CN113203256B - 干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法。干燥装置能够除去在基板保持架的干燥时在干燥槽的内部浮游的颗粒物。本发明的干燥装置(300)具备：干燥槽(320)，其具有壁(322)、用于向壁的内表面供给液体的液体供给口(334)及用于排出内部的液体的排出口(336)；多个喷嘴(340)，其用于向基板保持架(200)喷射气体；液体供给单元(312)，其用于从液体供给口向干燥槽的内部供给液体；气体供给单元(310)，其用于向多个喷嘴供给气体；控制装置(380)，控制装置控制液体供给单元和气体供给单元，使得在液体供给口向壁的内表面供给液体的期间，多个喷嘴向基板保持架或者基板(W)喷射气体。

Description

干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法
技术领域
本发明涉及干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法。
背景技术
为了在基板的表面形成金属薄膜，使用镀敷装置。存在镀敷装置具备基板干燥装置的情况。在这样的镀敷装置中，在对基板保持架所保持的基板的表面进行了镀敷处理之后，清洗基板。然后，通过基板干燥装置对基板进行干燥。
在专利文献1中记载了基板干燥装置的一例。在专利文献1中，如该图7所示，公开了具有干燥槽和位于干燥槽的内部的多个喷出喷嘴的基板干燥装置。而且，在该基板干燥装置中，多个喷出喷嘴构成为位于与基板对置的位置，朝向基板的表面喷出N2气体或空气等干燥气体。
根据专利文献1所记载的基板干燥装置，从干燥槽的内部的喷出喷嘴朝向基板保持架所保持的基板的表面依次喷出N2气体或空气等干燥气体。由此，该基板干燥装置能够除去附着于基板的表面的水滴并使其干燥。
专利文献1：日本特开2013-201172号公报
如上所述，在专利文献1所记载的基板干燥装置中，通过由喷出喷嘴朝向基板喷出干燥气体，而使基板干燥。而且，通过使向基板喷出的干燥气体也吹到保持基板的基板保持架，从而该基板干燥装置也使基板保持架干燥。此时，在颗粒物附着于基板或基板保持架的情况下，由于所喷出的干燥气体，故颗粒物飞散。于是，有飞散的颗粒物附着于干燥槽的内表面而污染干燥槽的内部之虞。另外，在被污染的干燥槽的内部使用喷出喷嘴的情况下，有附着于干燥槽的内表面的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板或基板保持架之虞。
发明内容
因此，本发明鉴于上述的课题，目的在于，提供干燥装置、基板处理装置和基板保持架的干燥方法，在基板保持架的干燥时能够除去在干燥槽的内部浮游的颗粒物，能够抑制附着于干燥槽的内表面的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板或基板保持架。
一个实施方式的干燥装置是用于使基板保持架干燥的干燥装置，具备：干燥槽，其用于收容上述基板保持架，具有壁和用于排出内部的液体的排出口；液体供给口，其用于向上述壁的内表面供给液体；多个喷嘴，其位于上述干燥槽的上述内部，用于向收容于上述干燥槽的上述基板保持架喷射气体；液体供给单元，其用于从上述液体供给口向上述干燥槽的上述内部供给液体；气体供给单元，其用于向上述多个喷嘴供给上述气体；以及控制装置，上述控制装置控制上述液体供给单元和上述气体供给单元，使得在上述液体供给口向上述壁的上述内表面供给液体的期间，上述多个喷嘴向上述基板保持架或者上述基板喷射气体。
根据本实施方式的干燥装置，控制装置控制液体供给单元和气体供给单元，使得在液体供给口向壁的内表面供给液体的期间，多个喷嘴向基板保持架喷射气体。即，在多个喷嘴向基板保持架喷射气体时，处于液体必须从液体供给口向干燥槽的内部的壁的内表面供给的状态。液体通过与干燥槽的内部的气体接触，能够捕捉在气体内浮游的颗粒物，能够抑制干燥槽的内部被污染。即，本实施方式的干燥装置能够在基板保持架的干燥时除去在干燥槽的内部浮游的颗粒物，能够抑制附着于干燥槽的内表面的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板或基板保持架。
一个实施方式的基板保持架的干燥方法是基板保持架的干燥方法，具有：喷射工序，多个喷嘴向收容于干燥槽的基板保持架喷射气体；以及液体供给工序，从液体供给口向上述干燥槽的内部的壁的内表面供给液体，该干燥方法中，在进行上述液体供给工序的期间，进行上述喷射工序。
根据本实施方式的基板保持架的干燥方法，在进行液体供给工序的期间，进行喷射工序。即，在多个喷嘴向基板保持架喷射气体时，必须处于液体从供给口向干燥槽的内部的壁的内表面供给的状态。液体通过与干燥槽的内部的气体接触，能够捕捉在气体内浮游的颗粒物，能够抑制干燥槽的内部被污染。即，在本实施方式的基板保持架的干燥方法中，能够除去在基板保持架的干燥时在干燥槽的内部浮游的颗粒物，能够抑制附着于干燥槽的内表面的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板或基板保持架。
附图说明
图1是具备第一实施方式的干燥装置的镀敷装置的整体配置图。
图2是第一实施方式的干燥装置的概略图。
图3是图2的A-A剖视图。
图4是表示图2所示的干燥装置的内部的剖面立体图。
图5是表示图2所示的干燥装置的内部的其他的剖面立体图。
图6是表示图2所示的干燥装置的动作时的、控制处理的一种顺序的流程图。
图7是表示与图2所示的干燥装置不同的实施方式的干燥装置的干燥槽的内部的剖视图。
附图标记说明：100…镀敷装置；162…镀敷槽；200…基板保持架；300…干燥装置；310…气体供给单元；312…液体供给单元；320…干燥槽；322…壁；324…底面；326、328、330、332…壁面；334…液体供给口；335…下端部；336…排出口；337…上表面；338…开口；340…喷嘴；350…液体调整阀；360…气体调整阀；380…控制装置；400…罩部件；401…空间；420a、420b…喷嘴保持板；422…壁；440a、440b…第一排气管道；441a、441b…第一排气口；442a、442b…气体吸引口；460…倾斜板；461…端部；480…第二排气管道；481…第二排气口；500…顶板；520…排气调整阀；540…气体加热装置；560…加热装置；580…液体加热装置；W…基板。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。另外，在以下说明的附图中，对相同或者相当的构成要素标注相同的附图标记而省略重复的说明。
图1是具备本实施方式的干燥装置300的镀敷装置100的整体配置图。若参照图1，镀敷装置100具备两台盒工作台102、对准器104、旋转洗涤干燥机106、基板输送装置108、基板装卸部120。作为一例，镀敷装置100为湿式且纵型的镀敷装置。镀敷装置100是基板处理装置的一例。
首先，对镀敷装置100的各构成要素进行说明。盒工作台102具有对收纳了半导体晶片等基板W的盒103进行搭载的功能。旋转洗涤干燥机106具有使进行过镀敷处理后的基板W高速旋转而使其干燥的功能。基板装卸部120具有两个载置板122。在基板装卸部120中，进行基板W相对于载置于载置板122的基板保持架200的装卸。
基板输送装置108配置在盒工作台102、对准器104、旋转洗涤干燥机106和基板装卸部120的中央。基板输送装置108具有在盒工作台102、对准器104、旋转洗涤干燥机106和基板装卸部120之间输送基板W的功能。作为一例，基板输送装置108由输送用机器人构成。
镀敷装置100还具备储料器124、预湿槽126、预浸槽128、第一清洗槽130a、干燥装置300、第二清洗槽130b和镀敷模块160。另外，在本实施方式中，镀敷装置100具备干燥装置300，但在本发明的其他的实施方式中，蚀刻装置、清洗装置等镀敷装置100以外的基板处理装置也可以具备干燥装置300。
在储料器124中，进行基板保持架200的保管和临时放置。预湿槽126保存纯水。在预湿槽126中，基板W浸泡于纯水，基板W的表面被润湿，由此基板W的亲水性变得良好。预浸槽128保存硫酸。预浸槽128具有通过硫酸来蚀刻除去在基板W的表面形成的种子层等导电层的表面的氧化膜的功能。第一清洗槽130a保持清洗液(纯水等)。第一清洗槽130a能够利用清洗液(纯水等)将预浸后的基板W与基板保持架200一同清洗。干燥装置300具备干燥槽320，具有进行清洗后的基板W和基板保持架200的除液的功能。另外，干燥装置300的详细的结构后述说明。第二清洗槽130b具有利用清洗液将镀敷后的基板W与基板保持架200一同清洗的功能。
作为一例，镀敷模块160包含：邻接的多个镀敷槽162、以及包围多个镀敷槽162的外周的溢流槽164。作为一例，各镀敷槽162具有在内部收纳一个基板W的功能。而且，在各镀敷槽162中，基板W浸泡于在镀敷槽162的内部保持的镀敷液中，由此对基板W的表面实施镀铜等镀敷。另外，预湿槽126、预浸槽128、第一清洗槽130a、干燥槽320、第二清洗槽130b、镀敷槽162能够称为处理槽180。即，处理槽180是用于对基板W进行处理的槽。
镀敷装置100还具备输送系统190。而且，输送系统190具备水平导轨192、第一输送器194a和第二输送器194b。另外，第一输送器194a和第二输送器194b具有相同的构造，能够分别简称为输送器194。输送系统190位于呈直线状排列的基板装卸部120、储料器124、预湿槽126、预浸槽128、第一清洗槽130a、干燥槽320、第二清洗槽130b和镀敷模块160的侧方。作为一例，在输送系统190上，采用直线马达方式。水平导轨192与呈直线状排列的各处理槽180邻接地呈直线状延伸。
作为一例，第一输送器194a构成为，在基板装卸部120、储料器124、预湿槽126、预浸槽128、第一清洗槽130a和干燥槽320之间输送基板保持架200。作为一例，第二输送器194b构成为，在第一清洗槽130a、第二清洗槽130b、干燥槽320和镀敷槽162之间输送基板保持架200。
接着，对图1所示的干燥装置300进行详细说明。图2是图1所示的干燥装置300的概略图，图3是图2的A-A剖视图。另外，图4是表示干燥装置300的内部的剖面立体图，图5是表示干燥装置300的内部的其他的剖面立体图。
若参照图2，作为一例，干燥装置300具备具有立方体的箱型形状的干燥槽320。干燥槽320具有收容基板保持架200的功能。另外，干燥槽320具有壁322和底面324。壁322具有在从上侧观察时形成矩形形状的四个壁面326、328、330、332(参照图2和图3)。另外，干燥槽320具有上表面337，为了使基板保持架200进入干燥槽320的内部，该上表面337具备长方形形状的开口338(参照图2和图4)。因此，在由输送器194悬挂的状态下所输送的基板保持架200能够从开口338进入干燥槽320的内部。此时，作为一例，如图2所示，仅基板保持架200和基板W的需要干燥的部分进入干燥槽320的内部。由此，这是因为，干燥装置300能够在干燥槽320的内部使需要干燥的部分干燥。另外，在本发明的其他的实施方式中，也可以是基板保持架200整体从开口338进入干燥槽320的内部。
另外，作为一例，干燥装置300具备位于干燥槽320的内部的多个喷嘴340和两张喷嘴保持板420a、420b(参照图3和图4)。两张喷嘴保持板420a、420b位于干燥槽320的内部，隔开用于配置基板保持架200的间隙地相互平行地配置。另外，两张喷嘴保持板420a、420b与四个壁面326、328、330、332中的相互平行的两个壁面330、332平行地配置。而且，多个喷嘴340的一部分安装于两张喷嘴保持板420a、420b中的一个喷嘴保持板420a，多个喷嘴340的剩余部分安装于另一个喷嘴保持板420b。
另外，干燥装置300还具备主气体供给管640、两根分支气体供给管660a、660b、气体加热装置540、用于测量两个气体的流量的流量计600以及两个气体调整阀360(参照图3)。
主气体供给管640构成从干燥装置300的外部的气体供给源900到分支点680为止的流路。而且，在分支点680处，主气体供给管640分支为两根分支气体供给管660a、660b。两根分支气体供给管660a、660b分别构成从分支点680到安装于喷嘴保持板420a、420b的对应的喷嘴340为止的流路。另外，气体供给源900具有供给干燥的气体的功能。在本实施方式中，作为一例，气体供给源900具有供给干燥的氮气的功能。由此，各喷嘴340能够喷射从气体供给源900供给的气体。另外，在本发明的其他的实施方式中，气体供给源900也可以供给氮气以外的干燥气体。
另外，各喷嘴340的喷射口朝向在干燥槽320的内部收容的基板保持架200或者基板保持架200所保持的基板W。因此，各喷嘴340能够向收容于干燥槽320的基板保持架200或者基板W喷射气体。而且，通过将气体向基板保持架200或者基板W喷射，从而基板保持架200和基板W干燥。
另外，在本实施方式中，多个喷嘴340中的至少一部分的喷嘴340经由摆头接头321安装于喷嘴保持板420a、420b(参照图4)。由此，各喷嘴340能够朝向希望干燥的部位喷射气体。另外，在本发明的其他的实施方式中，也可以是，干燥装置300不具备喷嘴保持板420a、420b，多个喷嘴340直接安装于干燥槽320。另外，多个喷嘴340也可以不经由摆头接头321地安装于喷嘴保持板420a、420b。
另外，在两根分支气体供给管660a、660b分别安装有用于对喷嘴340喷射的气体的流量进行调整的气体调整阀360和流量计600(参照图3)。因此，通过对气体调整阀360进行调整，各喷嘴340能够喷射适当的流量的气体。
另外，在主气体供给管640上安装有气体加热装置540。换言之，气体加热装置540与喷嘴340形成流体连通，位于喷嘴340的上游侧。作为一例，气体加热装置540是热交换器，具有对从喷嘴340向干燥槽320的内部喷射的气体进行加热的功能。因此，各喷嘴340能够向基板保持架200或者基板W喷射由气体加热装置540加热后的气体，能够使基板保持架200或基板W更快地干燥。另外，在本发明的其他的实施方式中，作为一例，气体加热装置540也可以构成为，将从喷嘴340向干燥槽320的内部喷射的气体加热到50度。
另外，在本实施方式中，作为一例，主气体供给管640、两根分支气体供给管660a、660b和两个气体调整阀360包含于气体供给单元310。然而，在本发明的其他的实施方式中，气体供给单元310也可以不具有主气体供给管640、两根分支气体供给管660a、660b和两个气体调整阀360，气体供给单元310只要具有用于向多个喷嘴340供给气体的结构即可。
另外，作为一例，干燥装置300还具备：两个罩部件400、主液体供给管720、两根分支液体供给管700a、700b、液体加热装置580、用于测量两个液体的流量的流量计620、两个液体调整阀350和液体供给口334(参照图2)。而且，液体供给口334分别形成于构成壁322的四个壁面326、328、330、332中与两张喷嘴保持板420a、420b垂直地延伸的两个壁面326、328。另外，作为一例，液体供给口334是位于比多个喷嘴340高的位置并具有长方形形状的开口(参照图5)。而且，液体供给口334具有在水平方向上延伸的下端部335。各罩部件400安装在干燥槽320的外侧，用以覆盖对应的液体供给口334。由此，形成由干燥槽320和各罩部件400围起的空间401。
主液体供给管720构成从干燥装置300的外部的液体供给源920到分支点740为止的流路(参照图2)。在分支点740处，主液体供给管720分支为两根分支液体供给管700a、700b。两根分支液体供给管700a、700b分别构成从分支点740到对应的空间401为止的流路。另外，液体供给源920具有供给液体的功能。在本实施方式中，作为一例，液体供给源920具有供给水的功能。由此，将液体从液体供给源920向空间401供给。其结果为，流入到空间401的液体构成积液，构成积液的液体通过液体供给口334，向干燥槽320的内部供给。供给到干燥槽320的内部的液体沿着壁322的内表面流动。换言之，液体供给口334向壁322的内表面供给液体。
另外，在两根分支液体供给管700a、700b上分别安装有液体调整阀350和流量计620。由此，通过调整液体调整阀350，而调整向空间401供给的液体的流量，结果为，调整向干燥槽320的内部供给的液体的流量。
另外，在主液体供给管720上安装有液体加热装置580。换言之，液体加热装置580与液体供给口334形成流体连通，位于液体供给口334的上游侧。作为一例，液体加热装置580是热交换器，具有对从液体供给口334供给到干燥槽320的内部的液体进行加热的功能。由此，从液体供给口334向干燥槽320的内部供给加热后的液体。因此，干燥槽320的内部的温度上升，干燥槽320的内部成为液体容易蒸发的环境。其结果为，在后述的干燥装置300的动作时，干燥装置300能够使附着于基板W或基板保持架200的液体更快地蒸发。另外，在本发明的其他的实施方式中，作为一例，液体加热装置580也可以构成为，将供给到干燥槽320的内部的液体加热到50度。
另外，在本实施方式中，作为一例，两个罩部件400、主液体供给管720、两根分支液体供给管700a、700b和两个液体调整阀350包含于液体供给单元312。然而，在本发明的其他的实施方式中，液体供给单元312也可以不具有两个罩部件400、主液体供给管720、两根分支液体供给管700a、700b和两个液体调整阀350，液体供给单元312只要具有用于从液体供给口334向干燥槽320的内部供给液体的结构即可。
另外，作为一例，干燥槽320在底面324具有用于将干燥槽320的内部的液体排出的两个排出口336(参照图2)。在各排出口336上分别连接有排放配管930，各个排放配管930与安装有镀敷装置100的工厂内的排水部(省略图示)形成流体连通。由此，从液体供给口334供给到干燥槽320的内部的液体通过排出口336向工厂内的排水部输送。
另外，作为一例，干燥装置300还具备两个第一排气管道440a、440b和两个倾斜板460(参照图2)。第一排气管道440a、440b分别贯通干燥槽320的壁322而与干燥槽320的内部进行流体连通。另外，第一排气管道440a、440b具有第一排气口441a、441b。第一排气口441a、441b位于干燥槽320的内部且壁322的比液体供给口334靠下侧。而且，第一排气管道440a、440b与工厂的排气部(省略图示)连接。由此，干燥槽320的内部的气体通过第一排气口441a、441b而向工厂的排气部排气。
各个倾斜板460的端部461固定在壁322的比第一排气口441a、441b靠上侧处，以随着趋向干燥槽320的下侧而远离壁322的方式倾斜。由此，倾斜板460抑制从液体供给口334供给的液体碰到第一排气管道440a、440b，结果为，抑制液体进入第一排气口441a、441b。
另外，如图1所示，第一排气管道440a、440b的局部在各处理槽180的旁边沿着处理槽180排列的方向延伸。而且，第一排气管道440a、440b具有多个气体吸引口442a、442b。由此，第一排气管道440a、440b还能够经由多个气体吸引口442a、442b吸引镀敷装置100的周围的气体。在利用镀敷装置100进行处理的情况下，产生颗粒物，该颗粒物会飞散。另外，由于在镀敷槽162的镀敷液气化形成的气体中包含各种成分，因此不优选向大气中扩散。然而，该颗粒物或气化形成的气体从气体吸引口442a、442b被吸引到第一排气管道440a、440b。即，镀敷装置100能够减少颗粒物的飞散和镀敷液气化后的气体向大气中的扩散。
另外，干燥装置300还具备第二排气管道480、顶板500和排气调整阀520(参照图2)。第二排气管道480贯通于干燥槽320的底面324，与干燥槽320的内部进行流体连通。另外，第二排气管道480具有位于干燥槽320的内部且朝上开口的第二排气口481。而且，第二排气口481为了抑制液体进入第二排气管道480，位于比排出口336高的位置。顶板500位于第二排气口481的上侧，抑制从第二排气口481的上方落下的液体流入第二排气口481。另外，如图1所示，第二排气管道480的局部通过处理槽180的下部，与工厂的排气部(省略图示)连接。由此，干燥槽320的内部的气体通过第二排气口481而向工厂的排气部排气。
另外，在本实施方式中，第二排气管道480构成为，从第二排气口481吸引气体以使干燥槽320的内部为-80kPa以下。因此，在后述的干燥装置300的动作时，干燥装置300能够使干燥槽320的内部成为-80kPa以下的负压。这里，一般地，气压越是下降则液体越是容易蒸发。因此，在干燥装置300的动作时，干燥槽320的内部为-80kPa以下，由此基板保持架200或基板W更快地干燥。另外，在本发明的其他的实施方式中，第二排气管道480也可以构成为，从第二排气口481吸引气体以使干燥槽320的内部成为负压。
另外，第二排气管道480在比第二排气口481靠下游侧处不与第一排气管道440a、440b形成流体连通。如上所述，在从喷嘴340对干燥槽320供给气体时，为了使干燥槽320的内部成为负压，使干燥槽320的内部成为液体容易蒸发的环境，使干燥槽320的内部的气体被从第二排气口481吸引。因此，需要从第二排气口481每单位时间吸引比较大量的气体。与此相对，气体吸引口442a、442b是用于对颗粒物和镀敷液气化形成的气体进行吸引的开口。因此，每单位时间从气体吸引口442a、442b吸引的气体不需要大量到像从第二排气口481吸引的气体那种程度。因此，存在从气体吸引口442a、442b吸引的气体的量与从第二排气口481吸引的气体的量明显不同这种情况。
这里，在从单一的管道的各开口吸引的气体的量明显不同的情况下，一般很难调整各开口的气体的吸引量。因此，假设在第二排气管道480在比第二排气口481靠下游侧处与第一排气管道440a、440b形成流体连通的情况下，很难分别独立地调整从第二排气口481吸引的气体的量和从气体吸引口442a、442b吸引的气体的量。因此，有可能无法从第二排气口481和气体吸引口442a、442b以期望的流量吸引气体。但是，在本实施方式中，如上所述，第二排气管道480在比第二排气口481靠下游侧处不与第一排气管道440a、440b形成流体连通。因此，作业者能够以期望的流量，使第二排气口481和气体吸引口442a、442b吸引气体。
另外，具有调整被吸引到第二排气口481的气体的流量的功能的排气调整阀520安装于第二排气管道480(参照图2)。因此，作业者能够仅在需要时，从第二排气口481吸引气体。
另外，上述的排出口336位于在气体受第二排气口481吸引时使吸至第二排气口481的液体能够排出(参照图2)那样的接近第二排气口481的位置。由此，从液体供给口334供给到干燥槽320的内部的液体容易从排出口336排出，不容易在干燥槽320的底面324形成积液。这是因为，在气体被从第二排气口481吸引时干燥槽320的内部的液体被吸至第二排气口481，该液体被从排出口336排出。
另外，作为一例，第一排气管道440a、440b具有手动的调整阀443a、443b。因此，作业者通过对调整阀443a、443b进行调整，能够调整被吸引到第一排气口441a、441b的气体的流量。其结果为，在干燥槽320的内部的气体从第一排气口441a、441b和第二排气口481双方排气时，作业者能够调整从第一排气口441a、441b排气的气体的量与从第二排气口481排气的气体的量间的平衡。
另外，干燥装置300还具备用于对干燥槽320的内部的气体进行加热的两个加热装置560(参照图3)。作为一例，加热装置560是电热板，分别配置在喷嘴保持板420a、420b与壁面330、332之间。由此，在后述的干燥装置300的动作时，加热装置560能够对干燥槽320的内部的气体进行加热，能够使干燥槽320的内部成为液体容易蒸发的环境。其结果为，在后述的干燥装置300的动作时，干燥装置300能够使附着于基板W或基板保持架200的液体更快地蒸发。另外，在本发明的其他的实施方式中，作为一例，加热装置560也可以构成为，将干燥槽320的内部的气体加热到50度。
另外，干燥装置300具备用于对气体供给单元310、液体供给单元312和排气调整阀520进行控制的控制装置380。更具体而言，控制装置380控制在液体供给单元312中包含的液体调整阀350和在气体供给单元310中包含的气体调整阀360。
接着，参照图6，对干燥装置300的从在干燥槽320的内部未收容基板保持架200的状态(初始状态)开始的动作进行说明。这里，图6是表示干燥装置300的动作时的控制处理的一种顺序的流程图。另外，在初始状态下，液体调整阀350、气体调整阀360和排气调整阀520关闭。
在镀敷装置100的第二清洗槽130b中，若基于既知方法的基板W的表面清洗结束，则第二输送器194b把持基板保持架200，而将它从第二清洗槽130b向干燥槽320输送(参照图1)。此时，基板保持架200在悬挂的状态下，从干燥槽320的上表面337的开口338进入干燥槽320的内部。而且，基板保持架200配置在干燥槽320的规定的位置。然后，若检测到配置有基板保持架200，则干燥装置300开始动作。
首先，在步骤S110中，控制装置380将液体调整阀350打开。由此，液体向空间401供给。而且，流入到空间401的液体构成积液，构成积液的液体通过液体供给口334，向干燥槽320的内部供给。
接下来，在步骤S120中，控制装置380将排气调整阀520打开。由此，干燥槽320的内部的气体被从第二排气口481吸引到第二排气管道480。其结果为，如上所述，干燥槽320的内部的气压下降，干燥装置300能够使基板保持架200或基板W更快地干燥。
接下来，在步骤S130中，控制装置380将气体调整阀360打开。由此，各喷嘴340朝向基板保持架200或者基板W喷射气体，使基板保持架200和基板W干燥。
接下来，在步骤S140中，控制装置380关闭气体调整阀360。由此，多个喷嘴340的气体的喷射停止。
接下来，在步骤S150中，控制装置380关闭排气调整阀520。
接下来，在步骤S160中，控制装置380关闭液体调整阀350。由此，停止液体的从液体供给口334对干燥槽320内部的供给。以上是干燥装置300的动作的说明。
根据上述的干燥装置300的动作的说明可知，控制装置380控制液体供给单元312和气体供给单元310，使得在液体供给口334向壁322的内表面供给液体的期间，多个喷嘴340向基板保持架200或者基板W喷射气体。即，在干燥装置300中，在各喷嘴340向基板保持架200或者基板W喷射气体时，将液体从液体供给口334向干燥槽320的内部的壁322的内表面供给。因此，在喷嘴340喷射气体时，即使附着于基板保持架200或者基板W的颗粒物飞散，通过使从液体供给口334供给的液体与干燥槽320的内部的气体接触，也能够捕捉在气体内浮游的颗粒物。其结果为，在干燥装置300中，抑制颗粒物向干燥槽320的内部的附着，抑制由于干燥槽320的内部的颗粒物引起的污染。另外，抑制颗粒物向干燥槽320的内部的附着，因此还抑制附着于干燥槽320的内部的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板W或基板保持架200。
另外，一般地，若气体中包含的颗粒物附着于壁面，则颗粒物有可能蓄积于壁面。并且，若颗粒物牢固地附着于壁面，则有时很难用液体冲洗所附着的颗粒物。与此相对，在干燥装置300中，构成积液的液体以从液体供给口334溢出的方式向干燥槽320的内部供给。此时，液体供给口334具有在水平方向上延伸的下端部335(参照图5)，因此供给到干燥槽320的内部的液体像具有某程度宽度的瀑布那样，一边沿着干燥槽320的壁面326、328一边流动。因此，液体抑制包含颗粒物的气体与干燥槽320的壁面326、328接触。即，干燥装置300能够抑制气体中包含的颗粒物向壁面326、328的附着和颗粒物向壁面326、328的蓄积。
另外，图7是表示本发明的其他的实施方式的干燥槽320的内部的剖视图。如上所述，图2所示的液体供给口334是形成于壁322的开口。与此相对，图7所示的液体供给口334是与壁322的内表面对置地设置的液体供给喷嘴333的喷射口。在该情况下也是，液体供给口334能够向壁322的内表面供给液体，能够在该内表面形成液膜。而且，干燥装置300能够抑制颗粒物向干燥槽320的内部的附着，还能够抑制附着于干燥槽320的内部的颗粒物再次飞散，附着于其他的基板W或基板保持架200。
另外，干燥装置300具有开口338。因此，若喷嘴340喷射气体，则干燥槽320的内部的气体从开口338排出到外部。因此，假设在喷嘴340喷射气体时，未进行颗粒物的除去的情况下，更多的颗粒物从开口338向干燥槽320的外部飞散，有可能污染干燥槽320的周围。然而，如上所述，干燥装置300在喷嘴340喷射气体时进行颗粒物的除去。其结果为，从开口338向干燥槽320的外部飞散的颗粒物的量减少。
另外，如上所述，在干燥装置300中，多个喷嘴340安装于两张喷嘴保持板420a、420b，各喷嘴340朝向配置在两张喷嘴保持板420a、420b之间的基板保持架200或者基板W喷射气体。因此，从多个喷嘴340喷射的气体通过两张喷嘴保持板420a、420b之间，向喷嘴保持板420a、420b的板面扩展的方向流出。而且，与喷嘴保持板420a、420b垂直地延伸的两个壁面326、328位于所流出的气体朝向的地方。在该两个壁面326、328上分别形成有液体供给口334。即，通过两张喷嘴保持板420a、420b之间流出的气体被猛烈地喷出到将液体向干燥槽320供给的部分。因此，更多的气体与液体接触，在气体内浮游的更多的颗粒物被液体除去。
另外，液体供给口334位于比多个喷嘴340高的位置。因此，与液体供给口334位于比多个喷嘴340低的位置的情况相比，液体在比干燥槽320的内部更大的范围内移动。其结果为，更多的气体能够与液体接触，在气体内浮游的更多的颗粒物被液体除去。
另外，在干燥装置300中，在使附着于基板W或基板保持架200的液体干燥时将排气调整阀520打开，除了此时以外，将排气调整阀520关闭。因此，干燥槽320的内部的气体仅在需要时被从第二排气口481吸引到第二排气管道480，不需要总是从干燥槽320排气庞大量的气体，干燥装置300能够抑制实用的使用量。
另外，干燥装置300也可以仅使未保持基板W的基板保持架200干燥。并且，在其他的实施方式中，干燥装置300也可以仅清洗在干燥槽320的内部未保持基板W的基板保持架200，然后使该基板保持架200干燥，或者也可以使由另外设置的基板保持架清洗装置清洗后的基板保持架200干燥。
[附录]
上述的实施方式的一部分或者全部能够像以下的附录那样记载，但不限于以下。
(附录1)
附录1的干燥装置是用于使基板保持架干燥的干燥装置，其中，该干燥装置具备：干燥槽，其用于收容所述基板保持架，具有壁和用于排出内部的液体的排出口；液体供给口，其用于向上述壁的内表面供给液体；多个喷嘴，其位于上述干燥槽的上述内部，用于向收容于上述干燥槽的上述基板保持架喷射气体；液体供给单元，其用于从上述液体供给口向上述干燥槽的上述内部供给液体；气体供给单元，其用于向上述多个喷嘴供给上述气体；以及控制装置，上述控制装置控制上述液体供给单元和上述气体供给单元，使得在上述液体供给口向上述壁的上述内表面供给液体的期间，上述多个喷嘴向上述基板保持架或者上述基板喷射气体。
在干燥槽的内部，在喷嘴向基板保持架喷射气体而使基板保持架干燥的情况下，附着于基板保持架或由基板保持架保持的基板的颗粒物飞散而附着于干燥槽的内表面，会污染干燥槽的内部。而且，在被污染的干燥槽的内部，喷嘴使基板保持架干燥的情况下，附着于内表面的颗粒物会再次飞散而污染基板保持架或基板。
与此相对，根据附录1所记载的干燥装置，控制装置控制液体供给单元和气体供给单元，使得在液体供给口向壁的内表面供给液体的期间，多个喷嘴向基板保持架喷射气体。即，在多个喷嘴向基板保持架喷射气体时，必须处于液体从液体供给口向干燥槽的内部的壁的内表面供给的状态。液体通过与干燥槽的内部的气体接触，能够捕捉在气体内浮游的颗粒物，能够抑制干燥槽的内部被污染。即，附录1的干燥装置能够除去在基板保持架的干燥时在干燥槽的内部浮游的颗粒物，能够抑制附着于干燥槽的内表面的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板或基板保持架。
(附录2)
在附录2的干燥装置中，根据附录1所记载的干燥装置，上述液体供给口形成于上述壁，具有在水平方向上延伸的下端部，上述液体供给单元具备安装在上述干燥槽外侧的罩部件，用以覆盖上述液体供给口，形成有由上述干燥槽和上述罩部件围起的空间，流入到该空间的液体构成积液，构成该积液的液体通过上述液体供给口，向上述干燥槽的上述内部供给。
若气体中包含的颗粒物附着于壁面，则颗粒物有可能蓄积于壁面。另外，存在若颗粒物牢固地附着于壁面，则很难用液体冲洗所附着的颗粒物这种情况。
与此相对，根据附录2所记载的干燥装置，构成积液的液体以从液体供给口溢出的方式向干燥槽的内部供给。此时，由于液体供给口具有在水平方向上延伸的下端部，因此供给到干燥槽的内部的液体像具有某程度宽度的瀑布那样，一边沿着干燥槽的壁面一边流动。因此，液体抑制包含颗粒物的气体与干燥槽的壁面接触。即，该干燥装置能够抑制气体中包含的颗粒物向壁面的附着以及颗粒物向壁面的蓄积。
(附录3)
在附录3的干燥装置中，根据附录1或2所述的干燥装置，上述干燥槽具有上表面，该上表面具备用于使上述基板保持架进入上述内部的开口。
在附录3所记载的干燥装置中，基板保持架能够从干燥槽上表面的开口进入干燥槽的内部。这里，在干燥装置具有开口的情况下，在喷射气体时，有附着于基板保持架或者基板的颗粒物从开口飞散，可能污染干燥槽周边之虞。与此相对，附录3所记载的干燥装置在喷嘴向基板保持架喷射气体时，液体从液体供给口向干燥槽的内部供给。因此，在气体向基板保持架喷射时，干燥槽的内部的颗粒物被液体除去。即，该干燥装置能够减少从开口飞散到干燥槽的外部的颗粒物的量。
(附录4)
根据附录1至3中任一项所记载的干燥装置，附录4的干燥装置还具备两张喷嘴保持板，该两张喷嘴保持板位于上述干燥槽的上述内部，隔开用于配置上述基板保持架的间隙地相互平行地配置，上述壁具有在从上侧观察时形成矩形形状的四个壁面，上述两张喷嘴保持板与上述四个壁面中的相互平行的两个壁面平行地配置，上述多个喷嘴的一部分安装于上述两张喷嘴保持板中的一张喷嘴保持板，上述多个喷嘴的剩余部分安装于上述两张喷嘴保持板中的另一张喷嘴保持板，在上述四个壁面中的与上述喷嘴保持板垂直地延伸的两个壁面分别形成有上述液体供给口。
在附录4所记载的干燥装置中，从多个喷嘴喷射的气体通过两张喷嘴保持板之间，向喷嘴保持板的板面扩展的方向流出。而且，与喷嘴保持板垂直地延伸的两个壁面位于所流出的气体朝向的地方，在该两个壁面分别形成有液体供给口。即，通过两张喷嘴保持板之间流出的气体被猛烈地喷出到将液体向干燥槽供给的部分。因此，更多的气体与液体接触，在气体内浮游的更多的颗粒物被液体除去。
(附录5)
在附录5的干燥装置中，根据附录1至4中任一项所记载的干燥装置，上述液体供给口位于比上述多个喷嘴高的位置。
从液体供给口供给到干燥槽的内部的液体遵从于重力而从干燥槽的上侧朝向下侧流动。根据附录5所记载的干燥装置，液体供给口位于比多个喷嘴高的位置，因此，与液体供给口位于比多个喷嘴低的位置的情况相比，液体在干燥槽的内部的更大的范围内移动。因此，更多的气体能够与液体接触，在气体内浮游的更多的颗粒物被液体除去。
(附录6)
根据附录1至5中任一项所记载的干燥装置，附录6的干燥装置还具备：第一排气管道，其具有位于比上述液体供给口靠下侧处的用于将上述干燥槽的上述内部的气体排气的第一排气口；以及倾斜板，其端部固定在上述壁的比上述第一排气口靠上侧处，以随着趋向上述干燥槽的下侧而远离上述壁的方式倾斜。
在附录6所记载的干燥装置中，第一排气口能够将喷嘴喷射的气体排气。另外，倾斜板能够抑制液体供给口供给的液体进入第一排气口。
(附录7)
根据附录1至6中任一项所记载的干燥装置，附录7的干燥装置还具备第二排气管道，该第二排气管道具有用于吸引上述干燥槽的上述内部的气体的第二排气口，以使上述干燥槽的上述内部成为负压。
一般地，气压越是下降，则液体越是容易蒸发。附录7所记载的干燥装置能够使干燥槽的内部成为负压。因此，该干燥装置能够使基板保持架和由基板保持架保持的基板更快地干燥。
(附录8)
在附录8的干燥装置中，根据附录7所记载的干燥装置，上述干燥槽的上述内部的气体受上述第二排气口吸引而使上述干燥槽的上述内部成为-80kPa以下。
附录8所记载的干燥装置能够使干燥槽的内部成为-80kPa以下。因此，该干燥装置与只能使干燥槽的内部成为接近0kPa的负压的干燥装置相比，能够更快地使基板保持架和基板保持架所保持的基板干燥。
(附录9)
在附录9的干燥装置中，根据附录7或者8所记载的干燥装置，上述第二排气管道贯通上述干燥槽的底面而与上述干燥槽的上述内部形成流体连通。
在排气管道贯通干燥槽的侧面而与干燥槽的内部形成流体连通的情况下，需要在干燥槽的旁边配置排气管道的空间，导致干燥装置的占用面积增加。然而，在附录9所记载的干燥装置中，由于第二排气管道贯通底面，因此不需要在干燥槽的旁边配置排气管道的空间，占用面积不会增加。
(附录10)
在附录10的干燥装置中，根据附录9所记载的干燥装置，上述第二排气口位于比上述排出口高的位置，该干燥装置在上述第二排气口的上侧具备顶板。
根据附录10所记载的干燥装置，由于第二排气口位于比用于将干燥槽的内部的液体排出的排出口高的位置，因而液体不容易流入第二排气口。另外，由于在第二排气口的上侧存在顶板，因此从第二排气口的上方落下的液体也不容易流入第二排气口。
(附录11)
根据附录7至10中任一项所记载的干燥装置，附录11的干燥装置还具备排气调整阀，该排气调整阀用于调整受上述第二排气口吸引的气体的流量。
通过附录11所记载的干燥装置将排气调整阀开闭，从而作业者能够仅在必要时，将干燥槽的内部的气体从第二排气口向外部排气。
(附录12)
在附录12的干燥装置中，根据附录10或者11所记载的干燥装置，上述排出口形成在上述干燥槽的底面，并且位于能够将在气体受上述第二排气口吸引时被吸至上述第二排气口的液体排出那样的接近上述第二排气口的位置。
在附录12所记载的干燥装置中，在气体被从第二排气口吸引时，干燥槽的内部的液体被吸至第二排气口。而且，排出口位于能够将被吸至第二排气口的液体排出的位置。因此，从液体供给口向干燥槽的内部供给的液体容易从排出口排出，不容易在干燥槽的底面形成积液。
(附录13)
根据附录1至12中任一项所记载的干燥装置，附录13的干燥装置还具备气体加热装置，该气体加热装置与上述喷嘴形成流体连通，位于上述喷嘴的上游侧。
在附录13所记载的干燥装置中，喷嘴能够向基板保持架喷射由气体加热装置加热后的气体。因此，该基板保持架更快地干燥。
(附录14)
根据附录1至13中任一项所记载的干燥装置，附录14的干燥装置还具备加热装置，该加热装置用于加热上述干燥槽的上述内部的气体。
在附录14所记载的干燥装置中，由于干燥槽的内部的气体被加热，因此干燥槽的内部的温度上升，干燥槽的内部的液体更快地蒸发。因此，该基板保持架回收装置能够使收容于干燥槽的基板保持架或者基板更快地干燥。
(附录15)
根据附录1至14中任一项所记载的干燥装置，附录15的干燥装置还具备液体加热装置，该液体加热装置与上述液体供给口形成流体连通，位于上述液体供给口的上游侧。
在附录15所记载的干燥装置中，从液体供给口向干燥槽的内部供给液体受加热得到的液体。因此，干燥槽的内部的温度上升，附着于干燥槽的内部的基板或者基板保持架的液体更快地蒸发。即，该干燥装置能够使收容于干燥槽的基板保持架或者基板更快地干燥。
(附录16)
附录16的基板处理装置具备附录1至15中任一项所记载的干燥装置。
附录16所记载的基板处理装置能够使用干燥装置而使基板保持架干燥。另外，该干燥装置能够像上述那样在基板保持架的干燥时除去在气体内浮游的颗粒物。
(附录17)
根据从属于附录6和附录7的附录16所记载的基板处理装置，附录17的基板处理装置具备用于保存镀敷液的镀敷槽，上述第一排气管道具有多个气体吸引口，从上述多个气体吸引口吸引上述基板处理装置的周围的气体。
若利用基板处理装置进行处理，则产生颗粒物，该颗粒物会飞散。另外，由于在镀敷槽的镀敷液气化后的气体中包含各种成分，因此不优选向大气中扩散。
在附录17所记载的基板处理装置中，从多个气体吸引口吸引基板处理装置的周围的空气。即，从多个气体吸引口吸引颗粒物和镀敷液气化得到的气体。其结果为，该基板处理装置能够减少颗粒物的飞散和镀敷液气化得到的气体向大气中的扩散。
(附录18)
在附录18的基板处理装置中，根据附录17所记载的基板处理装置，上述第二排气管道在比上述第二排气口靠下游侧处不与上述第一排气管道形成流体连通。
为了使干燥槽的内部成为负压，使干燥槽的内部成为液体容易蒸发的环境，第二排气管道的第二排气口吸引干燥槽的内部的气体。另外，从喷嘴向干燥槽供给气体。因此，需要从第二排气口每单位时间吸引比较大量的气体。与此相对，气体吸引口是用于吸引颗粒物和镀敷液气化得到的气体的开口。因此，每单位时间从气体吸引口吸引的气体不需要像从第二排气口吸引的气体那样程度地大量，根据情况，从气体吸引口吸引的气体的量与从第二排气口吸引的气体的量有时明显不同。
这里，在从管道的各开口吸引的气体的量明显不同的情况下，一般很难调整各开口的气体的吸引量。因此，假设在第二排气管道在比第二排气口靠下游侧处与第一排气管道进行流体连通的情况下，很难分别独立地调整从第二排气口吸引的气体的量和从气体吸引口吸引的气体的量，有时不能从各开口以期望的流量吸引气体。然而，在附录18所记载的基板处理装置中，第二排气管道在比第二排气口靠下游侧处不与第一排气管道形成流体连通。因此，该基板处理装置能够使第二排气口和气体吸引口以期望的流量吸引气体。
(附录19)
附录19的基板保持架的干燥方法是基板保持架的干燥方法，具有：喷射工序，多个喷嘴向收容于干燥槽的基板保持架喷射气体；以及液体供给工序，从液体供给口向上述干燥槽的内部的壁的内表面供给液体，在进行上述液体供给工序的期间，进行上述喷射工序。
根据附录19所记载的基板保持架的干燥方法，在进行液体供给工序的期间，进行喷射工序。即，在多个喷嘴向基板保持架喷射气体时，必须处于液体从液体供给口向干燥槽的内部的壁的内表面供给的状态。液体通过与干燥槽的内部的气体接触，能够捕捉在气体内浮游的颗粒物，能够抑制干燥槽的内部被污染。即，在附录19的基板保持架的干燥方法中，能够在基板保持架的干燥时除去在干燥槽的内部浮游的颗粒物，能够抑制附着于干燥槽的内表面的颗粒物再次飞散而附着于其他的基板或基板保持架。
以上，仅对本发明的几个实施方式进行了说明，但本领域技术人员能够容易地理解在实质上不脱离本发明的新的示教或优点的情况下，能够对例示的实施方式进行多种变更或改良。因此，期望进行了这样的变更或改良的方式也包含在本发明的技术范围内。另外，也可以任意组合上述实施方式。

Claims (19)

1.一种干燥装置，用于使基板保持架干燥，其中，该干燥装置具备：
干燥槽，其用于收容所述基板保持架，具有壁和用于排出内部的液体的排出口；
液体供给口，其用于向所述壁的内表面供给液体；
多个喷嘴，其位于所述干燥槽的所述内部，用于向收容于所述干燥槽的所述基板保持架喷射气体；
液体供给单元，其用于从所述液体供给口向所述干燥槽的所述内部供给液体；
气体供给单元，其用于向所述多个喷嘴供给所述气体；以及
控制装置，
所述控制装置控制所述液体供给单元和所述气体供给单元，使得在所述液体供给口向所述壁的所述内表面供给液体的期间，所述多个喷嘴向所述基板保持架或者所述基板保持架所保持的基板喷射气体，
所述排出口配置于比所述基板保持架的下端以及所述基板的下端靠下方，
所述液体供给口配置于比所述排出口靠上方。
2.根据权利要求1所述的干燥装置，其中，
所述液体供给口形成于所述壁，具有在水平方向上延伸的下端部，
所述液体供给单元具备安装在所述干燥槽的外侧的罩部件，用以覆盖所述液体供给口，
形成有由所述干燥槽和所述罩部件围起的空间，流入到该空间的液体构成积液，构成该积液的液体通过所述液体供给口而向所述干燥槽的所述内部供给。
3.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
所述干燥槽具有上表面，该上表面具备用于使所述基板保持架进入所述内部的开口。
4.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备两张喷嘴保持板，该两张喷嘴保持板位于所述干燥槽的所述内部，隔开用于配置所述基板保持架的间隙地相互平行地配置，
所述壁具有在从上侧观察时形成矩形形状的四个壁面，
所述两张喷嘴保持板与所述四个壁面中的相互平行的两个壁面平行地配置，
所述多个喷嘴的一部分安装于所述两张喷嘴保持板中的一张喷嘴保持板，
所述多个喷嘴的剩余部分安装于所述两张喷嘴保持板中的另一张喷嘴保持板，
在所述四个壁面中的与所述喷嘴保持板垂直地延伸的两个壁面分别形成有所述液体供给口。
5.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
所述液体供给口位于比所述多个喷嘴高的位置。
6.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备：
第一排气管道，其具有位于比所述液体供给口靠下侧处的用于将所述干燥槽的所述内部的气体排气的第一排气口；以及
倾斜板，其端部固定在所述壁的比所述第一排气口靠上侧处，以随着趋向所述干燥槽的下侧而远离所述壁的方式倾斜。
7.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备第二排气管道，该第二排气管道具有用于吸引所述干燥槽的所述内部的气体的第二排气口，以使所述干燥槽的所述内部成为负压。
8.根据权利要求7所述的干燥装置，其中，
所述干燥槽的所述内部的气体受所述第二排气口吸引而使所述干燥槽的所述内部成为-80kPa以下。
9.根据权利要求7所述的干燥装置，其中，
所述第二排气管道贯通所述干燥槽的底面而与所述干燥槽的所述内部进行流体连通。
10.根据权利要求9所述的干燥装置，其中，
所述第二排气口位于比所述排出口高的位置，
该干燥装置在所述第二排气口的上侧具备顶板。
11.根据权利要求7所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备排气调整阀，该排气调整阀用于调整受所述第二排气口吸引的气体的流量。
12.根据权利要求7所述的干燥装置，其中，
所述排出口形成在所述干燥槽的底面，并且位于接近所述第二排气口的位置，以使得能够将在气体受所述第二排气口吸引时被吸至所述第二排气口的液体排出。
13.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备气体加热装置，该气体加热装置与所述喷嘴形成流体连通，位于所述喷嘴的上游侧。
14.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备加热装置，该加热装置用于加热所述干燥槽的所述内部的气体。
15.根据权利要求1或2所述的干燥装置，其中，
该干燥装置还具备液体加热装置，该液体加热装置与所述液体供给口形成流体连通，位于所述液体供给口的上游侧。
16.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置具备权利要求1或2所述的干燥装置。
17.根据权利要求16所述的基板处理装置，其中，
所述干燥装置还具备第一排气管道，该第一排气管道具有位于比所述液体供给口靠下侧处的用于将所述干燥槽的所述内部的气体排气的第一排气口，
所述基板处理装置具备用于保存镀敷液的镀敷槽，
所述第一排气管道具有多个气体吸引口，
从所述多个气体吸引口吸引所述基板处理装置的周围的气体。
18.根据权利要求17所述的基板处理装置，其中，
所述干燥装置还具备第二排气管道，该第二排气管道具有用于吸引所述干燥槽的所述内部的气体的第二排气口，以使所述干燥槽的所述内部成为负压，
所述第二排气管道在比所述第二排气口靠下游侧处不与所述第一排气管道进行流体连通。
19.一种基板保持架的干燥方法，其具有：
喷射工序，多个喷嘴向收容于干燥槽的基板保持架喷射气体；
液体供给工序，从液体供给口向所述干燥槽的内部的壁的内表面供给液体；以及
从配置于比所述基板保持架的下端以及所述基板的下端靠下方的排出口排出所述液体的工序，
在进行所述液体供给工序的期间，进行所述喷射工序。
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