CN112981410A - 一种铜造像表面抛光的方法 - Google Patents
一种铜造像表面抛光的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112981410A CN112981410A CN202110188648.6A CN202110188648A CN112981410A CN 112981410 A CN112981410 A CN 112981410A CN 202110188648 A CN202110188648 A CN 202110188648A CN 112981410 A CN112981410 A CN 112981410A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- copper
- polishing
- cleaning
- hydrogen peroxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
- C23F3/04—Heavy metals
- C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/06—Other polishing compositions
- C09G1/08—Other polishing compositions based on wax
- C09G1/10—Other polishing compositions based on wax based on mixtures of wax and natural or synthetic resin
- C09G1/12—Other polishing compositions based on wax based on mixtures of wax and natural or synthetic resin mixtures of wax and silicon-containing polycondensates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/06—Other polishing compositions
- C09G1/14—Other polishing compositions based on non-waxy substances
- C09G1/18—Other polishing compositions based on non-waxy substances on other substances
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本发明公开了一种铜造像表面抛光的方法。首先将铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用双氧水浸泡1‑3h；然后将铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡1‑3h；最后将铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗1‑10遍，采用清水清洗干净。本发明的铜造像表面抛光的方法，采用液体抛光液浸泡后，在采用抛光膏打磨，铜造像抛光后光泽度大幅度提高，采用金刚石微粉作为打磨剂，能深入到边角缝隙等不容易打磨的地方，聚丙烯酸酯嵌段共聚物和腐蚀抑制剂的组合使用，在显著提高铜造像的光泽度的同时，提高了其耐腐蚀性能。
Description
技术领域
本发明属于金属器表面处理技术领域，具体涉及一种铜造像表面抛光的方法。
背景技术
随着文物热的兴起，古代铜造像的价格越来越高，为了满足大众对于艺术品的欣赏需求，仿造古代艺术品的技术兴起，虽然仿造技术难以达到真品的要求，却能展示古代艺术品的艺术性。古代铜造像的铸造技术有范铸法、失蜡法、捶碟法等，范铸法要制作陶土范或泥范，对于工匠的要求较高，且铸造常常会留下范线，铸造非常费时费力；捶碟法要求工匠具有一定的美学基础，并且长期锻炼才能胜任；失蜡法是古代造像制造最为广泛流行的做法，其采用羊油或者蜂蜡作为蜡膜，雕刻造像模具，然后加热溶解蜡模，形成空腔，在空腔内浇筑铜水，铸造铜造像。
铜造像采用失蜡法铸造后，表面常有凹凸不平的铜碴，古代采用挫等硬金属去除，会留下明显的痕迹，且非常费时费力，现在采用化学试剂抛光的方法，化学试剂常常使得金属表面颜色改变，发乌发红，影响美观。
发明内容
本发明的目的在于提供一种铜造像表面抛光的方法。
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用双氧水浸泡1-3h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡1-3h；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗1-10遍，采用清水清洗干净。
所述双氧水的质量浓度为2-10％。
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物20-30份、透明质酸3-8份、氧化剂0.5-3份、腐蚀抑制剂1-5份、溶剂180-300份。
所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成。
聚丙烯酸酯嵌段共聚物和腐蚀抑制剂在抛光液体系中可形成抗氧化保护膜，防止在机械抛光的过程中被其他氧化性物质过度腐蚀而变色。
所述氧化剂为溴酸、氯酸、双氧水中的一种或一种以上。
所述腐蚀抑制剂为用1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、5-氨基-2硫基-1，3，4-噻二唑、苯并三唑中的一种或一种以上。
所述溶剂为无水乙醇、10-80％无水乙醇、10-30％丙三醇、水中的一种或一种以上。
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油30-50份、硬脂酸10-20份、棕榈蜡3-5份、金刚石微粉2-6份。
本发明的有益效果：本发明的铜造像表面抛光的方法，采用液体抛光液浸泡后，在采用抛光膏打磨，铜造像抛光后光泽度大幅度提高，采用金刚石微粉作为打磨剂，能深入到边角缝隙等不容易打磨的地方，聚丙烯酸酯嵌段共聚物和腐蚀抑制剂的组合使用，在显著提高铜造像的光泽度的同时，提高了其耐腐蚀性能。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将对本发明进行更全面的描述。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
实施例1
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为5％的双氧水浸泡2h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡2h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物25份、透明质酸6份、双氧水2份、1,2,3-三唑3份、无水乙醇240份；
所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗3遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油40份、硬脂酸15份、棕榈蜡4份、金刚石微粉4份。
实施例2
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为3％的双氧水浸泡3h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡2.5h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物22份、透明质酸3份、溴酸0.5份、苯并三唑1份、30％无水乙醇200份；
所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗5遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油32份、硬脂酸12份、棕榈蜡3份、金刚石微粉3份。
实施例3
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为8％的双氧水浸泡1h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡1.5h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物25份、透明质酸7份、氯酸3份、5-氨基-2硫基-1，3，4-噻二唑4份、15％丙三醇280份；
所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗4遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油45份、硬脂酸18份、棕榈蜡5份、金刚石微粉5份。
实施例4
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为5％的双氧水浸泡2h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡2h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：透明质酸6份、双氧水2份、1,2,3-三唑3份、无水乙醇240份；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗3遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油40份、硬脂酸15份、棕榈蜡4份、金刚石微粉4份。
实施例5
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为5％的双氧水浸泡2h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡2h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物25份、透明质酸6份、双氧水2份、无水乙醇240份；
所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗3遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油40份、硬脂酸15份、棕榈蜡4份、金刚石微粉4份。
实施例6
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为5％的双氧水浸泡2h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡2h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯25份、透明质酸6份、双氧水2份、1,2,3-三唑3份、无水乙醇240份；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗3遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油40份、硬脂酸15份、棕榈蜡4份、金刚石微粉4份。
实施例7
一种铜造像表面抛光的方法，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用质量浓度为5％的双氧水浸泡2h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡2h；
所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物25份、透明质酸6份、双氧水2份、1,2,3-三唑3份、无水乙醇240份；
所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成；
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗3遍，采用清水清洗干净；
所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油40份、硬脂酸15份、棕榈蜡4份。
实验例：
根据JJG696-2002《镜像光泽度计和光泽度板》国家计量检定规程的规定，采用JJG696一级光泽度仪(显示范围：0.0-199.9光泽单位Gs)对经过实施例1-7抛光过的铜试片进行检测，铜试片的初始光泽度相同，均为70±0.2Gs；测试结果见表1：
表1
注：*代表与实施例1组相比，p<0.05。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (8)
1.一种铜造像表面抛光的方法，其特征在于，按照如下步骤进行：
(1)将采用失蜡法铸造的铜造像表面清洗干净，采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平，采用双氧水浸泡1-3h；
(2)将双氧水浸泡过的铜造像表面用清水清洗干净，浸泡入抛光液中浸泡1-3h。
(3)将步骤(2)经过抛光液浸泡的铜造像表面涂抹抛光膏，采用刷子反复刷洗1-10遍，采用清水清洗干净。
2.根据权利要求1所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述双氧水的质量浓度为2-10％。
3.根据权利要求1所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述抛光液由如下重量份数的组分构成：聚丙烯酸酯嵌段共聚物20-30份、透明质酸3-8份、氧化剂0.5-3份、腐蚀抑制剂1-5份、溶剂180-300份。
4.根据权利要求3所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述聚丙烯酸酯嵌段共聚物的制备方法如下：按照摩尔比丙烯酸正丁酯：二溴代异丁酸乙二醇酯：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1：1：1：1.5：3.2，将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，85℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，得到引发剂；以摩尔比甲基丙烯酸酯甲酯：引发剂：羟乙基二亚乙基三胺：CuCl2：乙二醇：NaHCO3＝100：1.5：1.5：1：1：1将反应物依次加入120mL单口烧瓶中，通氮气20min，封口，90℃条件下反应5h，降温至室温使反应终止，制成。
5.根据权利要求3所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述氧化剂为溴酸、氯酸、双氧水中的一种或一种以上。
6.根据权利要求3所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述腐蚀抑制剂为用1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、5-氨基-2硫基-1，3，4-噻二唑、苯并三唑中的一种或一种以上。
7.根据权利要求3所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述溶剂为无水乙醇、10-80％无水乙醇、10-30％丙三醇、水中的一种或一种以上。
8.根据权利要求1所述铜造像表面抛光的方法，其特征在于，所述抛光膏由如下重量份数的组分构成：硅油30-50份、硬脂酸10-20份、棕榈蜡3-5份、金刚石微粉2-6份。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110188648.6A CN112981410B (zh) | 2021-02-19 | 2021-02-19 | 一种铜造像表面抛光的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110188648.6A CN112981410B (zh) | 2021-02-19 | 2021-02-19 | 一种铜造像表面抛光的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112981410A true CN112981410A (zh) | 2021-06-18 |
| CN112981410B CN112981410B (zh) | 2023-04-25 |
Family
ID=76393461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110188648.6A Active CN112981410B (zh) | 2021-02-19 | 2021-02-19 | 一种铜造像表面抛光的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112981410B (zh) |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3958322A (en) * | 1974-06-10 | 1976-05-25 | Rhodes William A | Method of casting an alloy having the appearance of gold |
| WO2000013217A1 (fr) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Liquide abrasif pour le polissage de metaux et procede correspondant |
| JP2009117789A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Ｃｍｐ用研磨液及び研磨方法 |
| CN101463227A (zh) * | 2007-12-21 | 2009-06-24 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液 |
| CN101747844A (zh) * | 2008-12-19 | 2010-06-23 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种化学机械抛光液及其应用 |
| CN101792503A (zh) * | 2010-02-04 | 2010-08-04 | 中科院广州化学有限公司 | 含氟丙烯酸酯类atrp大分子引发剂及制备方法与应用 |
| US20120235081A1 (en) * | 2009-11-30 | 2012-09-20 | Basf Se | Process for removing a bulk material layer from a substrate and a chemical mechanical polishing agent suitable for this process |
| CN104046990A (zh) * | 2014-06-23 | 2014-09-17 | 梧州恒声电子科技有限公司 | 一种铜抛光的方法 |
| CN108165178A (zh) * | 2018-01-24 | 2018-06-15 | 合肥同佑电子科技有限公司 | 一种手机金属后壳用抛光膏 |
| CN109720138A (zh) * | 2019-03-07 | 2019-05-07 | 永嘉县华艺雕刻厂 | 一种铜器的加工方法 |
| CN111015376A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-17 | 安徽省潜山县志发机电配件有限公司 | 一种机电设备用表面抛光工艺 |
| CN112126831A (zh) * | 2020-09-10 | 2020-12-25 | 江苏科源铝业有限公司 | 一种光亮防腐铝型材及其制备方法 |
-
2021
- 2021-02-19 CN CN202110188648.6A patent/CN112981410B/zh active Active
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3958322A (en) * | 1974-06-10 | 1976-05-25 | Rhodes William A | Method of casting an alloy having the appearance of gold |
| WO2000013217A1 (fr) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Liquide abrasif pour le polissage de metaux et procede correspondant |
| JP2009117789A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Ｃｍｐ用研磨液及び研磨方法 |
| CN101463227A (zh) * | 2007-12-21 | 2009-06-24 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种用于阻挡层抛光的化学机械抛光液 |
| CN101747844A (zh) * | 2008-12-19 | 2010-06-23 | 安集微电子（上海）有限公司 | 一种化学机械抛光液及其应用 |
| US20120235081A1 (en) * | 2009-11-30 | 2012-09-20 | Basf Se | Process for removing a bulk material layer from a substrate and a chemical mechanical polishing agent suitable for this process |
| CN101792503A (zh) * | 2010-02-04 | 2010-08-04 | 中科院广州化学有限公司 | 含氟丙烯酸酯类atrp大分子引发剂及制备方法与应用 |
| CN104046990A (zh) * | 2014-06-23 | 2014-09-17 | 梧州恒声电子科技有限公司 | 一种铜抛光的方法 |
| CN108165178A (zh) * | 2018-01-24 | 2018-06-15 | 合肥同佑电子科技有限公司 | 一种手机金属后壳用抛光膏 |
| CN109720138A (zh) * | 2019-03-07 | 2019-05-07 | 永嘉县华艺雕刻厂 | 一种铜器的加工方法 |
| CN111015376A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-17 | 安徽省潜山县志发机电配件有限公司 | 一种机电设备用表面抛光工艺 |
| CN112126831A (zh) * | 2020-09-10 | 2020-12-25 | 江苏科源铝业有限公司 | 一种光亮防腐铝型材及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN112981410B (zh) | 2023-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103071764B (zh) | 用于钛及钛合金精密铸造的CaZrO3型壳的制备方法 | |
| CN104177873B (zh) | 一种高碳钢钢坯高温防护涂料及其应用 | |
| CN109720138B (zh) | 一种铜器的加工方法 | |
| JP4819395B2 (ja) | 歯科補綴物及びその方法 | |
| CN112981410A (zh) | 一种铜造像表面抛光的方法 | |
| CN102962401A (zh) | 一种用于钛及钛合金精密铸造的SrZrO3型壳及其制备方法 | |
| CN102873267B (zh) | 一种砂型铸造醇基涂料及其制备方法 | |
| CN105384421A (zh) | 一种水性超低voc高耐候真石漆及其制备方法 | |
| JPH0670207B2 (ja) | キレートポリマーチタン酸エステルを基体とする被覆剤用結合剤の製法 | |
| KR20170046171A (ko) | 망간, 아연 및 지르코늄을 갖는 개선된 알루미늄 주조 합금 | |
| CN104325074B (zh) | 一种利用石膏型铸造大型银合金佛像的方法 | |
| CN113201738B (zh) | 一种选择性激光熔化AlSi10Mg成形工件的电化学表面处理方法 | |
| CN104131297B (zh) | 一种纯铝以及铝合金铸件的化学抛光液及其制备方法 | |
| JP4350212B2 (ja) | マグネシウム合金の高耐食性鋳造品の製造法及び高耐食性鋳造品 | |
| CN111590017B (zh) | 一种自润滑不粘熔铝的环保涂料和涂膜及其制备方法 | |
| CN104550672A (zh) | 阻燃陶瓷型壳的制备工艺 | |
| CN104309394A (zh) | 艺术铜雕表面色泽处理方法 | |
| CN106222667A (zh) | 一种镀镍金属抛光剂 | |
| CN105885605A (zh) | 一种含纳米金刚石粉的高润滑耐划伤城市铸铜雕塑用涂料及其制备方法 | |
| WO2015115260A1 (ja) | マグネシウム合金製品の製造方法 | |
| CN110306211A (zh) | 一种电铸k金工艺 | |
| CN103949855A (zh) | 一种铝质水龙头 | |
| JP3869079B2 (ja) | 形状記憶合金の製造方法 | |
| JP2011132569A (ja) | プラチナ合金及びそれを用いた装飾品 | |
| CN108223876B (zh) | 一种抗水垢不锈钢水龙头及其制造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: A Method for Polishing the Surface of Copper Statues Effective date of registration: 20230711 Granted publication date: 20230425 Pledgee: Hubei Daye Rural Commercial Bank Co.,Ltd. Pledgor: Hubei juechen Technology Co.,Ltd. Registration number: Y2023420000298 |