JPH10114389A - ペリクル容器 - Google Patents

ペリクル容器

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JPH10114389A
JPH10114389A JP26581096A JP26581096A JPH10114389A JP H10114389 A JPH10114389 A JP H10114389A JP 26581096 A JP26581096 A JP 26581096A JP 26581096 A JP26581096 A JP 26581096A JP H10114389 A JPH10114389 A JP H10114389A
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JP
Japan
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pellicle
mounting table
container
tab
adhesive
Prior art date
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Pending
Application number
JP26581096A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Kimura
義宏 木村
Takaaki Kimura
隆昭 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH10114389A publication Critical patent/JPH10114389A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体製造過程で用いられるレチクルに貼り
付けて使用されるペリクルを保管する際に、ペリクルを
載置するときのペリクルの方向合わせが容易なペリクル
容器を提供する。 【解決手段】 ペリクル枠1に予め塗布されている接着
剤3を保護するために貼られている接着剤保護シート4
にはペリクル枠1の外形形状よりも部分的に突出したタ
ブ41が設けられる。一方、載置台10の所定位置にペ
リクル枠1を位置決めするため、載置台10にはペリク
ル枠1の外縁のほぼ全周が当接してペリクル5の位置が
規制され、接着剤保護シート4のタブ41に対応する箇
所は切り欠かれた位置決め部12が設けられる。そして
位置決め部材12の切り欠き部14とタブ41とが一致
するようにペリクル5を載置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、IC、LSI等の
半導体素子の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程
で使用されるフォトマスクやレチクル(以下、レチクル
という)に塵埃等の異物が付着することを防止する目的
で装着される防塵膜付きの枠(以下、ペリクルという)
を収納するための容器に関する。
【0002】
【従来の技術】IC、LSI等の半導体素子の製造工程
におけるフォトリソグラフィ工程では、半導体基板(ウ
ェハ)上に塗布したレジスト膜に、レチクル上に形成さ
れた回路パターンを露光装置で転写する。この転写工程
において、レチクルに異物が付着していると、異物の像
も回路パターンとともに転写されてしまい、半導体基板
上に形成される回路パターンに欠陥を生ずる。
【0003】これに対し、レチクルは洗浄の上、検査に
よってフォトリソグラフィ工程に悪影響を及ぼす異物の
ないことを確認して使用されるが、半導体の回路パター
ンの微細化とともに管理すべき塵埃の寸法も非常に微細
のものにまで及んでおり、洗浄、検査だけでレチクルの
清浄度を保つことは非常に困難になってきている。
【0004】そこで、近年はレチクルを被覆するペリク
ルが使用されるようになってきた。このペリクルは、一
般に金属製のペリクル枠と、このペリクル枠の一の面に
張設される、光学的に安定した透明な高分子薄膜(ペリ
クル)と、他方の面、すなわちペリクルを張設した面と
対向する面に塗布された接着剤と、接着剤を保護する接
着剤保護シートとからなり、接着剤保護シートを剥がし
てレチクルに接着される。
【0005】上記のようにペリクルをレチクルに装着す
ることによって、レチクル上に異物が直接付着すること
が防止できる。また、もし仮にペリクル上に異物が付着
しても、ペリクルとレチクルのパターン面とは離れてい
るため、ウェハへ回路パターンを露光する際に、この異
物による影はアウトフォーカス状態で薄いものとなり、
ウェハ上に焼き込まれる回路パターンに及ぼす悪影響を
なくすことができる。
【0006】ペリクルを用いることにより、以上のよう
な利点があるが、さらにはペリクル自体にも異物が付着
しないことが望ましい。とくに、ペリクルの内面側に異
物が付着していた場合、レチクルへ装着する際や、ある
いは装着後に何らかの要因でこの異物がレチクルのパタ
ーン領域上に落下する不都合を生じるおそれがある。
【0007】このような不都合があった場合、ウェハへ
のパターン露光終了後に欠陥が発見されるため、半導体
素子の製造工程において無駄を生ずることもあり、こう
した無駄を防ぐためにペリクルへの異物付着を防止する
ための収納容器(ペリクル容器)が提案されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ペリクルへの塵埃付着
を防止することを目的としたペリクル容器としては、例
えば実公平6−45965号公報に開示されているもの
がある。図5および図6は従来のペリクル容器を示し、
載置台100にペリクル50を載置し、上より蓋体20
0をかぶせることにより載置台100と蓋体200とで
密閉構造を形成して外から異物の侵入を防止する。また
載置台100には、載置台100に対するペリクル50
の位置を定めるための位置決め突起120が点在して設
けられている。
【0009】この位置決め突起120により、ペリクル
50がペリクル容器内で遊動するのを防止するととも
に、ペリクル自動貼付装置を用いてペリクルの自動貼付
作業をするときには、搬送器上を流れるペリクル容器を
所定箇所で把持することにより、ペリクルの位置も一義
的に定まる。これにより、ロボットアーム等を用いて載
置台上のペリクルをレチクルに貼付ける際の位置精度も
容易に所望の精度内に収めることができる。
【0010】また、ペリクルの形状は長方形のものが多
くあり、レチクルにペリクルを貼付ける際には当然向き
を揃える必要があり、その向きを揃えるためにも載置台
に設けられた位置決め突起は有用である。
【0011】ところで、載置台に長方形のペリクルを作
業者が載置する場合、ペリクルの短辺、長辺の寸法差の
大きいものであればその識別は容易であるが、寸法差の
小さいものである場合、識別が困難になり、作業性も低
下する。
【0012】さらに、ペリクルの下面には接着剤保護シ
ートで保護された接着剤が塗布されており、接着剤保護
シートにはその剥離の際につかみ部となるタブが突出さ
れている。上述した自動ペリクル貼付装置ではこのタブ
を機械的に挟持して保護シートを剥離するので、タブを
特定の方向に向けることが不可欠である。
【0013】しかしながら、点在する位置決め突起12
0で位置決めした場合、全体の向きは特定できても、タ
ブの位置までは特定できず、例えば図5の二点鎖線40
aおよび40bで示すように、どちらにも位置すること
が可能となってしまい、タブの位置が定まらないおそれ
がある。
【0014】本発明の目的は、載置台にペリクルを載置
する際に、ペリクルの載置方向の認識が容易で、載置台
に対するペリクルの載置位置および載置方向が一義的に
定まるようにしたペリクル容器を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】一実施の形態を示す図1
ならびに図2を参照して説明すると、本発明は、ペリク
ル枠1と;ペリクル枠1の一の面に張設されたペリクル
膜2と;ペリクル枠1のペリクル膜2張設面と対向する
他の面に塗布された接着剤3と;ペリクル枠1外形より
も一部が突出する形状とした接着剤保護シート4とから
構成されるペリクル5を収納するペリクル容器であっ
て、ペリクル5が載置される載置台10と;載置台10
を開閉自在に覆う蓋体20とを有するペリクル容器に適
用される。そして、ペリクル枠1の外縁のほぼ全周が当
接してペリクル5の位置が規制され、接着剤保護シート
4の突出部41に対応する箇所は切り欠かれた位置決め
部12を載置台10に設けることにより上述の目的を達
成する。
【0016】位置決め部12の切り欠き部14に接着剤
保護シート4の突出部41を位置させるようにして、ペ
リクル5を載置台10に載置する。
【0017】なお、本発明の構成を説明する、上記課題
を解決するための手段の項では、本発明を分かり易くす
るために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより
本発明が実施の形態に限定されるものではない。
【0018】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態について説明する。図1は本発明の実施の形態に
係るペリクル容器の縦断面図、図2は上面図、図3は図
2に示すP部の詳細を示す斜視図である。図1に示すよ
うに、本発明の実施の形態に係るペリクルは、上面にペ
リクル膜2を張設した四角い枠状のペリクル枠1と、ペ
リクル枠1の下面、すなわちペリクル膜2を張設した面
と対向する面に塗布された接着剤3と、この接着剤3を
保護するための接着剤保護シート4とで構成される。こ
のペリクル5を収納するためのペリクル容器は、容器本
体部を構成する載置台10と、蓋部を構成する蓋体20
とで構成され、載置台10の載置部15にペリクル5を
載せ、その上から蓋体20をかぶせることによりペリク
ル5を容器内に収容して異物の付着を防止する。なお、
図2、および図3では煩雑化を避けるため、蓋体20を
取り去った状態の図が示されている。
【0019】載置台10の中央部には、載置台10の他
の部分よりも台地状に盛り上がった載置部15が形成さ
れ、この載置部15上にペリクル5が載置される。載置
部15には、ペリクル枠1の外縁の形状に即した形状で
高さh1の位置決め部12が載置台10と一体に形成さ
れており、これによりペリクル枠1の外形を基準とし
て、載置台10に対するペリクル5の水平方向の位置決
めが可能となる。
【0020】この位置決め部12の高さh1は、ペリク
ル枠1の厚さよりも適宜低くすることにより、ペリクル
5を載置台10より取り出す際の作業性を損なうことは
ない。また、この位置決め部12を低くした場合、この
位置決め部12の視認性や位置決め性が低下するおそれ
があるが、この位置決め部12の上に、高さh2の補助
位置決め部13を適宜の間隔で点在させることにより、
視認性および位置決め性は向上し、ペリクル5を載置台
10に載置する際の作業性は向上する。また、図1に示
すように補助位置決め部13の高さを、蓋体内面と補助
位置決め部13とが、蓋体閉成時に当接するようにする
ことにより、載置台10に対する蓋体20の位置決めが
可能で、そのときには載置台10および蓋体20の周囲
に設けた係合部17、27を省略することも可能であ
る。
【0021】なお、載置台10の底面には非対称の突起
11が立設されているが、これはペリクル容器の自動搬
送器によってペリクル容器を搬送する際の、ペリクル容
器の方向を自動判別したり、搬送する際の保持のよりど
ころとしたり、所定の位置に位置決めする際の基準とし
たりするものである。
【0022】次に不図示のペリクル自動貼付装置で、同
じく不図示のレチクルにペリクル5を貼り付ける場合を
例にとり、位置決め部12に設けられた切り欠き部14
ならびに接着剤保護シート4のタブ41について説明す
る。ペリクル5をその自動貼付装置でレチクルに貼り付
けるとき、ペリクル自動貼付装置は接着剤保護シート4
を剥し、ペリクル枠1の接着剤3の塗布面をレチクルに
押し当てて接着する。そのため、接着剤保護シート4の
外形形状がペリクル枠1の外形よりも部分的にはみ出た
突出部(以下、タブと呼ぶ)41を設け、自動ペリクル
貼付装置によりこのタブ41を挟持して接着剤保護シー
ト4が剥がされる。
【0023】位置決め部12にはタブ41に対応した大
きさの切り欠き部14が設けられており、この切り欠き
部14と、接着剤保護シート4のタブ41とを合わせる
ようにしてペリクル5を載置台10に載置することによ
り、容易にペリクル5と載置台10との向きを合わせる
ことができ、ペリクル5の載置の作業性が向上する。
【0024】また、上述の発明の実施の形態において、
接着剤保護シート4のタブ41は、ペリクル5を載置台
10へ載置する際にこれらペリクル5、載置台10の向
きを合わせる際の目安としての機能と、ペリクル5を不
図示のレチクルに貼付けるときに接着剤保護シート4を
ペリクル5から剥がす際の挟持部としての機能とを併せ
持ったものとして説明したが、これらの機能を独立して
有するタブを複数設けることも可能である。
【0025】すなわち、図4に示すように方向合わせの
機能を有するタブ41aに加え、挟持部の機能を有する
タブ41bを別設してもよい。そしてこれらのタブ41
a、41bを突設する位置および形状は、接着剤保護シ
ート4の外形の非回転対称性を失わない位置、すなわち
ペリクル5を載置台10に載置する際の方向を容易に判
別できる位置にあれば任意に設定可能である。
【0026】ところで、図5および図6に示すように、
従来のペリクル容器では、載置台100上に設けられた
位置決め部材120にはペリクル50の載置方向を示す
ものはなく、ペリクル50に貼り付けられた接着剤保護
シート4にもタブ41やペリクル50の方向性を示すも
のは設けられていない。従って、ペリクル50を載置台
100に載せる際の方向合わせは作業者の勘などによら
ねばならず、作業性を低下させるおそれがある。これに
対して図1〜4に示す本発明の実施の形態によれば、作
業者はペリクルの縦横の辺の長さではなく、タブ41、
41aの突設位置でペリクル5の方向を判別でき、作業
性に優れたものとなる。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のペリクル
容器によれば、ペリクル枠の外縁のほぼ全周が当接して
ペリクルの位置が規制され、接着剤保護シートの突出部
に対応する箇所は切り欠かれた位置決め部を載置台に設
けたので、ペリクルを載置台に載置するときには接着剤
保護シートの突出部と、位置決め部の切り欠かれた部分
とが一致するように向きを揃えればよく、ペリクルの載
置方向の判別が容易で、ペリクル載置の作業性に優れた
ペリクル容器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態によるペリクル容器を示す
縦断面図。
【図2】本発明の実施の形態によるペリクル容器の上面
図。
【図3】図2のP部の詳細を示す斜視図。
【図4】本発明の実施の形態の変形例によるペリクル容
器の上面図。
【図5】従来のペリクル容器の要部を示す上面図。
【図6】従来のペリクル容器の要部を示す縦断面図。
【符号の説明】
1 ペリクル枠 2 ペリクル膜 3 接着剤 4 接着剤保護シート 5、50 ペリクル 10、100 載置台 11 突起 12 位置決め部 13 補助位置決め部 14 切り欠き 15 載置部 18、19 位置合わせマーク 20、200 蓋体 23 蓋部 41 突出部(タブ) 120 位置決め突起

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクル枠と、前記ペリクル枠の一の面
    に張設されたペリクル膜と、前記ペリクル枠の前記ペリ
    クル膜張設面と対向する他の面に塗布された接着剤と、
    前記ペリクル枠外形よりも一部が突出する形状とした接
    着剤保護シートとから構成されるペリクルを収納するペ
    リクル容器であって、前記ペリクルが載置される載置台
    と、前記載置台を開閉自在に覆う蓋体とを有するペリク
    ル容器において、 前記ペリクル枠の外縁のほぼ全周が当接して前記ペリク
    ルの位置が規制され、前記接着剤保護シートの突出部に
    対応する箇所は切り欠かれた位置決め部を前記載置台に
    設けたことを特徴とするペリクル容器。
JP26581096A 1996-10-07 1996-10-07 ペリクル容器 Pending JPH10114389A (ja)

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JP26581096A JPH10114389A (ja) 1996-10-07 1996-10-07 ペリクル容器

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JP26581096A JPH10114389A (ja) 1996-10-07 1996-10-07 ペリクル容器

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101995764A (zh) * 2009-08-06 2011-03-30 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件收纳容器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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