CN113003756A - 废液处理装置和加工水再生系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供废液处理装置和加工水再生系统。在废液处理装置中，降低与废液处理装置中的过滤器更换等相伴的作业者的负担，并且将废液处理装置的沉淀槽小型化。该废液处理装置包含：沉淀槽，其积存包含加工屑的加工废液；入口，其供加工废液进入到沉淀槽中；酸性单元，其使从入口进入到沉淀槽内的加工废液成为酸性，由此与加工废液为中性时相比，提高加工屑的沉淀速度；以及出口，其将通过在沉淀槽内使加工废液中的加工屑沉淀而获得的上清水从沉淀槽中排出。

Description

废液处理装置和加工水再生系统
技术领域
本发明涉及从加工废液中除去加工屑的废液处理装置和进行加工水的再生的加工水再生系统。
背景技术
例如在专利文献1所公开的加工水循环装置中，从加工废液中沉淀去除加工屑，由此进行加工水的再生，该加工废液是从一边供给加工水一边利用磨具对被加工物进行加工的加工装置中排出的包含加工屑的加工废液。但是，将尺寸为0.5μm至5μm这样的小加工屑在沉淀槽内沉淀需要花费时间，因此具有需要容量大的沉淀槽这样的问题。因此，例如在专利文献2中公开的加工废液处理装置中，通过采用将加工废液中包含的加工屑利用过滤器过滤除去的构成而实现了装置的小型化。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004-230527号公报
专利文献2：日本特开2009-095941号公报
发明内容
发明所要解决的课题
但是，在专利文献2所公开的加工废液处理装置中，需要定期地更换过滤器。因此，在从加工装置中排出的加工废液所包含的加工屑多的情况下，过滤器的更换频率增高，作业者的负担也增大。
因此，本发明的目的在于，在从加工废液中除去加工屑的废液处理装置以及组装废液处理装置而进行加工水的再生的加工水再生系统中，降低与废液处理装置中的过滤器更换等相伴的作业者的负担，并且将废液处理装置的沉淀槽小型化。
用于解决课题的手段
根据本发明的一个方式，提供一种废液处理装置，其接受从向被加工物供给加工水而对被加工物进行加工的加工装置中排出的包含加工屑的加工废液，通过使该加工屑沉淀而从该加工废液中除去该加工屑，其中，该废液处理装置包含：沉淀槽，其积存包含该加工屑的该加工废液；入口，其供该加工废液进入到该沉淀槽中；酸性单元，其使从该入口进入到该沉淀槽内的该加工废液成为酸性，由此与该加工废液为中性时相比，提高该加工屑的沉淀速度；以及出口，其将通过在该沉淀槽内使该加工废液中的该加工屑沉淀而获得的上清水从该沉淀槽中排出。
优选上述酸性单元具备向上述加工废液供给二氧化碳的二氧化碳供给部。
优选进一步包含：pH测定器，其对上述加工废液的pH值进行测定；
材质设定部，其设定上述加工屑的材质；
对应表，其针对该材质示出ζ电位为0V的pH值；以及
控制部，其对上述酸性单元进行控制，以使得由该pH测定器测定的pH值为针对该材质从该对应表选择的ζ电位为0V的pH值。
另外，根据本发明的另一方式，提供一种加工水再生系统，其包含上述废液处理装置以及加工水再生装置，该加工水再生装置从上清水中除去有机物离子和无机物离子而进行加工水的再生，该上清水是从该废液处理装置中排出的除去了加工屑的上清水，其中，该加工水再生装置包含：紫外线照射单元，其对该上清水照射紫外线；以及离子交换树脂，其除去该上清水中包含的该有机物离子和该无机物离子，将从该废液处理装置中排出的酸性的该上清水输送到该加工水再生装置的该离子交换树脂中，使该上清水成为中性，由此进行加工水的再生。
发明效果
加工废液所包含的加工屑(SiO2屑、SiC屑或树脂屑等)通常带负电。因此，加工屑彼此相互排斥而悬浮在沉淀槽内，具有难以沉淀的问题。
与之相对，本发明的一个方式的废液处理装置中具备酸性单元，通过使从入口进入到沉淀槽内的加工废液成为酸性，减小加工废液为中性时所产生的加工屑彼此的相互排斥力，提高加工屑的沉淀速度。由此，能够使加工废液为酸性而加快加工屑的沉淀，因此能够降低废液处理中的过滤器交换等的作业者的负担，并且能够使废液处理装置的沉淀槽小型化。
酸性单元具备向加工废液供给二氧化碳的二氧化碳供给部的情况下，能够使加工废液容易地从中性变化为酸性。
在进一步包含对加工废液的pH值进行测定的pH测定器、设定加工屑的材质的材质设定部、针对该材质示出ζ电位为0V的pH值的对应表、以及对酸性单元进行控制以使得由该pH测定器测定的pH值为针对该材质从对应表选择的ζ电位为0V的pH值的控制部的情况下，按照ζ电位为0V的方式进行pH调整而使加工废液成为酸性，由此能够使颗粒状的加工屑彼此的排斥力消失。其结果，加工屑彼此例如容易通过沉淀槽内的水流而接近并发生凝集。例如，颗粒状的加工屑彼此接近数nm以下时，会通过基于DLVO理论(德亚盖因-兰多-弗韦-奥弗比克理论)的范德华力的引力而发生凝集。由此，加工屑增大而容易发生沉淀。即，使加工屑快速沉淀，因此能够实现废液处理装置的沉淀槽的小型化以及加工废液的处理速度的提高。
在加工水再生系统中，包含废液处理装置以及加工水再生装置，该加工水再生装置从上清水中除去有机物离子和无机物离子而进行加工水的再生，该上清水是从废液处理装置中排出的除去了加工屑的上清水，在该加工水再生系统中，加工水再生装置包含对上清水照射紫外线的紫外线照射单元以及除去上清水所包含的有机物离子和无机物离子的离子交换树脂，因此能够将从废液处理装置中排出的酸性的上清水输送到加工水再生装置的离子交换树脂中，使上清水成为中性，由此进行加工水的再生。
附图说明
图1是示出加工水再生系统的一例的立体图。
图2是示出废液处理装置的一例的截面图。
图3是针对各材质示出ζ电位为0V的pH值的对应表。
图4是示出作为加工屑的PSL(聚苯乙烯乳液)颗粒表面、SiO2表面以及SiC表面的ζ电位的pH值依赖性的图。
具体实施方式
图1所示的加工装置A为半导体器件的制造过程中使用的一边供给加工水(例如纯水)一边利用旋转的磨削磨具对保持于卡盘工作台的被加工物(例如硅晶片、硅锭等)进行磨削而使其变薄的磨削装置、或者一边供给加工水一边使旋转的切割刀具切入到保持于卡盘工作台的被加工物(例如硅晶片等)中而对被加工物进行切割的切削装置等。
在加工装置A上经由由金属配管或具有挠性的管等构成的加工废液流入管90而连接有本实施方式的废液处理装置9，该废液处理装置9接受从加工装置A中排出的包含加工屑B(例如SiO2屑、PSL(聚苯乙烯乳液)屑或SiC屑等，参照图2)的加工废液L，使加工屑B沉淀而从加工废液L中除去加工屑B。另外，废液处理装置9被安装到本实施方式的加工水再生系统1中。本实施方式中，加工屑B的材质为SiC。
另外，本实施方式中，在加工废液流入管90中流通的加工废液L通过加快加工屑B的沉淀(提高加工屑B的沉淀速度)的酸性单元99从中性变为酸性后被导入到废液处理装置9的沉淀槽91中。
废液处理装置9具备：沉淀槽91，其积存包含加工屑B的加工废液L；入口910，其供加工废液L进入到沉淀槽91中；酸性单元99，其使从入口910进入到沉淀槽91内的加工废液L成为酸性，由此与加工废液L为中性时相比，减小加工屑B彼此间的相互排斥力，提高加工屑B的沉淀速度；以及出口919，其将通过在沉淀槽91内使加工废液L中的加工屑B沉淀而获得的上清水L1排出。
本实施方式中的沉淀槽91在图示的示例中为上侧开口的大致长方体形状的容器，由俯视大致矩形的底板913以及从底板913的外周一体地向+Z方向立起的4片侧壁构成。图1、图2中，将在X轴方向上对置的2片侧壁作为侧壁914，将在Y轴方向上对置的2片侧壁作为侧壁915。
另外，在沉淀槽91的上部设置有防止加工废液L溢出的未图示的溢流管。溢流管与未图示的罐连通，从沉淀槽91中溢出的加工废液L被导入该罐中。需要说明的是，沉淀槽91可以具备能够拆卸的盖。
在图1、图2所示的示例中，入口910贯穿+X方向侧的侧壁914而形成，出口919贯穿-X方向侧的侧壁914而形成。
在沉淀槽91的内部，沿X轴方向并设的2个以上的间隔壁916从底板913垂直地立设。各间隔壁916在水平方向上相对于从入口910朝向出口919的X轴方向交叉(即沿Y轴方向相对于X轴方向交叉)。间隔壁916的上端设定得比侧壁914的上端低。从入口910进入的加工废液L流向出口919，每当漫过间隔壁916上时，加工屑B缓慢地沉淀。2个以上的间隔壁916的高度可以均匀地设定，也可以按照向着+X方向侧依次增高的方式进行设定。另外，也可以利用2个以上的间隔壁916在沉淀槽91的内部形成从上方观察时为之字形的流路。
本实施方式中，如图2所示，酸性单元99具备向加工废液L供给二氧化碳气体的二氧化碳供给部990。
例如，蓄积二氧化碳气体的二氧化碳供给部990经由三通管900等与加工废液流入管90的中途连通。从二氧化碳供给部990送出的二氧化碳气体被供给至在加工废液流入管90内流向废液处理装置9的加工废液L中。需要说明的是，二氧化碳供给部990也可以在沉淀槽91内向加工废液L供给二氧化碳气体。
例如，如图2所示，二氧化碳供给部990能够通过调整阀991来调整二氧化碳气体相对于每单位量的加工废液L的供给量。调整阀991例如为比例控制电磁阀，可以通过后述的控制部98改变流向调整阀991的电流量而使二氧化碳供给部990供给至加工废液L的二氧化碳气体的供给量在0％～100％之间自由地进行流量调整。需要说明的是，调整阀991例如可以为可变孔阀或蝶形阀等流量调整阀。
如图2所示，本实施方式中的废液处理装置9具备：pH测定器95，其对加工废液L的pH值进行测定；材质设定部96，其设定加工屑B的材质；对应表97，其针对材质示出ζ电位为0V的pH值；以及控制部98，其对酸性单元99进行控制，以使得由pH测定器95测定的pH值为针对材质从对应表97选择的ζ电位为0V的pH值。需要说明的是，关于ζ电位，将充分远离颗粒状的加工屑B且为电中性的区域的电位定义为0V，将以该零点为基准进行测定的情况下的形成于加工屑B的周围的双电层中的光滑面的电位定义为该ζ电位。
关于pH测定器95，在图2所示的示例中，其对废液处理装置9的沉淀槽91内的加工废液L的pH值进行测定，但也可以对流经位于三通管900的下游侧的加工废液流入管90内的混入有二氧化碳气体的加工废液L的pH值进行测定。
控制部98由根据控制程序进行运算处理的CPU和存储器等存储元件等构成，其经由未图示的有线或无线的通信路经与pH测定器95和调整阀991等进行电连接。
本实施方式中，材质设定部96和对应表97被组装在控制部98中。材质设定部96被设定在控制部98的存储元件的一个区域中。另外，对应表97例如为存储在控制部98的存储元件的一个区域中的数据。图3中详细示出的对应表97从下述曲线图中抽取了ζ电位为0V的pH值，该曲线图是能够由图4所示的示出作为加工屑的PSL(聚苯乙烯乳液)颗粒表面、SiO2表面以及SiC表面的ζ电位的pH值依赖性的过去的实验结果得到的曲线图。
下面对于使用废液处理装置9接受从向被加工物供给加工水而对被加工物进行加工的加工装置A中排出的包含加工屑B的加工废液L、使加工屑B沉淀而从加工废液L中除去加工屑B的情况进行说明。
首先，从图1、图2所示的加工装置A中排出的包含加工屑B、有机物以及无机物的加工废液L通过加工废液流入管90而从入口910流入到废液处理装置9的沉淀槽91内，积存在沉淀槽91中，并且流经由沉淀槽91内的间隔壁916形成的之字形流路。本实施方式中，例如加工屑B为SiC屑。
如图2所示，在沉淀槽91内，加工废液L中包含的加工屑B缓慢地沉淀。如图2所示，加工屑B的沉淀量在位于+X方向侧的入口910侧最多，在位于-X方向侧的出口919侧最少。之后，将通过在沉淀槽91内使加工废液L中的加工屑B沉淀而取得的上清水L1从出口919排出。
在本发明的废液处理装置9中，为了加快上述加工屑B的沉淀，例如作业者从废液处理装置9附带的未图示的输入单元(触控面板、键盘等)输入从加工装置A中排出的加工废液L所包含的加工屑B的材质(本实施方式中为SiC)，由此将该材质设定(存储)在材质设定部96。需要说明的是，例如也可以从加工装置A向废液处理装置9的控制部98发送关于加工屑B的材质的信息，将该材质设定(存储)在材质设定部96。
另外，在利用图2所示的控制部98进行控制的情况下，使电流流经调整阀991，将调整阀991打开。之后从二氧化碳供给部990送出进行了压缩的二氧化碳气体，在加工废液流入管90内溶入到加工废液L中。由此，在加工废液流入管90内流向沉淀槽91中的中性的加工废液L变成酸性。
另外，本实施方式中，利用pH测定器95测定沉淀槽91内的加工废液L的pH值，将所测定的关于pH值的信息发送到控制部98。控制部98从预先存储的图3所示的对应表97选择针对加工屑B的材质(SiC)的ζ电位为0V的pH值＝4.2。之后，控制部98调整流向调整阀991的电流的值，对调整阀991的开度进行调整，由此将二氧化碳供给部990供给至加工废液L的二氧化碳气体的供给量设定为所期望的供给量。由此，例如沉淀槽91内的加工废液L的pH值下降，达到pH值＝4.2。
这样，通过使ζ电位接近0V而使得加工屑B彼此间的排斥力消失，加工屑B彼此例如容易通过沉淀槽91内的水流而接近并发生凝集。例如，颗粒状的加工屑B彼此接近数nm以下时，会通过基于DLVO理论的范德华力的引力而发生凝集。由此，加工屑B增大而容易发生沉淀。即，使加工屑B快速沉淀，因此能够实现废液处理装置9的沉淀槽91的小型化以及加工废液L的处理速度的提高(即，使加工废液L向废液处理装置9中的流入量比以往增加)。
本实施方式中，酸性单元99具备向加工废液L供给二氧化碳气体的二氧化碳供给部990，由此能够使加工废液L容易地从中性变化成酸性。但是，酸性单元99并不限于本实施方式的构成。例如，酸性单元99也可以为向沉淀槽91或加工废液流入管90中供给乙酸或柠檬酸的构成。
本发明的图1所示的加工水再生系统1具备上文说明的废液处理装置9以及加工水再生装置6，该加工水再生装置6从上清水L1中除去有机物离子和无机物离子而进行加工水L5的再生，该上清水L1是从废液处理装置9中排出的除去了加工屑B(参照图2)的上清水L1。
在本实施方式的加工水再生系统1中，与图1所示的废液处理装置9连接的上清水汲取泵22通过自身产生出的负压而汲取从废液处理装置9的出口919排出的上清水L1，向着连接有一端的过滤器单元导入管24送出。
过滤器单元导入管24的另一端侧例如与过滤器单元3连通。另外，例如在过滤器单元导入管24内配设有压力计249，能够利用压力计249来监视上清水汲取泵22所送出的上清水L1的量是否为超过了过滤器单元3的处理能力的量。
需要说明的是，加工水再生系统1也可以不具备过滤器单元3，而可以将从废液处理装置9排出且利用上清水汲取泵22汲取的上清水L1直接导入到图1所示的清水罐40中。
本实施方式中，过滤器单元3进一步除去可能残留在由上清水汲取泵22所汲取的上清水L1中的微细的加工屑等，提纯出更清澈的上清水(以下称为清水L2)，该过滤器单元3例如由株式会社Disco制造的商品名CC Filter构成。过滤器单元3例如具备第1过滤器31和第2过滤器32，流经过滤器单元导入管24的上清水L1被导入至第1过滤器31或第2过滤器32中。
筒状的第1过滤器31(第2过滤器32)例如具备：在侧面具有2个以上的未图示的开口的筒体311(筒体321)；形成在筒体311(筒体321)的上表面中央且用于投入加工废液的投入口312(投入口322)；以及配设在筒体311(筒体321)内的未图示的筒状的滤纸。在第1过滤器31(第2过滤器32)中，从投入口312(投入口322)加入到筒状的滤纸内的上清水L1利用筒状的滤纸进行过滤，进一步除去微细的加工屑B后，以清水L2的形式从筒体311(筒体321)的侧面的2个以上的开口向外排出。
像这样构成的第1过滤器31和第2过滤器32并列地配设在桶状的盘34上。在盘34上，通过第1过滤器31或第2过滤器32排出清水L2。配管340的上游侧与盘34上的桶内连通，配管340的下游侧与清水罐40连通。
过滤器单元导入管24的另一端侧分支，过滤器单元导入管24分支而成的第1过滤器单元导入管241与第1过滤器31的投入口312连通，过滤器单元导入管24分支而成的第2过滤器单元导入管242与第2过滤器32的投入口322连通。
在第1过滤器单元导入管241内配设有第1电磁阀241a，并且在第2过滤器单元导入管242内配设有第2电磁阀242a。第1电磁阀241a(第2电磁阀242a)进行第1过滤器单元导入管241(第2过滤器单元导入管242)与第1过滤器31(第2过滤器32)连通的状态和不连通的状态的切换。
例如，若仅利用第1过滤器31持续实施上清水L1的处理，则加工屑B堆积在第1过滤器31的未图示的滤纸的内侧，上清水L1难以通过未图示的滤纸，过滤器功能丧失。其结果，压力计249测定出过滤器单元导入管24内的压力增高、超过容许值。之后进行使第1电磁阀241a为关闭状态的控制，阻断第1过滤器单元导入管241与第1过滤器31的连通。进一步进行使第2电磁阀242a为打开状态的控制，将第2过滤器单元导入管242与第2过滤器32连通。另外，在压力计249测定出过滤器单元导入管24内的压力增高、超过容许值时，未图示的警报单元对产生了需要更换第1过滤器31的情况进行通知/画面显示，以使作业者得知。
其结果，由上清水汲取泵22送出的上清水L1流入到第2过滤器32中，利用第2过滤器32与第1过滤器31同样地进行处理。另外，第1过滤器31为能够更换滤纸等的状态，因此作业者能够进行第1过滤器31的滤纸更换。即，在加工水再生系统1中，即使在更换第1过滤器31时，也可利用第2过滤器32进行上清水L1的处理，因此不必停止装置。
图1所示的加工水再生装置6具备：紫外线照射单元60，其对利用过滤器单元3进一步高度地除去了加工屑B的上清水(本实施方式中为清水L2)照射紫外线；以及离子交换树脂630，其除去清水L2中包含的有机物离子和无机物离子。
从盘34经由配管340流下而暂时贮留在清水罐40中的清水L2利用图1所示的清水泵42汲取，通过一端与清水泵42连接的紫外线照射单元导入管422而送到紫外线照射单元60中。
紫外线照射单元60例如可装卸地配设在图1所示的支承台14上。在该支承台14上立设有隔板140，紫外线照射单元60位于支承台14上的隔板140的后侧(+Y方向侧)。另外，精密过滤器17与紫外线照射单元60相邻且可装卸地配设在支承台14的隔板140的后侧(+Y方向侧)。
紫外线照射单元60例如从未图示的紫外线灯对通过其内部的清水L2照射规定波长的紫外线，将清水L2中的有机物和无机物分解(离子化)。
本实施方式中，离子交换树脂630例如分别被组装到第1离子交换单元61和第2离子交换单元62中。并且，第1离子交换单元61和第2离子交换单元62可装卸地并列配设在支承台14的隔板140的前侧(-Y方向侧)。
关于离子交换树脂630，本实施方式中，阴离子交换树脂630a和阳离子交换树脂630b这两者以规定的比例填充在第1离子交换单元61的外壳611(第2离子交换单元62的外壳621)内。
在紫外线照射单元60中将有机物、无机物进行了分解等而得到的酸性的清水L2经由配管602被导入到第1离子交换单元61或第2离子交换单元62中。
在配管602上配设有电磁开闭阀602a和电磁开闭阀602b。电磁开闭阀602a为打开状态时，清水L2被导入到第1离子交换单元61中，电磁开闭阀602b为打开状态时，清水L2被导入到第2离子交换单元62中。
通过了第1离子交换单元61的离子交换树脂630或第2离子交换单元62的离子交换树脂630的酸性的清水L2中，有机物离子和无机物离子被除去，并且所包含的二氧化碳气体被阴离子交换树脂630a所吸附，由此成为中性的加工水L5。
在像这样对酸性的清水L2进行离子去除而纯化后的中性的加工水L5中，有时会混入构成第1离子交换单元61和第2离子交换单元62的离子交换树脂630的树脂屑等微细物质。因此，将从第1离子交换单元61和第2离子交换单元62送来的加工水L5经由配管171而导入至精密过滤器17中，利用该精密过滤器17捕捉混入到加工水L5中的离子交换树脂630的树脂屑等微细的物质。
例如，在上述配管171中配设有压力检测单元173，其对从第1离子交换单元61和第2离子交换单元62送出到精密过滤器17中的加工水L5的压力进行检测，若该压力检测单元173所检测的配管171内的压力达到了规定压力值以上，则判断为树脂屑等微细物质堆积在精密过滤器17中，丧失过滤器功能，通知/显示出应该更换精密过滤器17的警告。
另外，在上述配管171中可以配设有电阻率计175，其用于检测从第1离子交换单元61或第2离子交换单元62送出到精密过滤器17中的加工水L5的电阻率。
通过了精密过滤器17的加工水L5经由配管180送至加工水温度调整单元18中。送至加工水温度调整单元18中的加工水L5在这里被调整为规定温度，使其经由配管181在图1所示的加工装置A内的未图示的加工水供给单元中循环。
如上所述，加工水再生系统1具备废液处理装置9以及加工水再生装置6，该加工水再生装置6从上清水(本实施方式中为清水L2)中除去有机物离子和无机物离子而进行加工水的再生，该上清水是从废液处理装置9中排出的除去了加工屑B的上清水，该加工水再生系统1中，加工水再生装置6具备对清水L2照射紫外线的紫外线照射单元60以及除去清水L2中包含的有机物离子和无机物离子的离子交换树脂630，利用废液处理装置9的酸性单元99使加工废液L成为酸性，将经沉淀而除去了加工屑B的酸性的清水L2输送到加工水再生装置6的离子交换树脂630中，使清水L2成为中性，由此能够进行加工水L5的再生，再次供给到加工装置A中。
本发明的废液处理装置9和加工水再生系统1并不限于本实施方式，当然也可以在其技术思想的范围内以各种不同的方式来实施。另外，对于附图中图示出的废液处理装置9、加工水再生系统1的各构成的形状等，也不限定于此，可以在能够发挥出本发明的效果的范围内适宜地变更。
符号说明
A：加工装置
1：加工水再生系统
L：加工废液 B：加工屑 9：废液处理装置 90：加工废液流入管 91：沉淀槽
910：入口 919：出口 913：底板 914、915：侧壁 916：间隔壁
99：酸性单元 990：二氧化碳供给部 991：调整阀
98：控制部 96：材质设定部 97：对应表 95：pH测定器
L1：上清水
22：上清水汲取泵 23：加工废液流入管
24：过滤器单元导入管 241：第1过滤器单元导入管 241a：第1电磁阀 242：第2过滤器单元导入管 242a：第2电磁阀 249：压力计
3：过滤器单元
31：第1过滤器 311：筒体 312：投入口
32：第2过滤器 321：筒体 322：投入口
34：盘 340：配管
40：清水罐 42：清水泵 L2：清水
6：加工水再生装置 60：紫外线照射单元 61：第1离子交换单元 611：外壳 62：第2离子交换单元 621：外壳 630：离子交换树脂 630a：阴离子交换树脂 630b：阳离子交换树脂
14：支承台 140：隔板
17：精密过滤器 171：配管 173：压力检测单元 175：电阻率计
18：加工水温度调整单元 L5：加工水

Claims (4)

1.一种废液处理装置，其接受从向被加工物供给加工水而对被加工物进行加工的加工装置中排出的包含加工屑的加工废液，通过使该加工屑沉淀而从该加工废液中除去该加工屑，其中，该废液处理装置包含：
沉淀槽，其积存包含该加工屑的该加工废液；
入口，其供该加工废液进入到该沉淀槽中；
酸性单元，其使从该入口进入到该沉淀槽内的该加工废液成为酸性，由此与该加工废液为中性时相比，提高该加工屑的沉淀速度；以及
出口，其将通过在该沉淀槽内使该加工废液中的该加工屑沉淀而获得的上清水从该沉淀槽中排出。
2.如权利要求1所述的废液处理装置，其中，所述酸性单元具备向所述加工废液供给二氧化碳的二氧化碳供给部。
3.如权利要求1或2所述的废液处理装置，其中，该废液处理装置进一步包含：
pH测定器，其对所述加工废液的pH值进行测定；
材质设定部，其设定所述加工屑的材质；
对应表，其针对该材质示出ζ电位为0V的pH值；以及
控制部，其对所述酸性单元进行控制，以使得由该pH测定器测定的pH值为针对该材质从该对应表选择的ζ电位为0V的pH值。
4.一种加工水再生系统，其包含权利要求1所述的废液处理装置以及加工水再生装置，该加工水再生装置从上清水中除去有机物离子和无机物离子而进行加工水的再生，该上清水是从该废液处理装置中排出的除去了加工屑的上清水，
其中，该加工水再生装置包含：
紫外线照射单元，其对该上清水照射紫外线；以及
离子交换树脂，其除去该上清水中包含的该有机物离子和该无机物离子，
将从该废液处理装置中排出的酸性的该上清水输送到该加工水再生装置的该离子交换树脂中，使该上清水成为中性，由此进行加工水的再生。
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