CN113415992A - 一种自发光釉料及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种自发光釉料及其制备方法,其中,该自发光釉料由以下百分比的原料制成:夜光粉10‑90%,高岭土10‑70%,瓷石40‑45%,紫金土15‑35%,长石5‑25%,滑石5‑15%。有益效果:本发明制备的青瓷以高温天青釉为基色,融合夜光粉层起到了夜光和玉质感效果,热稳定性好,适应性广。此外,本发明提供的制备方法科学合理,易于实施,得到的青瓷自发光釉料产品成品率高,产品瓷质好。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷釉料技术领域,具体来说,涉及一种自发光釉料及其制备方法。
背景技术
青瓷以瓷质细腻、线条明快流畅、造型端庄浑朴、色泽纯洁而斑斓著称,被称为“瓷器之花”。青瓷素有“青如玉,明如镜,声如磬”的“瓷器之花”的美誉,其品种丰富,釉色多姿。而釉则是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层,是用矿物原料与化工原料按一定比例配合,再经过研磨制成釉浆,施于坯体表面,经一定温度煅烧而成。能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度,还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点。
目前,传统龙泉青瓷一般为单色釉,不具备发光功能,色泽表面比较单一,而随着现代审美观念变化,传统的陶瓷釉面已经无法提供新颖的陶艺风格,使得陶瓷装饰技术停留在传统局限的范围内。经过本配方烧制的自发光釉料制作的陶瓷器件,运用现代工艺的可控性和釉面发光、釉质玉透而厚重。自发光水可用于渗透开片瓷器的开片缝中起到开片缝夜光效果等质感上的优势。有效的增加了陶瓷作品艺术冲击力;有利于市场的推广和竞争能力。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供一种自发光釉料及其制备方法,其用于渗透开片瓷器的开片缝中起到开片缝夜光效果等质感上的优势。有效的增加了陶瓷作品艺术冲击力;有利于市场的推广和竞争能力。
本发明的技术方案是这样实现的:
根据本发明的一个方面,提供了一种自发光釉料。
一种自发光釉料,由以下百分比的原料制成:夜光粉10-90%,高岭土10-70%,瓷石40-45%,紫金土15-35%,长石5-25%,滑石5-15%。
根据本发明的另一方面,还提供了一种自发光釉料的制备方法。
该一种自发光釉料的制备方法,包括以下步骤:
按照预先设置的比例,称取原料,所述原料包括:夜光粉、高岭土、瓷石、紫金土、长石、滑石;
将上述原料进行粉碎,并将粉碎后的原料进行素烧;
将素烧后的原料进行混合细磨,并在细磨后,对细磨后的原料再次进行水磨;
利用过筛器对水磨处理后的原料进行过筛,并在过筛后,进行搅拌使得过筛后的原料充分混合;
将混合后的原料与水按照55:45的比例进行混合,形成釉水;
在素烧后的坯体上用浸釉法按一元釉料进行一元施釉,内外上釉要均匀,施过釉的坯体晒干或烘干至干燥;
干燥后的坯体第二次上釉,内釉用一元釉料进行二次施釉,外釉用二元釉料运用喷釉技法进行喷釉,施釉要均匀;
二次施釉的坯体待完全干燥后,装窑正式烧制即可。
其中,在装窑正式烧制时,窑装好后封闭窑门,点火启烧,由常温经5-8小时慢火烧至500°,除尽坯体内沸点在500°以下的杂质和水分,再经5小时氧化烧制至900°,保温2小时,使温度达到1100°时,结束供氧,并加温至1260°-1300°之间,参考火照为准闭火;结束烧制。
其中,所述素烧时的温度为900°-1100°。
其中,过筛的细度为200目。
其中,在一元施釉时,施釉厚度为1mm。
其中,在二元施釉时,施釉厚度为2mm。
本发明制备的青瓷以高温天青釉为基色,融合夜光粉层起到了夜光和玉质感效果,热稳定性好,适应性广。此外,本发明提供的制备方法科学合理,易于实施,得到的青瓷自发光釉料产品成品率高,产品瓷质好。
具体实施方式
下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
根据本发明的实施例,提供了一种自发光釉料及其制备方法。
实施例一
根据本发明的一种自发光釉料,由以下的原料制成:夜光粉10g,高岭土10g,瓷石40g,紫金土15g,长石5g,滑石5g。
在实际应用时,根据本发明自发光釉料的制备方法包括以下步骤:
步骤一、按照上述比例,称取夜光粉、高岭土、瓷石、紫金土、长石、滑石;
步骤二、将上述原料进行粉碎,并将粉碎后的原料进行素烧,素烧时的温度为900°-1100°;
步骤三、将素烧后的原料进行混合细磨,并在细磨后,对细磨后的原理再次进行水磨;
步骤四、利用过筛器对水磨处理后的原料进行过筛,过筛的细度为200目,并在过筛后,进行搅拌使得过筛后的原料充分混合;
步骤五、将混合后的原料与水按照55:45的比例进行混合,形成釉水;
步骤六、在素烧后的坯体上用浸釉法按一元釉料进行一元施釉,内外上釉要均匀,施釉厚度为1mm,施过釉的坯体晒干或烘干至干燥;
步骤七、干燥后的坯体第二次上釉,内釉用一元釉料进行二次施釉,外釉用二元釉料运用喷釉技法进行喷釉,施釉要均匀,施釉厚度为2mm;
步骤八、二次施釉的坯体待完全干燥后,装窑正式烧制即可。
此外,在实际应用时,为了更好的形成凝脂冻状,在装窑正式烧制时,可按照以下步骤进行烧制:窑装好后封闭窑门,点火启烧,由常温经5-8小时慢火烧至500°,除尽坯体内沸点在500°以下的杂质和水分,再经5小时氧化烧制至900°,保温2小时,使温度达到1100°时,结束供氧,并加温至1260°-1300°之间,参考火照为准闭火;结束烧制。
实施例二
根据本发明的一种自发光釉料,由以下百分比的原料制成:夜光粉45g,高岭土30g,瓷石42g,紫金土25g,长石15g,滑石8g。
在实际应用时,根据本发明自发光釉料的制备方法包括以下步骤:
步骤一、按照上述比例,称取夜光粉、高岭土、瓷石、紫金土、长石、滑石;
步骤二、将上述原料进行粉碎,并将粉碎后的原料进行素烧,素烧时的温度为900°-1100°;
步骤三、将素烧后的原料进行混合细磨,并在细磨后,对细磨后的原理再次进行水磨;
步骤四、利用过筛器对水磨处理后的原料进行过筛,过筛的细度为200目,并在过筛后,进行搅拌使得过筛后的原料充分混合;
步骤五、将混合后的原料与水按照55:45的比例进行混合,形成釉水;
步骤六、在素烧后的坯体上用浸釉法按一元釉料进行一元施釉,内外上釉要均匀,施釉厚度为1mm,施过釉的坯体晒干或烘干至干燥;
步骤七、干燥后的坯体第二次上釉,内釉用一元釉料进行二次施釉,外釉用二元釉料运用喷釉技法进行喷釉,施釉要均匀,施釉厚度为2mm;
步骤八、二次施釉的坯体待完全干燥后,装窑正式烧制即可。
此外,在实际应用时,为了更好的形成凝脂冻状,在装窑正式烧制时,可按照以下步骤进行烧制:窑装好后封闭窑门,点火启烧,由常温经5-8小时慢火烧至500°,除尽坯体内沸点在500°以下的杂质和水分,再经5小时氧化烧制至900°,保温2小时,使温度达到1100°时,结束供氧,并加温至1260°-1300°之间,参考火照为准闭火;结束烧制。
实施例三
根据本发明的一种自发光釉料,由以下百分比的原料制成:夜光粉90g,高岭土70g,瓷石45g,紫金土35g,长石25g,滑石15g。
在实际应用时,根据本发明自发光釉料的制备方法包括以下步骤:
步骤一、按照上述比例,称取夜光粉、高岭土、瓷石、紫金土、长石、滑石;
步骤二、将上述原料进行粉碎,并将粉碎后的原料进行素烧,素烧时的温度为900°-1100°;
步骤三、将素烧后的原料进行混合细磨,并在细磨后,对细磨后的原理再次进行水磨;
步骤四、利用过筛器对水磨处理后的原料进行过筛,过筛的细度为200目,并在过筛后,进行搅拌使得过筛后的原料充分混合;
步骤五、将混合后的原料与水按照55:45的比例进行混合,形成釉水;
步骤六、在素烧后的坯体上用浸釉法按一元釉料进行一元施釉,内外上釉要均匀,施釉厚度为1mm,施过釉的坯体晒干或烘干至干燥;
步骤七、干燥后的坯体第二次上釉,内釉用一元釉料进行二次施釉,外釉用二元釉料运用喷釉技法进行喷釉,施釉要均匀,施釉厚度为2mm;
步骤八、二次施釉的坯体待完全干燥后,装窑正式烧制即可。
此外,在实际应用时,为了更好的形成凝脂冻状,在装窑正式烧制时,可按照以下步骤进行烧制:窑装好后封闭窑门,点火启烧,由常温经5-8小时慢火烧至500°,除尽坯体内沸点在500°以下的杂质和水分,再经5小时氧化烧制至900°,保温2小时,使温度达到1100°时,结束供氧,并加温至1260°-1300°之间,参考火照为准闭火;结束烧制。
综上所述,借助于本发明的上述技术方案,本发明制备的青瓷以高温天青釉为基色,融合夜光粉层起到了夜光和玉质感效果,热稳定性好,适应性广。此外,本发明提供的制备方法科学合理,易于实施,得到的青瓷自发光釉料产品成品率高,产品瓷质好。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种自发光釉料,其特征在于,由以下百分比的原料制成:夜光粉10-90%,高岭土10-70%,瓷石40-45%,紫金土15-35%,长石5-25%,滑石5-15%。
2.一种自发光釉料的制备方法,其特征在于,用于权利要求1所述的自发光釉料,包括以下步骤:
按照预先设置的比例,称取原料,所述原料包括:夜光粉、高岭土、瓷石、紫金土、长石、滑石;
将上述原料进行粉碎,并将粉碎后的原料进行素烧;
将素烧后的原料进行混合细磨,并在细磨后,对细磨后的原料再次进行水磨;
利用过筛器对水磨处理后的原料进行过筛,并在过筛后,进行搅拌使得过筛后的原料充分混合;
将混合后的原料与水按照55:45的比例进行混合,形成釉水;
在素烧后的坯体上用浸釉法按一元釉料进行一元施釉,内外上釉要均匀,施过釉的坯体晒干或烘干至干燥;
干燥后的坯体第二次上釉,内釉用一元釉料进行二次施釉,外釉用二元釉料运用喷釉技法进行喷釉,施釉要均匀;
二次施釉的坯体待完全干燥后,装窑正式烧制即可。
3.根据权利要求2所述的一种自发光釉料的制备方法,其特征在于,在装窑正式烧制时,窑装好后封闭窑门,点火启烧,由常温经5-8小时慢火烧至500°,除尽坯体内沸点在500°以下的杂质和水分,再经5小时氧化烧制至900°,保温2小时,使温度达到1100°时,结束供氧,并加温至1260°-1300°之间,参考火照为准闭火;结束烧制。
4.根据权利要求3所述的一种自发光釉料的制备方法,其特征在于,所述素烧时的温度为900°-1100°。
5.根据权利要求4所述的一种自发光釉料的制备方法,其特征在于,过筛的细度为200目。
6.根据权利要求5所述的一种自发光釉料的制备方法,其特征在于,在一元施釉时,施釉厚度为1mm。
7.根据权利要求6所述的一种自发光釉料的制备方法,其特征在于,在二元施釉时,施釉厚度为2mm。
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