CN113148566A - 回转式输送机运输轮、基底载体和方法 - Google Patents
回转式输送机运输轮、基底载体和方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113148566A CN113148566A CN202110074712.8A CN202110074712A CN113148566A CN 113148566 A CN113148566 A CN 113148566A CN 202110074712 A CN202110074712 A CN 202110074712A CN 113148566 A CN113148566 A CN 113148566A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate carrier
- locking
- rotary conveyor
- coupling
- transport wheel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 304
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 67
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 310
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 310
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 309
- 230000013011 mating Effects 0.000 claims description 81
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 41
- 230000008569 process Effects 0.000 description 34
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 29
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 9
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 6
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 4
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- -1 oxides (e.g. Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJLPSBMDOIVXSN-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 KJLPSBMDOIVXSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009991 scouring Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G23/00—Driving gear for endless conveyors; Belt- or chain-tensioning arrangements
- B65G23/02—Belt- or chain-engaging elements
- B65G23/14—Endless driving elements extending parallel to belt or chain
- B65G23/16—Endless driving elements extending parallel to belt or chain with dogs engaging abutments on belts or chains
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H27/00—Special constructions, e.g. surface features, of feed or guide rollers for webs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G29/00—Rotary conveyors, e.g. rotating discs, arms, star-wheels or cones
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G41/00—Supporting frames or bases for conveyors as a whole, e.g. transportable conveyor frames
- B65G41/006—Supporting frames or bases for conveyors as a whole, e.g. transportable conveyor frames with the conveyor not adjustably mounted on the supporting frame or base
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H20/00—Advancing webs
- B65H20/02—Advancing webs by friction roller
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0297—Wafer cassette
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H2301/00—Handling processes for sheets or webs
- B65H2301/40—Type of handling process
- B65H2301/44—Moving, forwarding, guiding material
- B65H2301/443—Moving, forwarding, guiding material by acting on surface of handled material
- B65H2301/4432—Moving, forwarding, guiding material by acting on surface of handled material by means having an operating surface contacting only one face of the material, e.g. roller
- B65H2301/44324—Rollers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H2701/00—Handled material; Storage means
- B65H2701/10—Handled articles or webs
- B65H2701/19—Specific article or web
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Rollers For Roller Conveyors For Transfer (AREA)
- Chain Conveyers (AREA)
Abstract
根据不同实施方式,回转式输送机运输轮(100)可以具有:支架(102),所述回转式输送机运输轮(100)能够可旋转地支承在该支架上;多个联接设备(104),这些联接设备设置在所述支架(102)的外周边上,并且所述联接设备中的每个联接设备具有用于形状锁合地耦联基底载体(400)的至少一个形状锁合轮廓(104f),其中,所述多个联接设备(104)具有一对(302)联接设备(104),该对联接设备的形状锁合轮廓沿着所述周边彼此之间的间距小于与所述多个联接设备(104)的与该对(302)直接相邻的形状锁合轮廓的间距。
Description
技术领域
各种实施例涉及回转式输送机运输轮、基底载体和方法。
背景技术
通常基底、例如玻璃基底、金属基底和/或聚合物基底可以被处理(加工)、例如涂层,使得基底的化学和/或物理性质可以被改变。可以执行各种涂层方法来对基底进行涂层。例如可以使用真空涂层设施,以便借助化学和/或物理气相沉积在一个基底上或在多个基底上沉积一个层或多个层。
原则上基底可以被横置或直立地处理。
如果所述设施应特别节省空间,则习惯在所谓的竖立设施中例如借助所谓的转筒在圆圈中运输直立的基底。如此运输的基底在此周期性地横穿竖直设施的相同区域,在这些区域中例如可以进行涂层工艺。这种竖直设施特别节省空间,这是因为转筒作为运输构件可以设置在最小空间上并且处理构件设置为包围该转筒。然而竖直设施要求为转筒耗时地装载一组基底,并且在处理之后再次耗时地将其卸载,这导致运行中断。
相反地,如果应实现大的吞吐量,则习惯使用所谓的在线设施,其中将基底流连续地运输经过整个在线设施,使得装载和卸载的过程与处理同时发生。例如在基底运输穿过在线设施期间,在在线设施的一个或多个区域中执行涂层工艺。
发明内容
根据不同实施方式已经清楚地识别到:在线设施的概念、即顺序地运输基底流与竖直设施的概念、即周期性地运输一组基底可以联合在一起。这实现了更大的基底生产量。
根据不同实施方式,提供了一种回转式输送机运输轮、基底载体和方法,其能够实现的是:节省空间地实现大的吞吐量。清楚提供了用于竖直设施的构件和方法,其能够在最小的空间上实现的是:装载和卸载过程与处理同时发生。
根据不同实施方式,回转式输送机运输轮可以具有:支架,回转式输送机运输轮可以可旋转地支承在该支架上;多个联接设备,这些联接设备设置在支架的外周边上,并且这些联接设备中的每个联接设备具有两个用于形状锁合地联接基底载体的形状锁合轮廓,其中,所述多个联接设备具有一对联接设备,它们的形状锁合轮廓沿着周边彼此之间的间距小于与所述多个联接设备中的与该对直接相邻的形状锁合轮廓的间距。
根据不同实施方式,所述基底载体可以具有:多个节段,这些节段(例如成对地)借助铰链彼此连接;设置在所述基底载体的彼此对置侧上的两个滑架,其用于沿着运输路径引导所述基底载体;其中,两个滑架中的至少一个滑架具有销齿传动杆。
根据不同实施方式,一种方法可以具有:将基底载体联接到设置在真空中的回转式输送机运输轮上;将基底载体从设置在真空中的回转式输送机运输轮上断联,其中,联接和断联在基底载体的同一侧上开始。
附图说明
附图中:
图1至图3分别示出了根据不同实施方式的回转式输送机运输轮的不同视图;
图4至图8分别示出了根据不同实施方式的基底载体的不同视图;
图9至图16分别示出了根据不同实施方式的回转式输送机的不同视图;
图17A至图17H分别示出了根据不同实施方式的输送组件的示意性俯视图;
图18至图25分别示出了根据不同实施方式的真空组件的不同视图;
图26示出了根据不同实施方式的基底载体的示意性横剖视图;
图27示出了根据不同实施方式的输送组件的示意性横剖视图;
图28和29分别示出了根据不同实施方式的真空组件的不同视图;
图30示出了根据不同实施方式的方法中的回转式输送机的示意性俯视图;
图31示出了根据不同实施方式的方法中的输送组件的示意性俯视图;
图32和33分别示出了根据不同实施方式的方法的示意性流程图。
具体实施方式
在下面的详细描述中将参考附图,这些附图构成其一部分,并且为了说明的目的在这些附图中示出了可以实施本发明的特定实施方式。在这方面,参考所描述的(多个)附图的定向使用例如“上”、“下”、“向前”、“向后”、“前”、“后”等方向术语。因为各实施方式的构件可以以一些不同的定向定位,所以方向术语用作说明目的并且绝不是限制性的。不言而喻地,在不偏离本发明的保护范围的情况下可以使用其它实施方式并且可以进行结构或逻辑上的改变。不言而喻地,如果没有另外具体说明,本文所述的各种示例性实施方式的特征可以彼此组合。因此,以下详细描述不应理解为限制意义,并且本发明的保护范围由所附权利要求限定。
在本说明书的范畴中,术语“连接”,“接通”以及“联接”用于描述直接和间接的连接(例如,欧姆的和/或可导电的)、直接或间接接通以及直接或间接联接。在附图中,只要合适,相同或相似的元件设置有相同的附图标记。
根据不同实施方式,术语“已联接”或“联接”可以理解为(例如机械的、流体静力的、热的和/或电的)例如直接或间接的连接和/或相互作用的含义。多个元件例如可以沿着相互作用链彼此联接,沿着该相互作用链可以传递相互作用(例如信号)。例如,两个彼此联接的元件可以彼此交换相互作用,例如机械的、流体静力的、热的和/或电的相互作用。根据不同实施方式,“接合”可以理解为机械(例如实体的或物理的)联接的含义,例如借助直接的实体接触。联接可以设置为传递机械的相互作用(例如,力、扭矩、振动等)。耦联在本文可以理解为建立接合。断联在本文可以理解为解除接合。
两个构件彼此的耦联例如可以包括将这些构件引入到彼此实体接触中(即,彼此实体接触)。这两个构件的耦联可以进一步包括例如通过以下方式减小它们共同的自由度之和,即封锁构件之间(例如,沿着一个或一个以上方向和/或逆着一个或一个以上方向)的相对运动(例如,平移和/或旋转)。相对运动的这种封锁(也称为封锁的自由度)例如可以通过以下方式实现,即,两个构件彼此形状锁合地接合。
两个构件彼此的断联例如可以包括它们彼此松脱和/或远离。这两个构件的断联例如可以进一步包括:通过以下方式增大它们共同的自由度之和,即,释放构件之间(例如沿着一个或一个以上方向和/或逆着一个或一个以上方向)的相对运动(例如平移和/或旋转)。
可以借助两个构件的交错连接来提供形状锁合的接合(也称为形状锁合)。例如形状锁合可以设置为,使得两个构件在没有力传递或力传递中断的情况下也不能彼此松脱。形状锁合显然实现了一个构件阻碍另一构件的运动,从而阻止其相对运动。为了能够交错连接,两个构件具有彼此配合的形状锁合轮廓(也称为形状锁合轮廓对),它们设置用于交错连接。例如,形状锁合轮廓可以彼此对应、例如在轮廓尺寸和/或轮廓造型方面。
如果所述形状锁合轮廓对具有两个彼此同轴的柱体面,则形状锁合可以封锁沿垂直于柱体轴线的面的所有方向的相对运动。一种示例是插到孔中的销,该销可再取出。如果所述孔是盲孔,使得销不能穿过,则沿轴向方向还会有单侧形状锁合(也称为单向形状锁合)。如果将外侧柱体面沿轴向方向分为两个半部(即沿轴向方向所在的面)并且将其中一个半部去除,则形状锁合可以沿着在分割面中的方向在两侧封锁相对运动(也称为两侧形状锁合)并且沿横向于分割面的方向单侧封锁相对运动。
也可以借助铆钉、销栓和/或螺纹件来提供销形形状锁合轮廓。下文主要涉及用于提供形状锁合轮廓的销栓。所描述的内容也可以类似地适用于其它提供形状锁合轮廓的主体。
根据不同实施方式,形状锁合的耦联可以提供至少一个两侧形状锁合(也称为双向形状锁合)(即封锁沿着和逆着相同的第一方向的相对运动)并且可选地可以提供至少一个额外的单侧形状锁合(即封锁沿着另外的第二方向的相对运动)。断联可以再次释放相对运动。如果在本文中涉及封锁或释放多个方向,这些方向可以彼此垂直。
作为控制可以理解为对系统的有意的影响。在此,系统的瞬时状态(也称为实际状态)可以根据预设(也称为额定状态)改变。调节可以理解为控制,其中,还抵消了由故障引起的系统的状态变化。控制显然可以具有指向前方的控制路段并且因此显然可以实施将输入变量(例如预设值)转换为输出变量的流序控制。但是,控制路段也可以是调节回路的一部分,从而实施调节。与纯的向前指的流序控制相反,这种调节具有输出变量对输入变量的连续的影响,这由调节回路引起(反馈)。换而言之可选地或附加地,可以对控制使用调节,或者可选地或附加地,可以对控制实现调节。系统的状态(也称为工作点)可以由系统的一个或一个以上调节变量表示,其实际值表示系统的实际状态,其额定值(也称为参考值)表示系统的额定状态。在调节时,将系统的(例如基于测量和/或借助传感器确定的)实际状态与该系统的额定状态进行比较并且借助相应的调整变量(在使用调整机构的情况下)对一个或一个以上调整变量施加影响,使得系统的实际状态与额定状态之间的偏差最小化。
传感器可以是具有相应的基础结构(例如处理器、存储媒介和/或总线系统或类似物)的测量链的一部分。测量链可以设置为,操控相应的传感器、将所述传感器检测的测量变量作为输入变量处理并基于此提供电信号作为输出变量,该电信号表示检测时刻输入变量的实际状态。测量链例如可以借助控制设备(例如可编程控制设备-SBS)已实现或被实现。
术语“控制设备”可以理解为任何类型的逻辑实施实体,该实体例如可以具有电路和/或处理器,其例如可以执行存储在存储介质中、固件中或其组合中的软件并且可以基于此发布指令。该控制设备例如可以借助代码段(例如软件)来配置,以便控制系统的(例如其工作点的)、例如机器的或设施的例如至少其运动链的运行。该控制设备例如可以具有可编程控制设备(SBS)或由其构成。
术语“处理器”可以理解为允许处理数据或信号的任何类型的实体。例如,可以根据由处理器执行的至少一个(即,一个或一个以上)特定功能来处理数据或信号。处理器可以具有模拟电路、数字电路、混合信号电路、逻辑电路、微处理器、中央处理单元(CPU)、图形处理单元(GPU)、数字信号处理器(DSP),可编程门组件(FPGA)、集成电路或其任意组合或者由其构成。在下文中更详细描述的相应功能的任何其它类型的实施也可以理解为处理器或逻辑电路,例如也可以是虚拟处理器(或虚拟机)或大量分散式处理器,这些处理器例如借助网络相互连接、任意地在空间上分布和/或在相应的功能的实施上具有任意份额(例如,处理器下的计算负载分布)。同样的内容通常适用于用于实施相应功能的其它实施逻辑。不言而喻地,本文详述的方法步骤中的一个或多个可以由一个处理器通过由该处理器执行的一个或多个特定功能来执行(例如实现)。
术语“调整机构”(也称为致动器或执行器)可以理解为设置为响应于操控而影响机构或工艺的构件。致动器可以将控制设备发布的指令(所谓的操控)转换为机械运动或物理变量例如压力或温度的变化。致动器、例如机电转换器,例如可以设置为,响应于操控将电能转化为机械能(例如通过运动)。
借助于本文所述的基底载体可以(例如每个节段)保持和运输一个或一个以上基底。基底可以具有约50cm(厘米)至约500cm范围内的宽度或大于约500cm的宽度。根据不同实施方式,基底可以具有以下至少一种或由其构成:陶瓷、玻璃、半导体(例如非结晶、多晶或单晶半导体,例如硅)、金属和/或聚合物(例如塑料)。例如,基底可以是塑料膜、晶片(半导体基底)、金属箔,金属片或玻璃板并且可选地已涂层或将被涂层。
根据不同实施方式,基底的加工(也称为处理)可以具有以下至少一项:清洁基底、为基底涂层、照射(例如借助光、UV(紫外)光、颗粒、电子、离子等)基底、改动基底表面、加热基底、蚀刻基底和闷烧(Glimmen)基底。
可以用来对基底涂层的涂层材料可以具有以下材料中的至少一种材料或由其构成:金属;过渡金属、氧化物(例如金属氧化物或过渡金属氧化物);电介质;聚合物(例如,碳基聚合物或硅基聚合物);氮氧化物;氮化物;碳化物;陶瓷;半金属(例如碳);钙钛矿;玻璃或玻璃状材料(例如,硫化玻璃);半导体;半导体氧化物;半有机材料和/或有机材料。
在本说明书的上下文中,金属(也称为金属材料)可以具有至少一种金属元素(即一种或多种金属元素)(或由其构成),例如以下元素组中的至少一种元素:铜(Cu)、铁(Fe)、钛(Ti)、镍(Ni)、银(Ag)、铬(Cr)、铂(Pt)、金(Au)、镁(Mg)、铝(Al)、锆(Zr)、钽(Ta)、钼(Mo)、钨(W)、钒(V)、钡(Ba)、铟(In)、钙(Ca)、铪(Hf)、钐(Sm)、银(Ag)和/或锂(Li)。此外,金属可以具有金属化合物(例如,金属间化合物或合金)或由其构成,例如至少两种(例如来自所述元素组的)金属元素的化合物、例如青铜或黄铜,或者例如至少一种(例如,来自所述元素组的)金属元素和至少一种非金属元素(例如,碳)的化合物、例如钢。可选地,金属可以具有合金元素(其质量份额例如小于10%,例如单独的或总和),例如铬、硅、钼、镍、钒、碳、锰、磷、硫、锡、锌。
作为齿轮,在本文可以理解为任何具有多个驱动齿的基本上圆形的主体,这些驱动齿沿着主体的周边设置。齿轮例如可以具有平面齿轮、正齿轮、滚柱轮(Stockrad)或齿环或者由其构成。借助齿轮可以已提供或将提供啮合,例如销齿传动杆啮合。销齿传动杆啮合是摆线啮合的特殊情况,其中节圆和分度圆的尺寸相同。齿部可以设计为直的,即轴线平行、斜的(斜齿)或弧齿。齿部的尺寸确定为模数(也称为齿轮模数)。配合轮或齿条可以具有与齿轮模数相同的齿部。
如果两个构件沿着路径或方向彼此错开地设置,则这可以理解为,这两个构件设置为,彼此相邻地或仅部分重叠地投影到横向于所述路径或者方向的面上(不全等)。例如,这两个构件可以沿着横向于所述路径或者方向的方向彼此具有间距。
图1示出了根据不同实施方式的回转式输送机运输轮100的示意性透视图。
回转式输送机运输轮100具有:支架102,回转式输送机运输轮可旋转地支承在该支架上;和多个联接设备104,这些联接设备设置在支架102的外周边102u上。相应的旋转轴线151可以平行于方向105。在回转式输送机运输轮100的运行中,方向105例如可以反向于重力方向、即沿着竖直线(也称为竖直方向)。
多个联接设备104例如可以具有至少4个联接设备104、例如至少6个联接设备104、例如至少8个联接设备104、例如至少10个联接设备104、例如至少16个联接设备104、例如至少20个联接设备104、例如至少26个联接设备104。
回转式输送机运输轮100的高度201h(沿着回转式输送机运输轮100的旋转轴线151的伸展)可以在约0.5m至约2m(米)的范围内、例如在约1m至约1.5m的范围内。可选地或附加地,回转式输送机运输轮100的直径201d(横向于回转式输送机运输轮100的旋转轴线151的伸展)可以在约1m至约5m(米)的范围内、例如在约2m至约3m的范围内。
图2示出了根据不同实施方式200的回转式输送机运输轮100的联接设备104之一的示意性详细视图。其中每个联接设备104可以具有一个或一个以上用于基底载体的形状锁合耦联的形状锁合轮廓104f(也称为接收点)。在所示的示例中,联接设备104可以具有叉形件,该叉形件具有(例如柱形的)空隙,该空隙的外边界提供形状锁合轮廓104f。所述空隙例如可以提供凹入的拱形结构作为形状锁合轮廓104f。所述空隙可以朝向回转式输送机运输轮100的内部、例如朝向其旋转轴线延伸到叉形件中。
在下文中示例性地涉及具有叉形件的联接设备104。当然,所描述的内容可以类似地适用于不同设置的联接设备104。例如对于叉形件而言可选地或附加地,联接设备104可以具有销栓。例如对于凹入的拱形结构而言可选地或附加地,联接设备104可以具有凸出的拱形结构。但是,形状锁合轮廓104f不一定必须是拱曲的。例如,形状锁合轮廓104f也可以是成角度的。
在此示出的示例性实施方式200中,叉形件104可以从支架102或从支架102的周边102u突出。支架102的周边102u可以是具有支架102的直径的圆周。回转式输送机运输轮100的周边202u与此对应地可以更大并且可以是具有回转式输送机运输轮100的直径201d的圆周。
形状锁合轮廓104f可以可选地设置为,使得当基底载体的配合联接设备与回转式输送机运输轮的联接设备104(也称为基底载体的联接设备)结合在一起时,该配合联接设备可以相对形状锁合轮廓104f旋转,从而提供旋转接头。如还将在后面更详细描述的,这便于基底载体的耦联和断联。
为此,形状锁合轮廓104f例如可以柱形地拱曲。例如,所述空隙可以具有柱体(或其一部分)的形状,使得形状锁合轮廓104f沿着其侧表面延伸。柱体例如可以具有沿着旋转轴线151的柱体轴线。柱体例如可以是圆柱体或具有其它形状的基面。
可选地或附加地,形状锁合轮廓104f例如可以借助旋转面或其一段被提供或将被提供。所述旋转面可以是通过平面曲线围绕位于同一平面中的直线的旋转而产生的面。所述直线可以沿着旋转轴线151。
图3示出了根据不同实施方式300的回转式输送机运输轮100的示意性侧视图或横剖视图。多个联接设备104可以具有多个第一联接设备,这些第一联接设备(例如它们的形状锁合轮廓)沿着周边(例如圆周)、例如其方向在空间上彼此分离、即彼此之间具有间距301d。周边(例如圆周)的方向可以沿着位于面101、103中的封闭的圆形路径中的一个。方向101、103在回转式输送机运输轮100的运行中可以横向于重力方向,即,撑开水平的面。
直观地说,所述间距可以沿着周边测量,即沿着如下的(圆形)路径,该路径沿着周边延伸并且其长度例如对应于周长。换而言之,所述间距可以是投影到所述周边或路径上的周长。周边的方向则例如沿顺时针或逆时针方向延伸并遵循所述路径。以柱坐标来说,所述周边或路径在z=常数和r=常数的线上延伸。那么所述间距对应于在形状锁合轮廓之间撑开的圆弧b的长度(即其端部位于形状锁合轮廓上),其中,(以度为单位)。角度则表示在第i个和第j个形状锁合轮廓之间撑开的角度。当形状锁合轮廓直接彼此重叠地设置,则形状锁合轮廓之间的间距例如也可以为零。
回转式输送机运输轮100可以具有一个或一个以上平面对,该平面对具有两个平面114、124(称为平面对)。所述或每个平面对114、124和/或多个平面114、124的两个平面114、124可以相对旋转轴线151彼此重叠地设置,即沿方向105相继设置。在下文中为了简化理解针对平面对中的一个平面对。所描述的内容也可以类似地适用于多个平面对。
多个第一联接设备104的形状锁合轮廓104f可以设置在平面对114、124的第一平面114中。
多个联接设备104可以具有至少一对(即,一对或一对以上)302联接设备(也称为联接设备对302),其具有多个第一联接设备中的一个第一联接设备和多个联接设备104中的一个第二联接设备。例如,多个联接设备104可以至少具有(即一个或一个以上)第二联接设备,其形状锁合轮廓104f设置在平面对114、124的第二平面124中。换而言之,相对回转式输送机运输轮100的旋转轴线,所述或每个第二联接设备104的形状锁合轮廓104f可以设置在平面对114、124的第二平面124中。
一对302联接设备的形状锁合轮廓可以关于周边的方向并排地(例如,彼此重叠地)设置或例如沿着旋转轴线151彼此重叠地投影。更一般地说,沿着周边测量的一对302联接设备的形状锁合轮廓104f的间距可以小于平面对114、124的第一平面114的形状锁合轮廓104f的间距301d。
这实现了:在所述一对302联接设备的区域上在不同的平面114、124中存在多个形状锁合轮廓,使得不同基底载体的面向彼此的一侧(它们的所谓的端侧)可以尽可能彼此靠近地耦联。这实现了:基底载体的花纹(Rapport)被尽可能精确地维持,使得其可以被尽可能节省空间地设置。显然,两个不同的基底载体可以借助一对302联接设备耦联,使得它们尽可能无缝地彼此贴靠。
此外,所述一对302联接设备中的第一联接设备和第二联接设备可以设置为,使得耦联或断联可以借助第一联接设备和借助第二联接设备彼此独立地实现。这实现了,基底载体可以彼此依次地卷绕或退卷,例如分别从基底载体的第一端侧开始并且以基底载体的第二端侧结束。基底载体的第一端侧可以与基底载体的第二端侧对置。
图4示出了根据不同实施方式的基底载体400的示意性侧视图(横向于运输方向观察)。基底载体400可以具有多个节段402(也称为载体节段),它们(例如成对地)借助铰链404彼此连接。铰链可以理解为以下所有构件的总和,这些构件将两个彼此直接相邻的节段402彼此耦联,使得它们可以相对彼此旋转。例如,铰链可以具有多个在空间上彼此分离的铰链段404a、404b,其中每个铰链段404a、404b都将两个彼此直接相邻的节段402彼此联接。其中每个铰链段404a、404b例如可以具有铰链栓。
节段402可以沿着基底载体400的运输方向111相继设置。
基底载体400还可以具有两个彼此对置的端侧400a、400b(也称为第一端侧和第二端侧)。第一端侧400a例如可以是第一载体节段402(也称为前载体节段402)的端侧,而第二端侧400b例如可以是第二载体节段402(也称为后载体节段402)的端侧。
基底载体400例如可以具有至少两个节段402、例如至少三个节段402、例如至少四个节段402。可选地或附加地,基底载体400可以具有最多七个、例如最多五个、例如最多四个、例如最多三个节段402。
更一般地说,基底载体400可以具有数量为g=1+n个节段402,其中n是大于零的自然数。与此对应地,除了通常的三个平移自由度和三个旋转自由度之外,基底载体400还可以具有n个借助铰链提供的自由度。
借助每个铰链404可以将彼此直接相邻的两个节段402设置为相对于彼此可运动,这便于将基底载体400卷绕到回转式输送机运输轮100上以及相应的退卷。当基底载体400耦联到回转式输送机运输轮100上时,所述或每个铰链的旋转轴线404d(也称为铰链旋转轴线404d)例如可以沿着方向105延伸。
其中每个节段402可以具有可以承载一个或一个以上基底的框架408(也称为支撑框架408)。例如可以借助三个节段402承载三个或更多个基底。为此,其中每个节段402(例如,每个需保持的基底)可以在支撑框架408上具有用于保持基底的基底保持设备。
此外,基底载体400可以具有多个联接设备414(也称为配合联接设备414)。所述多个联接设备可以在每个节段402中具有至少一个第一配合联接设备414和至少一个第二配合联接设备414。例如,所述多个联接设备可以具有数量为k=1+g的配合联接设备414。
其中每个配合联接设备414可以具有一个或一个以上与联接设备104的形状锁合轮廓104f对应的形状锁合轮廓。彼此对应的形状锁合轮廓可以设置为用于形状锁合地交错连接。
在所示的示例中,其中配合联接设备414可以具有一个或一个以上销栓,该销栓可以配合到叉形件104的空隙104f中。这些销栓的每一个销栓(其外边界)提供了配合联接设备414的形状锁合轮廓(也称为配合形状锁合轮廓)。销栓例如可以提供凸起的拱形结构作为配合形状锁合轮廓。拱形结构可以朝向回转式输送机运输轮100的内部、例如朝向其旋转轴线拱曲。
在下文中将示例性地涉及具有一个或一个以上销栓的配合联接设备414。这些销栓中的每一个销栓能够实现与联接设备104的叉形件的叉形件销栓连接。当然,所描述的内容可以类似地适于其它设置的配合联接设备414、例如其它设置的提供配合形状锁合轮廓的凸起。例如,配合联接设备414和联接设备104还能够实现其它形状锁合的连接、例如榫槽连接或球窝连接。
通常,针对凸出的拱形结构,配合联接设备414可以可选地或附加地具有凹入的拱形结构作为配合形状锁合轮廓。但是,配合形状锁合轮廓不一定必须是拱曲的。例如,配合形状锁合轮廓也可以是成角度的。
配合联接设备414中的每一个配合联接设备可以设置为,使得当其与联接设备104结合在一起时可以相对联接设备104旋转,从而提供旋转接头。这便于基底载体400的耦联和断联。
为此,配合形状锁合轮廓例如可以柱形地拱曲。例如,配合联接设备414的凸起(例如销栓)可以具有柱体(或其一部分)的形状,使得配合形状锁合轮廓沿着其侧表面延伸。所述柱体例如可以具有沿着铰链旋转轴线的柱体轴线。所述柱体例如可以是圆柱体或具有其它形状的基面。
类似于回转式输送机运输轮100的多个平面,基底载体400(例如相对铰链旋转轴线)可以具有一个或多于一个由彼此重叠地设置的平面构成的平面对,其中每个平面具有所述多个配合形状锁合轮廓中的至少一个配合形状锁合轮廓。例如,两个或更多个第一配合形状锁合轮廓可以设置在所述或每个平面对的第一平面中,或者可以设置为与回转式输送机运输轮100的第一联接设备交错连接。例如,至少一个第二配合形状锁合轮廓可以设置在所述或每个平面对的第二平面中,或者可以设置为与回转式输送机运输轮100的至少一个第二联接设备交错连接。
在下面描述的实施方式中,配合联接设备414的销栓可以借助铰链404被提供或将被提供、例如借助铰链404的销栓(也称为铰链栓)、例如借助铰链段404a、404b的铰链栓。这简化了结构。铰链栓例如可以作为铰链销被提供或将被提供(即,具有加厚的端部区段)。
节段402的数量和形状可以设置为,使得基底载体400沿着运输方向111的第一伸展(也称为长度)基本上对应于沿着方向105(即横向于运输方向111)的第二延伸。换而言之,这些伸展彼此的偏差可以小于20%。例如,长度与高度的比例(也称为宽高比)可以基本上为1(即,在约0.8至约1.2的范围内)。这减小了基底载体400卡住(也称为抽屉效应)的风险。
例如,所述长度可以在约1m(米)到约1.5m的范围内、例如约1.3m。
根据实施方式400,可以保留涂层窗口,尽可能多的节段(也称为载体节段)可以一次地引出和引入(这节省了时间),并且/或者需要更少的驱动设备。
图5示出了根据不同实施方式500的基底载体400的示意性侧视图。
例如其中每个节段402的基底载体400可以具有至少一个或一个以上滑架406(也称为轨道滑架)。(例如,其中每个节段402的)基底载体400例如可以具有两个设置在基底载体400的对置侧(也称为顶侧和底侧)上的滑架406。基底载体的引导可以借助一个滑架或多个滑架406沿着运输路径实现。
所述或每个滑架(例如,每个节段)可以具有销齿传动杆。销齿传动杆是驱动技术中的机器元件,如将在后面更详细描述的那样。销齿传动杆显然是齿条的简化形式。在销齿传动杆中,齿条的驱动齿借助销栓提供。在下文中将涉及销齿传动杆。然而,针对销齿传动杆所描述的内容也可以类似地适于其它设置的齿条或其它设置的具有多个驱动齿的机器元件。销齿传动杆能够实现对精确的进给运动的提供。销齿传动杆能够实现基底载体的更精确的运输,这便于将基底载体400卷绕到回转式输送机运输轮100上以及从其相应地退卷。
所述或每个滑架406(例如,每个节段)可以具有一对410可旋转地支承的滚柱(也称为滚柱对)。滚柱对410可以简化基底载体400的耦联和/或断联,如将在后面更详细描述的那样。例如,在两个支撑框架408之间可以分别设置有一个滚柱对410。
滚柱对410的方位进一步简化基底载体400的耦联和/或断联,这是因为力被最大化。例如,滚柱对410的一个滚柱的旋转轴线可以与铰链404的旋转轴线(也称为铰链旋转轴线)对齐。可选地或附加地,可以在一个滚柱对410的滚柱之间设置间隙,该间隙沿着两个滚柱之间的铰链旋转轴线延伸。
如果将基底载体400设置为宽高比大于1,则随之而来的较大的长度会使在工艺条件下的卷绕变得困难。使用恰好一个绕回转式输送机运输轮100延伸的节段链还将需要非常大的闸室。许多具有小于1的宽高比的短基底载体倾向于卡住并且需要大量的过闸过程,这又需要许多时间。宽高比基本上为1实现了尽可能少的引入和引出时间。
基底载体400可以借助铰链404折弯或折叠。可选地,所述或每个铰链404可以具有止挡,该止挡限制铰链的角度(铰链可以绕其旋转)。这防止了基底载体不期望地合拢。
铰链404可以可选地提供配合联接设备414的销栓(铰链栓),用以耦联到回转式输送机运输轮100上。所述或每个铰链404的销702可以可选地具有轴承套筒,以便将在耦联到回转式输送机运输轮100时和在断联时的磨损减小到最小。这实现了,铰链可以用作用于回转式输送机运输轮100(也以简化地称为转筒100)的接收部。沿着同一条线的旋转点、引导和固定防止产生不希望的扭矩并因此防止卡住。
图6示出了根据不同实施方式600的基底载体400的示意性横剖视图(沿运输方向观察)。
销齿传动杆652例如可以具有齿条,该齿条具有两个侧向侧壁516(例如板),所述侧向侧壁以规则的间距钻孔并且借助引入(例如,焊入或旋入)到孔中的销栓连接。显然,销齿传动杆652可以以梯子的形式设置。齿轮的齿可以啮合到各销栓502之间,并且因此与销齿传动杆652构成形状锁合的连接。如果齿轮旋转,则平移可以传递到销齿传动杆652上。
销齿传动杆652可以具有多个销栓,其中每个销栓可选地具有旋转轴承。旋转轴承例如可以具有(例如,由金属制成的)销栓轴504,套筒506支承在该销栓轴上(也称为轴承套筒)。套筒例如可以包括塑料或由其构成或者至少一种比销栓轴504更有弹性和/或更软的材料。
例如,销栓轴652的销栓轴504可以具有一个或一个以上螺纹并且被拧入到侧壁516之一中或位于其后方的螺母中。可选地或附加地,销栓轴504可以具有比侧壁516的通孔大的加厚部(例如头部),使得其不滑过侧壁。
滚注销652的旋转轴承例如可以是滑动轴承。这简化了结构。
在所述或每个滚柱对410的各滚柱之间可以构造有间隙410s,转辙器可以接合到该间隙中,如将在后面更详细描述的那样。滚柱对410的滚柱可以沿着一个方向彼此之间具有间距,该方向横向于运输方向111和/或横向于铰链旋转轴线404d。
所述或每个配合联接设备414可以具有一个或一个以上销栓,其中每个销栓可选地具有旋转轴承。旋转轴承例如可以具有(例如由金属制成的)销栓轴702,套筒414h(也称为轴承套筒)支承在其上。套筒414h例如可以包括塑料或由其构成,或者至少一种比销栓轴702更有弹性和/或更软的材料。销栓轴702可以借助铰链销被提供或将被提供。这简化了结构。
所述或每个配合联接设备414的旋转轴承例如可以是滑动轴承。这简化了结构。
图7示出了根据不同实施方式700的基底载体400的上侧的示意性透视图,其示出有保持的基底752。滚柱对410的滚柱可以设置在构造在两个彼此直接相邻的框架408之间的间隙上方。
基底载体400的端侧可以设置有一个或一个以上第二配合联接设备414,其中示出了上部第二配合联接设备414。
所述或每个第二配合联接设备414例如可以以插销的形式被提供或将被提供。插销可以具有L形的连接元件,其具有突出的销栓。
可选地,所述或每个第二配合联接设备414例如可以借助具有销702(也称为铰链销)的铰链的构件(例如铰链栓)来提供。这减少了不同构件的数量。
配合联接设备414的销栓可以变细地设置。这简化了耦联、例如借助锁定设备(例如,联接挡爪),如将在后面更详细描述的那样。例如,销栓的侧壁可以以一定角度相互聚拢地延伸。所述角度例如可以在约1°至约10°的范围内、例如约3°或更小。这实现了自锁。例如,配合联接设备414的销栓可以是射弹状的(例如具有尖端)。
图8示出了根据不同实施方式800的基底载体400的下侧的类似于实施方式700的示意性透视图,其示出有保持的基底752。基底载体400的端侧可以设置有一个或一个以上第二配合联接设备414,其中示出了下部第二配合联接设备414。该下部第二配合联接设备414可以类似于关于实施方式700所描述的内容设置。
下文将关联更复杂的组合件例如回转式输送机、输送组件或真空组件涉及基底载体400和/或回转式输送机运输轮100。可以理解的是,基底载体400或回转式输送机运输轮100也可以分开提供、即不一定必须是更复杂的组合件的一部分,和/或可以被提供或将被提供为设置在真空室中。类似地,这同样适用于回转式输送机和输送组件。
图9示出了根据不同实施方式900的回转式输送机的示意性透视图。回转式输送机900可以具有回转式输送机运输轮100和可旋转地支承该回转式输送机运输轮100的轴承组件(在此被掩盖)。此外,回转式输送机900可以具有驱动设备(例如,电机),该驱动设备设置为将转动传递到回转式输送机运输轮100上。
支架102可以具有一个或一个以上环904并且在每个环904上具有多个轮辐906。此外,支架102可以具有与轮辐906连接的轮毂902。这种结构方式减轻了重量。轮毂902可以借助轴承组件支承或具有轴承组件。轴承组件例如可以具有一个或一个以上旋转轴承(例如轴向轴承)或者由其构成。
回转式输送机运输轮100和基底载体400可以彼此设置为,使得多个基底载体400相继配合到回转式输送机运输轮100上,例如至少两个基底载体400、例如至少三个基底载体400、例如至少四个基底载体400、例如至少五个基底载体400、例如至少六个基底载体400、例如至少七个基底载体400、例如至少八个基底载体400。
例如,可以使用其中每个具有三个节段的八个基底载体400,这实现了在设施尺寸和过闸时间之间的良好折衷。
图10示出了根据不同实施方式1000的回转式输送机900的示意性透视图,其中,回转式输送机运输轮100的一部分未被铺设。联接设备对302可以分别设置在基底载体400开始或结束的位置处。换而言之,沿着周边测量的彼此相邻的联接设备对302之间的间距可以对应于基底载体400的长度(例如,基本上与其长度相等)。
例如,回转式输送机运输轮100可以在每个基底载体400具有一个联接设备对302。可选地或附加地,回转式输送机运输轮100可以在基底载体400的每个节段上具有彼此等距地设置的第一联接设备104中的一个第一联接设备。
图11示出了根据不同实施方式1100的回转式输送机900的示意性透视图。在联接设备104中,每个联接设备可以具有锁定设备1102。一般而言,每个锁定设备1102可以在至少两个状态(也称为锁定状态)之间改变,以便锁定或者释放与基底载体400的联接(即,建立和解除锁定)。如果在联接设备和配合联接设备之间的联接锁定,则其不再容易被解除,例如,锁定没有被解除。
锁定设备1102例如可以具有卡箍,该卡箍设置为环绕配合联接设备414的销栓。在下文中将示例性地涉及作为锁定设备1102的卡箍。卡箍能够实现卡箍销栓锁定。当然,所描述的内容可以类似地适用于其它设置的锁定设备1102。例如,锁定设备1102同样可以具有用于磁性锁定的电磁体或者可以具有联接挡爪(例如,钩形挡爪、锁形挡爪、倾斜挡爪)、闩锁、开口销等。例如,锁定设备1102也可以是基底载体的一部分。
联接挡爪例如可以设置为,使得当建立联接(即实现耦联)时或者当联接挡爪设置在为此限定的位置上时或至少承受为此限定的环境时,(对其响应地)自动建立联接的锁定。可以使用锁定机构建立或解除锁定,如将在后面更详细描述的那样。
卡箍1102例如可以可移动地1102r支承,使得其可以在两个位置之间转移。在第一位置中,卡箍1102可以环绕配合联接设备414的销栓。在第二位置中,卡箍1102可以设置为与配合联接设备414的销栓具有间距(例如设置在其上方),从而释放螺栓。
图12示出了根据不同实施方式1200的回转式输送机900的示意性透视图。回转式输送机900可以具有一个或一个以上平面对114、124,其中根据实施方式1200示出了下部平面对。
联接设备对302可以具有两个联接设备104,其形状锁合轮廓104f彼此重叠地设置、例如沿着方向105相继设置或沿着周边的方向并排设置。换而言之,联接设备对302的形状锁合轮廓104f可以沿着方向105重叠、例如全等。
联接设备对302可以具有第一联接设备104之一,该第一联接设备在每个平面对114、124中在平面对114、124的第一平面114中具有形状锁合轮廓104f。联接设备对302在每个平面对114、124中可以具有一个第二联接设备104,该第二联接设备在平面对114、124的第二平面124中具有形状锁合轮廓104f。
与联接设备对302具有间距地可以设置有第一联接设备104的额外的第一联接设备,该额外的第一联接设备在每个平面对114、124中具有形状锁合轮廓104f,该形状锁合轮廓设置在平面对114、124的第一平面114中。
其中每个联接设备104可以具有锁定设备1102,其可以在两个锁定状态之间改变(例如转移)。锁定设备1102示出为处于第一锁定状态中(即锁定设备关闭),其中,通过以下方式建立形状锁合地耦联的基底载体的锁定,即,锁定设备1102的卡箍套到第二配合联接设备414的销栓上。
通常,联接设备104中的每一个联接设备可以具有锁定机构1202,该锁定机构设置为,将联接设备104的锁定设备1102从第一锁定状态引入(例如转移)到第二锁定状态(也称为打开),或者反过来(也称为关闭)。锁定机构1202例如可以具有连杆,其设置为将平移传递到卡箍1102上。
回转式输送机900还可以具有隆起(例如斜坡),如将在后面更详细描述的那样。连杆1202例如可以借助回转式输送机运输轮的旋转运动而与隆起接触,使得连杆1202被隆起挤压并因此克服其重力移动。在运行中作用到连杆1202上的重力可以引起沿相反方向的平移。连杆的运动可以传递到卡箍上,使得该卡箍沿竖直方向向上或向下移动。
连杆作为下端部区段可以可选地具有滚柱。该滚柱便于在隆起上的滑动。
下文将示例性地涉及具有连杆的锁定机构1202。连杆可以简化锁定设备1102的纯机械操纵,这简化了结构并且使其不易出现故障。当然,所描述的内容可以类似地适用于其它设置的锁定机构1202。例如,锁定机构1202还可以具有一个或一个以上执行器,其设置为使联接设备104的锁定设备1102从第一状态引入到第二状态或者反过来。可选地或附加地,锁定机构1202可以具有传动装置,其将运动传递到锁定设备1102上。
图13示出了根据不同实施方式1300的回转式输送机900的示意性透视图。回转式输送机900可以具有一个或一个以上平面对114、124,其中根据实施方式1300示出了上部的平面对。例如,根据实施方式1200的回转式输送机900可以具有两个平面对114、124,其中每个平面可以具有一个或一个以上形状锁合轮廓。
联接设备对302可以具有第一联接设备104中的一个第一联接设备,该第一联接设备对于每个平面对114、124在平面对114、124的第一平面114中具有形状锁合轮廓104f。联接设备对302对于每个平面对114、124可以具有一个第二联接设备104,该第二联接设备在平面对114、124的第二平面124中具有形状锁合轮廓104f。
在距联接设备对302一定间距处,可以设置有第一联接设备104中的一个额外的第一联接设备,该额外的第一联接设备对于每个平面对114、124具有形状锁合轮廓104f,该形状锁合轮廓设置在平面对114、124的第一平面114中。
联接设备104的每一个联接设备例如可以具有两个形状锁合轮廓104f,其中,例如一个形状锁合轮廓104f设置在第一平面对中,而另一个形状锁合轮廓104f设置在第二(zweien)平面对中(例如,彼此重叠地设置)。这更好地稳定了基底载体。
如上所述,联接设备104的每一个联接设备对于每个平面对可以具有锁定设备1102。例如,可以为联接设备104的两个形状锁合轮廓104f的每一个形状锁合轮廓存在锁定设备1102。这两个锁定设备1102可以借助相同的连杆如下地联接,例如使得其同时在第一状态和第二状态之间改变。
联接设备对302的第一联接设备104例如可以在所述下部平面对的第一平面114(见图12)中具有下部形状锁合轮廓104f,并且在所述上部平面对的额外的第一平面114(见图13)中具有额外的第一形状锁合轮廓104f。此外,联接设备对302的第二联接设备104可以在所述下部平面对的第二平面124(见图12)中具有第二形状锁合轮廓104f,并且在所述上部平面对的额外的第二平面124(见图13)中具有额外的第二形状锁合轮廓104f。
图14示出了根据不同实施方式1400的回转式输送机900的示意性的透视性剖视图,其中,锁定设备1102在第一锁定状态中(即关闭),因而形状锁合地耦联的基底载体的锁定建立。
图15示出了根据不同实施方式1500的回转式输送机900的示意性透视图,其中,锁定设备1102在第二锁定状态中(即打开),因而形状锁合地耦联的基底载体的锁定解除。
图16示出了根据不同实施方式1600的回转式输送机900的示意性网格示图,其中,锁定设备1102在第一锁定状态中。如实施方式1600中所示,锁定设备1102的卡箍还可以具有两个四边形轮廓1606(例如板)和保持在其中的销栓1604(也称为横向闩锁)(在这种情况下也称为滑动件)。横向闩锁也可以只紧固在一个或一个以上四边形轮廓上(也称为滑动件)。
配合联接设备414的销栓可以变细地设置。这简化了耦联和/或锁定,例如因为卡箍可以更容易地推到配合联接设备414的销栓上。例如,销栓414的侧壁可以以角度1602相互聚拢地延伸。角度1602例如可以在约1°到约10°的范围内、例如3°或更小。约10°或更小的角度实现了锁定设备1102的自锁并因此实现了牢固的连接。配合联接设备414的销栓例如可以至少部分是锥形的,例如可选地具有倒圆的尖端。
转筒式涂层设施(也称为鼓式涂覆机或箱式涂覆机)的转筒100习惯性地通过手动或通过机器人高成本地装备基底。手动装备导致较低的主要成本但较高的次要成本。为了手动装备必须对处理室通风,并且随后必须再次自由溅射阴极(也称为溅入)。而机器人技术成本高、昂贵且缓慢。
借助本文所述的回转式输送机运输轮100,在处理进行时(例如在高真空下)可以将基底载体400联接到转动的回转式输送机运输轮100上,但也可以从其上重新松脱。耦联和断联工艺的时间可以在1秒的数量级中。此外,各个基底载体可以选择性地断联,而一个或一个以上基底载体保持耦联在转筒100上。这例如能够实现的是:使用基底假体(例如基底或淘汰的基底形式的占位器),其继续保留在回转式输送机运输轮100上并且不必被引出。换而言之,回转式输送机运输轮100的整个周边不必总是被优质材料占据,而是也可以部分地由占位器占据。
本文提供的闭锁机构1102、1202(包括锁定设备1102和锁定机构1202)实现了:每个基底载体400可以相对回转式输送机运输轮牢固且安静地保持。当离心力高时,这特别是例如在较高转速下使组件稳定。
具有卡箍的锁定设备1102提供了简化的和由此牢固的且价格上有利的结构。
在运行中,将基底载体400(也称为载体)切向于回转式输送机运输轮100地引导到其上。为此,回转式输送机运输轮100的周向速度可以等于基底载体400的运输速度。铰链栓414可以借助回转式输送机运输轮100(也以简称为转筒)的叉形件(也称为载体接收部)接收,由此封锁了5个自由度。只有径向的平移自由度是开放的。通过以下方式封锁径向的平移自由度,即,将横向闩锁1604引入到铰链栓414的后面。
更一般地说,在第一锁定状态中可以比在第二锁定状态中(例如,在该第二锁定状态中基底载体的至少一个自由度是自由的)封锁基底载体的更多的(例如所有)自由度。
锁定设备(例如滑动件)例如可以仅借助重力运行,使得驱动器和传感技术可以省略。锁定设备(例如滑动件)可以是转筒100的构件并在其旋转运动中在圆形轨道上运动。基底载体应耦联或断联的区域(也称为引入点或引出点)在真空室中是位置固定的,如将在后面更详细描述的那样。
这能够实现的是:在打开过程中借助隆起(例如具有凸轮盘)将滑动件向上压。滑动件被重力向下压以闭锁滑动件。隆起(例如凸轮盘)例如在引出点或引入点之后再次下降,并且滑动件向下降。
联接设备104的每一个联接设备可以具有两个或更多个滑动件(或横向闩锁),例如上方一滑动件、下方一滑动件和/或对于每个形状锁合轮廓至少一个滑动件。这确保了均匀的关闭、保持和打开。
锁定机构1202可以借助滚柱引导,从而可以很大程度上避免滑动摩擦。联接设备对302可以设置在基底载体的分离点处。这实现了,载体外壳可以被断联,并且载体可以可靠地与转筒分离(即,它们可以彼此分开地被耦联或断联)。
借助锁定设备基于重力的保持和锁定(也称为闭锁)通过简化的机械结构实现,并且能够实现省去驱动器、传感器、线缆、套管等。
锁定机构1202的支承借助滚柱减少了磨损和滑动摩擦。
图17A至17H分别示出了根据不同实施方式1700a至1700h的输送组件1700的示意性俯视图,其具有根据不同实施方式的回转式输送机900和一个或一个以上线性输送机1702(换而言之,不一定必须存在两个线性输送机1702)。如图所示,可以提供各种结构,以提供用于一个或一个以上基底载体朝向回转式输送机运输轮100和/或远离其的运输路径711。
运输路径711例如可以交叉延伸(参见图17A或图17B)。这能够实现用于涂层设备的更多空间,这是因为回转的一半以上(例如约3/4)可以用于涂层设备,如下文更详细描述的那样。
下文将关联真空组件涉及输送组件1700和/或回转式输送机900。可以理解的是,输送组件1700和/或回转式输送机900也可以单独提供,即,不一定必须是真空组件的一部分。
图18示出了根据不同实施方式的真空组件1800的示意性俯视图,其具有根据实施方式1700b的输送组件1700。真空组件1800还可以具有一个或一个以上真空室1802、1804、1806。
根据不同实施方式,真空室可以借助室壳被提供或将被提供,在该室壳中可以提供或将被提供一个室或多个室。所述室壳例如可以与泵系统804、例如真空泵组件(例如导气地)联接以提供负压或真空(真空室壳)并稳定地设置,使得其承受住泵出状态中的气压作用。泵组件(具有至少一个真空泵、例如高真空泵、例如涡轮分子泵)能够实现:从处理室内部、例如从处理空间泵出一部分气体。与此对应地,在一个室壳中可以提供一个或多个真空室。
所述或每个真空室壳例如可以与泵系统804(具有至少一个粗真空泵并且可选地具有至少一个高真空泵)联接。泵系统804可以设置为,从在其中提供的所述或每个室的真空壳中抽出气体(例如工艺气体),使得在真空室壳内可以提供或将提供真空(即,小于0.3bar的压力)或更低,例如在约1mbar至约10-3mbar范围内(换而言之,中度真空)的或更低的压力,例如在约10-3mbar至约10-7mbar(换而言之,高真空)的或更低的压力,例如低于高真空的压力,例如小于约10-7mbar(换而言之,超高真空)。工艺压力可以由工艺气体的平衡构成,该工艺气体借助气体供应设备供应并借助泵系统804抽出。
真空组件1800例如可以具有第一真空室1802(也称为处理室),在该第一真空室中设置有回转式输送机运输轮100、第一线性输送机1702和第二线性输送机1702。第一线性输送机1702和第二线性输送机1702(例如它们的导轨)可以彼此相交,使得运输路径711交叉延伸。第一线性输送机1702可以提供运输路径711的朝向回转式输送机运输轮100的第一区段711a(也称为第一运输区段),并且第二线性输送机1702可以提供运输路径711的远离回转式输送机运输轮100的运输路径711的第二区段(也称为第二运输区段)(通过箭头表示),或者反过来。
在第一运输区段711a和第二运输区段711b之间,运输路径711可以具有第三区段(也称为第三运输区段711c或处理区段711c)(沿着回转式输送机运输轮100的周边观察)。第三运输区段711c例如可以具有约270°的曲率。沿着处理区段可以实现对基底的处理、例如涂层。为此可以在处理室1802(也称为处理区域)的与处理区段711c邻接的内部空间中设置一个或一个以上处理设备1810。通常,处理设备1810可以设置为用于处理(例如,包括加热、涂层和/或化学改变等)基底。例如,处理设备1810可以设置为用于通过由处理设备1810提供的涂层材料(则也称为涂层设备或涂层材料源)来为基底涂层。
根据不同实施方式,所述涂层材料源可以设置为用于为至少一个基底(即一个基底或多个基底)涂层,该基底例如被运输穿过处理区域。例如,涂层材料源可以设置为用于提供气态涂层材料(材料蒸气)和/或液体涂层材料,该涂层材料例如可以在至少一个基底上沉积以构成层。涂层材料源可以具有以下中的至少一种:溅射设备、热蒸发设备(例如激光束蒸发器、电弧蒸发器、电子束蒸发器和/或热蒸发器)、前体气体源、液相雾化器。溅射设备可以设置为用于借助等离子体雾化涂层材料。热蒸发设备可以设置为用于借助热能蒸发涂层材料。根据涂层材料的性质,对于热蒸发、即液态(液相)到气态(气相)的热转化可选地或附加地,也可以发生升华、即固态(固相)到气态的热转化。换而言之,热蒸发设备也可以升华涂层材料。液相雾化器可以设置为用于从液相施设涂层材料、例如染料。下文将涉及作为涂层设备的溅射设备。然而所描述的内容也可以类似地适用于其它设置的涂层设备。
涂层材料例如可以具有以下材料中的至少一种或由其构成:金属;过渡金属、氧化物(例如金属氧化物或过渡金属氧化物);电介质;聚合物(例如,碳基聚合物或硅基聚合物);氮氧化物;氮化物;碳化物;陶瓷;半金属(例如碳);钙钛矿;玻璃或玻璃状材料(例如,硫化玻璃);半导体;半导体氧化物;半有机材料和/或有机材料。
真空组件1800例如可以具有第二真空室1804(也称为第一闸室或第一闸),其可以设置在第一闸阀1816a和附加的第一闸阀1826b之间。第一闸阀1816a可以将第一闸室与处理室1802联接。可以在第一闸室1804中设置延续第一运输区段711a的线性输送机。
真空组件1800例如可以具有第三真空室1806(也称为第二闸室或第二闸),其可以设置在第二闸阀1816b和附加的第二闸阀1826a之间。第二闸阀1816b可以将第二闸室与处理室1802联接。可以在第二闸室1806中设置延续第二运输区段711b的线性输送机。
如上所述,可以存在至少两个彼此延续的线性输送机(即,提供运输路径711的公共区段),其中,在两个线性输送机之间设置有闸阀。显然两个线性输送机中的一个线性输送机设置在处理室1802中并且提供两个运输区段711a、711b中的一个,而两个线性输送机中的另一个线性输送机设置在闸室中。在两个线性输送机中的这种功能分离(也称吞吐量为吞吐量结构)便于彼此独立地操控它们(例如它们的驱动设备),使得基底载体位置固定地保持在所述闸室中,而处理室1802中的基底载体朝向回转式输送机运输轮100或远离其运输。这便于有节拍地运输较多数量的基底载体并使其与回转式输送机运输轮100的回转节拍协调一致(即,使运输同步化)。
但是也可以使用具有两个区段(也称为线性输送机区段)的线性输送机,其中,闸阀设置在两个线性输送机区段之间。显然两个线性输送机区段中的一个线性输送机区段设置在处理室1802中并且提供两个运输区段711a、711b中的一个运输区段,而两个线性输送机区段中的另一个线性输送机区段设置在闸室中。两个线性输送机区段的功能单元(也称为简化结构)便于彼此联接地操控它们(例如它们的驱动设备),从而简化了操控。然而在这种情况下需要的是:当处理室1802中的基底载体被朝向回转式输送机运输轮100或远离其运输时,在闸室中可以不设置基底载体。
下面示例性地涉及简化结构或吞吐量结构。对于线性输送机区段所描述的内容当然可以类似地适用于相应地可彼此独立操控的线性输送机,其代替线性输送机区段被使用,或者反过来。
图19示出了根据不同实施方式1900的真空组件1800的示意性复试图,其具有根据实施方式1700a的输送组件1700,其中,两个线性输送机1702相继设置。例如,第一运输区段711a和第二运输区段711b可以彼此邻接、例如在它们与回转式输送机运输轮100或者说第三运输区段711c邻接的部位处彼此邻接。
这实现了,第三运输区段711c例如可以具有大于约270°的曲率、例如约360°。这同样实现了路段的增大,沿着该路段可以实现所述处理。
在下文中将涉及根据实施方式1700b的输送组件1700。当然,所描述的内容也可以类似地适用于其它设置的输送组件1700。
图20示出了根据不同实施方式2000的真空组件1800的示意性俯视图,其具有两个根据实施方式1700b的输送组件1700。这实现了:链接成较大的复合结构,该复合结构具有更多数量的处理设备并且因此能够实现较大的层复杂性和/或较大的吞吐量。
根据不同实施方式,可以实现转筒涂层设施的转筒100(也称为鼓式涂覆机)的载体的装备,该载体无机器人地结合在壁(转筒的外壳)上。
载体可以单独地卷绕到转筒100上或再从其上退卷,而不必使处理室通风。载体可以切向于转筒经由闸室1804、1806引入。这通常可以交叉或按顺序实现。
如果载体交叉地引入,则还可以节省出闸和入闸的时间,这实现了生产时间的提高。通过省略室通风的中间步骤也可以省去溅射的中间步骤。
图21示出了根据不同实施方式2100的真空组件1800的示意性俯视图,其中,输送组件具有转辙器2102,该转辙器设置在线性输送机1702和回转式输送机运输轮100之间。
转辙器2102可以设置为,可以在两种状态之间改变,其中,转辙器2102在第一状态中(也称为第一转辙状态)贴靠在回转式输送机运输轮100上,而在第二状态中(也称为第二转辙状态)与回转式输送机运输轮100的间距大于在第一转辙状态中的间距。
为了改变转辙状态(在第一和第二转辙状态之间),例如可以使转辙器2102的引导轮廓转移2101、例如沿着方向105或横向于方向105。转辙状态的改变例如可以借助转辙器2102的执行器来进行。引导轮廓沿着方向105的转移例如可以通过以下方式实现,即,引导轮廓绕旋转轴线旋转。为此,转辙器2102可以具有旋转轴承,引导轮廓借助该旋转轴承可旋转地支承。
引导轮廓例如可以具有轨道形的载体(这里也以简化的形式称为轨道或导轨)。引导轮廓例如可以(例如,可旋转地)支承在端部区段上,使得其设置为轨道形悬臂梁,如下文更详细描述的那样。提供运输路径的区段的纵向延伸的主体可以理解为导轨。
所述或每个导轨例如可以具有塑料或由其构成。这减少了磨损。
图22示出了根据不同实施方式2200的真空组件1800的示意性透视图,其具有在第一线性输送机与回转式输送机运输轮100之间的第一转辙器2102和在第二线性输送机与回转式输送机运输轮100之间的第二转辙器2102。转辙器2102示出为处于第二转辙状态(即打开)。
下文将涉及转辙器之一和线性输送机之一,这分别可以适用于两个转辙器或线性输送机(如果存在)。
转辙器2102可以具有两个轨道形的悬臂梁2202,其中每个悬臂梁2202可以借助转辙器2102的传动装置2204(例如具有偏心轮、曲轴或曲柄杠杆)转移,并且可以借助接头2206(例如具有旋转轴承)支承。如果将转辙器2102引入到第二转辙状态中(也称为打开转辙器),则两个轨道形的悬臂梁2202可以远离彼此旋转。如果将转辙器2102引入到第一转辙状态中(也称为关闭转辙器),则两个轨道形的悬臂梁2202可以朝向彼此旋转。
在第一转辙状态中,悬臂梁2202可以延续线性输送机1702的上部或下部导轨2210或将其沿着运输路径与回转式输送机运输轮100连接。悬臂梁2202可以在第二转辙状态中中断运输路径。
线性输送机1702可以具有导轨2210和一个或一个以上齿轮2212(也参见下文的描述),用于将平移传递到借助线性输送机1702保持的基底载体400上。所述或每个齿轮2212可以是线性输送机1702的驱动系的一部分,该线性输送机还包括用于驱动齿轮2212的驱动设备(例如电机)。所述或每个齿轮2212可以设置为,使得该齿轮通过其齿接合到基底载体400的销齿传动杆中,如将在后面更详细描述的那样。
下文将示例性地涉及具有传动装置的转辙器2102。当然,所描述的内容可以类似地应用于其它设置的转辙器2102。传动装置2204能够实现平移和旋转之间的转化和/或转换,以便简化转辙器的轨道的转移。真空组件1800例如可以具有驱动设备(例如电机),其设置为将运动(例如旋转)传递到传动装置2204上。转辙器的驱动设备例如可以设置在真空室之外(例如大气中),使得该驱动设备的运动可以借助真空连接件(Vakuumdurchfuehrung)(例如旋转连接件(Drehdurchfuehrung))传递到传动装置上。然而原则上也可以省去传动装置,例如当由驱动设备产生的力直接传递到转辙器上时。
图23示出了根据不同实施方式2300的真空组件1800的示意性透视图,其中实施方式2200的转辙器2102示出为处于第一转辙状态(即,关闭)。
图24示出了根据不同实施方式2400的真空组件1800的示意性俯视图,其中实施方式2300的转辙器2102处于第一转辙状态。转辙器2102可以在第一转辙状态中例如以其轨道2202与路径邻接,当回转式输送机运输轮100旋转时,滚柱对410的滚柱之间的间隙沿着该路径运动。
更一般地说,转辙器2102和基底载体400可以相对彼此设置为,使得当基底载体借助回转式输送机运输轮100运输时,转辙器2102在其处于第一转辙状态中时接合到基底载体400的滑架406中。这实现了开始退卷。
图25示出了根据实施方式2400的真空组件1800的示意性俯视图,其中回转式输送机运输轮100示出为相对实施方式2400在稍后的时间点,因此其旋转了一段。
借助接合,滑架406可以由回转式输送机运输轮100沿着转辙器2102的轨道2202引导,或者从第三运输区段711c引导到第二运输区段711b上(也称为退卷)。因此,基底载体400从回转式输送机运输轮100松脱(即,断联)。
沿相反的运输方向,滑架406可以在转辙器处于第一转辙状态时由该转辙器2102的轨道2202引导到回转式输送机运输轮100上,或者由第二运输区段711b引导到第三运输区段711c上(也称为退卷)。因此,基底载体400结合(即,耦联)到回转式输送机运输轮100上。
这实现了,载体(也称为基底载体)从平移运动到旋转运动自动地引导到转筒上。这例如可以在不必对室通风并且转筒不必由旋转运动到静止状态的情况中实现。这因此实现了流程。
载体例如经由轨道系统被引导至转筒,并且随后经由转辙器结合到转筒的接收点。转辙器例如具有铰接条作为导轨。转辙器例如具有接头和接收部以便关闭和打开。在结合过程之后,转辙器可以再被打开,以免转筒连同载体在涂层工艺中被干扰。
为了执行出闸工艺,可以关闭转辙器,并且可以将载体强制地从旋转运动引导引到平移运动中并且因此使其被迫出闸。
转辙器例如可以具有曲柄连杆机构作为传动装置。此外,旋转连接件是成本上有利的。此外,用于控制转辙器(例如具有终端开关)的传感器系统可以设置在真空室之外。这简化了结构。
下文将探讨驱动机构,该驱动机构借助销齿传动杆和齿轮2212的交错连接(也称为销齿传动杆啮合)来提供。
图26示出了根据不同实施方式2600的基底载体400的示意性横剖视图(沿运输方向观察),其简化了销齿传动杆的结构。
销齿传动杆的所述或每个销栓轴504可以借助配合螺纹件(也称为柱体销螺纹件)来提供。这简化了结构。配合螺纹件可以在一个端部区段上具有螺纹并且在对置的端部区段上具有所谓的配合件2604(螺栓头),在其之间设置有柱形区段。螺母2602可以拧到螺纹上,使得侧壁516设置在配合件2604和螺母2602之间。在侧壁之间可以构成凹槽,配合螺纹件的柱形区段穿过该凹槽延伸。
例如,可以使用提供凹槽和侧壁516的U形载体。
图27示出了根据不同实施方式2700的输送组件1700的示意性横剖视图(横向于运输方向111观察),其能够实现简化的结构。
输送组件1700的所述或每个线性输送机1702(例如其驱动系)可以具有一个或一个以上用于借助齿缘2212和基底载体400的销齿传动杆652的交错连接将平移传递到基底载体400上的齿轮2212。输送组件1700的所述或每个线性输送机1702(例如其驱动系)还可以具有用于驱动所述或每个齿轮2212的驱动设备2706(例如具有电机)。驱动设备2706可以设置为,向所述或每个齿轮2212供应扭矩。
所述或每个齿轮2212可以设置为,使得其以其齿接合到基底载体400的销齿传动杆中(例如在其销栓之间)。
输送组件1700还可以具有控制设备2704,其设置为,操控驱动设备2706、例如其输出的扭矩。此外,线性输送机1702可以具有一个或一个以上传感器2702(也称为运输传感器2702),其设置为,检测基底载体400的运输过程。
控制设备2704可以设置为,操控运输传感器2702,对其检测的测量变量作为输入变量进行处理、并且基于此提供电信号作为输出变量,该电信号代表检测时刻输入变量的状态。所述检测通常可以光学地、机械地、电气地和/或磁性地(例如感应地)进行。
运输传感器2702例如可以设置为,检测代表基底载体400的位置和/或速度的物理变量。基底载体400的检测通常可以光学地、机械地、电气地和/或磁性地(例如感应地)进行。例如,运输传感器2702也可以设置为用于机械(例如,如终端开关那样)检测或用于电磁检测。
可选地或附加地,运输传感器2702可以设置为,检测代表齿轮2212的位置和/或速度的物理变量。例如,运输传感器2702可以借助驱动设备2706的驱动齿轮2212的伺服电机的译码器提供。对于基底载体400的位置或速度而言可选地或附加地,后者简化了齿轮的位置或速度的检测。但是可选地或附加地,也可以实现齿轮的直接检测,例如光学地、机械地、电气地和/或磁性地(例如感应地)、例如借助光栅进行,其光束被旋转的齿周期性中断。
伺服电机可以理解为一种驱动设备,其设置为用于检测其电机轴的角位置、转速和/或加速度。伺服电机可以具有电动机并且可以具有用于检测该电动机的电机轴(例如其角位置、转速和/或加速度)的运输传感器。控制设备(其实施所谓的伺服调节器)可以基于由传感器检测的电动机的电机轴(即,其检测状态)和一个或一个以上额定值(例如电机轴的额定角位置、电机轴的额定转速和/或电机轴的额定加速度)来操控电动机,从而实施调节回路。
如果译码器足以用作运输传感器2702,则可以省去真空中的额外的运输传感器2702。例如,伺服电机可以借助真空连接件与齿轮联接。
对于伺服电机可选地或附加地,也可以使用步进电机,这能够实现的是,可以省去传感器系统和调节回路。换而言之,运输传感器2702也可以被省去,例如当驱动设备具有步进电机时。
在另一示例中,运输传感器2702可以设置为用于检测基底载体400。例如,运输传感器2702可以具有光栅,其检测由于基底载体400引起的光束的中断。下文将示例性涉及作为运输传感器2702的光栅。当然,所描述的内容可以类似地适用于其它设置的运输传感器2702。
光栅能够实现简化的结构。例如,光栅可以设置为检测两个彼此直接相邻的销齿传动杆之间的间隙或两个直接相继运输的基底载体400之间的间隙。
控制设备2704可以设置为,基于借助传感器2702检测的运输过程、即运输过程的实际状态来操控线性输送机1702的驱动设备2706。可选地或附加地,控制设备2704可以设置为,基于借助传感器2702检测的运输过程、即运输过程的实际状态来操控回转式输送机900的驱动设备。该操控例如可以如下地进行,即,使得回转式输送机运输轮100的周向速度等于借助线性输送机1702运输的基底载体400的运输速度。这借助回转式输送机900和借助线性输送机1702使运输同步化。
销齿传动杆啮合提供了简化的、牢固且形状锁合的驱动形式。例如,在载体结合到转筒上的过程中,销齿传动杆啮合防止打滑错误。此外,销齿传动杆(或载体)的位置可以借助伺服电机的译码器检测。这能够实现,不一定在真空中需要额外的传感器。
所述或每个载体例如可以被运输到确定位置而不打滑。借助运输传感器2702可以使测量误差最小化。传动系还可以减少到最小。销齿传动杆啮合(例如其旋转轴承)还减少了耗损或磨损,这减少了颗粒的负荷。
在一示例中,载体经由销齿传动杆轨道系统引导至转筒,并且随后经由转辙器结合到转筒的接收点上。销齿传动杆则是载体的一部分。这些销齿传动杆具有松动的塑料制的轴承套筒。载体可以在该轴承套筒上滚动。在此,滚动摩擦和形状锁合驱动联合。可选地或附加地,所述或每个导轨由低磨损的塑料制成。销齿传动杆的轴承套筒在其上滚动,这减少了磨损。
驱动系可以具有真空旋转连接件,要供应给销齿传动杆的驱动能借助该真空旋转连接件穿过真空室的室壁。此外,传感器技术可以工艺可靠地设置在真空室之外。
如图27所示,线性输送机1702可以具有两个导轨(也称为上轨道和下轨道),在其之间运输基底载体400。通过上轨道和下轨道能提供非常均匀的运输过程、例如加速度,这是因为防止了倾翻作用。
这实现了:载体的强烈加速和快速的操作,这是因为防止了打滑和倾翻作用。此外,无需复杂的SBS来实施对运输过程的控制或调节。
图28示出了根据不同实施方式2800的真空组件1800的示意性透视图。真空组件1800的所述或每个线性输送机1702的导轨2210可以具有多个在空间上彼此分离的段2804(也称为轨道段)。换而言之,导轨2210可以具有一个或一个以上中断部2802(即,被中断)。
例如,闸室1806、1804中的线性输送机区段可以具有一个或一个以上轨道段。可选地或附加地,处理室1802中的线性输送机区段可以具有一个或一个以上轨道段。
在所述或每个线性输送机区段的两个彼此直接相邻的段2804之间例如可以设置有齿轮2212。例如,齿轮2212可以穿过中断部2802接合。可选地或附加地,闸阀1816a、1816b可以设置在两个彼此直接相邻的线性输送机区段之间。
图29示出了根据不同实施方式2900的真空组件1800的示意性横剖视图(横向于运输方向111观察),其示出了简化的结构。
用于运行真空组件1800的方法可以包括:借助线性输送机1702将基底载体400向回转式输送机运输轮100运输;并将基底载体400耦联到回转式输送机运输轮100上。
基底载体400到回转式输送机运输轮100的运输可以包括:将转辙器2102引入或将引入到第一转辙状态,并且借助转辙器2102将基底载体400从线性输送机1702转移到回转式输送机运输轮100上。
基底载体400的耦联可以包括:当回转式输送机运输轮100的锁定设备处于第二锁定状态(即,打开)时,将基底载体400的配合联接设备与回转式输送机运输轮100的联接设备结合到一起(包括接触);并且当基底载体400的配合联接设备与回转式输送机运输轮100的联接设备结合到一起时,将锁定设备引入到第一锁定状态中(也称为关闭)。
基底载体400的一个或一个以上(到那时还自由的)自由度可以通过以下方式封锁,即,将基底载体400的配合联接设备与回转式输送机运输轮100的联接设备结合到一起。基底载体400的至少一个或一个以上(到那时还自由的)额外的自由度可以通过以下方式封锁,即,将锁定设备引入到第一锁定状态中。
图30示出了根据不同实施方式的回转式输送机900的在方法3000中的示意性俯视图。联接设备104(例如其形状锁合轮廓104f和/或其锁定设备1102)可以设置为,使得其与基底载体400的接合构成旋转接头。换而言之,当联接设备104与基底载体400的配合联接设备结合到一起时和/或当锁定设备1102处于第一锁定状态中时,可以为基底载体400、例如其框架408提供或将提供至少一个旋转自由度。
这实现了:当所述或每个支撑框架408(或者每个节段)借助联接设备104仅在一侧上耦联时,该支撑框架(或者每个节段)可以相对于回转式输送机运输轮100旋转3001。如果框架408(或者节段)在彼此对置侧上耦联到回转式输送机运输轮100,则框架408(或者节段)的更多(例如全部)自由度可以被封锁。
例如,基底载体400(没有任何引导或耦联)可以具有通常的三个平移自由度和三个旋转自由度。此外,基底载体400对于每个在两个载体节段之间的旋转连接可以具有一个额外的自由度(也称为节段自由度)(显然是载体节段中的两个载体节段之间的角度,其可以改变)。因此,具有三个节段的基底载体400可以具有8个自由度。
基底载体400的端侧的(最前侧的)配合联接设备414与联接设备104在3011中的形状锁合的结合可以在两侧封锁基底载体400的两个平移自由度并且封锁该基底载体的两个旋转自由度。如果建立相应的锁定,则可以在两侧封锁第三平移自由度(远离回转式输送机运输轮100)。更一般地说,在锁定设备的第一状态中可以比在该锁定设备的第二状态(在所述第二状态中,例如基底载体的至少一个节段自由度或至少一个平移自由度在一侧是自由的)中封锁更多的基底载体的自由度。
在3013中,回转式输送机运输轮100可以旋转,直到基底载体400的下一个配合联接设备414与回转式输送机运输轮100的联接设备104接触。对于基底载体400的下一配合联接设备414之一在3103中与联接设备104的每个形状锁合结合以及锁定的建立,可以封锁基底载体400的一个节段自由度。这可以重复,直到基底载体400端侧的后部配合联接设备414与回转式输送机运输轮100的联接设备104接触。
基底载体400的后部配合联接设备414与联接设备104在3015中的形状锁合结合以及锁定的建立可以封锁基底载体400的最后一个自由度。
借助方法3000的顺序3011、3013、3015可以将基底载体400卷绕(即,基底载体的各节段彼此依次耦联)。沿顺序3011、3013、3015的相反方向,可以将基底载体400退卷(即,基底载体的各节段彼此依次地断联)。
图31示出了根据不同实施方式的输送组件1700在方法3100中的示意性俯视图。输送组件1700可以具有可调整的斜坡3102。
斜坡3102可以设置为,能够在两种状态之间改变,其中斜坡3102在第一状态(也称为第一斜坡状态)中在回转式输送机运输轮100旋转时操纵3111锁定机构1202,并且在第二状态(也称为第二斜坡状态)中与锁定机构1202的间距大于在第一斜坡状态中的间距。例如,斜坡3102可以设置为可倾斜的或高度可调整的。斜坡3102的(例如机械的)调整例如可以借助调节机构实现。
在第一斜坡状态中(在3103中),锁定机构1202可以被操纵或将被操纵为,使得锁定被解除。在第二斜坡状态中(在3101中),锁定机构1202不会被操纵或将被操纵,或者其可以在回转式输送机运输轮100旋转时不接触地经过斜坡,使得锁定得以维持。
斜坡3102的调整和转辙器2102的调整例如可以共同实现或彼此联接或同步。
如果转辙器2102被引入到或将被引入3101到第二转辙状态中,则斜坡3102可以被引入或将被引入到第二斜坡状态中。这实现了,当转辙器未接合到滚柱对(未示出)的间隙中时或者第一运输区段711a和/或第二运输区段711b中断时,锁定被维持。
如果转辙器2102被引入到或将被引入3103到第一转辙状态中,则斜坡3102可以被引入或将被引入到第一斜坡状态中。这实现了,当转辙器接合到滚柱对(未示出)的间隙中时或者第一运输区段711a和/或第二运输区段711b建立时,锁定被解除。然后基底载体可以被退卷。沿相反方向可以进行卷绕。
图32示出了根据不同实施方式的方法3200的示意性流程图。
基底载体可以具有向着运输方向的第一侧(也称为第一端侧)和来自运输方向的第二侧(也称为第二端侧)。第一端侧和第二端侧可以彼此对置。
方法3200可以包括:在3201中,将基底载体耦联到设置在真空中的回转式输送机运输轮上;并且在3205中,将基底载体与设置在真空中的回转式输送机运输轮断莲,其中,在基底载体的第一侧上开始基底载体的耦联和断联;和/或在基底载体的第二侧上结束基底载体的耦联和断联。
方法3200可以包括:在3203中处理由耦联到回转式输送机运输轮的基底载体承载的一个或一个以上基底,其中,在处理时使回转式输送机运输轮旋转。处理例如可以包括用涂层材料对所述或每个基底进行涂层。
所述或或每个基底的处理(例如涂层)可以沿着回转式输送机运输轮每转一圈回转的一半以上(例如四分之三)进行。所述回转可以对应360°的回转角度,其中,回转的一半则对应180°的回转角度。所述处理可以沿着第三运输区段711c实现,该第三运输区段具有每转一圈回转的一半(对应于180°的回转角度)以上、例如每转一圈回转的四分之三(对应270°的回转角度)以上。
通常,所述处理可以包括以下一项或一项以上:加热、涂层、照射、冲刷(例如清洁)和/或化学改变。可以借助一个或一个以上处理设备1810(例如,每个回转)进行所述处理。所述或每个基底的处理可以按照顺序进行,例如每个回转多次或借助多个回转。例如,可以将所述或每个基底运输穿过由一个或一个以上涂层设备发射的气态涂层材料。所述涂层例如可以借助物理气相沉积进行。
基底载体可以在耦联之前沿着第一运输区段711a运输并且可以在断联之后沿着第二运输区段711b运输,或者反过来。第一运输区段711a和第二运输区段711b可以彼此不同,例如在长度、位置、走向、起点和/或终点方面。
可选地或附加地,第一运输区段711a和第二运输区段711b可以在至少一个点上彼此毗邻或者在该点处交叉。
如本文所述,基底载体的耦联可以包括:将基底载体的多个节段彼此依次耦联(也称为卷绕)。如本文所述,基底载体的断联可以包括:将基底载体的多个节段彼此依次断联(也称为退卷)。
基底载体的耦联可以包括:将基底载体的联接器与回转式输送机运输轮锁定(例如,借助锁定设备的关闭)。基底载体的断联可以包括:将基底载体的联接器与回转式输送机运输轮的锁定解除(例如,借助锁定设备的打开)。
在回转式输送机运输轮旋转和/或在真空中期间,可以进行基底载体的断联和/或基底载体的耦联。
基底载体的断联可以在另一基底载体耦联之后或之前进行、例如在回转式输送机运输轮旋转一圈之前。
图33示出了根据不同实施方式的方法3300的示意性流程图。方法3300可以包括:在3301中,借助引导轮廓沿着运输路径引导基底载体;并且在3303中,借助啮合产生基底载体的进给运动(换而言之,运输运动的驱动)。
以下说明了真空组件或方法的示例值:可同时耦联的基底载体:24件(这具有的优点是:数字24可多次分割)。因此,可以将8个三个一组载体放置在一起);基底载体的耦联/断联时间:12个基底载体约12分钟;涂层窗口:约650mm(毫米)x 360mm(高度x宽度);回转式输送机运输轮的安装面积:约4100mm x 6200mm x 2800mm(长度x直径x高度);回转式输送机运输轮的转速范围:约10至100转每分钟(U/min);涂层时间:约100转,这在100U/min时对应于0.025s/基底载体或1/40秒;回转式输送机运输轮上的基底载体在100U/min时的速度约为886m/min。
下面描述与前面所描述的内容和在附图中示出的内容有关的各种示例。
示例1是一种回转式输送机运输轮,其具有:支架,回转式输送机运输轮可以可旋转地支承在该支架上;多个联接设备,这些联接设备设置在支架的外周边上,并且这些联接设备中的每个联接设备具有至少一个用于形状锁合地耦联基底载体的形状锁合轮廓,其中,所述多个联接设备具有一对联接设备,其形状锁合轮廓沿着(例如投影到周边的路径上的)周边(的例如一个方向)彼此之间的间距小于(例如无间距)与直接相邻该对的多个联接设备的形状锁合轮廓的间距,其中,该对形状锁合轮廓例如沿着周边(的一个方向)彼此(例如侧向)错开地(即在沿着周边的路径的彼此对置侧上),例如并排地(例如沿着路径没有间距)设置,其中,所述对或每对例如具有多个联接设备中的多个(例如等距的)第一联接设备的第一联接设备和多个联接设备中的多个(例如等距的)第二联接设备的第二联接设备。
示例2是一种(例如根据示例1的)回转式输送机运输轮,其具有:支架,回转式输送机运输轮可以可旋转地支承在其上;多个联接设备,这些联接设备设置在支架的外周边上,并且这些联接设备中的每个联接设备具有至少一个(例如两个)用于形状锁合地耦联基底载体的形状锁合轮廓,其中,多个联接设备具有多个第一联接设备,其例如沿着周边(的例如一个方向)彼此之间分别具有间距,并且多个联接设备具有至少一个第二联接设备,多个第一联接设备的(例如与第二联接设备构成一对的)形状锁合轮廓与该第二联接设备的形状锁合轮廓沿着(例如投影到周边的路径上的)周边的(例如一个方向的)间距小于(例如没有间距)与该第二联接设备直接相邻的第一联接设备的(例如,它们的形状锁合轮廓的)间距。
示例3是根据示例1或2的回转式输送机运输轮,其中,形状锁合轮廓中的每个形状锁合轮廓借助凸起或借助空隙提供。
示例4是根据示例1至3之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备具有多对联接设备;其中,每对的形状锁合轮廓沿着周边(例如一个方向)彼此之间的间距小于与设置在多对之间的多个联接设备的形状锁合轮廓的间距;和/或在其间设置有多个等距的联接设备。
示例5是根据示例1至4之一的回转式输送机运输轮,其中,至少一个第二联接设备具有多个第二联接设备,其中,例如每个第二联接设备具有形状锁合轮廓,其与多个第一联接设备之一的形状锁合轮廓的间距小于多个第一联接设备(例如其形状锁合轮廓)彼此之间的间距。
示例6是根据示例1至5之一的回转式输送机运输轮,其中,多个第二联接设备的数量小于多个第一联接设备的数量。
示例7是根据示例6的回转式输送机运输轮,其中,沿着多个第二联接设备的周边的彼此之间的间距大于多个第一联接设备彼此之间的间距;和/或多个第二联接设备的相应彼此直接相邻的联接设备彼此之间具有基本上相同的间距(即它们是等距的)。
示例8是根据示例1至7之一的回转式输送机运输轮,其中,每个第二联接设备的形状锁合轮廓沿着周边(例如所述方向)与多个第一联接设备的一个第一联接设备的形状锁合轮廓的间距小于该第一联接设备的形状锁合轮廓与多个第一联接设备的与该第一联接设备直接相邻的联接设备的形状锁合轮廓彼此之间的间距。
示例9是根据示例1至8之一的回转式输送机运输轮,其中,至少一个第二联接设备的形状锁合轮廓相对(例如所述方向)周边设置在多个第一联接设备之一的形状锁合轮廓旁边。
示例10是根据示例1至9之一的回转式输送机运输轮,其中,至少一个第二联接设备的形状锁合轮廓设置在多个第一联接设备之一的两个形状锁合轮廓之间。
示例11是根据示例1至10之一的回转式输送机运输轮,其中,多个第一联接设备的相应彼此直接相邻的联接设备彼此之间具有基本上相同的间距(即,它们是等距的)。
示例12是根据示例1至11之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备的形状锁合轮廓与柱体毗邻,该柱体的柱体轴线例如设置在回转式输送机运输轮的旋转轴线上。
示例13是根据示例1至12之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备具有多个组,其中每个组具有恰好一个第二联接设备和多个第一联接设备。
示例14是根据示例1至13之一的回转式输送机运输轮,其中,所述支架具有第一平面和第二平面,它们相对回转式输送机运输轮的旋转轴线相继设置,其中,至少一个(例如两个)形状锁合轮廓在第一平面上具有第一形状锁合轮廓并且在第二平面上具有第二形状锁合轮廓。
示例15是根据示例1至14之一的回转式输送机运输轮,其中,多个第一联接设备的形状锁合轮廓彼此等距地设置;并且/或者多个第二联接设备的形状锁合轮廓彼此等距地设置。
示例16是根据示例1到15之一的回转式输送机运输轮,其中,所述支架具有轮毂,回转式输送机运输轮可以围绕旋转轴线可旋转地支承在该轮毂上,
示例17是根据示例16的回转式输送机运输轮,其中,所述轮毂具有提供所述旋转轴线的轴向轴承。
示例18是根据示例1至17之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备围绕轮毂和/或回转式输送机运输轮的旋转轴线设置。
示例19是根据示例1至18之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备中的每个联接设备的形状锁合轮廓借助(例如圆柱体的或抛物线柱体的)柱体面的一段来提供。
示例20是根据示例1至19之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备中的每个联接设备的形状锁合轮廓借助旋转面的一段来提供。
示例21是根据示例1至20之一的回转式输送机运输轮,其中,回转式输送机运输轮运行中的转速在每分钟约10转(U/min)至每分钟约100转的范围内。
示例22是根据示例1至21之一的回转式输送机运输轮,其中,回转式输送机运输轮运行中的周向速度在每分钟约80米至每分钟约900米的范围内。
示例23是根据示例1至22之一的回转式输送机运输轮,其中,至少一个形状锁合轮廓设置为,通过与基底载体的接合提供旋转接头。
示例24是根据示例1至23之一的回转式输送机运输轮,其中,至少一个形状锁合轮廓向着回转式输送机运输轮的旋转轴线拱曲或远离该旋转轴线拱曲。
示例25是根据示例1至24之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备中的每个联接设备的至少一个形状锁合轮廓朝向彼此或远离彼此拱曲。
示例26是根据示例1至25之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备中的每个联接设备具有叉形件或销栓,它们提供形状锁合轮廓。
示例27是根据示例1至26之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备中的每个联接设备具有可以引入到第一状态和第二状态中的锁定设备,其中,在第一状态中,锁定与基地载体的形状锁合的联接,并且在第二状态中,所述锁定被解除,例如所述锁定建立时比所述锁定解除时有更多的联接自由度被封锁;其中,所述锁定设备例如具有用于锁定联接的卡箍。
示例28是根据示例27的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备中的每个联接设备具有锁定机构,该锁定机构设置为:当锁定机构被克服其重力操纵时,将锁定设备引入到第二状态中;和/或借助重物将锁定设备引入到第一状态中。
示例29是根据示例28的回转式输送机运输轮,其中,锁定机构设置为,借助回转式输送机运输轮的旋转运动被操纵。
示例30是根据示例27至29之一的回转式输送机运输轮,其中,多个联接设备(例如它们的锁定设备和/或它们的锁定机构)中的每个联接设备设置为,使得锁定设备可以彼此独立地变到第一状态或第二状态中。
示例31是一种回转式输送机,具有:根据示例1至30之一的回转式输送机运输轮、轴承组件,回转式输送机运输轮借助该轴承组件可旋转地支承。
示例32是根据示例31的回转式输送机,其中,回转式输送机运输轮提供沿着周边的弯曲延伸的运输路径。
示例33是根据示例31或32的回转式输送机,其中,回转式输送机运输轮围绕旋转轴线可旋转地支承,其中,旋转轴线沿重力方向延伸。
示例34是根据示例31至33之一的回转式输送机,还具有:用于承载一个或一个以上基底的至少一个基底载体,其例如根据示例50至74之一进行设置。
示例35是一种输送组件,具有:根据示例31至34之一的回转式输送机、用于提供朝向回转式输送机运输轮的运输路径的第一线性输送机和/或用于提供远离回转式输送机运输轮的运输路径的第二线性输送机,其中,第一线性输送机和/或第二线性输送机根据示例76至87之一设置。
示例36是根据示例35的输送组件,其中,运输路径借助回转式输送机运输轮从第一线性输送机转向第二线性输送机。
示例37是根据示例35或36的输送组件,其中,回转式输送机运输轮的周边的长度大于第一线性输送机和/或第二线性输送机的长度。
示例38是根据示例35至37之一的输送组件,还具有:同步机构,该同步机构将借助第一线性输送机和/或第二线性输送机产生的平移与回转式输送机运输轮的旋转彼此同步。
示例39是根据示例35至38之一的输送组件,其中,运输路径交叉延伸。
示例40是根据示例35至39之一的输送组件,其设置为用于沿着运输路径的双向运输。
示例41是根据示例35至40之一的输送组件,还具有:至少一个可以在两种状态之间改变的转辙器,其中转辙器在第一状态中提供运输路径的朝向回转式输送机运输轮的或远离其的一区段,并且在第二状态中中断运输路径的所述区段,其中,所述至少一个转辙器具有导轨。
示例42是根据示例41的输送组件,其中,至少一个转辙器具有设置在第一线性输送机与回转式输送机运输轮之间的第一转辙器,和/或至少一个转辙器具有设置在第二线性输送机与回转式输送机运输轮之间的第二转辙器。
示例43是根据示例41或42的输送组件,其中,至少一个转辙器具有操纵机构,该操纵机构设置为,在至少一个转辙器的第一状态中操纵回转式输送机运输轮的锁定机构,其中,该操纵机构例如具有隆起(例如斜坡)。
示例44是根据示例41至43之一的输送组件,其中,至少一个转辙器的导轨具有悬臂梁。
示例45是根据示例41至44之一的输送组件,还具有:接头,至少一个转辙器的导轨借助该接头围绕旋转轴线可旋转地支承,该转辙器的旋转轴线横向于回转式输送机运输轮的旋转轴线。
示例46是根据示例41至45之一的输送组件,还具有:传动装置,其设置为,将运动传递到至少一个转辙器的导轨上,该传动装置例如具有真空连接件。
示例47是一种真空组件,具有:根据示例35至46之一的输送组件以及真空室,在该真空室中设置有回转式输送机运输轮、基底载体和/或线性输送机。
示例48是根据示例47的真空组件,还具有:多个涂层设备,其围绕回转式输送机运输轮设置。
示例49是根据示例47或48的真空组件,还包括:其中,真空室具有室壁(例如设置为室盖);其中,真空室例如具有室开口,当室盖和真空室结合在一起时所述室开口是密封的,其中室盖可选地具有壳体,在该壳体中容纳有涂层设备之一。
示例50是一种基底载体,具有:多个(例如成对地)借助旋转连接(例如铰链)彼此连接的节段;以及两个设置在基底载体的彼此对置侧(例如上方和下方)的用于沿着运输路径引导基底载体的滑架。
示例51是一种基底载体(例如根据示例50的基底载体),还具有:多个联接设备(也称为配合联接设备),其中例如每个配合联接设备设置为,与回转式输送机运输轮的多个联接设备中的一个联接设备联接。
示例52是根据示例50或51的基底载体,其中,两个滑架中的至少一个(即一个或一个以上)滑架具有多个驱动齿,和/或例如两个滑架中的一个(即一个或一个以上)滑架具有齿条(例如销齿传动杆),该齿条例如具有多个驱动齿。
示例53是根据示例50至52之一的基底载体,其中,两个滑架中的至少一个(例如两个或每个)滑架(例如基底载体的每个滑架)具有多个销栓(这些销栓例如提供驱动齿),其中每个销栓例如具有旋转轴承。
示例54是根据示例50至53之一的基底载体,其中,多个配合联接设备中的每个配合联接设备具有形状锁合轮廓,该形状锁合轮廓设置在两个滑架之间。
示例55是根据示例50至54之一的基底载体,其中,多个联接设备的两个形状锁合轮廓沿着基底载体的运输路径彼此错开地设置、例如并排设置,其中,两个形状锁合轮廓例如设置在运输路径的彼此对置侧。
示例56是根据示例50至55之一的基底载体,其中,多个配合联接设备中的每个配合联接设备的至少一个形状锁合轮廓设置在基底载体的一侧上,其中,旋转连接的旋转轴线例如设置在该侧上。
示例57是根据示例50至56之一的基底载体,其中,多个配合联接设备沿着基底载体的运输路径彼此之间分别(例如成对地)具有间距。
示例58是根据示例50至57之一的基底载体,其中,多个配合联接设备沿着基底载体的运输路径彼此等距地设置。
示例59是根据示例50至58之一的基底载体,其中,多个配合联接设备具有至少一个第一配合联接设备和至少一个第二配合联接设备,它们的形状锁合轮廓设置为侧向于基底载体的运输路径彼此错开(例如形状锁合轮廓设置为并排投影到横向于运输路径并且设置在形状锁合轮廓之间的面上),和/或它们的形状锁合轮廓(沿着一个方向)横向于基底载体的运输路径彼此之间具有间隔。
示例60是根据示例59的基底载体,其中,至少一个第二配合联接设备具有两个第二配合联接设备,这两个第二配合联接设备设置在基底载体的彼此对置的端侧上。
示例61是根据示例50至60之一的基底载体,其中,两个滑架中的至少一个(例如两个或每个)滑架(例如基底载体的每个滑架)具有一对或一对以上可旋转地支承的滚柱,其(例如,彼此平行设置的)旋转轴线并排设置,其中,例如在滚柱或其旋转轴线之间构成间隙,其中,例如滚柱或其旋转轴线彼此之间具有沿着横向于旋转轴线的方向的间距。
示例62是根据示例50至61之一的基底载体,还具有:沿着运输路径的第一伸展和横向于运输路径的第二伸展,其中,第一伸展和第二伸展基本相同(例如彼此偏差小于20%)。
示例63是根据示例50至62之一的基底载体,其中,多个节段中的每个节段具有框架和紧固在其上的基底保持设备。
示例64是根据示例50至63之一的基底载体,其中,多个节段中的第一节段具有设置在第一节段的对置侧(例如上方和下方)的两个滑架。
示例65是根据示例50至64之一的基底载体,其中,多个节段中的第二节段具有设置在第二节段的对置侧(例如上方和下方)的两个额外的滑架。
示例66是根据示例50至65之一的基底载体,其中,每个节段的多个配合联接设备具有一个配合联接设备以及至少一个额外的配合联接设备。
示例67是根据示例50至66之一的基底载体,其中,每个将两个节段彼此耦联的旋转连接具有铰链或由其构成。
示例68是根据示例67的基底载体,其中,铰链具有多个在空间上彼此分离的铰链段。
示例69是根据示例50至68之一的基底载体,其中,每个旋转连接(例如,其中每个铰链段)具有支撑多个配合联接设备之一的铰链销。
示例70是根据示例50至69之一的基底载体,其中,多个配合联接设备中的每个配合联接设备具有提供形状锁合轮廓的销栓或叉形件。
示例71是根据示例70的基底载体,其中,销栓是变细的、例如以10°(例如3°)或更小的角度。
示例72是根据示例50至71之一的基底载体,其中,一个或每个旋转连接具有销栓,该销栓突出并提供多个配合联接设备之一。
示例73是根据示例50至72之一的基底载体,其中,配合联接设备中的每个配合联接设备具有旋转轴承,该旋转轴承可旋转地支承形状锁合轮廓。
示例74是根据示例50至73之一的基底载体,其中,基底载体的长度小于回转式输送机运输轮的周长的1/10、例如小于回转式输送机运输轮的周长的1/20、例如小于回转式输送机运输轮的周长的1/26。
示例75是一种真空组件,具有:根据示例50至74之一的基底载体和其中设置有基底载体的真空室。
实例76是一种线性输送机,具有:纵向延伸的引导轮廓,该引导轮廓为(例如根据实例50至74之一的)基底载体提供运输路径;多个设置在该引导轮廓上并且可旋转地支承在其上的主体,其中,每个主体具有多个用于与基底载体构成啮合的驱动齿;用于例如通过以下方式将扭矩传递到多个主体中的每个主体上的驱动设备,即,使得其驱动齿以相同的节拍(换而言之以相同的频率)通过引导轮廓。
示例77是根据示例76的线性输送机,其中,所述主体与多个驱动齿的齿宽一致。
示例78是根据示例76或77的线性输送机,其中,所述主体在直径和/或周长方面一致。
示例79是根据示例76至78之一的线性输送机,其中,所述主体在直径分布(对应于通过圆周率Pi划分的齿分布)或齿分布(对应于两个相邻齿之间的间距、也称为周边分布、例如在每个齿的周边部分中测得)方面一致。
示例80是根据示例76或79的线性输送机,其中,所述主体与分度圆直径和/或节圆直径一致。
示例81是根据示例76至80之一的线性输送机,其中,所述主体与多个驱动齿的数量一致。
示例82是根据示例76至81之一的线性输送机,其中,多个主体中的每个主体具有齿轮。
示例84是根据示例76至83之一的线性输送机,其中,多个主体中的每个主体在一条直线毗邻,该直线沿着(例如平行)引导轮廓和/或运输路径延伸。
示例85是根据示例76至84之一的线性输送机,其中,引导轮廓具有两个段,在该两个段之间设置有多个主体之一。
示例86是根据示例76至85之一的线性输送机,其中,多个主体沿着运输路径彼此重叠地投影。
示例87是根据示例76至86之一的线性输送机,还包括:具有引导轮廓的轨道引导装置。
示例88是一种真空组件,具有真空室和设置在该真空室中的根据示例76至87之一的线性输送机。
示例89是一种方法,包括:将(例如根据示例50至74之一设置的)基底载体耦联到(例如根据示例1至30之一设置的)回转式输送机运输轮上,该回转式输送机运输轮设置在真空中;和/或将基底载体与回转式输送机运输轮断联,该回转式输送机运输轮设置在真空中,其中,所述耦联和断联例如在基底载体的同一侧上开始,该基底载体具有例如借助旋转连接彼此联接的节段。
示例90是一种方法(例如根据示例89),包括:借助线性输送机的(例如纵向延伸的)引导轮廓沿着运输路径引导(例如根据示例50至74之一设置的)基底载体;借助在线性输送机与基底载体之间的啮合(例如销齿传动杆啮合)产生基底载体的进给运动,该啮合例如在基底载体与具有引导轮廓的(并且例如根据示例76至87之一设置的)线性输送机之间提供,其中,进给运动的产生例如包括将基底载体耦联到(例如根据示例1至30之一设置的)回转式输送机运输轮或与其断联。
示例91是根据示例89或90的方法,其中,在耦联之前和/或在断联之后,在运输路径的不同区段上运输基底载体,其中,例如运输路径的不同区段彼此具有角度和/或彼此交叉。
示例92是根据示例89至91之一的方法,其中,所述运输在朝向回转式输送机运输轮的耦联之前进行,并且所述运输在远离回转式输送机运输轮的断联之后进行。
示例93是根据示例89至92之一的方法,进一步包括:处理(例如用涂层材料涂层)一个或一个以上基底,该基底由与回转式输送机运输轮耦联的基底载体承载,其中,回转式输送机运输轮在处理时旋转;其中,基底的处理(例如涂层)沿着回转式输送机运输轮每转一圈回转的一半以上(例如四分之三)进行。
示例94是根据示例89至93之一的方法,其中,基底载体的耦联包括,将基底载体的多个节段彼此依次耦联。
示例95是根据示例89至94之一的方法,其中,基底载体的耦联包括将基底载体与回转式输送机运输轮的联接锁定。
示例96是根据示例89至95之一的方法,其中,回转式输送机运输轮在基底载体断联和/或基底载体耦联时旋转。
示例97是根据示例89至96之一的方法,其中,基底载体的断联包括将基底载体与回转式输送机运输轮的联接的锁定解除。
示例98是根据示例89至97之一的方法,其中,回转式输送机运输轮可旋转地支承、例如围绕沿着重力定向的旋转轴线。
Claims (18)
1.回转式输送机运输轮(100),所述回转式输送机运输轮具有:
-支架(102),所述回转式输送机运输轮(100)能够可旋转地支承在所述支架上;
-多个联接设备(104),这些联接设备设置在所述支架(102)的外周边上,并且其中所述联接设备中的每个联接设备具有用于形状锁合地耦联基底载体(400)的至少一个形状锁合轮廓(104f),
-其中,所述多个联接设备(104)具有一对(302)联接设备(104),该对联接设备的形状锁合轮廓沿着所述周边彼此之间的间距小于与所述多个联接设备(104)的与该对(302)直接相邻的形状锁合轮廓的间距。
2.根据权利要求1所述的回转式输送机运输轮(100),其中,所述形状锁合轮廓(104f)分别借助空隙提供。
3.根据权利要求1或2所述的回转式输送机运输轮(100),其中,所述多个联接设备(104)具有多对(302)联接设备(104),其中,每对的形状锁合轮廓沿着所述周边彼此之间的间距小于与所述多个联接设备(104)的设置在所述多对(302)之间的形状锁合轮廓的间距。
4.根据权利要求1至3之一所述的回转式输送机运输轮(100),其中,所述对(302)的形状锁合轮廓(104f)沿着所述周边彼此错开地设置。
5.根据权利要求1至4之一所述的回转式输送机运输轮(100),
-其中,所述联接设备(104)中的每个联接设备具有能够引入到第一状态和第二状态中的锁定设备(1102),
-其中,在所述第一状态中,锁定与所述基底载体(400)的形状锁合的联接,并且在所述第二状态中,所述锁定解除。
6.回转式输送机(900),所述回转式输送机包括:
-根据权利要求1至5之一所述的回转式输送机运输轮(100),
-轴承组件,借助该轴承组件,所述回转式输送机运输轮(100)可旋转地支承。
7.根据权利要求6所述的回转式输送机(900),还具有:
-用于承载一个或一个以上基底的至少一个基底载体(400),
-其中,所述至少一个基底载体(400)具有多个配合联接设备(414),其中每个配合联接设备(414)设置为,与所述多个联接设备(104)中的一个联接设备联接。
8.根据权利要求7所述的回转式输送机(900),其中,所述至少一个基底载体(400)具有销齿传动杆(652)。
9.输送组件(1700),所述输送组件包括:
-根据权利要求7或8所述的回转式输送机(900),以及
-用于提供朝向所述回转式输送机运输轮(100)的运输路径(111)的第一线性输送机(1702)。
10.根据权利要求9所述的输送组件(1700),还具有:
-用于提供远离所述回转式输送机运输轮(100)的运输路径的第二线性输送机(1702);
-其中,所述运输路径(100)借助所述回转式输送机运输轮(100)从所述第一线性输送机(1702)转向所述第二线性输送机(1702)。
11.根据权利要求9或10所述的输送组件(1700),其中,所述第一线性输送机(1702)和/或所述第二线性输送机(1702)具有多个齿轮,用于沿着所述运输路径驱动运输运动。
12.根据权利要求9至11之一所述的输送组件(1700),其中,所述运输路径交叉延伸。
13.真空组件(1800),所述真空组件包括:
-根据权利要求9至12之一所述的输送组件(1700),以及
-真空室(1802),所述回转式输送机运输轮(100)设置在所述真空室中。
14.基底载体(400),所述基底载体具有:
-多个节段(402),这些节段借助旋转连接件(404)彼此连接;
-设置在所述基底载体(400)的彼此对置侧的两个滑架(406),这些滑架用于沿着运输路径(111)引导所述基底载体(400);
-多个联接设备(414),其中每个联接设备具有至少一个形状锁合轮廓,所述形状锁合轮廓设置在所述两个滑架(406)之间;
-其中,所述多个联接设备(104)的两个形状锁合轮廓(104f)沿着所述基底载体(400)的运输路径彼此错开地设置。
15.方法(3200),所述方法具有:
-将所述基底载体(400)耦联(3201)到设置在真空中的回转式输送机运输轮(100)上;
-将所述基底载体(400)与所述设置在真空中的回转式输送机运输轮(100)断联(3205);
-其中,所述耦联和断联在所述基底载体(400)的同一侧上开始。
16.线性输送机(1702),所述线性输送机包括:
-纵向延伸的引导轮廓(2210),所述引导轮廓提供用于基底载体(400)的运输路径(111);
-设置在并且可旋转地支承在所述引导轮廓(2210)上的多个主体(2212),其中每个主体(2212)具有多个驱动齿,用于与所述基底载体(400)构成啮合。
-用于将扭矩传递到所述多个主体(2212)中的每个主体上的驱动设备(2706)。
17.基底载体(400),所述基底载体具有:
-多个节段(402),所述多个节段借助旋转连接件(404)彼此连接;
-设置在所述基底载体(400)的彼此对置侧的两个滑架(406),这些滑架用于沿着所述运输路径(100)引导所述基底载体(400);
-其中,所述两个滑架(406)中的至少一个滑架具有多个驱动齿。
18.方法(3300),所述方法具有:
-借助所述线性输送机(1702)的引导轮廓(2210)沿着运输路径引导(3301)基底载体(400);
-借助在线性输送机(1702)与基底载体(400)之间的啮合来驱动(3303)所述基底载体(400)的运输运动。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102020101460.0A DE102020101460A1 (de) | 2020-01-22 | 2020-01-22 | Umlaufförderer-Transportrad, Substratträger und Verfahren |
DE102020101460.0 | 2020-01-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113148566A true CN113148566A (zh) | 2021-07-23 |
CN113148566B CN113148566B (zh) | 2024-01-12 |
Family
ID=76650410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110074712.8A Active CN113148566B (zh) | 2020-01-22 | 2021-01-20 | 回转式输送机运输轮、基底载体和方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11795003B2 (zh) |
JP (1) | JP7483641B2 (zh) |
KR (1) | KR102513373B1 (zh) |
CN (1) | CN113148566B (zh) |
DE (1) | DE102020101460A1 (zh) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1154334A (zh) * | 1995-10-27 | 1997-07-16 | 综合机械制造国家股份公司 | 输送设备 |
DE19807032A1 (de) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Transportieren zu beschichtender zylindrischer Substrate |
DE20010791U1 (de) * | 2000-06-26 | 2000-11-16 | Buhmann Systeme GmbH, 88171 Weiler-Simmerberg | Transportvorrichtung mit Platten, insbesondere für eine Abfüllanlage für Lebensmittel |
US20030219547A1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-11-27 | Gregor Arnold | CVD treatment device |
WO2003100124A1 (de) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Sig Technology Ltd. | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken |
CN101511556A (zh) * | 2006-08-07 | 2009-08-19 | 沙克米机械商业合作艾莫勒精简公司 | 设备和方法 |
CN102730415A (zh) * | 2011-04-13 | 2012-10-17 | 克朗斯股份公司 | 容器处理机和处理容器的方法 |
CN106458474A (zh) * | 2014-06-03 | 2017-02-22 | 宝洁公司 | 用于调节旋转装置的方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3848726A (en) * | 1973-05-02 | 1974-11-19 | Koppers Gmbh Heinrich | Apparatus for transferring pallets between the upper and lower reaches of an endless conveyor system |
JPS55170365U (zh) | 1979-05-26 | 1980-12-06 | ||
JPS58108747A (ja) | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Hitachi Ltd | スパツタ成膜装置 |
DE59807504D1 (de) * | 1997-12-23 | 2003-04-17 | Ferag Ag | Fördereinrichtung und entsprechendes transportmittel |
JP3880726B2 (ja) | 1998-07-28 | 2007-02-14 | 日立ビアメカニクス株式会社 | プリント基板加工機 |
WO2003100119A1 (de) | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Sig Technology Ltd. | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken |
JP2013092193A (ja) | 2011-10-25 | 2013-05-16 | Canon Anelva Corp | 搬送装置、及びこの搬送装置を備えた真空処理装置 |
JP6541572B2 (ja) | 2013-10-29 | 2019-07-10 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 板材支持体及び搬送装置 |
CH709352A1 (de) * | 2014-03-11 | 2015-09-15 | Ferag Ag | Fördervorrichtung mit entlang einer Förderbahn mittels Mitnehmern einzeln bewegbaren Förderwagen, zugehörige Abgabeeinrichtung und Verfahren. |
EP3383769B1 (en) * | 2015-11-30 | 2020-01-01 | Beumer Group A/S | Sorter with reduced polygon effect |
WO2018084286A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 株式会社アルバック | 成膜装置 |
KR102035985B1 (ko) | 2017-06-14 | 2019-10-23 | 가부시키가이샤 알박 | 진공 처리 장치 |
JP2020001893A (ja) | 2018-06-28 | 2020-01-09 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
-
2020
- 2020-01-22 DE DE102020101460.0A patent/DE102020101460A1/de active Pending
-
2021
- 2021-01-11 US US17/145,469 patent/US11795003B2/en active Active
- 2021-01-15 KR KR1020210006112A patent/KR102513373B1/ko active IP Right Grant
- 2021-01-20 JP JP2021007318A patent/JP7483641B2/ja active Active
- 2021-01-20 CN CN202110074712.8A patent/CN113148566B/zh active Active
-
2023
- 2023-09-14 US US18/466,839 patent/US20230416007A1/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1154334A (zh) * | 1995-10-27 | 1997-07-16 | 综合机械制造国家股份公司 | 输送设备 |
DE19807032A1 (de) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Transportieren zu beschichtender zylindrischer Substrate |
DE20010791U1 (de) * | 2000-06-26 | 2000-11-16 | Buhmann Systeme GmbH, 88171 Weiler-Simmerberg | Transportvorrichtung mit Platten, insbesondere für eine Abfüllanlage für Lebensmittel |
US20030219547A1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-11-27 | Gregor Arnold | CVD treatment device |
WO2003100124A1 (de) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Sig Technology Ltd. | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken |
CN101511556A (zh) * | 2006-08-07 | 2009-08-19 | 沙克米机械商业合作艾莫勒精简公司 | 设备和方法 |
CN102730415A (zh) * | 2011-04-13 | 2012-10-17 | 克朗斯股份公司 | 容器处理机和处理容器的方法 |
CN106458474A (zh) * | 2014-06-03 | 2017-02-22 | 宝洁公司 | 用于调节旋转装置的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11795003B2 (en) | 2023-10-24 |
JP2021118356A (ja) | 2021-08-10 |
KR20210095057A (ko) | 2021-07-30 |
US20230416007A1 (en) | 2023-12-28 |
JP7483641B2 (ja) | 2024-05-15 |
US20210221622A1 (en) | 2021-07-22 |
KR102513373B1 (ko) | 2023-03-22 |
CN113148566B (zh) | 2024-01-12 |
DE102020101460A1 (de) | 2021-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5655277A (en) | Vacuum apparatus for the surface treatment of workpieces | |
US6183615B1 (en) | Transport system for wafer processing line | |
CN104781448B (zh) | 用于维护边缘排除屏蔽件的方法和系统 | |
US20180171463A1 (en) | System architecture for combined static and pass-by processing | |
TWI579952B (zh) | 用於增進製程腔室利用率的系統及其操作方法 | |
WO2015149848A1 (en) | System for substrate processing, vacuum rotation module for a system for substrate processing and method of operating a substrate processing system | |
CN107074461B (zh) | 用于浸渍车体的设备 | |
JP2001518559A (ja) | 真空被覆装置および連結配置 | |
US20090324368A1 (en) | Processing system and method of operating a processing system | |
JP6375387B2 (ja) | 真空処理システム、及び処理システムを取り付けるための方法 | |
CN113148566B (zh) | 回转式输送机运输轮、基底载体和方法 | |
JP5657527B2 (ja) | 基板をコーティングするためのコーティングシステム及び方法 | |
KR102451923B1 (ko) | 안경 렌즈를 코팅하기 위한 설비, 방법 및 캐리어 | |
US7153367B2 (en) | Drive mechanism for a vacuum treatment apparatus | |
KR101381832B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
CN208240622U (zh) | 用于装载及卸载基板的负载锁定腔室和直列基板处理系统 | |
KR101462528B1 (ko) | 담체에 부착된 나노 입자 제조 장치 | |
EP3931366B1 (en) | Processing line for depositing thin-film coatings | |
US20240026536A1 (en) | Loading device, arrangement and method for loading a reaction chamber | |
KR101407420B1 (ko) | 글라스 증착시스템 및 그 에러 바이패스 물류방법 | |
WO2020225385A1 (en) | Movable work piece carrier device for holding work pieces to be treated |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |