层；
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25-28℃下振荡沉积，去离子水洗涤，真空干燥；
(6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。
较优化的方案，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗10-15min，去离子水超声清洗15-20min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于75-80℃下烘烤15-20min，形成面漆层；
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1-1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25-28℃下振荡沉积3-5h，去离子水洗涤，70-80℃下真空干燥；
(6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。
较优化的方案，步骤(3)中，二氧化硅涂覆厚度为15-20um。
较优化的方案，步骤(3)中，一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为100-120W。
较优化的方案，步骤(2)中，所述底漆层的厚度为12-15um，所述面漆层的厚度为20-25um。
较优化的方案，步骤(6)中，所述光油涂料的涂覆厚度为18-24um。
较优化的方案，步骤(6)中，光油涂料的制备方法为：
A：取乳化剂和去离子水，35-40℃下搅拌20-25min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌10-15min，升温至70-80℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应20-30min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应30-40min，得到改性丙烯酸酯乳液；
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8-9，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌30-40min，得到光油涂料。
较优化的方案，抗菌单体的制备方法为：取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，90-100℃下搅拌反应40-48h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至40-42℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
较优化的方案，步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液30-50份、流平剂3-8份、消泡剂3-7份、乙醇2-10份，成膜助剂2-10份。
较优化的方案，改性丙烯酸酯乳液制备时，所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的4％-6％。
与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：
本发明公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，在进行面板加工时，首先取面板基板，依次通过除油剂、去离子水超声清洗，以去除其表面含有的油污、杂质，避免后续涂层涂覆效果；接着本申请在面板基板表面涂覆UV光固化底漆和仿金属阳极氧化漆，以形成底漆层和面漆层，底漆、面漆的选择均为现有市面上购买的涂料，实际操作时可根据实际需求进行选择。
接着本申请在面板基板表面进行镭雕，镭雕是利用数控技术为基础，激光为加工媒介，加工材料在激光雕刻照射下瞬间的熔化和气化的物理变性，能使激光雕刻达到加工的目的，在实际镭雕过程中，镭雕过程中图案周围的膜层也会被熔化，从而导致镭雕图案模糊不清晰，图案精细度较低，针对这种情况，我们在面漆层上涂覆了一层二氧化硅，以形成二氧化硅层，该二氧化硅层可作为保护层，保护面漆层在镭雕时不会受到镭雕雕刻的影响，同时镭雕时将原本的一次性镭雕雕刻加工改进为两次镭雕雕刻，并限定其加工功率为100-120W；在加工时首先在二氧化硅层表面进行镭雕，以雕刻出图案形状，再根据该形状，进一步对面漆层进行二次镭雕，再通过氢氟酸除去表面的二氧化硅层，此时得到的面板基板表面的图案清晰，图案边缘无模糊、焦化现象，加工效果优异。
本申请通过氢氟酸除去二氧化硅，并控制清洗时间为1-1.5min，在该清洗时间下，并不会对二氧化硅下表面的面漆层造成影响，同时由于氢氟酸清洗后会残留有二氧化硅，因此为避免影响后续光油涂料的附着力，本申请又在面板基板表面沉积聚多巴胺层，通过聚多巴胺层来提高光油涂料与面漆层之间的附着力；而在实际研发中发现，聚多巴胺层呈现黑褐色，在进行镭雕雕刻的面板基板表面进行涂覆时，会影响图案颜色的修饰和表达，因此本申请又在聚多巴胺沉积过程中引入了聚乙烯亚胺，聚乙烯亚胺能够与多巴胺发生反应，有效破坏聚多巴胺聚集体的形成，抑制颗粒的产生，从而使该沉积层的厚度更薄更均匀，同时聚乙烯亚胺还能够引入氨基，以提高该沉积层的表面亲水性，提高后续光油涂料的附着力和涂覆效果。
在沉积聚多巴胺层时，本申请限定了沉积时间为3-5h，该参数下沉积层呈现为透明色，并不影响面板基板的颜色修饰，在该参数之外，当沉积时间超过6h后，沉积层的颜色会随着沉积时间的增长越来越深，从而影响面板基板的颜色修饰。
接着本申请以2-羟甲基吡啶、1-溴葵烷、对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯等组分为原料，制备得到抗菌单体，并将抗菌单体引入光油涂料内，以提高整个面板基板的抗菌性能，同时光油涂料由丙烯酸羟乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯等单体进行聚合加工，其表面光泽度等综合性能优异，与面板基板的附着力良好，且具有优异的抗菌性能。乳化剂为OP-21。
本发明公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，工艺设计合理，操作简单，制备得到面板基板表面经镭雕加工后，图案颜色清晰，图案形状准确，且面板基板表面涂覆有抗菌光油，具有优异的抗菌性能，实用性较高。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗10min，去离子水超声清洗15min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于75℃下烘烤20min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为12um，所述面漆层的厚度为20um。
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；二氧化硅涂覆厚度为15um。
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为100W。
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25℃下振荡沉积5h，去离子水洗涤，70℃下真空干燥；
(6)取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，90℃下搅拌反应48h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至40℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
A：取乳化剂和去离子水，35℃下搅拌25min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌10min，升温至70℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应20min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应30min，得到改性丙烯酸酯乳液；所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的4％。
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌30min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液30份、流平剂3份、消泡剂3份、乙醇2份，成膜助剂2份。
(7)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为18um，烘烤干燥，得到成品。
实施例2：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗13min，去离子水超声清洗18min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于78℃下烘烤18min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为14um，所述面漆层的厚度为23um。
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；二氧化硅涂覆厚度为18um。
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为110W。
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，27℃下振荡沉积4h，去离子水洗涤，75℃下真空干燥；
(6)取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，95℃下搅拌反应45h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至41℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
A：取乳化剂和去离子水，38℃下搅拌23min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌13min，升温至75℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应24min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应35min，得到改性丙烯酸酯乳液；所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的5％。
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌35min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液40份、流平剂5份、消泡剂4份、乙醇8份，成膜助剂5份。
(7)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为20um，烘烤干燥，得到成品。
实施例3：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗15min，去离子水超声清洗20min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于80℃下烘烤15min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为15um，所述面漆层的厚度为25um。
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；二氧化硅涂覆厚度为20um。
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为120W。
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，28℃下振荡沉积3h，去离子水洗涤，80℃下真空干燥；
(6)取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，100℃下搅拌反应40h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至42℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
A：取乳化剂和去离子水，40℃下搅拌20min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌15min，升温至80℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应30min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应40min，得到改性丙烯酸酯乳液；所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的6％。
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至9，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌40min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液50份、流平剂8份、消泡剂7份、乙醇10份，成膜助剂10份。
(7)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为24um，烘烤干燥，得到成品。
对比例1：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗13min，去离子水超声清洗18min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于78℃下烘烤18min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为14um，所述面漆层的厚度为23um。
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；二氧化硅涂覆厚度为18um。
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为110W。
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，27℃下振荡沉积7h，去离子水洗涤，75℃下真空干燥；
(6)取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，95℃下搅拌反应45h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至41℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
A：取乳化剂和去离子水，38℃下搅拌23min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌13min，升温至75℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应24min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应35min，得到改性丙烯酸酯乳液；所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的5％。
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌35min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液40份、流平剂5份、消泡剂4份、乙醇8份，成膜助剂5份。
(7)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为20um，烘烤干燥，得到成品。
对比例1在实施例2的基础上进行改进，对比例1中步骤(5)中，沉积时间为7h，其余工艺参数和组分含量与实施例2一致。
对比例2：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗13min，去离子水超声清洗18min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于78℃下烘烤18min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为14um，所述面漆层的厚度为23um。
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；二氧化硅涂覆厚度为18um。
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为110W。
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，27℃下振荡沉积4h，去离子水洗涤，75℃下真空干燥；
(6)A：取乳化剂和去离子水，38℃下搅拌23min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌13min，升温至75℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应24min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应35min，得到改性丙烯酸酯乳液；
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌35min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液40份、流平剂5份、消泡剂4份、乙醇8份，成膜助剂5份。
(7)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为20um，烘烤干燥，得到成品。
对比例2在实施例2的基础上进行改进，对比例2中并未添加抗菌单体，其余工艺参数和组分含量与实施例2一致。
对比例3：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗13min，去离子水超声清洗18min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于78℃下烘烤18min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为14um，所述面漆层的厚度为23um。
(3)将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对面漆层进行镭雕雕刻，清洗后干燥；镭雕雕刻功率为110W。
(4)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，27℃下振荡沉积4h，去离子水洗涤，75℃下真空干燥；
(5)取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，95℃下搅拌反应45h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至41℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
A：取乳化剂和去离子水，38℃下搅拌23min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌13min，升温至75℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应24min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应35min，得到改性丙烯酸酯乳液；所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的5％。
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌35min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液40份、流平剂5份、消泡剂4份、乙醇8份，成膜助剂5份。
(6)取步骤(4)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为20um，烘烤干燥，得到成品。
对比例3在实施例2的基础上进行改进，对比例3中并未进行二氧化硅层的涂覆，其余工艺参数和组分含量与实施例2一致。
对比例4：
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗13min，去离子水超声清洗18min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于78℃下烘烤18min，形成面漆层；所述底漆层的厚度为14um，所述面漆层的厚度为23um。
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；二氧化硅涂覆厚度为18um。
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为110W。
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，95℃下搅拌反应45h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至41℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
A：取乳化剂和去离子水，38℃下搅拌23min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌13min，升温至75℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应24min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应35min，得到改性丙烯酸酯乳液；所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的5％。
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌35min，得到光油涂料；步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液40份、流平剂5份、消泡剂4份、乙醇8份，成膜助剂5份。
(6)取步骤(4)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，所述光油涂料的涂覆厚度为20um，烘烤干燥，得到成品。
对比例4在实施例2的基础上进行改进，对比例4中并未进行聚多巴胺层的沉积，其余工艺参数和组分含量与实施例2一致。
以上所有方案中，底漆均采用红色漆料。
检测实验：
1、取实施例1-3、对比例1-4制备的面板基板成品，观察其表面镭雕图案雕刻情况；
2、取实施例1-3、对比例1-4制备的面板基板样品，根据GB/T 31402-2015《塑料塑料表面抗菌性能试验方法》中的测试方法进行抗菌性能测试；测试菌种为大肠杆菌；
3、取实施例1-3、对比例1-4制备的面板基板样品，分别依据GB/T 9286-1998《色漆和清漆划格试验》测试附着力；划格时深度至聚多巴胺层。
项目 图案雕刻情况 抗菌性/％ 附着力/级
实施例1 图案形状清晰不模糊，颜色明亮 98％ 1级
实施例2 图案形状清晰不模糊，颜色明亮 99％ 1级
实施例3 图案形状清晰不模糊，颜色明亮 99％ 1级
对比例1 图案形状清晰不模糊，颜色灰暗 99％ 1级
对比例2 图案形状清晰不模糊，颜色明亮 73％ 1级
对比例3 图案形状模糊，边缘不均匀，颜色明亮 99％ 1级
对比例4 图案形状清晰不模糊，颜色明亮 99％ 2级
结论：本发明公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，工艺设计合理，操作简单，制备得到面板基板表面经镭雕加工后，图案颜色清晰，图案形状准确，且面板基板表面涂覆有抗菌光油，具有优异的抗菌性能，实用性较高。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗，去离子水超声清洗，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，烘烤形成面漆层；
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25-28℃下振荡沉积，去离子水洗涤，真空干燥；
(6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。
2.根据权利要求1所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：包括以下步骤：
(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗10-15min，去离子水超声清洗15-20min，真空干燥，备用；
(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于75-80℃下烘烤15-20min，形成面漆层；
(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；
将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；
(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1-1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25-28℃下振荡沉积3-5h，去离子水洗涤，70-80℃下真空干燥；
(6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。
3.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(3)中，二氧化硅涂覆厚度为15-20um。
4.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(3)中，一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为100-120W。
5.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(2)中，所述底漆层的厚度为12-15um，所述面漆层的厚度为20-25um。
6.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(6)中，所述光油涂料的涂覆厚度为18-24um。
7.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(6)中，光油涂料的制备方法为：
A：取乳化剂和去离子水，35-40℃下搅拌20-25min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌10-15min，升温至70-80℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应20-30min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应30-40min，得到改性丙烯酸酯乳液；
B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8-9，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌30-40min，得到光油涂料。
8.根据权利要求7所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：抗菌单体的制备方法为：取2-羟甲基吡啶和1-溴葵烷，以1,4-二氧六环为溶剂，90-100℃下搅拌反应40-48h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至40-42℃，加入甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯，搅拌反应至-NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
9.根据权利要求7所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液30-50份、流平剂3-8份、消泡剂3-7份、乙醇2-10份，成膜助剂2-10份。
10.根据权利要求7所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：改性丙烯酸酯乳液制备时，所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的4％-6％。
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