CN113140492A - 掩模容器 - Google Patents
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Abstract
一种掩模容器，用于承载掩模，所述掩模容器包括形成收纳掩模的空间的载盘及盖部，所述载盘包括相连接的底部及侧部，所述盖部包括上盖与前盖，所述上盖的一边与所述侧部可转动地连接，另一边与所述前盖可转动地连接，所述掩模容器还包括将所述上盖扣合于所述侧部上的扣合部。本发明的实施例提供的掩模容器增设扣合部将上盖扣合于侧部上，避免掩模上的图案被前盖远离上盖的一端破坏，影响后续的曝光显影制程，提高了制程良率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体加工领域，具体涉及一种掩模容器。
背景技术
集成电路通常由光刻工艺(或曝光工艺)制成，光刻过程中使用掩模以及相关的光源将掩模上的电路图案转印到半导体晶圆的表面上。掩模包括透光层及形成于透光层上的图案层。图案层用于形成需要转印至晶圆上的电路图案，因此掩模上的图案直接影响光刻制程的良率。
掩模在运输及储存时一般收容于掩模容器内。掩模容器包括承载掩模的载盘及与载盘转动连接的盖部。盖部包括与载盘转动连接的上盖及与上盖转动连接的前盖。当有需要将掩模从掩模容器内取出时，将前盖打开时由于上盖会同时打开，导致前盖不仅发生转动还发生位移，从而前盖的一端容易刮擦到掩模，损坏掩模上的图案，影响光刻的良率。
发明内容
鉴于此，本发明提供一种解决上述问题的掩模容器。
一种掩模容器，用于承载掩模，所述掩模容器包括形成收纳掩模的空间的载盘及盖部，所述载盘包括相连接的底部及侧部，所述盖部包括上盖与前盖，所述上盖的一边与所述侧部可转动地连接，另一边与所述前盖可转动地连接，所述掩模容器还包括将所述上盖扣合于所述侧部上的扣合部。
上述掩模容器增设扣合部将上盖扣合于侧部上，避免掩模上的图案被前盖远离上盖的一端破坏，影响后续的曝光显影制程，提高了制程良率。
附图说明
图1是本发明一实施例提供的掩模容器的立体示意图。
图2是图1所示的掩模容器的扣合部将盖部扣合于侧部上的前视图。
图3是现有的掩模容器的使用状态示意图。
图4是图1所示的掩模容器的使用状态示意图。
图5是本发明一实施例提供的扣合部将盖部扣合于侧部上的示意图。
图6是图5所示的扣合部的示意图。
主要元件符号说明
掩模容器 1
载盘 10
底部 11
定位件 111
侧部 12
后侧部 121
边侧部 122
卡合部 1221
盖部 20
上盖 21
前盖 22
扣合部 30
转动端 31
扣合端 32
中间部 33
卡持部 34
弹性组件 40
第一弹性件 41
第二弹性件 42
掩模 6
透光层 61
图案层 62
对准标记 621
图案部 622
机械手 7
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，当一个元件或组件被认为是“连接”另一个元件或组件，它可以是直接连接到另一个元件或组件或者可能同时存在居中设置的元件或组件。当一个元件或组件被认为是“设置在”另一个元件或组件，它可以是直接设置在另一个元件或组件上或者可能同时存在居中设置的元件或组件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参见图1，本发明的实施例提供一种掩模容器1，承载掩模6并在储存与运输时向所述掩模6提供安全防护。所述掩模容器1包括形成收纳掩模的空间的载盘10及盖部20。所述载盘10包括相连接的底部11及侧部12。所述底部11承载所述掩模6。所述侧部12围绕所述掩模6。所述盖部20包括上盖21与前盖22。所述上盖21的一边与所述侧部12可转动地连接，另一边与所述前盖22可转动地连接。所述掩模容器1还包括将所述上盖21扣合于所述侧部12上的扣合部30。
所述掩模6包括透光层61及形成于所述透光层61的图案层62。所述图案层62包括对准标记621及用于形成电子电路的图案部622。在一些实施例中，所述透光层61由石英或钠钙玻璃制成；所述图案层62由金属制成，优选为铬制成。
所述掩模容器1大致呈长方体，且优选为适应于所述掩模6的形状的扁平的长方体，即所述掩模容器1的一方向的尺寸小于另两个方向的尺寸。所述底部11呈方形板状。所述侧部12包括后侧部121及两个边侧部122。两个所述边侧部122相对设置。所述后侧部121的两端分别与两个所述边侧部122垂直相连。所述后侧部121与两个所述边侧部122分别与所述底部11垂直相连。所述后侧部121与所述前盖22相对设置。所述上盖21的一边与后侧部121可转动地连接。
在实施例中，所述底部11与所述侧部12均由塑料(例如Acrylonitrile ButadieneStyrene，ABS塑料)制成，但不限于此。
在本实施例中，所述边侧部122的长度为213mm，所述后侧部121的长度为186mm，但不限于此，在其他实施例中，可以根据所述掩模6的尺寸进行调整。
在一实施例中，请参见图2，所述边侧部122上凸伸有卡合部1221。所述扣合部30包括转动端31与扣合端32。所述转动端31可转动地固定于所述上盖21上。所述扣合端32能对应扣合于所述卡合部1221，使所述上盖21不会在不期望的时段打开。如图3所示，当需要从所述掩模容器1取出所述掩模6时，一般使所述前盖22转动打开并通过机械手7抓取所述掩模6，但在取出过程中，由于所述前盖22与所述上盖21连接，因此所述前盖22打开时所述上盖21有可能会同时打开(即所述上盖21相对所述载盘10转动，所述前盖22相对所述载盘10转动且平移)，使得所述前盖22远离所述上盖21的一端会刮擦到被所述机械手7抓取的所述掩模6。在本实施例中，增设所述扣合部30后，如图4所示，所述前盖22打开时所述前盖22仍扣合于所述侧部12上，所述前盖22仅相对所述载盘10转动，因此所述前盖22远离所述上盖21的一端不易刮擦到所述掩模6，避免所述掩模6上的图案层62受到损害。
在本实施例中，所述转动端31可转动地设于所述上盖21上，所述卡合部1221设于所述边侧部122上，但不限于此，可以理解，在其他实施例中，所述转动端31与所述卡合部1221的连接关系可以调换，即所述转动端31可转动地设于所述边侧部122上，所述卡合部1221设于所述上盖21上。
在另一实施例中，请参见图5与图6，所述扣合部30包括一中间部33及两个卡持部34。两个所述卡持部34分别与所述中间部33的两端连接，且分别卡持于所述底部11与所述上盖21上。
如图6所示，所述扣合部30不受外力时，两个所述卡持部34远离所述中间部33的一端向彼此靠近，从而能在扣合到所述底部11与所述上盖21时具有相互靠近的运动趋势，以向所述底部11与所述上盖21提供更佳的扣合力。
所述中间部33的长度与所述边侧部122的高度大致相等。在本实施例中，所述边侧部122的高度为37mm，所述中间部33的长度为37mm，但不限于此。
在一些实施例中，所述扣合部30由抗静电的材质制成，避免所述掩模6受到静电损害。
请再次参见图1，所述掩模容器1还包括向所述盖部20提供闭合的动力的弹性组件40。所述弹性组件40包括第一弹性件41与第二弹性件42。所述第一弹性件41的一端与所述后侧部121连接，另一端与所述上盖21连接。所述第二弹性件42的一端与所述上盖21连接，另一端与所述前盖22连接。
在一些实施例中，所述上盖21与所述前盖22由透明材料制成，以便观察所述掩模容器1内的情况。
在一些实施例中，所述底部11上还设有多个定位件111。多个所述定位件111间隔设置，以限制所述掩模6的位置，避免所述掩模6在运输过程中撞击到所述侧部12。
进一步地，所述侧部12上设有感测件(图未示)，感测所述上盖21是否在不期望的时间打开，以向相关工作人员提示故障。
本发明的实施例提供的掩模容器1增设扣合部30将上盖21扣合于侧部上，避免掩模6上的图案被前盖22远离上盖21的一端破坏，影响后续的曝光显影制程，提高了制程良率。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种掩模容器，用于承载掩模，所述掩模容器包括形成收纳掩模的空间的载盘及盖部，所述载盘包括相连接的底部及侧部，所述盖部包括上盖与前盖，所述上盖的一边与所述侧部可转动地连接，另一边与所述前盖可转动地连接，其特征在于：所述掩模容器还包括将所述上盖扣合于所述侧部上的扣合部。
2.如权利要求1所述的掩模容器，其特征在于：所述扣合部包括固定端与扣合端，所述固定端固定于所述上盖或所述侧部，所述扣合端能对应扣合于所述侧部或所述上盖上的凸伸的卡合部。
3.如权利要求1所述的掩模容器，其特征在于：所述扣合部包括一中间部及两个卡持部，两个所述卡持部分别与所述中间部的两端连接，且分别卡持于所述底部与所述上盖上。
4.如权利要求3所述的掩模容器，其特征在于：所述中间部的长度与所述侧部的高度相等。
5.如权利要求2或3所述的掩模容器，其特征在于：所述扣合部由抗静电材质制成。
6.如权利要求1所述的掩模容器，其特征在于：所述掩模容器还包括弹性组件，所述弹性组件向所述盖部提供闭合的动力。
7.如权利要求6所述的掩模容器，其特征在于：所述弹性组件包括第一弹性件与第二弹性件，所述第一弹性件的一端与所述侧部连接，另一端与所述上盖连接，所述第二弹性件的一端与所述上盖连接，另一端与所述前盖连接。
8.如权利要求1所述的掩模容器，其特征在于：所述上盖与所述前盖由透明材料制成。
9.如权利要求1所述的掩模容器，其特征在于：所述载盘上设有多个定位所述掩模的定位件。
10.如权利要求1所述的掩模容器，其特征在于：所述侧部上设有感测件，感测所述上盖是否在不期望的时间打开。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05175092A (ja) * | 1991-12-20 | 1993-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク保管装置 |
| JPH10207042A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-07 | Nikon Corp | 基板収納容器、基板検出方法、搬送方法及び搬送装置 |
| JP2005062462A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Hoya Corp | マスクブランクスの収納方法、マスクブランクス収納体及びマスクブランクスの製造方法 |
| TW201024185A (en) * | 2008-09-27 | 2010-07-01 | Hoya Corp | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package |
| JP2013239643A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05175092A (ja) * | 1991-12-20 | 1993-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク保管装置 |
| JPH10207042A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-07 | Nikon Corp | 基板収納容器、基板検出方法、搬送方法及び搬送装置 |
| JP2005062462A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Hoya Corp | マスクブランクスの収納方法、マスクブランクス収納体及びマスクブランクスの製造方法 |
| TW201024185A (en) * | 2008-09-27 | 2010-07-01 | Hoya Corp | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package |
| JP2013239643A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
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