CN113462277B - 清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 98
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 88
- 239000002966 varnish Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- -1 nitrogen-containing compound Chemical class 0.000 claims abstract description 125
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 107
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 68
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 58
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims abstract description 49
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 24
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 53
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 21
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QJZXMQBYTOWWFO-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-hydroxy-n,2-dimethylpropanamide Chemical compound CCN(C)C(=O)C(C)(C)O QJZXMQBYTOWWFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZJBIJOORRHXJDN-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n,2-dimethylpropanamide Chemical compound CCN(C)C(=O)C(C)C ZJBIJOORRHXJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BNXZHVUCNYMNOS-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrolidin-2-one Chemical compound CCCCN1CCCC1=O BNXZHVUCNYMNOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 72
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 61
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 40
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 32
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 27
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 18
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 18
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 18
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 12
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 12
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical group OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 11
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 11
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 9
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 9
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 9
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 8
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004428 fluoroalkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- GXMIHVHJTLPVKL-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylpropanamide Chemical compound CC(C)C(=O)N(C)C GXMIHVHJTLPVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(4-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- UWHSPZZUAYSGTB-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetraethylurea Chemical compound CCN(CC)C(=O)N(CC)CC UWHSPZZUAYSGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBTGUNMUUYNPLH-UHFFFAOYSA-N 5-[4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]phenoxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC2=CC=C(C=C2)OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 BBTGUNMUUYNPLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXVYLFHTJZWTRF-UHFFFAOYSA-N Ethyl isobutyl ketone Chemical compound CCC(=O)CC(C)C DXVYLFHTJZWTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical group C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical group C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxypropionate Chemical compound COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYJAVTDNIXVSPW-UHFFFAOYSA-N tetryzoline Chemical compound N1CCN=C1C1C2=CC=CC=C2CCC1 BYJAVTDNIXVSPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- KOSXTEKMNXZLDK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-2-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)C(C)COC(C)=O KOSXTEKMNXZLDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCRJSEARWSNVQQ-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-2-methylpentyl) acetate Chemical compound CCC(OC)C(C)COC(C)=O WCRJSEARWSNVQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJFHJALOWQJJSQ-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylpentyl) acetate Chemical compound CCC(C)(OC)CCOC(C)=O BJFHJALOWQJJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- XJBWZINBJGQQQN-UHFFFAOYSA-N (4-methoxy-3-methylpentyl) acetate Chemical compound COC(C)C(C)CCOC(C)=O XJBWZINBJGQQQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAVJODPBTLNBSW-UHFFFAOYSA-N (4-methoxy-4-methylpentyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCCOC(C)=O QAVJODPBTLNBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYWRDHBGMCXGFY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazinane Chemical group C1CNNNC1 OYWRDHBGMCXGFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUZJJNBYJDFQHL-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazolidine Chemical compound C1CNNN1 UUZJJNBYJDFQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPBZZPOGZPKYKX-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxypropane Chemical compound CCOCC(C)OCC VPBZZPOGZPKYKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVMMVWNXKOSPRB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dipropoxypropane Chemical compound CCCOCC(C)OCCC PVMMVWNXKOSPRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQSLKNLISLWZQH-UHFFFAOYSA-N 1-(2-propoxyethoxy)propane Chemical compound CCCOCCOCCC HQSLKNLISLWZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUAURMBNZUCEAF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenoxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCOC1=CC=CC=C1 ZUAURMBNZUCEAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMRPQUDARIAGBM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOC1=CC=CC=C1 FMRPQUDARIAGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWQAFGZJIHVLGX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCOCCOCCOC(C)=O GWQAFGZJIHVLGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IELTYWXGBMOKQF-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxybutyl acetate Chemical compound CCOC(CC)COC(C)=O IELTYWXGBMOKQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWUWDFWEMWMTHX-UHFFFAOYSA-N 2-methoxybutyl acetate Chemical compound CCC(OC)COC(C)=O ZWUWDFWEMWMTHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUAXPJTWOJMABP-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypentyl acetate Chemical compound CCCC(OC)COC(C)=O CUAXPJTWOJMABP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMAQLCVJIYANPZ-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethyl acetate Chemical compound CCCOCCOC(C)=O QMAQLCVJIYANPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHZHLGBQLITWOB-UHFFFAOYSA-N 3-(trifluoromethyl)-6-[2-(trifluoromethyl)phenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=CC(C(F)(F)F)=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=C1OC1=CC=CC=C1C(F)(F)F SHZHLGBQLITWOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAUWPCNIJHYPGO-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenoxy)-3,4,5,6-tetrakis(trifluoromethyl)phenoxy]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C(=C(C=2OC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)C(F)(F)F)C(F)(F)F)C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1C(O)=O JAUWPCNIJHYPGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIDZGEJVGCDPLV-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenoxy)-3,4-bis(trifluoromethyl)phenoxy]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C(=CC=2)C(F)(F)F)C(F)(F)F)OC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GIDZGEJVGCDPLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMUMFCGQLRQGCR-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypentyl acetate Chemical compound CCC(OC)CCOC(C)=O NMUMFCGQLRQGCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNBGANNWBFTNZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxy-6-(trifluoromethyl)phthalic acid Chemical compound C1=CC(C(F)(F)F)=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=C1OC1=CC=CC=C1 VXNBGANNWBFTNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGGYVPOZEIFYQC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenoxy)propan-2-yloxy]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1OC(C)(C)OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 OGGYVPOZEIFYQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPDSWSYCBNHTO-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(3,4-dicarboxy-2,5,6-trifluorophenoxy)-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy]-3,5,6-trifluorophthalic acid Chemical compound FC1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=C(F)C(F)=C1OC(C(=C1F)F)=C(F)C(F)=C1OC1=C(F)C(F)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1F DXPDSWSYCBNHTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMLBDDCTBHGHEO-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybutyl acetate Chemical compound COCCCCOC(C)=O LMLBDDCTBHGHEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQILQHFLUYJMSM-UHFFFAOYSA-N 4-methoxypentyl acetate Chemical compound COC(C)CCCOC(C)=O GQILQHFLUYJMSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGBAEJOFXMSUPI-UHFFFAOYSA-N 4-propoxybutyl acetate Chemical compound CCCOCCCCOC(C)=O XGBAEJOFXMSUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- GXGJIOMUZAGVEH-UHFFFAOYSA-N Chamazulene Chemical group CCC1=CC=C(C)C2=CC=C(C)C2=C1 GXGJIOMUZAGVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N Imidazolidine Chemical compound C1CNCN1 WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJMWOMHMDSDKGK-UHFFFAOYSA-N Isopropyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC(C)C IJMWOMHMDSDKGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Chemical group C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical group C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003146 anticoagulant agent Substances 0.000 description 1
- 229940127219 anticoagulant drug Drugs 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005013 aryl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAZUOXBHFXAWMD-UHFFFAOYSA-N butyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=O ZAZUOXBHFXAWMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- DFFDSQBEGQFJJU-UHFFFAOYSA-M butyl carbonate Chemical compound CCCCOC([O-])=O DFFDSQBEGQFJJU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- GPTXWRGISTZRIO-UHFFFAOYSA-N chlorquinaldol Chemical compound ClC1=CC(Cl)=C(O)C2=NC(C)=CC=C21 GPTXWRGISTZRIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate group Chemical group [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004976 cyclobutylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLACVNYOVGHAKH-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCOCCC(=O)OCC LLACVNYOVGHAKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBPFRRFGLYGEJI-UHFFFAOYSA-N ethyl glyoxylate Chemical compound CCOC(=O)C=O DBPFRRFGLYGEJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N methoxymethylbenzene Chemical compound COCC1=CC=CC=C1 GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate Chemical compound COC(=O)C(O)C(C)C YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXHHBNMLPJOKQD-UHFFFAOYSA-M methyl carbonate Chemical compound COC([O-])=O CXHHBNMLPJOKQD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- CQDGTJPVBWZJAZ-UHFFFAOYSA-N monoethyl carbonate Chemical compound CCOC(O)=O CQDGTJPVBWZJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- NCIVMPNELJTZFT-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2-hydroxy-2-methylpropanamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(C)(C)O NCIVMPNELJTZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000000394 phosphonato group Chemical group [O-]P([O-])(*)=O 0.000 description 1
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- XDGFORICQHRPMI-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC(C)C XDGFORICQHRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCMFJIHDWDKYIL-UHFFFAOYSA-N propyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)CCOC JCMFJIHDWDKYIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- FOWDZVNRQHPXDO-UHFFFAOYSA-N propyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCOC(O)=O FOWDZVNRQHPXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Chemical group COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N pyrroline Natural products C1CC=NC1 ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 231100000615 substance of very high concern Toxicity 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyridine hydrochloride Natural products C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- ZYXWYDDFNXBTFO-UHFFFAOYSA-N tetrazolidine Chemical compound C1NNNN1 ZYXWYDDFNXBTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000337 tetryzoline Drugs 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M thiocyanate group Chemical group [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
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- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1003—Preparatory processes
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- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
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- C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
- C08G73/1071—Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G73/1075—Partially aromatic polyimides
- C08G73/1078—Partially aromatic polyimides wholly aromatic in the diamino moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/14—Polyamide-imides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
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- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/20—Diluents or solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本发明涉及清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法。本发明提供能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。在含有聚酰胺酸的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物中,作为溶剂(S),配合在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N‑烷基‑2‑吡咯烷酮。作为N‑烷基‑2‑吡咯烷酮,优选N‑正丁基‑2‑吡咯烷酮。溶剂(S)优选包含特定结构的含氮化合物。
Description
技术领域
本发明涉及清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。
背景技术
聚酰亚胺树脂具有优异的耐热性、机械强度及绝缘性、低介电常数等特性。因此,聚酰亚胺树脂在各种元件、多层布线基板等电子基板这样的电气·电子部件中广泛地用作绝缘材料、保护材料。
通常,聚酰亚胺树脂通过对使四羧酸二酐成分和二胺成分在极性有机溶剂中聚合而得到的聚酰胺酸进行热处理来形成。基于这样的背景,电子材料用的聚酰亚胺制品大多以聚酰胺酸这样的聚酰亚胺前体的溶液的形式供给。具体而言,制造电气·电子部件时,在利用涂布、注入等方法将聚酰亚胺前体的溶液供给至要形成绝缘材料、保护材料的部位后,对聚酰亚胺前体的溶液进行热处理,形成绝缘材料、保护材料。
已对与这样的聚酰亚胺树脂相关的技术进行了深入研究,公开了包含聚酰胺酸等的各种树脂组合物(例如参见专利文献1等)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2018-58918号公报
发明内容
发明要解决的课题
另一方面,对于聚酰亚胺树脂、特别是聚酰亚胺膜,根据用途有时期望高度的表面平滑性,但在使用专利文献1等中记载的树脂组合物作为清漆组合物来制造聚酰亚胺树脂的情况下,存在难以形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的问题。
本发明是鉴于上述课题而作出的,目的在于提供能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。
用于解决课题的手段
本申请的发明人发现,通过在含有聚酰胺酸的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物中,作为溶剂(S),配合在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮,能够解决上述的课题,从而完成了本发明。更具体而言,本发明提供以下的方案。
本发明的第1方式为用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物,其包含聚酰胺酸(A)和溶剂(S),
溶剂(S)包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮。
本发明的第2方式为聚酰亚胺树脂的制造方法,其包括下述工序:
成型工序,将第1方式涉及的清漆组合物进行成型;和
酰亚胺化工序,对经成型的清漆组合物进行加热而使其酰亚胺化。
发明的效果
根据本发明,可提供能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。
具体实施方式
《清漆组合物》
清漆组合物包含聚酰胺酸(A)和溶剂(S)。该清漆组合物用于形成聚酰亚胺树脂。
溶剂(S)包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮。
通过使清漆组合物包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮作为溶剂(S),从而能够使用清漆组合物来形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂。
以下,对清漆组合物的必需或任选的成分进行说明。
<聚酰胺酸(A)>
清漆组合物包含聚酰胺酸(A)。聚酰胺酸(A)为使清漆组合物固化时生成的聚酰亚胺树脂的前体聚合物。聚酰胺酸(A)只要为一直以来作为制造聚酰亚胺树脂时的前体聚合物使用的树脂即可,没有特别限定。
聚酰胺酸(A)通常可通过将包含四羧酸二酐和二胺化合物的单体成分缩合而得到。
聚酰胺酸可具有下述式(a1)表示的结构单元。
(式(a1)中,A1为碳原子数6以上且50以下的4价有机基团,A2为2价有机基团。)
以下,对聚酰胺酸(A)的制造中使用的四羧酸二酐、二胺化合物、和聚酰胺酸(A)的制造方法进行说明。
〔四羧酸二酐〕
生成式(a1)表示的结构单元的四羧酸二酐由下述式(a1-1)表示。
式(a1-1)表示的四羧酸二酐与后述的二胺化合物反应,能形成具有式(a1)表示的结构单元的聚酰胺酸(A)。该四羧酸二酐可以单独使用一种,也可以组合两种以上而使用。
(式(a1-1)中,A1为碳原子数6以上且50以下的4价有机基团。)
式(a1-1)中,A1为碳原子数6以上且50以下的4价有机基团。作为有机基团,优选含有碳原子的基团,更优选包含碳原子、和选自由H、O、S、Se、N、B、P、及卤素原子组成的组中的1种以上原子的基团。A1除了具有式(a1-1)中的2个-CO-O-CO-所表示的酸酐基以外,还可具有一个或多个取代基。
作为取代基的优选例,优选氟原子、碳原子数1以上且6以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基、碳原子数1以上且6以下的氟代烷基、碳原子数1以上且6以下的氟代烷氧基。另外,式(a1-1)表示的化合物除了包含酸酐基以外,还可以包含羧基、羧酸酯基。
取代基为氟代烷基或氟代烷氧基时,优选为全氟烷基或全氟烷氧基。
在以上的取代基方面,对于后述的芳香族基团在芳香环上可具有的1个或多个取代基而言也可作同样的说明。
式(a1-1)中,A1为4价有机基团,其碳原子数的下限值为6,上限值为50。
构成A1的碳原子数更优选为8以上,进一步优选为12以上。另外,构成A1的碳原子数更优选为40以下,进一步优选为30以下。A1可以为脂肪族基团,也可以为芳香族基团,还可以为组合这些结构而得到的基团。A1可以除了碳原子及氢原子外还包含卤素原子、氧原子、氮原子、及硫原子。A1包含氧原子、氮原子、或硫原子的情况下,氧原子、氮原子、或硫原子可以以选自含氮杂环基、-CONH-、-NH-、-N=N-、-CH=N-、-COO-、-O-、-CO-、-SO-、-SO2-、-S-、及-S-S-中的基团的形式包含于A1中,更优选以选自-O-、-CO-、-SO-、-SO2-、-S-、及-S-S-中的基团的形式包含于A1中。
四羧酸二酐可以从一直以来作为聚酰胺酸的合成原料使用的四羧酸二酐中适当选择。四羧酸二酐可以为脂肪族四羧酸二酐,也可以为芳香族四羧酸二酐。
作为脂肪族四羧酸二酐,例如,可举出2,2-双(3,4-二羧基)丙烷二酐、双(3,4-二羧基)甲烷二酐等。另外,脂肪族四羧酸二酐可以含有脂环式结构。该脂环式结构可以为多环式。作为多环式脂环式结构,例如,可举出双环[2.2.1]庚烷等桥联脂环式结构等。例如,桥联脂环式结构可以与其他桥联脂环式结构及/或非桥联脂环式结构稠合,桥联脂环式结构也可以与其他桥联脂环式结构及/或非桥联脂环式结构通过螺接而连结。使用脂肪族四羧酸二酐时,有使用组合物容易得到透明性优异的固化物的倾向。
另外,作为构成式(a1-1)中的A1的脂肪族基团,例如,可以采用以下的式(a2)所示的四价基团。使用这样的基团时,有容易得到透明性优异的聚酰亚胺树脂的倾向。
需要说明的是,从原料化合物的纯化容易的方面考虑,式(a2)中的a优选为5以下,更优选为3以下。另外,从能形成式(a1)表示的结构单元的原料化合物的化学稳定性优异的方面考虑,a优选为1以上,更优选为2以上。
式(a2)中的a特别优选为2或3。
(式(a2)中,Ra11、Ra12、及Ra13各自独立地为选自由氢原子、碳原子数1以上且5以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,a为0以上且12以下的整数。)
作为芳香族四羧酸二酐,例如,可举出均苯四甲酸二酐、1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、3,3’,4,4’-氧双邻苯二甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基砜四甲酸二酐等。
作为芳香族四羧酸二酐,另外,例如可以为下述通式(a1-2)~(a1-4)表示的化合物。
上述式(a1-2)及式(a1-3)中,Ra1、Ra2及Ra3各自为可以被卤素取代的脂肪族基团、氧原子、硫原子、介在有1个以上的二价元素的芳香族基团中的任一者,或者表示由它们的组合构成的二价基团。Ra2及Ra3可以相同也可以不同。
即,Ra1、Ra2及Ra3可以含有碳-碳单键、碳-氧-碳的醚键或卤素元素(氟、氯、溴、碘)。作为式(a1-2)表示的化合物,可举出2,2-双(3,4-二羧基苯氧基)丙烷二酐、及1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐等。
另外,上述式(a1-4)中,Ra4、Ra5为可以被卤素取代的脂肪族基团、介在有1个以上的二价元素的芳香族基团、卤素中的任一者,或者表示由它们的组合构成的一价取代基。Ra4、及Ra5各自可以相同也可以不同。作为式(a1-4)表示的化合物,也可以使用二氟均苯四甲酸二酐、及二氯均苯四甲酸二酐等。
作为用于得到在分子结构内含有氟的含氟聚酰亚胺的四羧酸二酐,例如,可举出(三氟甲基)均苯四甲酸二酐、二(三氟甲基)均苯四甲酸二酐、二(七氟丙基)均苯四甲酸二酐、五氟乙基均苯四甲酸二酐、双{3,5-二(三氟甲基)苯氧基}均苯四甲酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、5,5’-双(三氟甲基)-3,3’,4,4’-四羧基联苯二酐、2,2’,5,5’-四(三氟甲基)-3,3’,4,4’-四羧基联苯二酐、5,5’-双(三氟甲基)-3,3’,4,4’-四羧基二苯基醚二酐、5,5’-双(三氟甲基)-3,3’,4,4’-四羧基二苯甲酮二酐、双{(三氟甲基)二羧基苯氧基}苯二酐、双{(三氟甲基)二羧基苯氧基}(三氟甲基)苯二酐、双(二羧基苯氧基)(三氟甲基)苯二酐、双(二羧基苯氧基)双(三氟甲基)苯二酐、双(二羧基苯氧基)四(三氟甲基)苯二酐、2,2-双{4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基}六氟丙烷二酐、双{(三氟甲基)二羧基苯氧基}联苯二酐、双{(三氟甲基)二羧基苯氧基}双(三氟甲基)联苯二酐、双{(三氟甲基)二羧基苯氧基}二苯基醚二酐、双(二羧基苯氧基)双(三氟甲基)联苯二酐、二氟均苯四甲酸二酐、1,4-双(3,4-二羧基三氟苯氧基)四氟苯二酐、1,4-双(3,4-二羧基三氟苯氧基)八氟联苯二酐等。
作为四羧酸二酐,考虑到得到的聚酰亚胺树脂的耐热性及透明性等时,优选使用脂环式四羧酸二酐。
需要说明的是,也可以使用具有与上述化合物相同的基本骨架的四羧酸的酰氯化物、酯化物等。
四羧酸二酐可以与二羧酸酐并用。并用这些羧酸酐时,存在得到的聚酰亚胺树脂等含有酰亚胺环的聚合物的特性变得更加良好的情况。作为二羧酸酐,例如,可举出马来酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基内亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、氯桥酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐、戊二酸酐、顺式-4-环己烯-1,2-二甲酸酐等。
〔二胺化合物〕
二胺化合物典型地可以使用下述式(a3-1)表示的化合物。二胺化合物可以单独使用一种,也可以组合两种以上而使用。
H2N-A2-NH2···(a3-1)
(式(a3-1)中,A2表示2价有机基团。)
式(a3-1)中,A2为2价有机基团。作为有机基团,优选含有碳原子的基团,更优选包含1个以上的碳原子、以及选自由H、O、S、Se、N、B、P、及卤素原子组成的组中的1种以上原子的基团。A2除了具有式(a3-1)中的2个氨基以外,还可具有一个或多个取代基。
作为取代基的优选例,优选氟原子、碳原子数1以上且6以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基、碳原子数1以上且6以下的氟代烷基、碳原子数1以上且6以下的氟代烷氧基或羟基。
取代基为氟代烷基或氟代烷氧基时,优选为全氟烷基或全氟烷氧基。
式(a3-1)中,作为A2的有机基团的碳原子数的下限值优选为2,更优选为6,作为上限值,优选为50,更优选为30。
A2可以为脂肪族基团,但优选为含有1个以上的芳香环的有机基团。
A2为含有1个以上的芳香环的有机基团时,该有机基团可以为1个芳香族基团本身,也可以为2个以上的芳香族基团介由脂肪族烃基及卤代脂肪族烃基、含有氧原子、硫原子、及氮原子等杂原子的键而键合得到的基团。作为A2中包含的、含有氧原子、硫原子、及氮原子等杂原子的键,可举出-CONH-、-NH-、-N=N-、-CH=N-、-COO-、-O-、-CO-、-SO-、-SO2-、-S-、及-S-S-等,优选-O-、-CO-、-SO-、-SO2-、-S-、及-S-S-。
A2中的与氨基键合的芳香环优选为苯环。A2中的与氨基键合的环为包含2个以上环的稠环时,该稠环中的与氨基键合的环优选为苯环。
另外,A2中包含的芳香环可以为芳香族杂环。
A2为含有芳香族环的有机基团时,从使用树脂组合物形成的固化物的耐热性的方面考虑,该有机基团优选为下述式(21)~(24)表示的基团中的至少一种。
(式(21)~(24)中,R111表示选自由氢原子、氟原子、羟基、碳原子数1以上且4以下的烷基、及碳原子数1以上且4以下的卤代烷基组成的组中的1种。式(24)中,Q表示选自由9,9’-亚芴基、或式:-C6H4-、-CONH-C6H4-NHCO-、-NHCO-C6H4-CONH-、-O-C6H4-CO-C6H4-O-、-OCO-C6H4-COO-、-OCO-C6H4-C6H4-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-CO-、-CONH-、-SO2-、-C(CF3)2-、-C(CH3)2-、-CH2-、-O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O-、-O-C6H4-C(CF3)2-C6H4-O-、-O-C6H4-SO2-C6H4-O-、-C(CH3)2-C6H4-C(CH3)2-、-O-C10H6-O-、-O-C6H4-C6H4-O-、及-O-C6H4-O-表示的基团组成的组中的1种。
Q的示例中的-C6H4-为亚苯基,优选间亚苯基、及对亚苯基,更优选对亚苯基。另外,-C10H6-为萘二基,优选为萘-1,2-二基、萘-1,4-二基、萘-2,3-二基、萘-2,6-二基、及萘-2,7-二基,更优选为萘-1,4-二基、及萘-2,6-二基。)
作为式(21)~(24)中的R111,从形成的聚酰亚胺树脂的耐热性的观点考虑,更优选氢原子、羟基、氟原子、甲基、乙基、或三氟甲基,特别优选氢原子、羟基、或三氟甲基。
作为式(24)中的Q,从形成的聚酰亚胺树脂的耐热性的方面考虑,优选9,9’-亚芴基、-O-C6H4-O-、-C(CF3)2-、-O-、-C(CH3)2-、-CH2-、或-O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O-、-CONH-,特别优选-O-C6H4-O-、-C(CF3)2-或-O-。
使用芳香族二胺作为式(a3-1)表示的二胺化合物时,例如,可优选使用以下所示的芳香族二胺。
即,作为芳香族二胺,可举出对苯二胺、间苯二胺、2,4-二氨基甲苯、4,4’-二氨基联苯、4,4’-二氨基-2,2’-双(三氟甲基)联苯、3,3’-二氨基二苯基砜、4,4’-二氨基二苯基砜、4,4’-二氨基二苯基硫醚、4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基醚、3,3’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基苯甲酰苯胺、3,3’-二氨基苯甲酰苯胺、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(3-氨基苯氧基)苯、4,4’-双(4-氨基苯氧基)联苯、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]砜、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]砜、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷、9,9-双(4-氨基苯基)芴、9,9-双(4-氨基-3-甲基苯基)芴、及4,4’-[1,4-亚苯基双(1-甲基乙烷-1,1-二基)]二苯胺等。这些之中,从价格、获得容易性等方面考虑,优选对苯二胺、间苯二胺、2,4-二氨基甲苯、4,4’-二氨基二苯基醚、及4,4’-二氨基苯甲酰苯胺。
另外,作为A2,可以采用可具有链状脂肪族基团及/或芳香族环的含有硅原子的基团。作为这样的含有硅原子的基团,典型地,可以使用以下所示的基团。
另外,从进一步提高得到的聚酰亚胺树脂的机械特性的观点考虑,作为A2,也可优选使用以下的式(Si-1)表示的基团。
(式(Si-1)中,R112及R113各自独立地为单键或亚甲基、碳原子数2以上且20以下的亚烷基、碳原子数3以上且20以下的亚环烷基、或碳原子数6以上且20以下的亚芳基等。R114、R115、R116、及R117各自独立地为碳原子数1以上且20以下的烷基、碳原子数3以上且20以下的环烷基、碳原子数6以上且20以下的芳基、碳原子数20以下的包含氨基的基团、-O-R118表示的基团(R118为碳原子数1以上且20以下的烃基)、碳原子数2以上且20以下的包含1个以上环氧基的有机基团。作为包含环氧基的有机基团,优选包含环氧基的含有碳原子的基团,更优选为包含碳原子及氧原子、和选自由H、S、Se、N、B、P、及卤素原子组成的组中的1种以上原子的基团。l为3以上且50以下的整数。)
作为式(Si-1)中的R112及R113中的、碳原子数2以上且20以下的亚烷基,从耐热性、残余应力的观点考虑,优选碳原子数2以上且10以下的亚烷基,可举出1,2-亚乙基(dimethylene)、1,3-亚丙基、1,4-亚丁基、1,5-亚戊基、1,6-亚己基等。
作为式(Si-1)中的R112及R113中的、碳原子数3以上且20以下的亚环烷基,从耐热性、残余应力的观点考虑,优选碳原子数3以上且10以下的亚环烷基,可举出亚环丁基、亚环戊基、亚环己基、亚环庚基等。
作为式(Si-1)中的R112及R113中的、碳原子数6以上且20以下的亚芳基,从耐热性、残余应力的观点考虑,优选碳原子数6以上且20以下的芳香族基团,可举出亚苯基、亚萘基等。
作为式(Si-1)中的R114、R115、R116、及R117中的碳原子数1以上且20以下的烷基,从耐热性和残余应力的观点考虑,优选碳原子数1以上且10以下的烷基,具体而言,可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基等。
作为式(Si-1)中的R114、R115、R116、及R117中的碳原子数3以上且20以下的环烷基,从耐热性、残余应力的观点考虑,优选碳原子数3以上且10以下的环烷基,具体而言,可举出环戊基、环己基等。
作为式(Si-1)中的R114、R115、R116、及R117中的碳原子数6以上且20以下的芳基,从耐热性、残余应力的观点考虑,优选碳原子数6以上且12以下的芳基,具体而言,可举出苯基、甲苯基、萘基等。
作为式(Si-1)中的R114、R115、R116、及R117中的碳原子数20以下的包含氨基的基团,可举出氨基、经取代的氨基(例如,双(三烷基甲硅烷基)氨基)等。
作为式(Si-1)中的R114、R115、R116、及R117中的-O-R118表示的基团,可举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙基氧基、丁氧基、苯氧基、甲苯氧基、萘基氧基、丙烯基氧基(例如,烯丙氧基)、及环己基氧基等。
其中,作为R114、R115、R116、及R117,优选甲基、乙基、丙基、苯基。
式(Si-1)表示的基团可以通过使两末端具有氨基的含硅化合物与酸酐作用而导入。作为这样的含硅化合物的具体例,可举出两末端氨基改性甲基苯基硅酮(例如信越化学公司制的X-22-1660B-3(数均分子量4,400左右)及X-22-9409(数均分子量1,300左右))、两末端氨基改性二甲基硅酮(例如信越化学公司制的X-22-161A(数均分子量1,600左右)、X-22-161B(数均分子量3,000左右)及KF8012(数均分子量4,400左右);东丽道康宁制的BY16-835U(数均分子量900左右);以及JNC公司制的Silaplane FM3311(数均分子量1000左右))等。
〔聚酰胺酸(A)的制造方法〕
具有式(a1)表示的结构单元的聚酰胺酸(A)典型地为使上述的式(a1-1)表示的四羧酸二酐、与上述的式(a3-1)表示的二胺化合物在溶剂中反应而得到的聚合物,可以为将二胺化合物及/或四羧酸二酐各自使用1种或两种以上而得到的聚合物。例如,可以为将二胺化合物与包含两种以上的四羧酸二酐的混合物进行缩聚而得到的聚合物。另外,聚酰胺酸(A)可以单独使用或混合两种以上而使用。
合成聚酰胺酸(A)时的、四羧酸二酐及二胺化合物的使用量没有特别限定,优选相对于四羧酸二酐1摩尔而言使用0.50摩尔以上且1.50摩尔以下的二胺化合物,更优选使用0.60摩尔以上且1.30摩尔以下,特别优选使用0.70摩尔以上且1.20摩尔以下。
另外,得到的聚酰胺酸(A)的重均分子量根据其用途而适当设定即可,例如为5000以上,优选为7500以上,更优选为10000以上。另一方面,得到的聚酰胺酸(A)的重均分子量例如为100000以下,优选为80000以下,更优选为75000以下。
通过调节四羧酸二酐与二胺化合物的配合量、溶剂、反应温度等反应条件,可以使该重均分子量为上述的值。
四羧酸二酐与二胺化合物的反应通常在有机溶剂中进行。四羧酸二酐与二胺化合物的反应中使用的有机溶剂只要为能够使四羧酸二酸酐及二胺化合物溶解、且不与四羧酸二酐及二胺化合物反应的有机溶剂即可,没有特别限定。有机溶剂可以单独使用或混合2种以上而使用。
作为四羧酸二酐与二胺化合物的反应中使用的有机溶剂的例子,可举出N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N-甲基己内酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲等含氮极性溶剂;二甲基亚砜;乙腈;二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二氧杂环己烷、及四氢呋喃等醚类。
这些有机溶剂中,从生成的聚酰胺酸(A)的溶解性的方面考虑,优选N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N-甲基己内酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲等含氮极性溶剂。
就四羧酸二酐与二胺化合物反应时的温度而言,只要反应良好地进行即可,没有特别限定。典型地,四羧酸二酐与二胺化合物的反应温度优选为-5℃以上且150℃以下,更优选为0℃以上且120℃以下,特别优选为0℃以上且70℃以下。四羧酸二酐与二胺化合物反应的时间根据反应温度的不同而不同,典型地,优选为1小时以上且50小时以下,更优选为2小时以上且40小时以下,特别优选为5小时以上且30小时以下。
利用以上说明的方法,可得到包含聚酰胺酸(A)的溶液。
可以将以上述方式得到的包含聚酰胺酸(A)的溶液直接用于清漆组合物的制备,也可以在减压下、于不产生聚酰胺酸向聚酰亚胺树脂的转变的程度的低温,从聚酰胺酸(A)的溶液中除去溶剂的至少一部分,将所得到的聚酰胺酸的糊剂或固体用于清漆组合物的制备。
清漆组合物中的聚酰胺酸(A)的含量可以考虑清漆组合物的涂布性、聚酰胺酸(A)在溶剂(S)中的溶解性等而适当确定。典型地,相对于清漆组合物的质量而言,清漆组合物中的聚酰胺酸(A)的含量优选为5质量%以上且45质量%以下,更优选为7质量%以上且40质量%以下,进一步优选为10质量%以上且30质量%以下。
<溶剂(S)>
溶剂(S)包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮。
如前文所述,通过使清漆组合物包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮,从而能够使用清漆组合物来制造表面高度平滑的聚酰亚胺树脂。
N-烷基-2-吡咯烷酮中,与氮原子键合的烷基只要其碳原子数为3以上且7以下即可,没有特别限定。该烷基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。该烷基的碳原子数优选为3以上且6以下,更优选为3以上且5以下,特别优选为4。
N-烷基-2-吡咯烷酮中,作为与氮原子键合的烷基的具体例,可举出正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、及正庚基。这些之中,优选正丙基、正丁基、正戊基、正己基、及正庚基,更优选正丙基、正丁基、及正戊基,特别优选正丁基。
即,作为上述的N-烷基-2-吡咯烷酮,特别优选N-正丁基-2-吡咯烷酮。
上述的N-烷基-2-吡咯烷酮容易溶解聚酰胺酸(A)及聚酰亚胺树脂,并且,沸点高。因此,在对包含上述的N-烷基-2-吡咯烷酮作为溶剂(S)的清漆组合物进行烧成来形成聚酰亚胺树脂的情况下,认为高沸点的N-烷基-2-吡咯烷酮不会从被烧成的清漆组合物中剧烈地挥发而是留在其中,不易在形成的聚酰亚胺树脂的表面产生粗糙。
需要说明的是,N-甲基-2-吡咯烷酮的大气压下的沸点为202℃,N-正丁基-2-吡咯烷酮的大气压下的沸点为243℃。
从形成的聚酰亚胺树脂的表面平滑性的方面考虑,上述的在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮的质量在溶剂(S)的质量中的比率优选为1质量%以上且20质量%以下,更优选为1质量%以上且10质量%以下,进一步优选为1质量%以上且6质量%以下。
另外,从形成的聚酰亚胺树脂的表面平滑性的方面考虑,相对于清漆组合物的固态成分100质量份而言,在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮的含量优选为6质量份以上且110质量份以下,更优选为6质量份以上且55质量份以下,进一步优选为6质量份以上且34质量份以下。
溶剂(S)优选在包含上述的N-烷基-2-吡咯烷酮的同时还包含下述式(S1)表示的含氮化合物。
(式(S1)中,RS1为碳原子数1以上且2以下的烷基,RS2为碳原子数1以上且3以下的烷基,RS3为氢原子、或者下述式(S1-1)或下述式(S1-2)表示的基团,
RS4为氢原子或羟基,RS5及RS6各自独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的烷基,RS7及RS8各自独立地为氢原子、或碳原子数1以上且3以下的烷基,RS3为式(S1-1)表示的基团的情况下,RS2及RS3可以彼此键合而形成环。)。
上述的式(S1)表示的含氮化合物良好地溶解聚酰胺酸(A),并且沸点低于上述的N-烷基-2-吡咯烷酮。因此,通过使溶剂(S)在包含上述的N-烷基-2-吡咯烷酮的同时还包含上述的式(S1)表示的含氮化合物,容易制备组成均匀的清漆,并且,能够在烧成期间一定程度地快速除去溶剂(S)的同时,良好地抑制形成的聚酰亚胺树脂的表面上的粗糙的产生。
式(S1)表示的含氮化合物中,作为RS3为氢原子、或式(S1-1)表示的基团的情况的具体例,可举出N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N,2-三甲基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基丙酰胺、N,N-二乙基-2-甲基丙酰胺、N,N,2-三甲基-2-羟基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基-2-羟基丙酰胺、及N,N-二乙基-2-羟基-2-甲基丙酰胺等。
式(S1)表示的含氮化合物中,作为RS3为式(S1-1)表示的基团、且RS2及RS3彼此键合而形成环的情况的具体例,可举出N-甲基-2-吡咯烷酮、及N-乙基-2-吡咯烷酮等。
式(S1)表示的含氮化合物中,作为RS3为式(S1-2)表示的基团的情况的具体例,可举出N,N,N’,N’-四甲基脲、N,N,N’,N’-四乙基脲等。
从溶剂(S)的挥发性、含氮化合物的容易获得性的方面考虑,溶剂(S)优选包含选自由N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N,2-三甲基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基丙酰胺、N,N-二乙基-2-甲基丙酰胺、N,N,2-三甲基-2-羟基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基-2-羟基丙酰胺、N,N-二乙基-2-羟基-2-甲基丙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N,N,N’,N’-四甲基脲、及N,N,N’,N’-四乙基脲组成的组中的1种以上作为上述式(S1)表示的含氮化合物。
式(S1)表示的含氮化合物的上述例子中,作为特别优选的化合物,可举出N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N,2-三甲基丙酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲。这些之中,优选N,N,2-三甲基丙酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲。N,N,2-三甲基丙酰胺的大气压下的沸点为175℃,N,N,N’,N’-四甲基脲的大气压下的沸点为177℃。如此,N,N,2-三甲基丙酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲的沸点低。
因此,若使用含有包含选自N,N,2-三甲基丙酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲中的至少一种的溶剂(S)的清漆组合物,则在形成聚酰亚胺树脂时,溶剂(S)不易残留于通过加热而生成的聚酰亚胺树脂中,不易导致得到的聚酰亚胺树脂的机械特性降低等。
此外,N,N,2-三甲基丙酰胺及N,N,N’,N’-四甲基脲为有害性低的物质,在EU(欧盟)的REACH法规中未被指定为担心有害性的物质SVHC(Substance of Very HighConcern,高关注物质),从这一方面来看也是有用的。
溶剂(S)可以包含除了在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮以及式(S1)表示的含氮化合物以外的溶剂。相对于溶剂(S)的质量而言,在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮的质量、以及式(S1)表示的含氮化合物的质量的总比率优选为50质量%以上,更优选为70质量%以上,进一步优选为80质量%以上,更进一步优选为90质量%以上,特别优选为95质量%以上,最优选为100质量%。
作为溶剂(S)除了在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮以及式(S1)表示的含氮化合物以外可包含的溶剂,可举出:水、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丙基醚、乙二醇单丁基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚、丙二醇单丁基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丙基醚、及二乙二醇单苯基醚等二醇单醚;乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇二丙基醚、丙二醇二甲基醚、丙二醇二乙基醚、丙二醇二丙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、及二乙二醇二丙基醚等二醇二醚;乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、乙二醇单丙基醚乙酸酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯、乙二醇单苯基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、及二乙二醇单乙基醚乙酸酯等二醇单乙酸酯;二乙二醇单丙基醚乙酸酯、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单苯基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丙基醚乙酸酯、乙酸2-甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸4-甲氧基丁酯、乙酸2-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸2-乙氧基丁酯、乙酸4-乙氧基丁酯、乙酸4-丙氧基丁酯、乙酸2-甲氧基戊酯、乙酸3-甲氧基戊酯、乙酸4-甲氧基戊酯、乙酸2-甲基-3-甲氧基戊酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基戊酯、乙酸3-甲基-4-甲氧基戊酯、及乙酸4-甲基-4-甲氧基戊酯等二醇类的单醚单乙酸酯;丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮、甲基异丁基酮、乙基异丁基酮、及环己酮等酮类;丙酸甲酯、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丙酸异丙酯、2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸异丙酯、乙氧基乙酸乙酯、氧代乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸异丙酯、乙酸丁酯、乙酸异戊酯、碳酸甲酯、碳酸乙酯、碳酸丙酯、碳酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、丙酮酸丁酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、及γ-丁内酯等酯类;二乙基醚、二丙基醚、二丁基醚、二己基醚、苄基甲基醚、苄基乙基醚、及四氢呋喃等醚类;苯、甲苯、二甲苯、乙基苯、甲酚、及氯苯等芳香族类;甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、正己醇、及环己醇等脂肪族醇类;聚乙二醇、乙二醇、二乙二醇、丙二醇、及二丙二醇等二醇类;丙三醇;等等。
清漆组合物中的溶剂(S)的含量在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。清漆组合物中的溶剂(S)的含量根据清漆组合物中的固态成分含量而适当调节。清漆组合物中的固态成分含量例如在5质量%以上且99.9质量%以下的范围内,优选为5质量%以上且70质量%以下,更优选为10质量%以上且60质量%以下。
<热产碱剂(B)>
出于使得通过烧成而良好地从聚酰胺酸(A)生成聚酰胺树脂的目的,清漆组合物优选包含通过加热而产生碱性含氮杂环化合物的热产碱剂(B)。
热产碱剂(B)所产生的碱性含氮杂环化合物可以为脂肪族环式化合物,也可以为芳香族化合物。碱性含氮杂环化合物为2个以上的单环稠合而成的化合物的情况下,2个以上的单环可以仅包含脂肪族环,也可以仅包含芳香族环,还可以包含脂肪族环与芳香族环的组合。
作为热产碱剂(B)所产生的碱性含氮杂环化合物的例子,可举出:吡咯烷、吡唑烷、咪唑烷、三唑烷、四唑烷、吡咯啉、吡唑啉、咪唑啉、三唑啉、四氢唑啉、吡咯、吡唑、咪唑、三唑、及四唑等含氮5元环化合物;哌啶、哌嗪、三嗪烷、吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪等含氮6元环;这些化合物被一种以上的取代基取代而成的化合物;这些化合物与环戊烷、环己烷、苯等稠合而成的化合物。
碱性含氮杂环化合物在含氮杂环上具有取代基的情况下,作为该取代基,可举出与后述的式(B1)中的R1、R2、及R3同样的基团。
从促进由聚酰胺酸(A)生成聚酰亚胺树脂的效果良好等方面考虑,作为热产碱剂(B)成分所产生的碱性含氮杂环化合物,优选为下述式(B1)表示的咪唑化合物:
(式(B1)中,R1、R2、及R3各自独立地为氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基(sulfonato group)、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基(phosphonato group)、或有机基团。)。
作为R1、R2、及R3中的有机基团,优选含有碳原子的基团,更优选包含1个以上的碳原子、以及选自由H、O、S、Se、N、B、P、Si、及卤素原子组成的组中的1个以上原子的基团。作为R1、R2、及R3中的有机基团,可举出烷基、链烯基、环烷基、环烯基、芳基、芳烷基等。就该有机基团而言,可以在该有机基团中含有杂原子等除烃基以外的键、取代基。另外,该有机基团可以为直链状、支链状、环状中的任意。该有机基团通常为一价,但在形成环状结构等情况下,可成为二价以上的有机基团。
就R1及R2而言,它们可以键合而形成环状结构,也可以还含有杂原子的键。作为环状结构,可举出杂环烷基、杂芳基等,也可以为稠环。
R1、R2、及R3的有机基团中包含的键只要不损害本发明的效果,则没有特别限定。有机基团可以包含含有氧原子、氮原子、硅原子等杂原子的键。作为含有杂原子的键的具体例,可举出醚键、羰基键、硫羰基键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键、亚氨基键(-N=C(-R)-、-C(=NR)-:R表示氢原子或有机基团)、碳酸酯键、磺酰键、偶氮键等。
作为R1、R2、及R3的有机基团可具有的含有杂原子的键,从咪唑化合物的耐热性的观点考虑,优选醚键、羰基键、硫羰基键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键、亚氨基键(-N=C(-R)-、-C(=NR)-:R表示氢原子或一价有机基团)、碳酸酯键、磺酰键。
在R1、R2、及R3的有机基团为烃基以外的取代基时,R1、R2、及R3只要不损害本发明的效果则没有特别限定。R1、R2、及R3的具体例如上文所述,为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、及膦酸盐/酯基。上述取代基中包含的氢原子可以被烃基取代。另外,上述取代基中包含的烃基可以为直链状、支链状、及环状中的任意。
作为R1、R2、及R3,优选氢原子、碳原子数1以上且12以下的烷基、碳原子数1以上且12以下的芳基、碳原子数1以上且12以下的烷氧基、及卤素原子,更优选氢原子。
热产碱剂(B)只要为能够通过加热而产生碱性含氮杂环化合物的化合物即可,没有特别限定。对于一直以来在各种组合物中配合的、通过热的作用产生胺的化合物(热产碱剂),通过将来源于加热时产生的胺的骨架置换为来源于所期望的碱性含氮杂环化合物的骨架,从而可得到作为热产碱剂(B)使用的化合物。
作为合适的热产碱剂(B),可举出下述式(B2)表示的化合物:
(式(B2)中,R1、R2、及R3与式(B1)中的R1、R2、及R3同样,Rb1及Rb2各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、或有机基团,Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、氨基、铵基、或有机基团,对于Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7而言,它们中的两个以上可以键合而形成环状结构,也可以含有杂原子的键。)。
式(B2)中,R1、R2、及R3与针对式(B1)所说明的R1、R2、及R3同样。
式(B2)中,Rb1及Rb2各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、或有机基团。
作为Rb1及Rb2中的有机基团,可举出针对R1、R2、及R3所示例的基团。就该有机基团而言,与R1、R2、及R3的情况同样地,可以在该有机基团中含有杂原子。另外,该有机基团可以为直链状、支链状、环状中的任意。
以上中,作为Rb1及Rb2,各自独立地优选为氢原子、碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数4以上且13以下的环烷基、碳原子数4以上且13以下的环烯基、碳原子数7以上且16以下的芳基氧基烷基、碳原子数7以上且20以下的芳烷基、具有氰基的碳原子数2以上且11以下的烷基、具有羟基的碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数1以上且10以下的烷氧基、碳原子数2以上且11以下的酰胺基、碳原子数1以上且10以下的酰基、碳原子数2以上且11以下的酯基(-COOR、-OCOR:R表示烃基)、碳原子数6以上且20以下的芳基、经供电子性基团及/或吸电子性基团取代的碳原子数6以上且20以下的芳基、经供电子性基团及/或吸电子性基团取代的苄基、氰基。更优选的是,Rb1及Rb2两者均为氢原子、或者Rb1为甲基且Rb2为氢原子。
式(B2)中,Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、氨基、铵基、或有机基团。
作为Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7中的有机基团,可举出R1、R2、及R3中示例的基团。就该有机基团而言,与R1、R2、及R3的情况同样地,可以在该有机基团中含有杂原子等除烃基以外的键、取代基。另外,该有机基团可以为直链状、支链状、环状中的任意。
关于Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7,它们中的两个以上可以键合而形成环状结构。Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7各自可以包含含有杂原子的键。作为环状结构,可举出杂环烷基、杂芳基等,也可以为稠环。例如,就Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7而言,它们中的两个以上可以键合,共用Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7所键合的苯环的原子而形成萘、蒽、菲、茚等稠环。形成稠环时,吸收波长成为长波长,从这一方面考虑是优选的。
以上中,作为Rb3、Rb4、Rb5、Rb6、及Rb7,各自独立地优选为氢原子、碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数4以上且13以下的环烷基、碳原子数4以上且13以下的环烯基、碳原子数7以上且16以下的芳基氧基烷基、碳原子数7以上且20以下的芳烷基、具有氰基的碳原子数2以上且11以下的烷基、具有羟基的碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数1以上且10以下的烷氧基、碳原子数2以上且11以下的酰胺基、碳原子数1以上且10以下的酰基、碳原子数2以上且11以下的酯基、碳原子数6以上且20以下的芳基、经供电子性基团及/或吸电子性基团取代的碳原子数6以上且20以下的芳基、经供电子性基团及/或吸电子性基团取代的苄基、氰基、及硝基。
上述式(B2)表示的化合物中,优选下述式(B3)表示的化合物:
(式(B3)中,R1、R2、及R3与式(B1)及(B2)含义相同。Rb1~Rb6与式(B2)含义相同。Rb8表示氢原子或有机基团。Rb3及Rb4不会成为羟基。对于Rb3、Rb4、Rb5、及Rb6而言,它们中的两个以上可以键合而形成环状结构,也可以含有杂原子的键。)。
式(B3)表示的化合物由于具有取代基-O-Rb8,因此在溶剂(S)中的溶解性优异。
式(B3)中,Rb8为氢原子或有机基团。Rb8为有机基团时,作为有机基团,可举出R1、R2、及R3中示例的基团。就该有机基团而言,可以在该有机基团中含有杂原子。另外,该有机基团可以为直链状、支链状、环状中的任意。作为Rb8,优选氢原子、或碳原子数1以上且12以下的烷基,更优选甲基。
式(B1)表示的化合物中,将特别适合作为热产碱剂(B)的化合物的具体例示于下文。
另外,下述式(B4)表示的咪唑化合物也适合作为热产碱剂(B)。
(式(B4)中,R1、R2、及R3与式(B1)中的R1、R2、及R3同样,Rb9表示氢原子或一价有机基团,Rb10表示可具有取代基的芳香族基团,Rb9可以与另一Rb9或Rb10键合而形成环状结构。)
式(B4)中,Rb9为氢原子或一价有机基团。作为一价有机基团,没有特别限定,例如,可以为可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳香族基团等。Rb9为烷基时,该烷基可以在链中具有酯键等。
作为烷基,例如可以与后述的式(B4a)中的Rb11等是同样的。烷基的碳原子数优选为1以上且40以下,更优选为1以上且30以下,特别优选为1以上且20以下,最优选为1以上且10以下。
作为该烷基可具有的取代基,例如可以与作为后述的式(B4a)中的Rb11的亚烷基可具有的取代基同样。
作为可具有取代基的芳香族基团,与后述的式(B4a)中的Rb10同样,优选芳基,更优选苯基。作为Rb9的可具有取代基的芳香族基团可以与Rb10相同,也可以不同。
式(B4)中,优选一个Rb9为氢原子,更优选一个Rb9为氢原子、且另一Rb9为可具有取代基的烷基或可具有取代基的芳香族基团。
式(B4)中,Rb9可以与另一Rb9或Rb10键合而形成环状结构。例如,至少一个Rb9为可具有取代基的烷基时,Rb9可以与另一Rb9或Rb10键合而形成环状结构。
式(B4)表示的咪唑化合物可以为下述式(B4a)表示的化合物。
(式(B4a)中,R1、R2、及R3与式(B1)中的R1、R2、及R3同样,Rb11为氢原子或烷基,Rb10为可具有取代基的芳香族基团,Rb12为可具有取代基的亚烷基,Rb12可以与Rb10键合而形成环状结构。)
式(B4a)中,Rb11为氢原子或烷基。Rb11为烷基时,该烷基可以为直链烷基,也可以为支链烷基。该烷基的碳原子数没有特别限定,优选为1以上且20以下,优选为1以上且10以下,更优选为1以上且5以下。
关于作为Rb11的优选烷基的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基正己基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、及正二十烷基。
式(B4a)中,Rb10为可具有取代基的芳香族基团。可具有取代基的芳香族基团可以为可具有取代基的芳香族烃基,也可以为可具有取代基的芳香族杂环基。
芳香族烃基的种类在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。芳香族烃基可以为单环式的芳香族基团,也可以为2个以上的芳香族烃基稠合而形成的基团,还可以为2个以上的芳香族烃基通过单键进行键合而形成的基团。作为芳香族烃基,优选苯基、萘基、联苯基、蒽基、菲基。
芳香族杂环基的种类在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。芳香族杂环基可以为单环式基团,也可以为多环式基团。作为芳香族杂环基,优选吡啶基、呋喃基、噻吩基、咪唑基、吡唑基、噁唑基、噻唑基、异噁唑基、异噻唑基、苯并噁唑基、苯并噻唑基、及苯并咪唑基。
作为苯基、多环芳香族烃基、或芳香族杂环基可具有的取代基,可举出卤素原子、羟基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、氨基、铵基、及有机基团。苯基、多环芳香族烃基、或芳香族杂环基具有多个取代基时,该多个取代基可以相同也可以不同。
芳香族基团具有的取代基为有机基团时,作为该有机基团,可举出烷基、链烯基、环烷基、环烯基、芳基、及芳烷基等。就该有机基团而言,可以在该有机基团中包含杂原子等除烃基以外的键、取代基。另外,该有机基团可以为直链状、支链状、环状、及这些结构的组合中的任意。该有机基团通常为一价,在形成环状结构等情况下,可成为二价以上的有机基团。
芳香族基团在相邻的碳原子上具有取代基时,相邻的碳原子上键合的2个取代基可以键合而形成环状结构。作为环状结构,可举出脂肪族烃环、含有杂原子的脂肪族环。
芳香族基团具有的取代基为有机基团时,该有机基团中包含的键只要不损害本发明的效果,则没有特别限定,有机基团可以包含含有氧原子、氮原子、硅原子等杂原子的键。作为含有杂原子的键的具体例,可举出醚键、羰基键、硫羰基键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键、亚氨基键(-N=C(-R)-、-C(=NR)-:R表示氢原子或有机基团)、碳酸酯键、磺酰键、偶氮键等。
作为有机基团可具有的含有杂原子的键,从式(B4)或式(B4a)表示的咪唑化合物的耐热性的观点考虑,优选为醚键、羰基键、硫羰基键、酯键、酰胺键、氨基键(-NR-:R表示氢原子或一价有机基团)、氨基甲酸酯键、亚氨基键(-N=C(-R)-、-C(=NR)-:R表示氢原子或一价有机基团)、碳酸酯键、磺酰键。
有机基团为烃基以外的取代基时,烃基以外的取代基的种类在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。作为烃基以外的取代基的具体例,可举出卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、氰基、异氰基、氰酸酯基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、甲硅烷基、硅烷醇基、烷氧基、烷氧基羰基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、氨基甲酰基、硫代氨基甲酰基、硝基、亚硝基、羧酸盐/酯基、酰基、酰基氧基、亚磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、烷基醚基、链烯基醚基、芳基醚基等。上述取代基中包含的氢原子可以被烃基取代。另外,上述取代基中包含的烃基可以为直链状、支链状、及环状中的任意。
作为苯基、多环芳香族烃基、或芳香族杂环基具有的取代基,优选碳原子数1以上且12以下的烷基、碳原子数1以上且12以下的芳基、碳原子数1以上且12以下的烷氧基、碳原子数1以上且12以下的芳基氧基、碳原子数1以上且12以下的芳基氨基、及卤素原子。
作为Rb10,从能够廉价且容易地合成式(B4)或式(B4a)表示的咪唑化合物、且咪唑化合物在水、有机溶剂中的溶解性良好的方面考虑,优选为各自可具有取代基的苯基、呋喃基、噻吩基。
式(B4a)中,Rb12为可具有取代基的亚烷基。亚烷基可具有的取代基在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。作为亚烷基可具有的取代基的具体例,可举出羟基、烷氧基、氨基、氰基、及卤素原子等。亚烷基可以为直链亚烷基,也可以为支链亚烷基,优选为直链亚烷基。亚烷基的碳原子数没有特别限定,优选为1以上且20以下,更优选为1以上且10以下,特别优选为1以上且5以下。需要说明的是,亚烷基的碳原子数不包括与亚烷基键合的取代基的碳原子。
作为与亚烷基键合的取代基的烷氧基可以为直链烷氧基,也可以为支链烷氧基。作为取代基的烷氧基的碳原子数没有特别限定,优选为1以上且10以下,更优选为1以上且6以下,特别优选为1以上且3以下。
作为与亚烷基键合的取代基的氨基可以为单烷基氨基或二烷基氨基。单烷基氨基或二烷基氨基中包含的烷基可以为直链烷基,也可以为支链烷基。单烷基氨基或二烷基氨基中包含的烷基的碳原子数没有特别限定,优选为1以上且10以下,更优选为1以上且6以下,特别优选为1以上且3以下。
关于作为Rb12的合适的亚烷基的具体例,可举出亚甲基、乙烷-1,2-二基、正丙烷-1,3-二基、正丙烷-2,2-二基、正丁烷-1,4-二基、正戊烷-1,5-二基、正己烷-1,6-二基、正庚烷-1,7-二基、正辛烷-1,8-二基、正壬烷-1,9-二基、正癸烷-1,10-二基、正十一烷-1,11-二基、正十二烷-1,12-二基、正十三烷-1,13-二基、正十四烷-1,14-二基、正十五烷-1,15-二基、正十六烷-1,16-二基、正十七烷-1,17-二基、正十八烷-1,18-二基、正十九烷-1,19-二基、及正二十烷-1,20-二基。
上述式(B4)表示的咪唑化合物中,从能够廉价且容易地合成的方面考虑,优选下述式(B4-1a)表示的化合物。
(式(B4-1a)中,R1、R2、及R3与式(B1)中的R1、R2、及R3同样,Rb9与式(B4)同样,Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17各自独立地为氢原子、卤素原子、羟基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、氨基、铵基、或有机基团。Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17中的至少两者可以键合而形成环状结构。Rb9可以与Rb15键合而形成环状结构。)
需要说明的是,式(B4-1a)中,Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17可以全部为氢原子。另外,从式(B4-1)表示的化合物在溶剂(S)中的溶解性的方面考虑,优选Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17中的至少一个为氢原子以外的基团。
Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17与后述的式(B4-1)中的这些同样。式(B4-1a)中,Rb9可以与Rb15键合而形成环状结构。例如,Rb9为可具有取代基的烷基时,Rb9可以与Rb15键合而形成环状结构。
上述式(B4a)或式(B4-1a)表示的咪唑化合物中,从能够廉价且容易地合成、且在水、有机溶剂中的溶解性优异的方面考虑,优选为下述式(B4-1)表示的化合物,更优选为由式(B4-1)表示、且Rb12为亚甲基的化合物。
(式(B4-1)中,R1、R2、及R3与式(B1)中的R1、R2、及R3同样,Rb11、及Rb12与式(B4a)中的Rb11、及Rb12同样,Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17各自独立地为氢原子、卤素原子、羟基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、氨基、铵基、或有机基团。Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17中的至少两者可以键合而形成环状结构。Rb12可以与Rb15键合而形成环状结构。)
需要说明的是,式(B4-1)中,Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17可以全部为氢原子。另外,从式(B4-1)表示的化合物在溶剂(S)中的溶解性的方面考虑,优选Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17中的至少一个为氢原子以外的基团。
Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17为有机基团时,该有机基团与式(B4a)中的Rb10作为取代基而具有的有机基团同样。从咪唑化合物在溶剂(S)中的溶解性的方面考虑,Rb13、Rb14、Rb15、及Rb16优选为氢原子。
其中,优选Rb13、Rb14、Rb15、Rb16、及Rb17中的至少一者为下述取代基,特别优选Rb17为下述取代基。Rb17为下述取代基时,Rb13、Rb14、Rb15、及Rb16优选为氢原子。
-O-Rb18
(Rb18为氢原子或有机基团。)
Rb18为有机基团时,该有机基团与式(B4a)中的Rb10作为取代基而具有的有机基团同样。作为Rb18,优选烷基,更优选碳原子数1以上且8以下的烷基,特别优选碳原子数1以上且3以下的烷基,最优选甲基。
上述式(B4-1)表示的化合物中,优选下述式(B4-1-1)表示的化合物。
(式(B4-1-1)中,R1、R2、及R3与式(B1)中的R1、R2、及R3同样,Rb11与式(B4a)同样,Rb19、Rb20、Rb21、Rb22、及Rb23各自独立地为氢原子、羟基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸盐/酯基、氨基、铵基、或有机基团。其中,Rb19、Rb20、Rb21、Rb22、及Rb23中的至少一者为氢原子以外的基团。)
式(B4-1-1)表示的化合物中,优选Rb19、Rb20、Rb21、Rb22、及Rb23中的至少一者为上述的-O-Rb18表示的基团,特别优选Rb23为-O-Rb18表示的基团。Rb23为-O-Rb18表示的基团时,Rb19、Rb20、Rb21、及Rb22优选为氢原子。
作为式(B4)或式(B4a)表示的咪唑化合物的优选具体例,可举出以下的化合物。
相对于清漆组合物的质量而言,清漆组合物中的热产碱剂(B)的含量优选为5质量%以上且50质量%以下,更优选为10质量%以上且40质量%以下。通过使用该范围内的量的热产碱剂(B),能够在不伴随热产碱剂(B)的热分解物的过度的挥发、升华的情况下有效地促进从聚酰胺酸(A)生成聚酰胺树脂。
<其他成分>
清漆组合物可以根据需要含有各种添加剂。作为添加剂,可举出着色剂、分散剂、敏化剂、密合促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、抗凝集剂、消泡剂、表面活性剂等。另外,清漆组合物可以根据需要包含各种填充材料或增强材料。
各种添加剂的使用量在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。相对于清漆组合物的固态成分的质量而言,例如在0.001质量%以上且60质量%以下的范围内适当调节即可,优选为0.05质量%以上且5质量%以下。
填充材料或增强材料的使用量在不损害本发明目的的范围内没有特别限定。典型地,填充材料或增强材料的使用量相对于聚酰胺酸(A)的质量而言优选为1质量%以上且300质量%以下,更优选为5质量%以上且200质量%以下,进一步优选为10质量%以上且100质量%以下。
如上文所述,根据上述的清漆组合物,能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂。
《聚酰亚胺树脂的制造方法》
可以通过包括下述工序的方法来制造聚酰亚胺树脂,即:
成型工序,将以上说明的清漆组合物进行成型;和
酰亚胺化工序,对经成型的清漆组合物进行加热而使其酰亚胺化。
将清漆组合物成型时,成型的清漆组合物的形状没有特别限定。将清漆组合物成型的方法没有特别限定。例如,可举出:向所期望形状的模具中注入清漆组合物的方法;使用刮板等向铸模内填充清漆组合物的方法;在基材上涂布清漆组合物的方法;等等。
这些方法中,从聚酰亚胺树脂膜的需求大、在制造聚酰亚胺树脂时容易从清漆组合物中良好地除去溶剂(S)等方面考虑,优选在基材上涂布清漆组合物的方法。
涂布清漆组合物后,置于加热及/或真空或减压环境中,将涂布膜干燥,形成干燥膜。通过使清漆组合物中的溶剂(S)包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮,从而即使经过加热及/或真空或减压环境下的干燥工序,也能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂。
对清漆组合物或干燥工序后的清漆组合物进行加热的温度只要为可得到所期望性能的聚酰亚胺树脂的温度即可,没有特别限定。加热聚酰胺酸的温度优选为120℃以上且430℃以下,更优选为150℃以上且420℃以下。通过于这样范围的温度加热清漆组合物,能够在抑制生成的聚酰亚胺树脂的热劣化、热分解的情况下将溶剂(S)除去,同时生成聚酰亚胺树脂。
另外,从容易形成玻璃化转变温度及拉伸强度高、热膨胀系数低、着色少的聚酰亚胺树脂的方面考虑,也优选将聚酰胺酸以于70℃以上且120℃以下的温度下10分钟至2小时左右、进而于150℃以上且420℃以下的温度下10分钟至2小时左右的方式阶段性地升温,同时进行加热而生成聚酰亚胺树脂。
根据以上说明的聚酰亚胺树脂的制造方法,能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂。对于由上述的方法形成的聚酰亚胺树脂而言,算术平均粗糙度优选为以下,更优选为/>以下,进一步优选为/>以下,特别优选为/>以下。
实施例
以下,通过实施例详细地说明本发明,但本发明的范围不限于这些实施例。
〔制备例1〕
首先,用热风枪对容量30mL的三颈瓶进行加热,使其充分干燥。接着,用氮对三颈瓶内的气氛进行置换,使三颈瓶内成为氮气氛。向三颈瓶内添加4,4’-二氨基苯甲酰苯胺0.2045g(0.90mmol:日本纯良药品株式会社制:DABAN)后,添加N,N,N’,N’-四甲基脲(TMU)。对三颈瓶的内容物进行搅拌,得到在TMU中分散有芳香族二胺(DABAN)的浆料液。
接着,向三颈瓶内添加下述式的四羧酸二酐0.3459g(0.90mmol),然后,在氮气氛下,于室温(25℃)搅拌烧瓶的内容物12小时,得到反应液。如此,得到以18质量%的固态成分浓度包含聚酰胺酸A-1的聚酰胺酸溶液。得到的聚酰胺酸A-1能形成透明的聚酰亚胺树脂。
〔制备例2〕
将二胺成分变更为4,4’-二氨基二苯基醚,将四羧酸二酐成分变更为均苯四甲酸二酐,将溶剂变更为N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP),除此以外,与制备例1同样地操作,得到以18质量%的固态成分浓度包含聚酰胺酸A-2的聚酰胺酸溶液。得到的聚酰胺酸A-2能形成不透明的聚酰亚胺树脂。
〔实施例1~6〕
将包含80质量份表1中记载的种类的聚酰胺酸(A)的聚酰胺酸溶液、20质量份作为下述结构的化合物的热产碱剂(B)混合后,以溶剂(S)成为表1中记载的组成、并且固态成分浓度成为15质量%的方式,对混合物进行稀释,得到实施例1~6的清漆组合物。
需要说明的是,关于表1中的溶剂的名称,NBP是指N-正丁基-2-吡咯烷酮。
〔实施例7〕
以溶剂(S)成为表1中记载的组成、并且固态成分浓度成为15质量%的方式,对包含100质量份聚酰胺酸A-2的聚酰胺酸溶液进行稀释,得到实施例7的清漆组合物。
〔比较例1〕
将包含80质量份聚酰胺酸A-1的聚酰胺酸溶液、与20质量份实施例1中使用的热产碱剂(B)混合后,以溶剂(S)成为表1中记载的组成、并且固态成分浓度成为15质量%的方式,对混合物进行稀释,得到比较例1的清漆组合物。
〔比较例2〕
将包含80质量份聚酰胺酸A-2的聚酰胺酸溶液、与20质量份实施例1中使用的热产碱剂(B)混合后,以溶剂(S)成为表1中记载的组成、并且固态成分浓度成为15质量%的方式,对混合物进行稀释,得到比较例2的清漆组合物。
〔比较例3〕
以溶剂(S)成为表1中记载的组成、并且固态成分浓度成为15质量%的方式,对包含100质量份聚酰胺酸A-2的聚酰胺酸溶液进行稀释,得到比较例3的清漆组合物。
使用以上述方式得到的、各实施例及比较例的清漆组合物,按照以下的方法进行聚酰亚胺树脂膜的成膜,针对形成的聚酰亚胺树脂膜,对算术平均粗糙度不均、和真空干燥后的缺陷进行评价。
<聚酰亚胺树脂膜的成膜方法>
将以上述方式得到的清漆组合物以加热固化后的涂膜的厚度成为13μm的方式旋涂于玻璃基板(长100mm、宽100mm、厚1.3mm)上,形成涂膜。接着,将具备涂膜的玻璃基板在温度50℃、压力13Pa的条件下进行真空干燥,除去涂膜中的溶剂。
除去溶剂后,将具备涂膜的玻璃基板投入至氮以3L/分钟的流量流过的惰性烘箱中。在惰性烘箱内,在氮气氛下,在80℃的温度条件下,静置0.5小时,然后,进一步于400℃的温度条件(最终加热温度)加热0.5小时,使涂膜固化,得到涂覆有由聚酰亚胺形成的薄膜(聚酰亚胺膜)的聚酰亚胺涂覆玻璃。
将得到的聚酰亚胺涂覆玻璃浸渍于90℃的热水中,从玻璃基板剥离聚酰亚胺膜,得到聚酰亚胺膜(长100mm、宽100mm、厚13μm的大小的膜)。
<算术平均粗糙度>
就表面粗糙度Ra而言,使用触针式表面粗糙度计(ULVAC公司制Dektak150)进行测定,将大于的情况作为×,将小于/>的情况作为〇。
<不均>
用钠灯对形成的聚酰亚胺树脂膜进行照射,确认有无成膜不均。将观察到不均的情况判定为×,将未观察到不均的情况判定为〇。
<真空干燥后的缺陷>
在聚酰亚胺树脂膜的成膜中,针对在涂布清漆组合物后刚刚将涂布膜进行真空干燥后的、经干燥的涂布膜中的100mm×100mm的范围内的缺陷的个数,使用“AOI”(TAKANO公司制),检查涂膜表面的缺陷并计测。将100mm×100mm的范围内的缺陷个数为100个以上的情况判定为×,将99个以下的情况判定为〇。
另外,使用各实施例、及比较例的清漆组合物来形成聚酰亚胺树脂膜,按照以下的方法,对形成的聚酰亚胺树脂进行黄色指数(YI)、光线透过率、热膨胀系数(CTE)、断裂伸长率、及拉伸强度的评价。
<黄色指数(YI)、光线(全光线)透过率>
各实施例及比较例的聚酰亚胺膜的全光线透过率(光线透过率)的值(单位:%)及黄色指数(YI)通过下述方式求出:使用日本电色工业株式会社制的商品名“HazemeterNDH-5000”作为测定装置,进行遵照JIS K7361-1(1997年发行)的测定。
<热膨胀系数(CTE)>
由各实施例及比较例的聚酰亚胺膜形成长:20mm、宽:5mm的大小的测定用膜。
接着,利用热机械分析装置(株式会社岛津制作所制的商品名“TMA-60”)作为测定装置,在氮气氛下,将得到的测定用膜以升温速度为10℃/分钟的条件从30度升温至200度,然后暂时冷却至30度,再次以升温速度为10℃/分钟的条件从30度升温至500度,对此时的100℃~350℃的试样的长度变化进行测定,求出100℃~350℃中的每1℃的长度变化的平均值,由此进行测定。需要说明的是,拉伸模式设为49mN。
<断裂伸长率及拉伸强度>
针对各实施例、及比较例的聚酰亚胺膜,将Dumbbell Co.,Ltd制的商品名“SuperDumbbell cutter(型号:SDMK-1000-D,遵照JIS K7139(2009年发行)的A22标准)”安装于SD型杠杆式试样裁断器(Dumbbell Co.,Ltd制的裁断器(型号SDL-200)),以聚酰亚胺膜的大小成为全长:75mm、耳片(tab)部间距:57mm、平行部的长度:30mm、肩部的半径:30mm、端部的宽度:10mm、中央的平行部的宽度:5mm、厚度:13μm的方式进行裁断,制备哑铃形状的试验片(除了使厚度为13μm以外,沿循JIS K7139类型A22(按比例缩小尺寸的试验片)的标准的试验片)作为测定试样。
接着,使用Tensilon型万能试验机(A&D Company制的型号“UCT-10T”),将测定试样以夹具间的宽度为57mm、夹持部分的宽度为10mm(端部的总宽度)的方式进行配置,然后,在负荷满刻度为0.05kN、试验速度为1~300mm/分钟的条件下进行拉伸测定试样的拉伸试验,求出拉伸强度及断裂伸长率的值。
上述的试验为遵照JIS K7162(1994年发行)的试验。
另外,就断裂伸长率的值(%)而言,将试验片的平行部的长度(=平行部的长度:30mm)设为L0,将断裂为止的试验片的平行部的长度(断裂时的试验片的平行部的长度:30mm+α)设为L,以下式进行计算而求出:
[断裂伸长率(%)]={(L-L0)/L0}×100。
下述表1中,N-正丁基-2-吡咯烷酮(NBP)属于在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮。N,N,N’,N’-四甲基脲(TMU)及N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)属于上述的式(S1)表示的含氮化合物。
[表1]
[表2]
根据表1及表2可知,通过使用包含NBP作为溶剂(S)的实施例的清漆,能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂。
另一方面,在使用不含NBP作为溶剂(S)的比较例的清漆的情况下,难以形成表面平滑的聚酰亚胺树脂。
另外,虽然原因不明,但根据除了溶剂(S)的组成之外均相同的实施例1~4与比较例1的对比可见,通过使溶剂(S)含有NBP,从而有下述倾向:使用清漆组合物形成的聚酰亚胺树脂的黄色指数(YI)下降,光线透过率提高。
此外,虽然原因不明,但根据除了溶剂(S)的组成之外均相同的实施例1~4与比较例1的对比、实施例5及实施例6与比较例2的对比、以及实施例7与比较例3的对比可见,通过使溶剂(S)含有NBP,从而有下述倾向:使用清漆组合物形成的聚酰亚胺树脂的热膨胀系数(CTE)下降,断裂伸长率提高,拉伸强度得以维持或提高。
Claims (6)
1.用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物,其包含聚酰胺酸(A)和溶剂(S),
所述溶剂(S)包含在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N-烷基-2-吡咯烷酮、以及下述式(S1)表示的含氮化合物,
式(S1)中,RS1为碳原子数1以上且2以下的烷基,RS2为碳原子数1以上且3以下的烷基,RS3为氢原子、或者下述式(S1-1)或下述式(S1-2)表示的基团,
RS4为氢原子或羟基,RS5及RS6各自独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的烷基,RS7及RS8各自独立地为氢原子、或碳原子数1以上且3以下的烷基,RS3为式(S1-1)表示的基团的情况下,RS2及RS3可以彼此键合而形成环,
所述N-烷基-2-吡咯烷酮的质量在所述溶剂(S)的质量中的比率为1质量%以上且20质量%以下,并且
相对于所述溶剂(S)的质量而言,所述N-烷基-2-吡咯烷酮以及所述式(S1)表示的含氮化合物的质量的总比率为90质量%以上。
2.如权利要求1所述的清漆组合物,其中,所述溶剂(S)包含选自由N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N,2-三甲基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基丙酰胺、N,N-二乙基-2-甲基丙酰胺、N,N,2-三甲基-2-羟基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基-2-羟基丙酰胺、N,N-二乙基-2-羟基-2-甲基丙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N,N,N’,N’-四甲基脲、及N,N,N’,N’-四乙基脲组成的组中的1种以上作为所述式(S1)表示的所述含氮化合物。
3.如权利要求1或2所述的清漆组合物,其中,所述N-烷基-2-吡咯烷酮的质量在所述溶剂(S)的质量中的比率为1质量%以上且6质量%以下。
4.如权利要求1或2所述的清漆组合物,其中,相对于所述清漆组合物的固态成分100质量份而言,所述N-烷基-2-吡咯烷酮的含量为6质量份以上且110质量份以下。
5.如权利要求4所述的清漆组合物,其中,相对于所述清漆组合物的固态成分100质量份而言,所述N-烷基-2-吡咯烷酮的含量为6质量份以上且34质量份以下。
6.聚酰亚胺树脂的制造方法,其包括下述工序:
成型工序,将权利要求1~5中任一项所述的清漆组合物进行成型;和
酰亚胺化工序,对经成型的所述清漆组合物进行加热而使其酰亚胺化。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020-064295 | 2020-03-31 | ||
JP2020064295A JP7437996B2 (ja) | 2020-03-31 | 2020-03-31 | ワニス組成物、及びポリイミド樹脂の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113462277A CN113462277A (zh) | 2021-10-01 |
CN113462277B true CN113462277B (zh) | 2024-04-19 |
Family
ID=77868579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110344297.3A Active CN113462277B (zh) | 2020-03-31 | 2021-03-30 | 清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7437996B2 (zh) |
KR (1) | KR20210122187A (zh) |
CN (1) | CN113462277B (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101501093A (zh) * | 2006-10-24 | 2009-08-05 | 新田株式会社 | 聚酰亚胺树脂 |
JP2015232688A (ja) * | 2014-05-15 | 2015-12-24 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機el素子 |
CN107880545A (zh) * | 2016-09-30 | 2018-04-06 | 东京应化工业株式会社 | 树脂组合物、固化物的制造方法及固化物 |
CN107922733A (zh) * | 2015-08-07 | 2018-04-17 | 东京应化工业株式会社 | 聚酰亚胺前体组合物 |
CN108604061A (zh) * | 2016-03-18 | 2018-09-28 | 东丽株式会社 | 固化膜及正型感光性树脂组合物 |
CN110249004A (zh) * | 2017-02-03 | 2019-09-17 | 东京应化工业株式会社 | 聚酰亚胺前体组合物 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5990928B2 (ja) | 2012-02-24 | 2016-09-14 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤 |
JP6146077B2 (ja) | 2012-06-29 | 2017-06-14 | Jsr株式会社 | 液晶配向膜の製造方法 |
JP6621248B2 (ja) | 2014-06-27 | 2019-12-18 | 東京応化工業株式会社 | 黒色組成物 |
JP2021015134A (ja) | 2017-11-29 | 2021-02-12 | 日産化学株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 |
-
2020
- 2020-03-31 JP JP2020064295A patent/JP7437996B2/ja active Active
-
2021
- 2021-03-30 CN CN202110344297.3A patent/CN113462277B/zh active Active
- 2021-03-30 KR KR1020210041363A patent/KR20210122187A/ko active Search and Examination
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101501093A (zh) * | 2006-10-24 | 2009-08-05 | 新田株式会社 | 聚酰亚胺树脂 |
JP2015232688A (ja) * | 2014-05-15 | 2015-12-24 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機el素子 |
CN107922733A (zh) * | 2015-08-07 | 2018-04-17 | 东京应化工业株式会社 | 聚酰亚胺前体组合物 |
CN108604061A (zh) * | 2016-03-18 | 2018-09-28 | 东丽株式会社 | 固化膜及正型感光性树脂组合物 |
CN107880545A (zh) * | 2016-09-30 | 2018-04-06 | 东京应化工业株式会社 | 树脂组合物、固化物的制造方法及固化物 |
CN110249004A (zh) * | 2017-02-03 | 2019-09-17 | 东京应化工业株式会社 | 聚酰亚胺前体组合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20210122187A (ko) | 2021-10-08 |
JP2021161252A (ja) | 2021-10-11 |
CN113462277A (zh) | 2021-10-01 |
JP7437996B2 (ja) | 2024-02-26 |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |