CN113270562A - 显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种显示面板和显示装置，涉及显示技术领域。本公开提供的显示面板，包括第一显示区和第二显示区，第二显示区的透光率大于第一显示区的透光率；显示面板包括：衬底基板；像素层，设于衬底基板的一侧；像素层设置有子像素；子像素包括设置于第二显示区的第一子像素；触控功能层，设于像素层远离衬底基板的一侧；光取出层，设于触控功能层远离衬底基板的表面；光取出层包括设置于第二显示区的凸透镜结构，各个凸透镜结构与各个第一子像素一一对应的交叠设置；有机层，设于光取出层远离衬底基板的表面，且至少覆盖显示区。本公开提供的显示面板可以提高第二显示区中子像素的寿命。

Description

显示面板和显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

在屏下摄像显示装置中，摄像头设置在OLED显示面板的显示区域以下。在对应摄像头的显示区域，OLED显示面板既要保持较高的透光率，又要实现较好的显示效果。然而，摄像头区域中子像素的寿命低；随着使用时间的增长，摄像头区域的显示区域与主显示区域之间会出现较为明显的亮度和颜色差异，降低了用户体验。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种显示面板和显示装置，提高对应摄像头的第二显示区的子像素的寿命。

根据本公开的一个方面，提供一种显示面板，包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区的透光率大于所述第一显示区的透光率；所述显示面板包括：

衬底基板；

像素层，设于所述衬底基板的一侧；所述像素层设置有子像素；所述子像素包括设置于所述第二显示区的第一子像素；

触控功能层，设于所述像素层远离所述衬底基板的一侧；

光取出层，设于所述触控功能层远离所述衬底基板的表面；所述光取出层包括设置于所述第二显示区的凸透镜结构，各个所述凸透镜结构与各个所述第一子像素一一对应的交叠设置；

有机层，设于所述光取出层远离所述衬底基板的表面，且至少覆盖所述显示区。

在本公开的一种实施方式中，所述触控功能层包括依次层叠于所述像素层远离所述衬底基板一侧的触控走线层、无机介质层和触控电极层；所述触控电极层形成有触控电极，且暴露至少部分所述无机介质层；

所述凸透镜结构至少部分设于所述无机介质层远离所述衬底基板的表面，且所述凸透镜结构的折射率大于或等于所述无机介质层的折射率。

在本公开的一种实施方式中，所述凸透镜结构在所述衬底基板上的正投影，覆盖对应的所述子像素在所述衬底基板上的正投影。

在本公开的一种实施方式中，所述凸透镜结构的中心在所述衬底基板上的正投影，与对应的所述子像素的中心在所述衬底基板上的正投影重合。

在本公开的一种实施方式中，所述有机层覆盖所述凸透镜结构远离所述衬底基板的表面；所述有机层的折射率小于所述凸透镜结构的折射率。

在本公开的一种实施方式中，所述凸透镜结构的折射率在1.6～1.8范围内。

在本公开的一种实施方式中，所述凸透镜结构的材料为氮化硅和/或氧化锆。

在本公开的一种实施方式中，所述凸透镜结构还分布于所述第一显示区；所述第一子像素还分布于所述第一显示区；

在所述第一显示区，各个所述第一子像素与各个所述第一凸透镜结构一一对应的交叠设置。

在本公开的一种实施方式中，所述第一子像素为蓝色子像素。

在本公开的一种实施方式中，所述第一显示区和所述第二显示区的子像素的分布密度相同。

在本公开的一种实施方式中，用于发出相同颜色光线的各个子像素中，位于所述第一显示区的子像素的发光面积大于位于所述第二显示区的子像素的发光面积。

在本公开的一种实施方式中，所述子像素还包括位于所述第二显示区的第二子像素和第三子像素；所述凸透镜结构与各个所述第二子像素和所述第三子像素一一对应的交叠设置。

在本公开的一种实施方式中，所述第二子像素和所述第三子像素还分布于所述第一显示区；所述凸透镜结构还分布于所述第一显示区；

在所述第一显示区，各个所述第二子像素和各个所述第三子像素上均设置有与之一一对应的所述凸透镜结构。

在本公开的一种实施方式中，所述凸透镜结构为平凸透镜结构，所述有机层覆盖所述凸透镜结构的凸面。

根据本公开的另一方面，提供一种显示装置，包括上述的显示面板和摄像头，所述摄像头位于所述显示面板下方且与所述第二显示区对应。

在本公开提供的显示面板和显示装置中，在第二显示区，通过在触控功能层与有机层之间设置与第一子像素交叠的凸透镜结构，可以使得在触控功能层与有机层的界面处原本应该被全反射的光线(由第一子像素发出)部分进入凸透镜结构中，并通过凸透镜结构向有机层出射，进而降低从触控功能层至有机层的光损耗，提高出射光线的比例，提高位于第二显示区的第一子像素的出光率。如此，本公开的显示面板可以采用较低的驱动电流使得第二显示区中的第一子像素的出光亮度增大，进而减慢第二显示区中的第一子像素的老化速度，进而在长期使用下，可以提高第一显示区、第二显示区的亮度和颜色的均一性。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图2为本公开另一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图3为本公开一种实施方式中显示面板的剖视结构示意图。

图4为本公开另一种实施方式中显示面板的剖视结构示意图。

图5为相关技术中，显示面板的剖视结构示意图。

图6为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图7为本公开一种实施方式中显示面板的剖视结构示意图。

图8为本公开另一种实施方式中显示面板的剖视结构示意图。

图9为本公开又一种实施方式中显示面板的剖视结构示意图。

图10为本公开再一种实施方式中显示面板的剖视结构示意图。

附图标记说明：

PNL、显示面板；AA、显示区；A1、第一显示区；A2、第二显示区；BB、外围区；B1、绑定区；C100、像素驱动电路；C101、第一像素驱动电路；C102、第二像素驱动电路；C200、发光元件；C201、第一发光元件；C202、第二发光元件；C300、感光组件；F300D1、像素电极；F300D11、电极本体；F300D12、电极延伸引线；LENS、凸透镜结构；LENS1、第一凸透镜结构；LENS2、第二凸透镜结构；LENS3、第三凸透镜结构；SubP、子像素；SubP1、第一子像素；SubP2、第二子像素；SubP3、第三子像素；F100、衬底基板；F200、驱动电路层；F200M、晶体管；F201、缓冲材料层；F203、半导体层；F204、栅极绝缘层；F205、栅极层；F206、层间电介质层；F207、源漏金属层；F208、平坦化层；F300、像素层；F301、像素电极层；F302、像素定义层；F303、支撑柱层；F304、有机发光功能层；F305、公共电极层；F400、薄膜封装层；F401、第一无机封装层；F402、有机封装层；F403、第二无机封装层；F500、触控功能层；F501、触控缓冲层；F502、触控走线层；F503、无机介质层；F504、触控电极层；F600、光取出层；F700、有机层。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本公开将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”和“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

图1和图2为本公开提供的显示面板PNL的一种俯视结构示意图。参见图1和图2，显示面板PNL可以包括显示区AA和围绕显示区AA的外围区BB。其中，显示区AA可以包括第一显示区A1和第一显示区A1一侧的至少一个第二显示区A2。参见图3和图6，在第一显示区A1和第二显示区A2内，像素层F300均可以设置有作为子像素SubP的发光元件C200，以便使得第一显示区A1和第二显示区A2均能够实现画面显示。

参见图4，应用该显示面板PNL的显示装置可以包括至少一个感光组件C300。其中，感光组件C300可以与第二显示区A2一一对应设置，且感光组件C300可以正对对应的第二显示区A2，以便接收从第二显示区A2透射的光线。感光组件C300可以具有用于感测光线的感光区域，感光区域在衬底基板F100上的正投影可以位于第二显示区A2内。感光组件C300可以为一个或者多个光线传感器，例如可以为摄像头、光学指纹识别芯片、光强传感器等。在一些实施方式中，感光组件C300可以为一摄像头，例如可以为一个CCD(电荷耦合器件)摄像头；如此，该显示装置可以实现屏下摄像，提高显示装置的屏占比。

可选地，参见图1和图2，第二显示区A2可以嵌于第一显示区A1中，即第一显示区A1环绕第二显示区A2。当第二显示区A2的数量为多个时，第二显示区A2可以分散设置，也可以相邻设置。当然地，在本公开的其他实施方式中，第二显示区A2也可以位于第一显示区A1的一侧；例如，第二显示区A2的边缘可以与外围区BB的内边缘部分交叠，使得第二显示区A2设置于显示区AA的边缘位置。

可选地，任意一个第二显示区A2的形状可以为圆形、方形、菱形、正六边形或者其他形状。在本公开的一种实施方式中，第二显示区A2的形状可以为圆形。

第二显示区A2的数量可以为一个，也可以为多个，以满足感光组件C300的设置为准。在本公开的一种实施方式中，第二显示区A2的数量为一个。如此，显示装置可以设置一个屏下感光组件C300，例如可以设置一个屏下摄像头或者屏下光学指纹识别芯片。在本公开的另一种实施方式中，第二显示区A2的数量为多个。如此，该显示装置可以设置多个感光组件C300，任意两个感光组件C300可以相同或者不相同。示例性地，参见图2，第二显示区A2的数量为三个且相邻设置。如此，显示装置可以设置有与三个第二显示区A2一一对应的不同的感光组件C300，例如设置有成像摄像头、深景摄像头、红外摄像头三种不同的感光组件C300。

在本公开的一些实施方式中，参见图3，在第二显示区A2可以不设置像素驱动电路C100，以便降低像素驱动电路C100对透光率的影响，提高第二显示区A2的透光率。位于第二显示区A2的各个发光元件C200(子像素)的像素驱动电路C100，可以设置于第一显示区A1内。进一步地的，位于第二显示区A2的各个发光元件C200的像素电极F300D1包括相互连接的电极本体F300D11和电极延伸引线F300D12。其中，电极本体F300D11位于第二显示区A2内且用于作为发光元件C200的阴极或者阳极；电极延伸引线F300D12设于第一显示区A1和第二显示区A2，其一端与电极本体F300D11连接，另一端与该发光元件C200对应的像素驱动电路C100电连接。在一些实施方式中，电极延伸引线F300D12可以采用透明导电材料，例如采用透明金属氧化物。示例性地，电极延伸引线F300D12的材料可以为ITO(氧化铟锡)。在本公开的一种实施方式中，电极延伸引线F300D12的材料可以与电极本体F300D11的材料相同且同层设置，这使得电极延伸引线F300D12与电极本体F300D11可以在相同的工序中制备出来。

在该实施方式中，本公开的显示面板PNL中的发光元件C200根据所处的位置，可以分为位于第一显示区A1的第一发光元件C201和位于第二显示区A2的第二发光元件C202。本公开的显示面板PNL中的像素驱动电路C100可以根据其所驱动的发光元件C200，分为用于驱动第一发光元件C201的第一像素驱动电路C101和用于驱动第二发光元件C202的第二像素驱动电路C102。其中，第一像素驱动电路C101的输出端与第一发光元件C201的像素电极F300D1电连接，第二像素驱动电路C102的输出端与第二发光元件C202的像素电极F300D1的电极延伸引线F300D12电连接。换言之，电极延伸引线F300D12的两端分别连接第二发光元件C202的像素电极F300D1的电极本体F300D11和第二像素驱动电路C102的输出端。

在本公开的一种实施方式中，第一显示区A1可以包括与第二显示区A2相邻的辅助显示区，第二像素驱动电路C102可以设置于辅助显示区内。

当然的，在本公开的其他实施方式中，在第二显示区A2也可以设置像素驱动电路C100，以便驱动位于第二显示区A2中的各个发光元件。进一步地，位于第二显示区A2中的像素驱动电路的面积，可以小于位于第一显示区A1中像素驱动电路的面积。换言之，可以缩小第二显示区A2中的像素驱动电路的图案面积，以降低像素驱动电路对第二显示区A2的透光率的影响，进而提高第二显示区A2的透光率。

在本公开的一些实施方式中，参见图6，可以减小第二显示区A2中的子像素SubP的发光面积，以提高第二显示区A2的透光率。具体的，用于发出相同颜色光线的各个子像素(例如各个第一子像素SubP1、各个第二子像素SubP2或者各个第三子像素SubP3)中，位于第一显示区A1的子像素的发光面积大于位于第二显示区A2的子像素的发光面积。这样，可以通过减小子像素的发光面积而保持子像素的分布密度的方式来提高第二显示区A2的透光率，显示面板PNL在第二显示区A2可以具有较高的分辨率(PPI)。在本公开的一种实施方式中，显示面板PNL在第二显示区A2的分辨率可以大于400PPI。

由于第二显示区A2中的子像素的发光面积减小，为了使得第二显示区A2正常显示画面，可以提高驱动第二显示区A2中的子像素的驱动电流，以提高第二显示区A2中子像素的亮度。当然的，在本公开的其他实施方式中，同一种子像素在第一显示区A1和第二显示区A2中的发光面积，也可以相同。

在一些实施方式中，参见图6，子像素SubP在第二显示区A2中的分布密度，可以与子像素SubP在第一显示区A1中的分布密度相同，使得第一显示区A1和第二显示区A2具有相同的分辨率，提高显示面板PNL在第一显示区A1和第二显示区A2显示的均一性。在本公开中，子像素的分布密度，指的是单位面积内子像素的数量。当然的，在本公开的其他实施方式中，子像素在第一显示区A1和第二显示区A2中的分布密度，也可以不相同；例如第一显示区A1中子像素的分布密度可以大于第二显示区A2中子像素的分布密度。

在本公开中，子像素(发光元件)可以包括多种不同的子像素，例如包括两种子像素、三种子像素或者四种子像素等，不同的子像素用于发出不同颜色的光(例如红光、绿光、蓝光、黄光、青光、品红光、白光等)。示例性地，参见图6，子像素SubP可以包括第一子像素SubP1、第二子像素SubP2和第三子像素SubP3。进一步地，第一子像素SubP1可以为蓝色子像素，第二子像素SubP2可以为红色子像素，第三子像素SubP3可以为绿色子像素。

图7和图8为本公开的显示面板PNL的膜层结构示意图。参见图7，显示面板可以包括依次层叠设置的衬底基板F100、驱动电路层F200和像素层F300、触控功能层F500和有机层F700。

衬底基板F100可以为无机材料的衬底基板F100，也可以为有机材料的衬底基板F100。举例而言，在本公开的一种实施方式中，衬底基板F100的材料可以为钠钙玻璃(soda-lime glass)、石英玻璃、蓝宝石玻璃等玻璃材料，或者可以为不锈钢、铝、镍等金属材料。在本公开的另一种实施方式中，衬底基板F100的材料可以为聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)、聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol，PVA)、聚乙烯基苯酚(Polyvinylphenol，PVP)、聚醚砜(Polyether sulfone，PES)、聚酰亚胺、聚酰胺、聚缩醛、聚碳酸酯(Poly carbonate，PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalate，PEN)或其组合。

在本公开的一种实施方式中，衬底基板F100为柔性衬底基板。如此，本公开的显示面板可以为一种柔性显示面板。该衬底基板包括一层柔性有机材料层(例如包括一层聚酰亚胺层)，也可以包括多层柔性有机材料层，多层柔性有机材料层之间可以设置有无机层。

可选地，参见图3和图7，驱动电路层F200中设置有用于驱动发光元件C200(即子像素)的像素驱动电路(C101和C102)。任意一个像素驱动电路可以包括有晶体管F200M和存储电容。进一步地，晶体管F200M可以为薄膜晶体管，薄膜晶体管可以为顶栅型薄膜晶体管、底栅型薄膜晶体管或者双栅型薄膜晶体管；薄膜晶体管的有源层的材料可以为非晶硅半导体材料、低温多晶硅半导体材料、金属氧化物半导体材料、有机半导体材料或者其他类型的半导体材料；薄膜晶体管可以为N型薄膜晶体管或者P型薄膜晶体管。在本公开的一种实施方式中，薄膜晶体管为低温多晶硅晶体管。

可以理解的是，像素驱动电路中的各个晶体管中，任意两个晶体管之间的类型可以相同或者不相同。示例性地，在一种实施方式中，在一个像素驱动电路中，部分晶体管可以为N型晶体管且部分晶体管可以为P型晶体管。再示例性地，在本公开的另一种实施方式中，在一个像素驱动电路中，部分晶体管的有源层的材料可以为低温多晶硅半导体材料，且部分晶体管的有源层的材料可以为金属氧化物半导体材料。

可选地，驱动电路层F200可以包括层叠于衬底基板F100和像素层F300之间的半导体层F203、栅极绝缘层F204、栅极层F205、层间电介质层F206和源漏金属层F207等。各个薄膜晶体管和存储电容可以由半导体层F203、栅极绝缘层F204、栅极层F205、层间电介质层F206、源漏金属层F207等膜层形成。其中，各个膜层的位置关系可以根据薄膜晶体管的膜层结构确定。举例而言，在本公开的一种实施方式中，驱动电路层F200可以包括依次层叠设置的半导体层F203、栅极绝缘层F204、栅极层F205、层间电介质层F206和源漏金属层F207，如此所形成的薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管。再举例而言，在本公开的另一种实施方式中，驱动电路层F200可以包括依次层叠设置的栅极层F205、栅极绝缘层F204、半导体层F203、层间电介质层F206和源漏金属层F207，如此所形成的薄膜晶体管为底栅型薄膜晶体管。驱动电路层F200还可以采用双栅极层F205结构，即栅极层F205可以包括第一栅极层和第二栅极层，栅极绝缘层F204可以包括用于隔离半导体层F203和第一栅极层的第一栅极绝缘层，以及包括用于隔离第一栅极层和第二栅极层的第二栅极绝缘层。举例而言，在本公开的一种实施方式中，驱动电路层F200可以包括依次层叠设置于衬底基板F100一侧的半导体层F203、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、层间电介质层F206和源漏金属层F207。

可选地，驱动电路层F200还可以包括有钝化层，钝化层可以设于源漏金属层F207远离衬底基板F100的表面，以便保护源漏金属层F207。

可选地，驱动电路层F200还可以包括设于衬底基板F100与半导体层F203之间的缓冲材料层F201，且半导体层F203、栅极层F205等均位于缓冲材料层远离衬底基板F100的一侧。缓冲材料层F201的材料可以为氧化硅、氮化硅等无机绝缘材料。缓冲材料层F201可以为一层无机材料层，也可以为多层层叠的无机材料层。在本公开的一种实施方式中，缓冲材料层F201可以包括靠近衬底基板F100一侧的阻隔层和位于阻隔层远离衬底基板F100一侧的缓冲层。阻隔层用于阻挡衬底基板F100中的离子等组分向驱动电路层F200渗透，使得驱动电路层F200保持性能稳定。缓冲层可以提高驱动电路层F200与衬底基板F100之间的结合力，并为驱动电路层F200提供稳定环境。

可选地，驱动电路层F200还可以包括位于源漏金属层F207和像素层F300之间的平坦化层F208，平坦化层F208可以为像素电极提供平坦化表面。可选地，平坦化层F208的材料可以为有机材料。

像素层F300可以设置有与像素驱动电路对应电连接的发光元件，发光元件可以作为显示面板的子像素。如此，像素层设置有阵列分布的发光元件，且各个发光元件在像素驱动电路的控制下发光。在本公开中，发光元件可以为有机电致发光二极管(OLED)、微发光二极管(Micro LED)、量子点-有机电致发光二极管(QD-OLED)、量子点发光二极管(QLED)或者其他类型的发光元件。示例性地，在本公开的一种实施方式中，发光元件为有机电致发光二极管(OLED)，则该显示面板为OLED显示面板。如下，以发光元件为有机电致发光二极管为例，对像素层的一种可行结构进行示例性的介绍。

在该示例中，像素层F300可以设置于驱动电路层F200远离衬底基板F100的一侧，其可以包括依次层叠设置的像素电极层F301、像素定义层F302、支撑柱层F303、有机发光功能层F304和公共电极层F305。其中，像素电极层F301在显示面板的显示区具有多个像素电极；像素定义层F302在显示区具有与多个像素电极一一对应设置的多个贯通的像素开口，任意一个像素开口暴露对应的像素电极的至少部分区域。支撑柱层F303在显示区包括多个支撑柱，且支撑柱位于像素定义层F302远离衬底基板F100的表面，以便在蒸镀制程中支撑精细金属掩模版(Fine Metal Mask，FMM)。有机发光功能层F304至少覆盖被像素定义层F302所暴露的像素电极。其中，有机发光功能层F304可以包括有机电致发光材料层，以及可以包括有空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的一种或者多种。可以通过蒸镀工艺制备有机发光功能层F304的各个膜层，且在蒸镀时可以采用精细金属掩模版或者开放式掩膜板(Open Mask)定义各个膜层的图案。公共电极层F305在显示区可以覆盖有机发光功能层F304。如此，像素电极、公共电极层F305和位于像素电极和公共电极层F305之间的有机发光功能层F304形成有机发电致光二极管F300D，任意一个有机电致发光二极管可以作为显示面板的一个子像素。其中，任意一个子像素的发光面积，可以为该子像素的像素电极被像素开口所暴露的区域的面积。任意一个子像素的中心，可以为该子像素的像素电极被像素开口所暴露的区域的中心。

可选地，显示面板还可以包括薄膜封装层F400。薄膜封装层F400设于像素层F300远离衬底基板F100的表面，可以包括交替层叠设置的无机封装层和有机封装层。其中，无机封装层可以有效的阻隔外界的水分和氧气，避免水氧入侵有机发光功能层F304而导致材料降解。可选地，无机封装层的边缘可以位于外围区。有机封装层位于相邻的两层无机封装层之间，以便实现平坦化和减弱无机封装层之间的应力。其中，有机封装层的边缘，可以位于显示区的边缘和无机封装层的边缘之间。示例性地，薄膜封装层F400包括依次层叠于像素层F300远离衬底基板F100一侧的第一无机封装层F401、有机封装层F402和第二无机封装层F403。

可选地，触控功能层F500设于像素层远离衬底基板F100的一侧，例如设于薄膜封装层F400远离衬底基板F100的一侧，用于实现显示面板的触控操作。

在一些实施方式中，参见图8，触控功能层F500可以包括依次层叠设置于衬底基板一侧的触控走线层F502、无机介质层F503和触控电极层F504；触控电极层F504位于触控走线层F502远离衬底基板F100的一侧。触控走线层F502和触控电极层F504中的一层或者两层用于形成触控电极。在本公开的一种实施方式中，触控功能层F500设置于薄膜封装层F400远离衬底基板的一侧。

可选地，在触控走线层F502与薄膜封装层F400之间还可以包括触控缓冲层F501。触控缓冲层F501的材料可以为无机材料，例如可以为氮化硅、氧化硅或者氮氧化硅等。可以理解的是，在本公开的其他实施方式中，薄膜封装层F400最外侧的无机封装层，也可以复用为触控缓冲层F501。

可选地，触控走线层F502和触控电极层F504可以为透光膜层，以使得所形成的触控电极F510为透明电极为准。在本公开的一种实施方式中，触控走线层F502和触控电极层F504的材料可以为透光材料，例如可以采为透明导电金属氧化物(如氧化铟锡等)。当然的，本公开的触控走线层F502和触控电极层F504也可以采用不透光的材料，其所形成的图案(pattern)可以为不透光的图案，子像素发出的光线可以从这些图案之间的空间穿过。

触控电极的形状和位置，可以根据显示面板的需要进行设置，以使得触控功能层F500能够基于自容或者互容原理确定触控位置为准。触控功能层F500还可以用于形成触控引线，以便将触控电极响应触控动作而产生的信号传导出来。

在本公开的一种实施方式中，参见图8，触控电极层F504形成有触控电极(F511、F512)，且暴露至少部分无机介质层F503。子像素SubP发出的光线，可以从被触控电极层F504暴露的无机介质层F503处穿过。

示例性地，参见图8，在本公开的一种实施方式中，触控电极包括多个沿行方向延伸的行触控电极F511和多个沿列方向延伸的列触控电极F512。各个行触控电极F511沿列方向依次排列，各个列触控电极F512沿行方向依次排列。其中，任意一个列触控电极设置于触控电极层F504，且位于像素定义层的像素开口之间。任意一个行触控电极包括沿行方向依次排列的多个行触控子电极，行触控子电极设置于触控电极层F504，且位于像素定义层的像素开口之间。在任意一个行触控电极中，相邻两个行触控子电极之间通过位于触控布线层的桥接连接部连接。其中，桥接连接部也位于像素开口之间。

在本公开中，参见图8，在触控电极层F504远离衬底基板F100的一侧设置有有机层F700，该有机层F700可以作为平坦层以为其他后续膜层提供平坦表面，或者可以作为光学胶层以粘附其他后续膜层，或者可以作为有机保护层以保护显示面板PNL，亦或者发挥其他功能或者复用为其他所需的膜层，以该有机层F700的材料为有机物为准。

示例性地，在本公开的一种实施方式中，显示面板PNL还可以包括降低反射层，以降低环境光线对显示效果的影响；降低反射层可以设置于有机层F700远离衬底基板F100的表面。在该实施方式中，有机层F700可以复用为光学胶层以粘附降低反射层(例如偏光片、彩膜片等)，或者可以复用为平坦层以为制备降低反射层(例如彩膜层)提供平坦表面。

在相关技术中，参见图5，有机层F700可以直接设置在触控功能层F500远离衬底基板的表面。然而，触控功能层的折射率大于有机层F700的折射率，这使得子像素发出的大角度光线在触控功能层F500与有机层F700的接触面可能发生全反射，进而降低显示面板PNL的出光率，降低子像素的亮度。示例性地，在有机层F700与无机介质层的接触面，子像素发出的大角度光线将被全反射，并最终使得约70％的光线被束缚于无机介质层及其以下的膜层内，造成大量的光损耗而降低子像素的出光率和显示面板PNL的发光亮度。

为此，参见图8，本公开的显示面板PNL还设置有光取出层F600。光取出层F600设于触控功能层远离衬底基板F100的表面；且有机层F700设于光取出层F600远离衬底基板F100的表面。换言之，光取出层F600可以夹设于触控功能层和有机层F700之间。光取出层F600设置有与至少部分子像素一一对应交叠的凸透镜结构LENS。进一步地，凸透镜结构LENS的折射率，大于触控功能层的折射率。在本公开的一种实施方式中，各个凸透镜结构LENS，组成本公开的光取出层F600。

在本公开中，至少部分子像素上方(远离衬底基板F100的方向)设置有与之交叠的凸透镜结构LENS，可以使得部分原本应该被全反射的光线(由凸透镜结构LENS对应的子像素发出)得以进入凸透镜结构LENS中，并通过凸透镜结构LENS向有机层F700出射，进而提高这些子像素的出光率。如此，为了达成相同的出光亮度，本公开的至少部分子像素(与凸透镜结构LENS对应的子像素)可以采用较低的驱动电路进行驱动，这既减慢了这些子像素的老化速度并提高其寿命，又可以减小显示面板PNL的功耗。

在本公开中，子像素的出光率可以是指，子像素发出的光线出射至显示面板PNL以外的部分，与子像素发出的全部光线的比例。子像素的出光亮度可以是指，子像素发光而使得显示面板PNL呈现的亮度。在本公开中，子像素与凸透镜结构交叠，指的是子像素在衬底基板上的正投影，与凸透镜结构在衬底基板上的正投影至少部分重合。

参见图8，在本公开的一种实施方式中，触控电极层F504形成有触控电极，且暴露至少部分无机介质层F503；凸透镜结构LENS至少部分设于无机介质层F503远离衬底基板F100的表面，且凸透镜结构LENS的折射率不小于无机介质层的折射率。更进一步地，凸透镜结构LENS的折射率大于无机介质层的折射率。

在本公开的一种实施方式中，凸透镜结构LENS的折射率在1.6～1.8范围内，以大于无机介质层的折射率为准。

在本公开的一种实施方式中，凸透镜结构LENS的材料为氮化硅或者氧化锆等无机透明材料。当然的，在其他实施方式中，凸透镜结构LENS的材料也可以为其他具有较高折射率的透明材料。

可选地，凸透镜结构LENS在衬底基板F100上的正投影，覆盖对应的子像素在衬底基板F100上的正投影。如此，可以使得子像素发出的光线尽可能多的被对应的凸透镜结构LENS取出，尽可能大的提高该凸透镜结构LENS所对应的子像素的出光率。

可选地，凸透镜结构LENS的中心在衬底基板F100上的正投影，与对应的子像素的中心在衬底基板F100上的正投影重合。如此，凸透镜结构LENS对应的子像素在不同方向上的出光率，可以得到较为均匀的提升，进而减弱显示面板PNL出现色偏不良的风险。

在本公开的一种实施方式中，有机层F700覆盖凸透镜结构LENS远离衬底基板F100的表面；有机层F700的折射率小于凸透镜结构LENS的折射率。

在本公开的一种实施方式中，凸透镜结构LENS为平凸透镜结构LENS，有机层F700覆盖凸透镜结构LENS的凸面。换言之，凸透镜结构LENS的平面与触控电路层的上表面(远离衬底基板F100的表面)相邻，凸透镜结构LENS的凸面与有机层F700的下表面(靠近衬底基板F100的表面)相邻。在本公开中，平凸透镜结构的相对两面中，其中一个面基本为平面(与触控功能层直接接触的表面)，另一个面为中心向外凸出的凸面(与有机层直接接触的表面)。可以理解的是，本公开中的平凸透镜结构的平面可以具有局部的凸起或者凹陷，这是由于制备凸透镜结构时作为基板的触控功能层的表面局部不平整引起的，这些凸起或者凹陷不会对本公开的平凸透镜结构的功能产生负面影响。

在本公开中，凸透镜结构LENS的间距可以根据需要进行确定，尤其是可以根据所对应的子像素的位置进行确定，以位于对应的子像素上方为准。在本公开的一种实施方式中，凸透镜结构LENS的间距(Pitch)可以在20～80微米范围内。

可选地，该凸透镜结构LENS可以采用光刻工艺进行制备。示例性地，在本公开的一种实施方式中，可以在触控功能层远离衬底基板F100的一侧沉积一层光取出材料层，然后采用光刻工艺对光取出材料层进行图案化操作，以获得所需的凸透镜结构LENS，以形成光取出层F600。更进一步地，在光刻工艺中，可以采用灰阶掩膜(halftone)工艺形成凸透镜结构LENS。

在本公开的另一种实施方式中，在制备触控功能层时，可以使得无机介质层的上表面(远离衬底基板F100的表面)局部向上凸起以形成凸透镜结构LENS，则该凸起的部分可以复用为本公开的显示面板PNL的光取出层F600。如此，可以在同一工序中同时制备出无机介质层和光取出层F600，两者的材料相同。示例性地，在制备触控布线层后，可以在触控布线层远离衬底基板F100的一侧形成无机材料层，然后对无机材料层进行图案化操作，以获得一无机层。其中，该无机层在正对目标子像素的区域具有向上(远离衬底基板F100的方向)凸起的凸透镜结构LENS，各个凸透镜结构LENS组成本公开的光取出层F600。该无机层的其他部分，作为本公开的无机介质层。在该示例中，目标子像素为，根据设计而需要在其上方设置凸透镜结构LENS的子像素。

可选地，在本公开的显示面板PNL进行显示时，第一显示区A1和第二显示区A2需要保持同等水平的亮度，以避免在第二显示区A2出现亮度不均的光斑(Mura)现象。可选地，可以采用不同的伽马曲线分别对第一显示区A1和第二显示区A2进行光学调节，以使得第一显示区A1和第二显示区A2出光均一。在本公开的显示面板PNL中，为了提高第二显示区A2的透光率，对第二显示区A2中的子像素的分布密度或者发光面积进行了调整，例如减小了子像素的发光面积或者减小了子像素的分布密度。相应地，为了使得第一显示区A1和第二显示区A2中亮度均一，需要提高第二显示区A2中子像素的驱动电流以提高第二显示区A2中子像素的亮度。第二显示区A2中子像素的驱动电流的提升，将加速第二显示区A2中子像素的亮度衰减速度，降低第二显示区A2中子像素的寿命，且容易导致第二显示区A2中出现残像。在较长时间的使用下，第二显示区A2与第一显示区A1中的亮度和颜色差异将会被明显感知，影响显示质量。

因此，在本公开中，参见图9和图10，凸透镜结构LENS至少包括第一凸透镜结构LENS1；第一凸透镜结构LENS1至少分布于第二显示区A2；在第二显示区A2，各个第一子像素SubP1与各个第一凸透镜结构LENS1一一对应的交叠设置。

在本公开中，通过在第二显示区A2设置第一凸透镜结构LENS1，可以使得部分原本应该被全反射的光线(由第一子像素SubP1发出)得以进入第一凸透镜结构LENS1中，并通过第一凸透镜结构LENS1向有机层F700出射，进而提高出射光线的比例，提高位于第二显示区A2的第一子像素SubP1的出光率。如此，本公开的显示面板可以采用较低的驱动电流使得第二显示区A2中的第一子像素SubP1的出光亮度增大，进而减慢第二显示区A2中的第一子像素SubP1的老化速度，进而在长期使用下，可以提高第一显示区、第二显示区的亮度和颜色的均一性。更进一步地，在本公开的一些实施方式中，通过设置第一凸透镜结构LENS1，使得第二显示区A2中的第一子像素SubP1的电流密度小于第一显示区A1中的第一子像素SubP1的电流密度(在出光强度相同的条件下)，进而使得第二显示区A2中的第一子像素SubP1的寿命与第一显示区A1中的第一子像素SubP1的寿命趋同。

在本公开的一些实施方式中，参见图10，凸透镜结构LENS可以仅仅包括第一凸透镜结构LENS1。换言之，只有第一子像素SubP1上方(远离衬底基板F100的方向)设置有凸透镜结构LENS，以提高该子像素的出光率进而降低驱动该子像素的驱动电流。在本公开的一种实施方式中，第一子像素SubP1可以为蓝色子像素。相较于其他子像素，蓝色子像素更容易老化，其寿命往往更短且亮度衰减更快，是制约显示面板PNL寿命和显示效果(蓝色子像素衰减过快而导致显示面板PNL的画面发黄)的重要因素。本实施方式通过在第二显示区A2中的蓝色子像素(第一子像素SubP1)上方(远离衬底基板F100的方向)设置第一凸透镜结构LENS1，进而可以将蓝色子像素的出光率提高(测试中发现可以提高15％～20％)，并将蓝色子像素的电流密度降低(测试中发现可以降低15％～20％)，进而提高蓝色子像素的寿命(测试中发现可以提高45％以上)。如此，该实施方式克服了第二显示区A2中的蓝色子像素寿命过短的缺陷，进而可以有效地提高显示面板PNL的寿命和画面质量。

在本公开的一种实施方式中，第一凸透镜结构LENS1可以仅仅设置于第二显示区A2，且与第二显示区A2中的第一子像素SubP1(蓝色子像素)一一对应设置。如此，可以针对性地提高第二显示区A2中第一子像素SubP1的寿命，使得第一子像素SubP1在第一显示区A1和第二显示区A2中的寿命接近，进而避免第二显示区A2中的第一子像素SubP1过早老化而使得第二显示区A2发光，提高显示面板PNL的显示质量并提高用户体验。

在本公开的另一种实施方式中，第一凸透镜结构LENS1还分布于第一显示区A1；在第一显示区A1，各个第一子像素SubP1与各个第一凸透镜结构LENS1一一对应的交叠设置。如此，在第一显示区A1，第一子像素SubP1的出光率也可以得到提升，进而可以降低第一子像素SubP1的驱动电流，提高位于第一显示区A1的第一子像素SubP1的亮度和寿命。如此，第一凸透镜结构LENS1分布于整个显示区AA，且与显示区AA中的各个第一子像素SubP1一一对应设置，以提高各个第一子像素SubP1的寿命。

在本公开的另外一些实施方式中，凸透镜结构LENS不仅仅包括第一凸透镜结构LENS1，还可以包括与至少部分其他子像素(第一子像素以外的子像素中的至少部分)对应交叠的凸透镜结构LENS，以提高至少部分其他子像素(与凸透镜结构LENS对应的子像素)的寿命。

在这些实施方式中，子像素还包括第二子像素SubP2和第三子像素SubP3。参见图9，凸透镜结构LENS还包括第二凸透镜结构LENS2和第三凸透镜结构LENS3；第二凸透镜结构LENS2至少分布于第二显示区A2；在第二显示区A2，各个第二子像素SubP2与各个第二凸透镜结构LENS2一一对应的交叠设置；第三凸透镜结构LENS3至少分布于第二显示区A2；在第二显示区A2，各个第三子像素SubP3与各个第三凸透镜结构LENS3一一对应的交叠设置。在这些实施方式中，位于第二显示区A2中的各个子像素上方(远离衬底基板F100的反向)均设置有凸透镜结构LENS，这使得第二显示区A2中各个子像素的出光率均得以加强，各个子像素的驱动电流均可以降低，进而可以减弱第二显示区A2中的各个子像素的老化速度，提高第二显示区A2中各个子像素的寿命，进而提高显示面板PNL的寿命和显示质量。如此，在长期使用下，可以提高第一显示区、第二显示区的亮度和颜色的均一性。在测试中发现，凸透镜结构LENS对应的子像素，其出光率可以提高15％～20％，电流密度可以降低15％～20％，器件寿命可以提高45％以上。

可以理解的是，当子像素在第二显示区A2还设置有其他子像素时，这些子像素的上方也可以设置有与之对应的凸透镜结构LENS，以便提高第二显示区A2中的这些子像素的寿命。更进一步地，在本公开的一些实施方式中，通过设置第二凸透镜结构LENS2，使得第二显示区A2中的第二子像素SubP2的电流密度小于第一显示区A1中的第二子像素SubP2的电流密度(在出光强度相同的条件下)，进而使得第二显示区A2中的第二子像素SubP2的寿命与第一显示区A1中的第二子像素SubP2的寿命趋同。通过设置第三凸透镜结构LENS3，使得第二显示区A2中的第三子像素SubP3的电流密度小于第一显示区A1中的第三子像素SubP3的电流密度(在出光强度相同的条件下)，进而使得第二显示区A2中的第三子像素SubP3的寿命与第一显示区A1中的第三子像素SubP3的寿命趋同。

在本公开的一种实施方式中，凸透镜结构LENS仅设置于第二显示区A2中，且与第二显示区A2中的各个子像素一一对应设置。如此，可以提高第二显示区A2中的各个子像素的寿命，使得第一显示区A1和第二显示区A2中的子像素的寿命趋于一致，避免第二显示区A2中的子像素老化太快而使得第一显示区A1和第二显示区A2之间出现色差，避免第一显示区A1和第二显示区A2的色差降低显示质量和影响用户体验。

在本公开的另一种实施方式中，第二凸透镜结构LENS2还分布于第一显示区A1；在第一显示区A1，各个第二子像素SubP2与各个第二凸透镜结构LENS2一一对应的交叠设置；第三凸透镜结构LENS3还分布于第一显示区A1；在第一显示区A1，各个第三子像素SubP3与各个第三凸透镜结构LENS3一一对应的交叠设置。如此，在第一显示区A1，第二子像素SubP2和第三子像素SubP3的出光率也可以得到提升，进而可以降低第二子像素SubP2和第三子像素SubP3的驱动电流，提高位于第一显示区A1的第二子像素SubP2和第三子像素SubP3的亮度和寿命。如此，凸透镜结构LENS还分布于第一显示区A1，且与第一显示区A1中的各个子像素一一对应设置。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (15)

1.一种显示面板，包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区的透光率大于所述第一显示区的透光率；其特征在于，所述显示面板包括：

衬底基板；

像素层，设于所述衬底基板的一侧；所述像素层设置有子像素；所述子像素包括设置于所述第二显示区的第一子像素；

触控功能层，设于所述像素层远离所述衬底基板的一侧；

光取出层，设于所述触控功能层远离所述衬底基板的表面；所述光取出层包括设置于所述第二显示区的凸透镜结构，各个所述凸透镜结构与各个所述第一子像素一一对应的交叠设置；

有机层，设于所述光取出层远离所述衬底基板的表面，且至少覆盖所述显示区。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控功能层包括依次层叠于所述像素层远离所述衬底基板一侧的触控走线层、无机介质层和触控电极层；所述触控电极层形成有触控电极，且暴露至少部分所述无机介质层；

所述凸透镜结构至少部分设于所述无机介质层远离所述衬底基板的表面，且所述凸透镜结构的折射率大于或等于所述无机介质层的折射率。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凸透镜结构在所述衬底基板上的正投影，覆盖对应的所述子像素在所述衬底基板上的正投影。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述凸透镜结构的中心在所述衬底基板上的正投影，与对应的所述子像素的中心在所述衬底基板上的正投影重合。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机层覆盖所述凸透镜结构远离所述衬底基板的表面；所述有机层的折射率小于所述凸透镜结构的折射率。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凸透镜结构的折射率在1.6～1.8范围内。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凸透镜结构的材料为氮化硅和/或氧化锆。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凸透镜结构还分布于所述第一显示区；所述第一子像素还分布于所述第一显示区；

在所述第一显示区，各个所述第一子像素与各个所述第一凸透镜结构一一对应的交叠设置。

9.根据权利要求1～8任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一子像素为蓝色子像素。

10.根据权利要求1～8任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区和所述第二显示区的子像素的分布密度相同。

11.根据权利要求1～8任意一项所述的显示面板，其特征在于，用于发出相同颜色光线的各个子像素中，位于所述第一显示区的子像素的发光面积大于位于所述第二显示区的子像素的发光面积。

12.根据权利要求1～8任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述子像素还包括位于所述第二显示区的第二子像素和第三子像素；所述凸透镜结构与各个所述第二子像素和所述第三子像素一一对应的交叠设置。

13.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第二子像素和所述第三子像素还分布于所述第一显示区；所述凸透镜结构还分布于所述第一显示区；

在所述第一显示区，各个所述第二子像素和各个所述第三子像素上均设置有与之一一对应的所述凸透镜结构。

14.根据权利要求1～8任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述凸透镜结构为平凸透镜结构，所述有机层覆盖所述凸透镜结构的凸面。

15.一种显示装置，包括权利要求1～14任意一项所述的显示面板和摄像头，所述摄像头位于所述显示面板下方且与所述第二显示区对应。

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