CN112969539A - 用于清洁激光切割基板的系统和方法 - Google Patents

Abstract

一种用于清洁基板表面的系统，包括清洁元件，所述清洁元件包括弹性可压缩材料。液体来源将液体直接提供至清洁元件，以及，挤水滚筒与清洁元件相接合并对其施加压力，以将多余的液体从所述弹性可压缩材料中挤出。支撑元件相对所述清洁元件，以使基板被置于支撑元件和清洁元件之间。基板在支撑元件和清洁元件之间移动，以使吸入有适合的量的液体的清洁元件的表面接合并清洁基板的表面，而不会损坏基板。

Description

用于清洁激光切割基板的系统和方法

优先权

本申请主张于2018年11月9日提交的标题为“用于清洁激光切割基板的系统和方法”的英国(GB)专利申请GB1818265.9号获得的优先权，通过引用将其内容并入本文视为本文的一部分。

技术领域

本发明涉及多种改进激光切割纸基板的系统和方法，以及，更具体来说，是涉及多种在切割后，对激光切割纸基板做清洁以去除或减轻烧伤痕迹或残留物的系统和方法。

背景技术

用于激光切割纸的系统和方法在本领域是众所皆知的，并且存在于市面上。例如，Packmaster CW和LabelMaster可于意大利的SEI laser of Cumo购买，还有HighconEuclid可于以色列的Highcon Systems LTD of Yavne购买。

纸的激光切割的过程，如同大多数木质材料，是热化学分解的过程。具体来说，纸的激光切割被认为是气化切割过程。当激光束到达工件表面时，激光束将材料加热到其蒸发温度，从而使纸材料升华。

纸张分解的结果是，例如碎屑和烟尘的分解产物被带离高温切割区域，并堆积在切割区域周围或附近，从而弄脏或污染了切割区域，损害了纸切割的美学外观。有很多专有名词是在表示这个现象，包括“激光烧伤痕迹”、“热影响区(Heat Affected Zone，HAZ)”、“切割烧蚀残留物”和“激光切割残留物”。这种激光切割残留物在光面或亮面纸上，及/或在涂布纸、印刷纸或层压纸上特别明显，因为该残留物会在切割线附近使纸张呈现无光泽的外观。

在切割过程中激光参数及/或曝气条件的优化会对残留物造成的切割区域的污染程度产生一定影响，但是无法完全消除这种影响。用于清洁纸基板表面的已知方法包括在切割之前将保护层粘附到基板表面上，并在切割过程后移除保护层，以及在切割纸基板后，用稍微浸入IPA或水的薄纸人工将纸基板擦拭干净。

发明人已经认识到在保持或实质上保持纸的完整性的同时对纸基板表面的表面进行切割后的清洁做进一步的改进的需要。

发明内容

根据本发明的实施例，提供了一种用于清洁基板表面而不会损坏所述基板的系统，所述系统包括：

清洁元件，包括至少一外层，所述外层由弹性可压缩材料所形成；

液体来源，所述液体来源适于将液体直接提供至所述清洁元件；

至少一挤水滚筒，所述挤水滚筒与所述清洁元件相接合并且至少对所述外层施加压力；以及

支撑元件，所述支撑元件至少适于支撑所述清洁元件，以使所述基板可实质上稳定地被设置于所述清洁元件和所述支撑元件之间，

其中，在所述系统的运作模式中，所述基板被设置于所述支撑元件和所述清洁元件之间，以使所述基板的第一宽面与所述清洁元件相接合，并且所述基板的第二宽面与所述支撑元件相接合，

其中，在所述运作模式中，当所述液体来源将液体提供至所述清洁元件时，所述清洁元件适于以第一方向转动，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收，

其中，在所述运作模式中，所述挤水滚筒适于以与所述第一方向相反的第二方向绕其纵向轴转动，以对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力并将至少部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除，以及在所述运作模式中，当所述基板在所述清洁元件和所述支撑元件之间被驱动并且所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面接合时，所述基板的所述第一宽面被所述弹性可压缩材料清洁干净。

在一些实施例中，所述弹性弹性材料包括泡沫材料。在一些这样的实施例中，所述泡沫材料是选自于由开孔橡胶泡沫，网状泡沫和毡状泡沫所组成的群组。

在一些实施例中，所述弹性可压缩材料所具有的密度在0.1克/立方厘米(g/cm3)至0.4克/立方厘米或0.15克/立方厘米至0.30克/立方厘米的范围。

在一些实施例中，所述弹性可压缩材料具有65％压缩压力，其在15磅/平方英寸(PSI)至80磅/平方英寸、20磅/平方英寸至75磅/平方英寸，或25磅/平方英寸至70磅/平方英寸的范围。

在一些实施例中，所述支撑元件适于通过所述系统转动并且驱动所述基板运动。在一些实施例中，所述支撑元件适于以所述第一方向转动并驱动所述基板运动。

在一些实施例中，所述液体为亲水性液体。在一些实施例中，所述亲水性液体为水。

在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒是由选自于由铝、不锈钢和塑料所组成的群组的材料所形成。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述至少一挤水滚筒适于持续对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述至少一挤水滚筒适于周期性地对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。

在一些实施例中，在其相对于所述清洁元件转动期间，所述至少一挤水滚筒适于将所述清洁元件的所述弹性可压缩材料压缩，将所述弹性可压缩材料的厚度压缩5％至75％，30％至75％或65％。

在一些实施例中，所述清洁元件包括环形清洁带，所述环形清洁带适于被至少两个滚筒移动和滚动，并且，在所述运作模式中，与所述基板和毗邻所述至少两个滚筒其中之一的所述支撑元件相接合。

在一些实施例中，所述清洁带的所述外层被设置于支持层上，并且所述支持层是由选自于由织物、橡胶和金属所组成的群组的材料所组成。在一些实施例中，所述支撑元件包括环形支撑带，所述环形支撑带适于被至少两个滚筒移动和滚动，并且在所述运作模式中，与所述基板和毗邻所述至少两个滚筒其中之一的所述清洁元件相接合。

在一些实施例中，所述液体来源包括液体储存器和与所述液体储存器流体连通的水管，所述水管终止于毗邻设置于所述清洁元件的出口，并且在所述运作模式中，所述出口适用于将所述液体提供至所述清洁元件。

在一些其他实施例中，所述液体来源包括龙头，所述龙头具有毗邻设置于所述清洁元件的出口，并且在所述运作模式中，所述龙头适于将所述液体提供至所述清洁元件。

在一些实施例中，在所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点被设置于从所述液体来源的所述出口沿着所述第一方向的下游，以使所述至少一挤水滚筒与所述清洁元件相接合，并在向清洁元件提供液体和所述液体被所述弹性可压缩材料吸收后，将所述被吸收的液体的至少一部分移除。

在一些实施例中，所述液体来源包括液体缸，所述液体缸盛装所述液体，所述液体缸被置于所述清洁元件的下方，以使所述弹性弹性材料的部分被设置于所述液体缸中，并且在所述运作模式中，通过所述清洁元件以所述第一方向转动，所述清洁元件的不同部分经过所述液体缸，以将所述液体提供至所述清洁元件。

在一些实施例中，还包括液体收集器，所述液体收集器包括液体收集缸和液体排水渠，所述液体收集器被毗邻设置于所述清洁元件和在所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点沿所述第一方向的下游处，所述液体收集器适于在所述运作模式中收集被所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件移除的液体以及将所述收集的液体从所述系统中排出。

在一些实施例中，被所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件移除的所述液体包括由于先前经过所述基板而清洁所述基板而变脏的液体。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述清洁元件与所述基板相接合的部分足够干净，以使脏污不被散布至所述基板上。在一些实施例中，所述清洁元件包括清洁滚筒，并且所述清洁滚筒的纵向轴和所述至少一挤水滚筒的纵向轴被设置为相对于水平面呈一角度，所述液体来源的喷嘴，在位于或靠近所述清洁元件的最高点将所述液体提供至所述清洁元件，所述液体收集缸沿着在所述至少一挤水滚筒下方的所述挤水滚筒的纵向轴延伸，并且相对于水平面呈一角度；以及所述液体排水渠被设置于在所述液体收集缸的最低点，以使所述液体沿着所述清洁元件的长度扩散，并且在重力作用下，收集的液体到达所述液体排水渠。

在一些实施例中，所述清洁元件包括清洁滚筒，所述清洁滚筒的纵向轴和所述至少一挤水滚筒的纵向轴水平设置，所述液体来源的喷嘴，在位于或靠近所述清洁元件的所述纵向轴的中心点将所述液体提供至所述清洁元件，所述液体收集缸在至少一挤水滚筒下方沿着所述至少一挤水滚筒的所述纵向轴水平延伸，并且所述液体排水渠被设置于毗邻所述清洁滚筒的一纵向端的所述液体收集缸的纵向端点，以使所述液体通过所述喷嘴提供的液体流所产生的力沿着所述清洁元件的长度扩散。

在一些实施例中，所述基板包括至少一基板，所述至少一基板是选自于由纸、纸板、硬纸板、层压纸、压纹纸、具有压痕线的纸和涂有金属层的纸所组成的群组。

在一些实施例中，所述系统还包括干燥机构，所述干燥机构沿所述支撑元件和所述清洁元件的下游设置，并且在所述运作模式中，所述干燥机构适于在用所述清洁元件清洁所述基板后干燥所述基板。

根据本发明的一些实施例，提供了用于制造激光切割基板的系统，所述系统包括：

激光切割站，适于在所述系统的运作模式中，将红外激光对准基板的第一宽面，以便在所述基板中形成至少一切口；以及

清洁站，所述清洁站包括如上所述的清洁系统，被设置于所述激光切割站的下游处，并且适于在所述运作模式中接收包括所述至少一切口的所述基板并且与所述所述基板的第一宽面接合，以清洁所述第一宽面。

根据本发明的一些实施例，提供了使用如上所述的本发明的系统以清洁具有第一和第二宽面的基板的第一宽面而不损害所述基板的方法，所述方法包括：

将液体提供至所述清洁元件，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收；

以第一方向转动所述清洁元件；

在所述清洁元件转动期间，通过以与所述第一方向相反的第二方向绕挤水滚筒的纵向轴转动所述挤水滚筒来对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加，以将至少一部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除；以及

驱动在所述清洁元件和所述支撑元件之间的所述基板，以使所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面相接合，以清洁所述基板的所述第一宽面。

附图说明

这里仅通过举例的方式，参考附图描述本发明。现在具体参照附图详细说明，要强调的是，所示出的细节仅是示例性的，并且仅是为了说明性地讨论本发明的优选实施例，并且出于提供对本发明的原理和概念方面最有用和最容易理解的描述的目的而提出。在这点上，不试图比对本发明的基本理解更详细地示出本发明的结构细节，结合附图进行的描述对于本领域技术人员来说如何实际实施本发明的多种形式是显而易见的。在所有附图中，相同元件符号用于指出相同元件。

在附图中：

图1A和图1B是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板上清洁HAZ的创新系统的第一实施例的剖面示意图，分别为在静止模式和在运作模式下的态样；

图1C是图1A和图1B的创新系统的框架形成部分的俯视平面示意图；

图2A是根据本公开所教示的另一实施例的用于从纸基板上清洁HAZ的创新系统的第二实施例的剖面示意图；

图2B和2C是分别为图2A的系统的清洁滚筒成形部分的一实施例的正视和侧视平面图；以及

图2D和2E是形成图2B和图2C的清洁滚筒的步骤示意图；

图3是图1A和图1B的系统的第一配置的侧视示意图，所述第一配置有助于更新系统中的清洁液；

图4是图1A和图1B的系统的第二配置侧视示意图，所述第二配置有助于更新系统中的清洁液；

图5A和5B分别是图2的系统的一种修改的侧视示意图和剖面示意图，所述修改能防止液体不期望地滴落在已经被清洁干净的纸基板上的情形；

图6是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板上清洁HAZ的创新系统的第三实施例的剖面示意图；

图7是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板上清洁HAZ的创新系统的第四实施例的剖面示意图；

图8是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板上清洁HAZ的创新系统的第五实施例的剖面示意图；

图9是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板上清洁HAZ的创新系统的第六实施例的剖面示意图；

图10是包括图1A到图9其中任一的系统的激光切割系统的方块示意图。

具体实施方式

本发明涉及多种使激光切割纸基板更进步的系统和方法，更具体来说，是涉及多种在切割后，对激光切割纸基板做清洁以去除或减轻烧伤痕迹或残留物的系统和方法。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，用语“基板”和“纸基板”可相互替换使用，并且是指任何是或包括以下至少一种：纸、纸板、硬纸板、层压纸、压纹纸、带有压痕线的纸、涂有金属层的纸或其中至少一层是纸层的任何其他多层基板。所述基板可具有的厚度在0.1毫米到10毫米的范围。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，用语“激光切割基板”是指任何已对其施加激光束以通过激光束在基板中形成至少一个切口的基板。激光束可从任何红外激光器发射，包括CO2激光器、YAG激光器、钕YLF激光器、掺钕激光器、光纤激光器、脉冲激光器和连续激光器。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，用语“X％压缩压力”是指为了压缩平方英寸的可压缩材料X％而施加于一平方英寸的可压缩材料(例如泡沫)的压力。举例而言，一平方英寸的海绵的10％压缩压力就是将一平方英寸的海绵压缩海绵初始厚度的10％所需要的压力。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，如果在处理后，没有因为处理而在基板上产生附加痕迹、划痕、割伤、折痕、卷曲、撕裂、裂口、隆起或凹痕，所述处理被视为“不损坏基板”或是“保持基板完整性”的处理。通常，基板在未经处理的区域保持无变化或实质上无变化。通常除了作为处理目标的部分外，基板在经处理的区域都没有变化或实质上没有变化。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，用语“弹性可压缩材料”涉及一种材料，所述材料在当特定压力施加于其上时会被压缩，这特定压力释放至少一部分任何被吸收或被吸附的液体，并且当着释放了特定的压力，所述材料实质上回到其初始形状或厚度。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，用语“泡沫”涉及一种由橡胶形成的弹性可压缩材料，所述橡胶包括气泡，从而形成多孔开孔结构。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，用语“或”涉及一种“包容性的或”，并且等同于用语“A和B其中至少一个”。如此，每个短语“A或B”和短语“A和B其中至少一个”包括“只有A”、“只有B”以及“A和B”的选项。相似地，每个短语“A、B或C”和用语“A、B和C其中至少一个”包括“只有A”、“只有B”、“只有C”、“A和B”、“B和C”、“A和C”以及“A、B和C”的选项。

在本发明说明书和权利要求的上下文中，从定量观点来看，当两个用语或元件之间的差异最多5％，则这两个用语或元件“实质上相同”。

现在请参考图1A和图1B，是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板101的宽面上清洁HAZ的创新系统100的第一实施例的剖面示意图。

如图1A和图1B所示，系统100包括清洁元件，完全是由弹性可压缩材料(较佳为泡沫)形成，在图1A和图1B的实施例中为清洁滚筒102。

在一些实施例中，泡沫是选自开孔橡胶泡沫、网状泡沫和毡状泡沫。在一些实施例中，泡沫是由选自于由丁腈橡胶、EPDM橡胶、天然橡胶、PVC、聚酯、聚醚和聚氨酯所组成的群组的材料所形成。

在一些实施例中，泡沫具有的密度在0.1克/立方厘米至0.4克/立方厘米，或0.15克/立方厘米至0.30克/立方厘米的范围。

在一些实施例中，泡沫具有25％的压缩压力，在2磅/平方英寸到50磅/平方英寸，3磅/平方英寸到40磅/平方英寸，或5磅/平方英寸到30磅/平方英寸的范围。在一些实施例中，泡沫具有65％压缩压力，在15磅/平方英寸到80磅/平方英寸、20磅/平方英寸到75磅/平方英寸，或25磅/平方英寸到70磅/平方英寸的范围。合适的泡沫的材料包括网状、全开孔的永久压缩聚氨酯泡沫，例如SIF 6-900Z、SIF 8-900Z和SIF 12-900Z型，美国宾夕法尼亚州Media的FXI Inc有贩售。

在一些实施例中，清洁滚筒102具有的直径在20毫米到300毫米的范围或在40毫米到100毫米的范围。

清洁滚筒102的大小和配置是设置成在基板抵靠清洁滚筒的单一通道中能接合整个基板的宽度，如此一来，清洁滚筒的长度至少等于基板的宽度。在一些实施例中，清洁滚筒102具有的长度在100毫米到1500毫米的范围，或在300毫米到800毫米的范围。

在一些实施例中，清洁滚筒102的直径和清洁滚筒102的长度的比值在1∶3到1∶20的范围，或是在1∶5到1∶20的范围。

系统100也包括支撑及/或支持元件，在图1A和图1B的实施例中是支持滚筒103。纸基板101适于被支持滚筒103所支持，以使清洁滚筒102被垂直放设置于纸基板101和支持滚筒103的上方。

在一些实施例中，支持滚筒103是由EPDM橡胶、硅橡胶、聚氨酯橡胶、聚氯乙烯和聚合物泡沫中的至少一种所形成的。

在一些实施例中，支持滚筒103具有的直径在20毫米到300毫米的范围，或是在50毫米到200毫米的范围。

支持滚筒103的大小和配置被设置成能够接合和支持整个基板的宽度，如此一来，支持滚筒的长度至少等于基板的宽度。在一些实施例中，支持滚筒103具有的长度在100毫米到1500毫米的范围，或是在300毫米到900毫米的范围。

在一些实施例中，支持滚筒103的直径和支持滚筒103的长度的比值在1∶3到1∶20的范围，或是在1∶5到1∶20的范围。

在一些实施例中，清洁滚筒102的直径和支持滚筒103的直径的比值在1∶5至5∶1的范围，或是在1∶3至3∶1的范围。

在一些实施例中，清洁滚筒102的长和支持滚筒103的长的比值在1：1至1∶10的范围，或是在1∶1至1∶2的范围。

系统100进一步包括液体来源，在图1A和图1B的实施例中是与储存器(未明确示出)相连的水管105，水管105被设置为直接将液体提供至清洁滚筒102。挤水滚筒104与清洁滚筒102相接合，下游至水管105向清洁滚筒提供液体的那点。挤水滚筒104适用于抵靠清洁滚筒102转动并且对其施加压力，以从清洁滚筒102中移除至少一些液体。

在一些实施例中，挤水滚筒104由铝、不锈钢或塑料(较佳为刚性塑料)形成。

在一些实施例中，挤水滚筒104具有的直径在10毫米至200毫米或20毫米至80毫米的范围。在一些实施例中，挤水滚筒104具有的长度在100毫米至1500毫米的范围，或是在300毫米到800毫米的范围。

在一些实施例中，挤水滚筒104的直径和挤水滚筒的长度的比值在1∶3至1∶20的范围，或是在1∶5至1∶20的范围。

在一些实施例中，清洁滚筒102的直径和挤水滚筒104的直径的比值在1∶1至10∶1的范围，或是在2∶1至5∶1的范围。

在一些实施例，清洁滚筒102的长度和挤水滚筒104的长度的比值在1∶1至1∶10的范围，或是在1∶1至1∶1.5的范围。

请另外参考图1C，是系统100(图1A和图1B)的框架形成部分的俯视平面示意图。如图所示，清洁滚筒102的轴向端121被第一框架部分122所支撑，以至于清洁滚筒可绕着它的轴转动。第一框架部分122的任一端终止于与清洁滚筒102的轴线平行设置的凸缘123。相似地，挤水滚筒104的轴向端127被第二框架部分124所支撑，以使挤水滚筒可绕着它的轴转动。第二框架部分124的任一端终止于与挤水滚筒104的轴线平行设置的凸缘125。螺丝126在第一框架部分和第二框架部分的每个端连接凸缘123和凸缘125，以使螺丝126的锁紧增加挤水滚筒104施加于清洁滚筒102的压力，而螺丝126的松开减少挤水滚筒104施加于清洁滚筒102的压力。

虽然图1C示出了控制挤水滚筒104施加于清洁滚筒102的压力特定的机构，但也可用其他任何适合的机构。例如，可通过电子控制器决定框架部分122和框架部分124、液压系统或气动系统的相对位置来控制压力。

回到图1A和图1B，液体收集器106包括液体收集缸107和液体排水渠108，并且被设置于毗邻清洁滚筒102和挤水滚筒104与清洁滚筒105的接合点的下游。

如图1A所示，在系统100的静止模式中，清洁滚筒102和支撑滚筒103之间存在间隙110。基板101可设置于或不设置于间隙110里。另外，在系统100的静止模式下，滚筒102、103和104可为静止的。

如图1B所示，在系统100的运作模式中，基板101被设置于支持滚筒103和清洁滚筒102之间，以使基板101的第一宽面与清洁滚筒102相接合，以及基板101的第二宽面与支持滚筒103相接合。在一些实施例中，基板101通过基板驱动系统(未明确示出)被馈送到系统100中，使得支持滚筒103的作用仅在于基板通过系统期间支持基板。在其他实施例中，例如当基板101被手动馈送到间隙110中，支持滚筒103也可具有驱动滚筒的功能来驱动基板通过间隙110直到操作人员在清洁基板后将其收集为止。

在其他的实施例中，支持滚筒103和清洁滚筒102可永久接合。在这些实施例中，在使用中，基板101被供应到滚筒102和103的接合处。

基板101可为任何适合的基板，包括纸、纸板、硬纸板、层压纸和涂有金属层的纸。

清洁滚筒102以第一方向(逆时针)转动，用箭头112表示，当液体从水管105被提供至清洁滚筒102时，使得至少一些的液体被清洁滚筒102的泡沫吸收。在一些实施例中，剩余没被清洁滚筒102的泡沫吸收的液体被液体收集器收集，排水系统将在此后描述。在一些实施例中，水管105以一固定流速将液体提供至清洁滚筒102。在一些实施例中，固定流速在0.1升/小时(l/h)至10升/小时、0.2升/小时至8升/小时或0.3升至5升/小时的范围。

在一些实施例中，经由水管105提供的液体是亲水性液体。

在一些实施例中，所述亲水性液体是水。

在一些实施例中，所述亲水性液体是包含选自于由表面活性剂、树脂、润湿剂、去污剂、增滑剂、醇醚和酮组成的群组中的至少一种溶质的水溶液。

在一些实施例中，所述亲水性液体按重量计包含至少20％、至少35％或至少50％的醚。

在一些实施例中，所述亲水性液体按重量计包含至少20％、至少35％或至少50％的异丙醇。

在一些实施例中，所述亲水性液体可以包括至少一种适于减少或消除来自基板的烟味的添加剂。

在一些实施例中，例如当基板被用于食品产业或医疗产业中时，所述亲水性液体可包括消毒添加剂、抗菌添加剂、抗真菌添加剂或抗病毒添加剂中的至少一种。

挤水滚筒104绕其纵向轴以与第一方向相反的第二方向(顺时针)转动，用箭头114来表示。在挤水滚筒104转动的期间，施加压力于清洁滚筒102的泡沫上，从而将至少一部分被吸收或被清洁滚筒102的泡沫吸附的液体移除。从清洁滚筒102中移除的液体被液体收集器106收集，并通过液体排水渠108从系统中排出，然后可将其丢弃或回收进水管105中。

在一些实施例中，挤水滚筒104抵靠清洁滚筒102的转动适于将清洁滚筒102的泡沫压缩5％至75％、30％至75％或65％的泡沫厚度。在一些实施例中，挤水滚筒104对清洁滚筒102的泡沫施加的压力在2磅/平方英寸至100磅/平方英寸的范围，或是在10磅/平方英寸至70磅/平方英寸的范围。

在一些实施例中，挤水滚筒104持续对清洁滚筒102施加压力。

在一些实施例中，挤水滚筒104定期对清洁滚筒102施加压力。在这样的实施例中，挤水滚筒104至少每0.5秒一次、每秒一次、每2秒一次、每3秒一次、每5秒一次或每10秒一次对清洁滚筒102施加压力。

如以上所描述，基板101被专用的基板驱动系统及/或支持滚筒103的旋转驱动或馈送至清洁滚筒102和支持滚筒103之间的空间中。在一些实施例中，基板具有的线性速度在20米/小时(m/h)至10,000米/小时、200米/小时至10,000米/小时、300米/小时至9,000米/小时、400米/小时至7,000米/小时，或500米/小时至5,000米/小时的范围。

在图1B的实施例中，以箭头115的方向来馈送纸基板101，所述馈送至少一部分是由支持滚筒103以箭头116所示的方向(逆时针)的转动达成的，以使支持滚筒103的转动的方向与清洁滚筒102转动的方向相同。在这一的配置下，清洁滚筒102沿与基板被馈送到系统100中的方向相反的方向旋转。

如下文中进一步详细解释的，在一些实施例中，基板101的运动方向可以与清洁滚筒102的表面在清洁滚筒与基板之间的接触点处的运动方向相同。

在一些实施例中，在清洁滚筒102和基板101接触点处上，清洁滚筒和基板以相反方向移动，基板101的线性速度与清洁滚筒的线性速度的比值在0.1至50、0.25至40、0.5至30、0.75至20或1至10的范围。

由于湿的清洁滚筒102和基板101的相对运动，在其中具有合适液体量的清洁滚筒表面102与基板101的第一宽面接合，以使清洁滚筒102的湿表面将基板的第一宽面擦拭干净，而不会损坏基板。

在所示的实施例中，基板101和清洁滚筒102以相反方向移动，基板101始终与清洁滚筒102的一部分相接合，清洁滚筒102的一部分之前已被提供液体，且过量的液体及/或脏污通过挤水滚筒104从其中移除，以使当清洁滚筒与基板101相接合时具有干净且合适湿的表面，且没有将脏污或污渍引入基板。

在其他实施例中(未明确示出)，支持滚筒103以与清洁滚筒102转动方向相反的方向转动(例如，在示出的实施例中，支持滚筒将以顺时针的方向转动)，以使当基板被馈送至系统100时，基板运动的方向与清洁滚筒102的表面在清洁滚筒和基板之间的接触点处的运动的方向相同。在这样的实施例中，为了使基板101始终与清洁滚筒102的干净部分相接合，清洁滚筒102必须移动得比基板101快。在一些这样的实施例中，清洁滚筒102的线性速度大于基板101的线性速度至少10％、至少25％、至少50％、至少75％，或至少100％、至少200％、至少300％、至少400％，或至少500％。

在一些实施例中，系统100进一步包括干燥机构120，设置在清洁滚筒102的下游。在系统100的运作模式中，在用清洁滚筒102加湿和清洁基板101之后，基板至少一部分被干燥机构干燥。在一些实施例中，干燥机构是基于热能。在一些实施例中，干燥机构是基于气流。

现在请参考图2A，是根据本发明所教示的另一实施例用于从纸基板101上清洁HAZ的創新系统200的第二实施例的剖面示意图。图2示出的系统200处于静止状态，与图1A的图相似，并且具有如上文关于图1B所描述的运作模式。

系统200与图1A和图1B的系统100相似，相同的数字代表相同的元件。系统200与系统100不同在于系统200的清洁滚筒102不是完全由例如泡沫的弹性可压缩材料所形成，而是由泡沫层201或其他弹性可压缩材料的层，包裹刚性芯202。如此一来，在系统200的运作模式中，从水管105提供的液体只会被吸附到泡沫层201上，并且只有泡沫层201会被挤水滚筒104挤压。

在一些实施例中，刚性芯202是由铝、钢和塑料至少其中一种所形成。在一些实施例中，刚性芯202具有实心截面(如图所示)，然而在其他实施例中，如图2B和2C所示，刚性芯可以是管状(如图2B和图2C所示)。

在一些实施例中，刚性芯202具有的直径在10毫米至250毫米的范围。泡沫层201可由上文关于图1A和图1B描述的材料形成。在一些实施例中，泡沫层201具有的厚度在1毫米至50毫米、2毫米至40毫米、3毫米至30毫米、3毫米至20毫米，或3毫米至10毫米的范围。

系统200的所有其他态样与上文关于图1A和图1B描述的系统相似，包括元件尺寸、运作参数和特性、材料、液体等。

现在请转到图2B和图2C，可以看见清洁滚筒102可包括泡沫套204，所述泡沫套204是由管状钢性芯202a形成，管状钢性芯202a被泡沫层201a包裹。如图2C所示，芯202a可稍微比泡沫层201a长。在系统200中可容易地替换泡沫套204，例如将泡沫套放置在合适的轴上。

如图2D和2E所示，图2B和图2C的泡沫套可通过将泡沫的长条206缠绕到芯202a上并将缠绕的泡沫粘附到芯上，从而在芯202a周围形成泡沫层201a。

现在请参考图3，是图1A和图1B的系统100的第一配置的侧视示意图，所述第一配置有助于更新系统中清洁液。应理解，图3所示的配置可相似地使用于图2的系统200上。

如图3所示，清洁滚筒102的纵向轴、支持滚筒103和挤水滚筒104均被相对于水平线倾斜地置放，用虚线H来表示，以使各滚筒102、103和104的纵轴与水平方向之间形成锐角α。在一些实施例中，α在0.1度到10度的范围。

将液体提供至清洁滚筒102的水管305，与图1A和图1B的水管105相似，被设置于清洁滚筒102的最高处或其附近。

液体收集器106的液体收集缸107被实质上与挤水滚筒104平行地置放，以使液体收集缸107的纵向轴也相对于水平线倾斜了角度α。液体排水渠108被设置于液体收集缸107的最低点。

在这个配置中，通过水管305被提供到清洁滚筒102的液体通过重力沿着清洁滚筒102的长度蔓延，以使滚筒102的泡沫的整个长度被浸湿，且整个滚筒的长度上的液体供给被更新，因此有助于或确保从滚筒上清除脏液。另外，过量的液体(没被清洁滚筒102吸收的部分)，被液体收集缸107收集，并且在重力作用下，缸107内的水流到排水管108。

在一些实施例和配置中，例如图3所示的实施例和配置，支持滚筒103和基板101除了在基板101和清洁滚筒102之间的结合区域外保持没有液体低落，而系统没有密封机构。

在一些实施例中，挤水滚筒104可被建构以助于防止液体不期望地从清洁滚筒102滴落到基板101和支持滚筒103上。

在图3所示的实施例中，清洁滚筒102终止于端302。挤水滚筒104包括第一纵向部分310，与清洁滚筒102长度相同并且沿着清洁滚筒102的长度延伸。第一纵向部分310具有的第一横截面直径，垂直于挤水滚筒104的纵向轴，以图3的D1来表示。挤水滚筒104进一步具有第二和第三纵向部分312a和312b，在纵向部分310的任一纵向端上延伸。纵向轴312a具有的第二横截面直径，垂直于挤水滚筒104的纵向轴，以图3的D2来表示，以及第三纵向部分312b具有第三横截面直径，垂直于挤水滚筒104的纵向轴，以图3的D3来表示。直径D2和D3比直径D1小，以使肩部314a和314b分别在纵向部分310和各个纵向部分312a和312b之间形成。如图所示，直径D2和D3可以彼此相等，或者可以彼此不同。肩部314a和314b与清洁滚筒102的端部302齐平。

在使用时，通过挤水滚筒104从清洁滚筒102移除的液体沿着挤水滚筒的第一部分310的圆周流动，然后沿清洁滚筒102的端部302和肩部314a及314b滴落至液体收集器106，而不会滴到支持滚筒103上。

在其他实施例中(未明确示出)，清洁滚筒102终止于端302(如图所示)。挤水滚筒104包括一对圆周通道(未明确示出)，所述圆周通道位于清洁滚筒102的端部且从端部纵向延伸。挤水滚筒104的主要部分，包括其沿着整个清洁滚筒102的长度延伸的纵向区段具有第一横截面直径，垂直于挤水滚筒104的纵向轴。所述通道具有第二直径，垂直于挤水滚筒的纵向轴，第二直径比第一直径小。借由通道和沿着清洁滚筒102延伸的挤水滚筒104的中间部分定义肩部，所述肩部与清洁滚筒的端部齐平。

在使用时，通过挤水滚筒104从清洁滚筒102移除的液体沿着挤水滚筒的中央部分310的圆周流动，然后沿清洁滚筒102的端部滴落到通道中，再从那里滴落至液体收集器106，而不会滴到支持滚筒103上。

现在请参考图4，是图1A和图1B的系统100的第二配置的侧视示意图，所述第二配置防止液体不期望地滴在纸基版101或支持滚筒103上。应理解图4所示的配置可相似地使用于图2的系统200中。

如图4所示，清洁滚筒102、支持滚筒103和挤水滚筒104的纵向轴均实质上水平地被置放。将液体提供至清洁滚筒的水管405与图1A和1B的水管105相似，并且适于提供足够高的压力的液体以使液体到达清洁滚筒102的两端。

液体收集器106的液体收集缸107实质上与挤水滚筒104平行地被置放，并且液体排水渠108被设置于液体收集缸107的一端点上。

在图4的实施例中，挤水滚筒104具有与图3所示相似的结构，从而防止液体不期望地滴在基版101和支持滚筒103上，而无需密封系统100。

现在请参考图5A和图5B，分别是图2的系统200的一种修改的侧视示意图和剖面示意图，所述修改能防止液体不期望地滴落在纸基板上101和支持滚筒103上。应理解，图5A和图5B所示的配置可相似地使用于图1A和图1B的系统100中。

如图5A和5B所示的系统200与图4所示的系统相似，在于清洁滚筒102、支持滚筒103和挤水滚筒104被水平放置，将液体提供至清洁滚筒102的纵向中心的水管405，以及液体收集缸107与在液体收集缸107的一端部的液体排水渠108一起被设置于挤水滚筒104的下方。

偏转器501可由弯曲的金属叶片形成，被设置于毗邻挤水滚筒104，在清洁滚筒102的各个端部。偏转器501延伸向液体收集缸107或延伸进液体收集缸107中。在一些实施例中，偏转器501由铝、铜、阳极氧化铝、粒状铝、陶瓷涂覆的金属或表面能量高于500达因/厘米(Dynes/cm)的任何其他材料中的一种或多种形成。在一些实施例中，偏转器501具有厚度在0.1毫米至5毫米的范围。在一些实施例中，偏转器501的曲率半径大于挤水滚筒104的半径。在一些实施例中，偏转器501的曲率半径与挤水滚筒104的半径比值在1.1至500的范围，或是在1.5至20的范围。

在如图5A和图5B所示的系统200的运作模式中，从清洁滚筒102被移除的并滴落到清洁滚筒的端部之外的液体，通过偏转器501被引导到液体收集缸107中，而没有滴到支持滚筒103上。

现在请参考图6，是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板601上清洁HAZ的創新系统600的第三实施例的剖面示意图。

如图6所示，系统600包括清洁元件，这里所示出的是清洁滚筒602，全部由泡沫形成，实质上如上文关于图1A和1B的清洁滚筒102所述。

系统600也包括支撑及/或支持元件，这里所示出的是支撑滚筒603，形成清洁滚筒602的支撑。纸基板601适用于在清洁滚筒602和支撑滚筒603之间被驱动，以使清洁滚筒602被垂直地设置于纸基板601和支撑滚筒603的下方。

系统600进一步包括液体来源，在图6的实施例中是水管605，与储存器(未明确示出)连通，与图1A和图1B的水管105相似。水管605被安排将液体直接提供至清洁滚筒602。挤水滚筒604实质上与图1A和图1B的挤水滚筒104相似，与清洁滚筒602相接合，下游至水管605向清洁滚筒提供液体的那点。挤水滚筒604适于对清洁滚筒602施加压力，以使从清洁滚筒中移除至少一些液体。如图6所示，挤水滚筒604和水管605被设置于基板601和支撑滚筒603的下方。

液体收集器606与图1A和图1B的液体收集器106相似，被设置于毗邻清洁滚筒602和挤水滚筒104与清洁滚筒605的接合点的下游。

系统600具有与图1A和图1B的系统相似的功能。然而，在系统600中，通过专用的基板驱动系统(未示出)或清洁滚筒602的转动来驱动基板，使得基板601的下部宽面接合清洁滚筒602并借此被清洁。

现在请参考图7，是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板701上清洁HAZ的創新系统700的第四实施例的剖面示意图。

系统700与图6的系统600相似，相同的数字表示相同的元件。系统700与系统600不同在于在系统700中的液体来源是盛装用来清洁基板701的表面的液体缸705。液体缸705被设置于清洁滚筒602下方，以使清洁滚筒602的泡沫部分被设置于液体缸705中并从中吸收液体。在系统700的运作模式中，当清洁滚筒602转动时，清洁滚筒602的不同部分经过液体缸705，以将液体提供至清洁滚筒。液体缸705具有如液体收集器的功能，以使被挤水滚筒604从清洁滚筒602中挤出的液体返回到液体缸705中，并在其中循环利用。在图7的实施例中，支撑滚筒603具有支持清洁滚筒602的功能，如上文关于图6所述。

系统700的所有其他态样与上文关于图6描述的那些相似。

现在请参考图8，是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板801上清洁HAZ的創新系统800的第五实施例的剖面示意图。

如图8所示，系统800包括的清洁元件是环形清洁带802的形式，借助至少两个滚筒802a和802b得以移动。清洁带802包括泡沫层，所述泡沫层在一些实施例中可被附接到或设置在支持层(未明确示出)上。在一些实施例中，支持层可由任何适合的材料(例如，纺织品、橡胶和金属)所形成。

在一些实施例中，清洁带802的泡沫层具有的厚度在1毫米至50毫米、2毫米至40毫米、3毫米至30毫米、3毫米至20毫米或3毫米至10毫米的范围。用于形成清洁带802的泡沫层的泡沫与用于上文所述的图1A和图1B的清洁滚筒102的泡沫相似。

清洁带802的大小和配置被设置成在基板抵靠清洁带的单一通道中能接合整个基板的宽度，如此一来，清洁带的长度至少等于基板的宽度。在一些实施例中，清洁带802具有的宽度在100毫米至1500毫米的范围。

在一些实施例中，清洁带802具有的长度在200毫米至3000毫米的范围。

系统800还包括环形支撑带803的形式的支持及/或支撑元件，借助至少两个滚筒803a和803b移动。纸基板801适于被支撑带803所支持及移动，以使清洁带802的一部分被设置于纸基板801和支撑带803的上方。

在系统800的运作模式中，清洁带802与基板801和支撑带803接合于被设置在滚筒803a和803b之间的一点上。

在一些实施例中，带803被第三滚筒(未明确示出)支持和驱动，所述第三滚筒被设置于清洁带802和支撑带803之间的接合点处或毗邻清洁带802和支撑带803之间的接合点处。

支撑带803可接合基板801并使用本领域任何已知的机构防止基板801和带803之间的相对移动，例如通过支撑带(未示出)中的多个真空端口应用真空，或通过由具有高摩擦力的材料(例如橡胶)形成支撑带803。

支撑带803的大小和配置被设置成能够接合和支持整个基板的宽度，如此一来，支撑带的宽度至少等于基板的宽度。在一些实施例中，支撑带803具有的宽度在100毫米到1500毫米的范围。

在一些实施例中，支撑带803具有的长度在200毫米至3000毫米的范围。

系统800进一步包括液体来源，这里示出的是水管805，与图1A和图1B的水管105相似，与储存器(未特别示出)相连通，并且被设置成将液体直接提供至清洁带802。挤水滚筒804与图1A和图1B的挤水滚筒104相似，挤水滚筒804与清洁带802相接合，下游至水管805向清洁带提供液体的那点。挤水滚筒804适于对清洁带802施加压力，以将至少一些液体从中移除。

液体收集器806与图1A和图1B的液体收集器106相似，被设置于毗邻清洁带802且在挤水滚筒804和清洁带804之间的接合点的下游。

系统800的功能基本上如上文关于图1A和1B所述，其中带802和803取代滚筒102和103。

现在请参考图9，是根据本公开所教示的实施例的用于从纸基板901上清洁HAZ的創新系统900的第六实施例的剖面示意图。

系统900与图8的系统800相似，相同的数字表示相同的元件。系统900与系统800不同在于系统900的清洁带902，其结构与图8的清洁带802相似，被多个滚筒902’所驱动。图8中的水管805在系统900中被以液体缸905形式的液体来源取代，类似于上文关于图7所述的液体缸705。如图9所示，滚筒902’可以任何适合的配置设置，以使带不一定要形成线性结构。具体来说，滚筒902’被配置成形成凹形，当被设置于支撑带903(与图8的支撑带803相似)的上方时，助于带902通过液体缸905。

另外，系统900包括一对挤水滚筒904a和904b。挤水滚筒904a被设置在带902进入液体缸905的上游，并适于将脏水或污水从带的泡沫层挤出。挤水滚筒904被设置于带902进入液体缸905的下游，并且适于将多余的液体从带902的泡沫层中挤出，以预防对基板的损坏。从带902被挤出的液体返回到液体缸905以便之后使用。

支撑带903被一对与图8的滚筒803a相似的滚筒903a驱动，也被第三滚筒903b驱动，第三滚筒903b被设置于清洁带902与基板901和支撑带903的接合点处或毗邻清洁带902与基板901和支撑带903的接合点处。系统900的所有其他态样相似于上文关于图8的系统800描述的那些，包括其功能。

现在请参考图10，是包括图1A到图9其中任一的创新系统的激光切割系统10的方块示意图。

如图所示，激光切割系统10包括激光切割站12，在系统10的运作模式下，适于在基板的第一宽面上引导红外激光，以在基板中形成至少一个切口。激光切割站12可为任何合适的激光切割站，举例而言，例如可以从以色列Yavne的Highcon Systems Ltd.购买的Highcon EUCLID和BEAM激光切割系统，或者可以从意大利Cumo的SEI Laser购买的Packmaster CW和Lablemaster切割机。

基板清洁站14，包括根据图1A至图9其中任一清洁系统，基板清洁站14设置于激光切割站12的下游处，且在系统10的运作模式中，适于在切割基板后接收基板，并将液体施加于基板的第一宽面上，以清洁第一宽面，而不损坏基板。

系统10可进一步包括基板堆叠站16，例如可从Tameran(美国俄亥俄州)购买的PrintStack。堆叠站16被直接设置于清洁站14的下游处。在系统10的运作模式中，基板堆叠站16适于直接从清洁站14接收清洁过的基板并且将接收到的清洁过的基板堆叠到一叠处理过的基板中，而无需事先干燥基板。

以下包括本发明的一些实施例。

根据本发明的实施例，提供了用于清洁基板表面，而不会损坏基板的系统，所述系统包括：

清洁元件，包括至少一外层，所述外层由弹性可压缩材料所形成；

液体来源，所述液体来源适于将液体直接提供至所述清洁元件；

至少一挤水滚筒，所述挤水滚筒与所述清洁元件相接合并且至少对所述外层施加压力；以及

支撑元件，所述支撑元件至少适于支撑所述清洁元件，以使所述基板可实质上稳定地被设置于所述清洁元件和所述支撑元件之间。在一些实施例中，在所述系统的运作模式中，所述基板被设置于所述支撑元件和所述清洁元件之间，以使所述基板的第一宽面与所述清洁元件相接合，并且所述基板的第二宽面与所述支撑元件相接合。

在一些实施例中，在所述运作模式中，当所述液体来源将液体提供至所述清洁元件时，所述清洁元件适于以第一方向转动，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述挤水滚筒适于以与所述第一方向相反的第二方向绕其纵向轴转动，以对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力并将至少部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除。

在一些实施例中，在所述运作模式中，当所述基板在所述清洁元件和所述支撑元件之间被驱动并且所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面接合时，所述基板的所述第一宽面被所述弹性可压缩材料清洁干净。

根据本发明的另一实施例，提供了用于清洁基板表面而不会损坏基板的系统，所述基板包括：

清洁元件，包括至少一外层，所述外层由弹性可压缩材料所形成；

液体来源，所述液体来源适于将液体直接提供至所述清洁元件；至少一挤水滚筒，所述挤水滚筒与所述清洁元件相接合并且至少对所述外层施加压力；以及

支撑元件，所述支撑元件至少适于支撑所述清洁元件，以使所述基板可实质上稳定地被设置于所述清洁元件和所述支撑元件之间，

其中，在所述系统的运作模式中，所述基板被设置于所述支撑元件和所述清洁元件之间，以使所述基板的第一宽面与所述清洁元件相接合，并且所述基板的第二宽面与所述支撑元件相接合，

其中，在所述运作模式中，当所述液体来源将液体提供至所述清洁元件时，所述清洁元件适于以第一方向转动，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收，

其中，在所述运作模式中，所述挤水滚筒适于以与所述第一方向相反的第二方向绕其纵向轴转动，以对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力并将至少部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除，以及

其中，在所述运作模式中，当所述基板在所述清洁元件和所述支撑元件之间被驱动并且所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面接合时，所述基板的所述第一宽面被所述弹性可压缩材料清洁干净。

在一些实施例中，在静止模式中，间隙被设置于所述清洁元件的外表面和所述支撑元件的外表面之间。

在一些实施例中，所述支撑元件适于当所述基板在所述清洁元件和所述支撑元件之间移动时支持所述基板。

在一些实施例中，所述弹性弹性材料包括泡沫材料。在一些实施例中，所述泡沫材料是选自于由开孔橡胶泡沫、网状泡沫和毡状泡沫所组成的群组。在一些实施例中，所述泡沫材料是选自于由丁腈橡膠、EPDM橡膠、天然橡膠、PVC、聚酯、聚醚和聚氨酯所组成的群组。

在一些实施例中，所述弹性可压缩材料具有的密度在0.1克/立方厘米至0.4克/立方厘米或0.15克/立方厘米至0.30克/立方厘米的范围。在一些实施例中，所述弹性可压缩材料具有的25％压缩压力，其在2磅/平方英寸至50磅/平方英寸、3磅/平方英寸至40磅/平方英寸，或5磅/平方英寸至30磅/平方英寸的范围。在一些实施例中，所述弹性可压缩材料具有65％压缩压力，其在15磅/平方英寸至80磅/平方英寸、20磅/平方英寸至75磅/平方英寸，或25磅/平方英寸至70磅/平方英寸的范围。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述基板可达到的线性速度在20米/小时至10,000米/小时、200米/小时至10,000米/小时、300米/小时至9,000米/小时、400米/小时至7,000米/小时，或500米/小时至5,000米/小时的范围。

在一些实施例中，所述系统还包括了基板驱动系统适于通过所述系统驱动所述基板的运动。

在一些实施例中，所述支撑元件适于通过所述系统转动以及驱动所述基板的运动。在一些实施例中，所述支撑元件适于以相反于所述第一方向的所述第二方向转动以及驱动所述基板的运动。在一些实施例中，所述基板的线性速度与所述清洁滚筒的线性速度的比值在0.1至50、0.25至40、0.5至30、0.75至20或1至10的范围。

在一些实施例中，转动所述支撑元件包括以所述第一方向转动或驱动基板的运动。在一些这样的实施例中，所述清洁滚筒的线性速度大于所述基板的线性速度至少10％、至少25％、至少50％、至少75％，或至少100％、至少200％、至少300％、至少400％或至少500％。

在一些实施例中，所述液体是亲水性液体。在一些实施例中，所述亲水性液体是水。在一些实施例中，所述亲水性液体是包含至少一种选自于由表面活性剂、树脂、润湿剂，、去污剂、增滑剂、醇醚和酮所组成的群组的溶质的水基溶液。

在一些实施例中，所述亲水性液体按重量计包括至少20％、至少35％或至少50％的醚。

在一些实施例中，所述亲水性液体按重量计包括至少20％、至少35％或至少50％的异丙醇。

在一些实施例中，所述亲水性液体可以包括至少一种适于减少或消除来自基板的烟味的添加剂。在一些实施例中，所述亲水性液体可包括消毒添加剂、抗菌添加剂、抗真菌添加剂或抗病毒添加剂中的至少一种。

在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒具有的直径在10毫米至200毫米，或20毫米至80毫米的范围。在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒具有的长度在100毫米至1500毫米的范围，或是在300毫米至800毫米的范围。在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒的直径和所述至少一挤水滚筒的长度的比值在1∶3至1∶20的范围，或是在1∶5至1∶20的范围。

在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒是选自于由铝、不锈钢和塑料所组成的群组的材料所形成。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述至少一挤水滚筒适于持续对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。在一些实施例中，在所述运作模式中，所述至少一挤水滚筒适于周期性地对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。在一些实施例中，所述挤水滚至少每0.5秒一次、每秒一次、每2秒一次、每3秒一次、每5秒一次或每10秒一次对所述清洁滚筒施加压力。

在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒抵靠所述清洁元件的转动适于压缩清洁滚筒的所述弹性可压缩材料，将所述弹性可压缩材料的厚度压缩5％至75％、30％至75％或65％。

在一些实施例中，执行所述至少一挤水滚筒抵靠所述清洁元件的转动以压缩清洁滚筒的所述弹性可压缩材料，将所述弹性可压缩材料的厚度压缩65％。

在一些实施例中，所述挤水滚筒对清洁滚筒的所述弹性可压缩材料施加的压力在2磅/平方英寸至100磅/平方英寸的范围，或是在10磅/平方英寸至70磅/平方英寸的范围。

在一些实施例中，所述清洁元件包括清洁滚筒，所述清洁滚筒适于以所述第一方向绕其纵向轴转动。

在一些实施例中，所述清洁元件包括刚性芯，所述刚性芯被所述弹性可压缩材料的所述外层包裹。在一些实施例中，所述外层具有的厚度在1毫米至50毫米、2毫米至40毫米、3毫米至30毫米、3毫米至20毫米，或3毫米至10毫米的范围。在一些实施例中，所述刚性芯具有的直径在10毫米至250毫米的范围。

在一些实施例中，所述刚性芯是圆柱形的，并且具有实心圆形截面。

在一些实施例中，所述刚性芯是筒状的。

在一些实施例中，所述清洁滚筒完全是由所述弹性可压缩材料所形成。

在一些实施例中，所述清洁滚筒具有的直径在20毫米至300毫米的范围，或是在40毫米至100毫米的范围。在一些实施例中，所述清洁滚筒具有的长度至少等于所述基板的宽度。在一些实施例中，所述清洁滚筒具有的宽度在100毫米至1500毫米的范围，或是在300毫米至800毫米的范围。在一些实施例中，所述清洁滚筒的直径和所述清洁滚筒的长度的比值在1∶3至1∶20的范围，或是在1∶5至1∶20的范围。

在一些实施例中，所述清洁滚筒的直径和所述至少一挤水滚筒的直径的比值在1∶1至10∶1的范围，或是在2∶1至5∶1的范围。在一些实施例中，所述清洁滚筒的长度和所述挤水滚筒的长度的比值在1∶1至1∶10的范围或是在1∶1至1∶1.5的范围。

在一些实施例中，所述清洁元件包括环形清洁带，所述环形清洁带适于借由至少两个滚筒而被移动和转动，并且在所述运作模式中，在毗邻所述至少两个滚筒其中之一之处与所述基板和所述支撑元件相接合。

在一些实施例中，所述清洁带的外层被设置于支持层上。在一些实施例中，所述支持层选自于由纺织品、橡胶和金属所组成的群组的材料所形成。

在一些实施例中，所述弹性可压缩材料具有的厚度在1毫米至50毫米、2毫米至40毫米、3毫米至30毫米、3毫米至20毫米，或3毫米至10毫米的范围。

在一些实施例中，所述清洁滚筒具有的宽度至少等于所述基板的宽度。在一些实施例中，所述清洁滚筒具有的宽度在100毫米至1500毫米的范围。在一些实施例中，所述清洁滚筒具有的长度在200毫米至3000毫米的范围。

在一些实施例中，所述支撑元件包括支撑滚筒，所述支撑滚筒适于绕其纵向轴转动。在一些实施例中，所述支撑滚筒是由选自于由EPDM橡胶、硅橡胶、聚氨酯橡胶、聚氯乙烯和聚合物泡沫所组成群组的材料所形成。

在一些实施例中，所述支撑滚筒具有的直径在20毫米至300毫米的范围。在一些实施例中，所述支撑滚筒的长度至少等于所述基板的宽度。在一些实施例中，所述支撑滚筒具有的长度在100毫米至1500毫米的范围，或是在300毫米至800毫米的范围。在一些实施例中，所述支撑滚筒的直径和所述支撑滚筒的长度的比值在1∶3至1∶20的范围，或是在1∶5至1∶20的范围。

在一些实施例中，所述清洁元件包括清洁滚筒，并且所述清洁滚筒的直径和所述支撑滚筒的直径的比值在1∶5至5∶1的范围，或是在1∶3至3∶1的范围。在一些实施例中，所述清洁滚筒的长度和所述支撑滚筒的长度的比值在1∶1至1∶10的范围，或是在1∶1至1∶2的范围。

在一些实施例中，所述支撑元件包括环形支撑带，所述环形清洁带适于借由至少两个滚筒而被移动和转动，并且，在所述运作模式中，适于在所述至少两个滚筒之间与所述基板和所述清洁元件相接合。

在一些实施例中，所述环形支撑带适于借由三个滚筒被移动或转动，第一和第二滚筒被设置于所述环形带的极端位置，以及第三滚筒被设置于鄰近与所述清洁元件的接合点。

在一些实施例中，所述环形支撑带包括复数个真空口，并且适于通过所述复数个真空口对所述基板施加真空吸力，以预防所述基板与所述环形支撑带产生相对的移动。

在一些实施例中，所述环形支撑带是一种橡胶带，所述橡胶带适于借由所述环形支撑带和所述基板之间的摩擦力来预防所述基板与所述环形支撑带产生相对的移动。

在一些实施例中，所述环形支撑带的宽度至少等于所述基板的宽度。在一些实施例中，所述环形支撑带具有的宽度在100毫米至1500毫米的范围。在一些实施例中，所述环形支撑带具有的長度在200毫米至3000毫米的范围。

在一些实施例中，所述清洁元件被设置于所述支撑元件垂直上方，并且所述支撑元件适于在所述系统运作时支持所述基板。

在一些实施例中，所述清洁元件被设置于所述支撑元件的垂直下方。

在一些实施例中，所述液体来源包括液体储存器以及与所述液体储存器流体连通的水管，所述水管终止于与所述清洁元件相邻的出口，并且在所述运作模式中，所述出口适于将所述液体提供至所述清洁元件。

在一些实施例中，所述液体来源包括龙头，所述龙头设置有与所述清洁元件相邻的出口，并且在所述运作模式中，所述龙头适于将所述液体提供至所述清洁元件。

在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点被设置于从所述液体来源的所述出口沿着所述第一方向的下游，以使所述至少一挤水滚筒与所述清洁元件相接合，并在向清洁元件提供液体和所述液体被所述弹性可压缩材料吸收后，将所述被吸收的液体的至少一部分移除。

在一些实施例中，所述出口适于将液体以固定流速将所述液体提供至所述清洁元件。在一些实施例中，所述固定流速在0.1升/小时至10升/小时、0.2升/小时至8升/小时或0.3升/小时至5升/小时的范围。

在一些实施例中，所述液体来源包括盛装所述液体的液体缸，所述液体缸被设置于所述清洁元件的下方，以使所述弹性弹性材料的一部分被设置于所述液体缸内，并且在所述运作模式中，当所述清洁元件以所述第一方向转动时，所述清洁元件的不同部分经过所述液体缸，以将所述液体提供至所述清洁元件。

在一些实施例中，在所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点被设置于从所述液体缸沿著所述第一方向的下游，以使所述至少一挤水滚筒与所述清洁元件相接合，并在将一部分弹性弹性材料设置于液体中并从其吸收液体之后，从一部分弹性弹性材料中移除至少一部分吸收的液体。

在一些实施例中，所述系统还包括液体收集器，包括液体收集缸和液体排水渠，所述液体收集器被毗邻设置于所述清洁元件和所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点沿所述第一方向的下游，所述液体收集器适于在运作模式中，收集借由所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件中移除的液体，并将所述收集的液体从系统中排出。

在一些实施例中，所述系统还包括排水渠，所述排水渠被毗邻设置于所述清洁元件和所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点沿所述第一方向的下游，所述排水渠适于在运作模式中，借由所述至少一挤水滚筒将从所述清洁元件中移除的液体排出。

在一些实施例中，由所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件中移除的液体包括由所述弹性弹性材料吸收的过量的液体。在一些实施例中，所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件中移除的液体包括由于清洁所述基板早些从所述基板上经过而变脏的液体。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述清洁元件与所述基板相接合的部分足够干净，以至于不会将脏污散布到所述基板上。

在一些实施例中，所述清洁元件包括清洁滚筒，并且所述清洁滚筒的纵向轴和所述至少一挤水滚筒的纵向轴被设置相对于水平面呈一角度，所述液体来源的喷嘴将所述液体提供至所述清洁元件于所述清洁元件的最高点或其附近，所述液体收集缸沿着所述挤水滚筒的纵向轴延伸，所述纵向轴位于所述至少一挤水滚筒下方并且相对于水平面呈有一角度，以及所述液体排水渠设置于所述液体收集缸的最低点，以使所述液体沿着所述清洁元件的长度扩散，然后收集的液体在重力的作用下抵达所述液体排水渠。在一些实施例中，所述角度在0.1至10度的范围。

在一些实施例中，所述清洁元件包括清洁滚筒，并且所述清洁滚筒的纵向轴和所述至少一挤水滚筒的纵向轴水平设置，所述液体来源的喷嘴将所述液体提供至所述清洁元件于所述清洁元件的所述纵向轴的中心点或其附近，所述液体收集缸沿着所述至少一挤水滚筒的所述纵向轴水平延伸，所述纵向轴在至少一挤水滚筒下方，以及所述液体排水渠设置于所述液体收集缸的纵向端点，所述纵向端点毗邻所述清洁滚筒的一纵向端，以使所述液体在喷嘴提供的液体流所产生的力下沿着所述清洁元件的长度扩散。

在一些实施例中，在所述运作模式中，所述支撑元件和所述基板除了在所述清洁元件和所述基板的接合区域外没有液体滴落，而无需密封所述系统。

在一些实施例中，所述清洁元件包括纵向延伸的清洁滚筒，所述至少一挤水滚筒包括第一纵向部分，沿着所述清洁滚筒的整个长度延伸，并且与所述长度相等，以及第二和第三纵向部分，在所述第一纵向部分两纵向端上延伸，所述第一纵向部分具有第一直径，垂直于所述至少一挤水滚筒的纵向轴，并且所述第二和第三纵向轴部分具有第二直径，垂直于所述至少一挤水滚筒的所述纵向轴，所述第二直径小于所述第一直径，以使肩部在所述第一纵向部分和各个所述第二和第三纵向部分之间形成，所述肩部与所述清洁滚筒的端部齐平；并且在所述运作模式中，从所述清洁滚筒中移除的液体沿着所述肩部滴落并滴入所述液体收集器中，而不会滴至所述支撑元件上。

在一些实施例中，所述清洁元件包括纵向延伸清洁滚筒，所述至少一挤水滚筒包括一对通道，设置于所述清洁滚筒的两端并从那纵向延伸远离，所述至少一挤水滚筒具有第一直径，垂直于其纵向轴，并且所述通道具有第二直径，垂直于所述至少一挤水滚筒的所述纵向轴，所述第二直径比所述第一直径小，以使由所述通道和其余的所述至少一挤水滚筒所定义的肩部与所述清洁滚筒的所述端齐平，并且在所述运作模式中，从所述清洁滚筒中移除的液体被收集至所述通道中并从中滴入至所述液体收集器，而不会滴至所述支撑元件上。

在一些实施例中，所述清洁元件包括纵向延伸清洁滚筒，偏转器设置于所述清洁滚筒的两端毗邻所述至少一挤水滚筒，偏转器朝所述液体收集缸延伸，并且在所述运作模式中，从所述清洁滚筒中移除并滴落超过所述清洁滚筒两端的液体，被偏转器引导至所述液体收集缸而不会滴至所述支撑元件上。在一些实施例中，所述偏转器包含一弯曲叶片。

在一些实施例中，所述偏转器是由选自于由铝、铜、阳极氧化铝、粒状铝和陶瓷涂层金属所组成的群组的材料所形成。在一些实施例中，所述偏转器是由具有超过500达因/厘米的表面能量的材料所形成。

在一些实施例中，所述偏转器具有的厚度在0.1毫米至5毫米的范围。在一些实施例中，所述偏转器具有的曲率半径大于所述至少一挤水滚筒的半径。在一些实施例中，所述偏转器的曲率半径和所述至少一挤水滚筒的半径的比值在1.1至500的范围或1.5至20的范围。

在一些实施例中，所述基板包括至少一纸、纸板、硬纸板、层压纸、压纹纸、具有压痕线的纸和涂有金属层的纸。在一些实施例中，所述基板包括多层基板，多层基板包括至少一纸层。

在一些实施例中，所述系统还包括干燥机构，设置于沿着所述支撑元件和所述清洁元件的下游，并且在所述运作模式中，所述干燥机构适于在使用所述清洁元件清洁所述基板后干燥所述基板。在一些实施例中，所述干燥机构是基于热能。在一些实施例中，所述干燥机构是基于气流。

根据本发明的另一实施例，提供了一种用于制造激光切割基板的系统，所述系统包括：

激光切割站，适于在所述系统的运作模式中，将红外激光对准基板的第一宽面，以便在所述基板中形成至少一切口；以及

清洁站，所述清洁站包括如上所述的清洁系统，被设置于所述激光切割站的下游处，并且适于在所述运作模式中接收包括所述至少一切口的所述基板并且与所述基板的第一宽面接合，以清洁所述第一宽面。

在一些实施例中，所述系统还包括基板堆叠站，直接设置于清洁站的下游，其中，在所述运作模式中，所述基板堆叠站适于直接从所述清洁站接收清洁过的基板并且将接收到的清洁过的基板堆叠到一叠处理过的基板中，其中，所述系统没有干燥机构。

根据本发明的另一实施例，提供了一种用于清洁基板的第一宽面的方法，所述基板具有第一和第二宽面，所述方法不会损坏所述基板，所述方法使用本文上述的系统，所述方法包括：

将液体提供至所述清洁元件，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收；

以第一方向转动所述清洁元件；在所述清洁元件转动期间，通过以与所述第一方向相反的第二方向绕其纵向轴转动所述挤水滚筒来对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加，以将至少一部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除；以及

驱动在所述清洁元件和所述支撑元件之间的所述基板，以使所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面相接合，以清洁所述基板的所述第一宽面。

根据本发明的另一实施例，提供了一种用于清洁基板的第一宽面的方法，所述基板具有第一和第二宽面，所述方法不会损坏所述基板，所述方法使用本文上述的系统，所述方法包括：

将液体从液体来源直接提供至清洁元件，所述清洁元件包括由弹性可压缩材料所形成的至少一外层，以使至少一些所述提供的液体被吸入所述弹性可压缩材料；

以第一方向转动所述清洁元件；

在所述清洁元件转动期间，对所述所述清洁元件的弹性可压缩材料施加压力以从所述弹性可压缩材料中移除被吸收的液体；以及

在所述清洁元件转动期间，驱动所述基板以使所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面相接合，以清洁所述基板的所述第一宽面。

在一些实施例中，施加压力包括以与所述第一方向相反的第二方向转动至少一个与清洁元件相接合的挤水滚筒，以将压力施加到弹性可压缩材料上。

在一些实施例中，驱动所述基板包括驱动在所述清洁元件与支撑元件之间的所述基板，以使所述基板的所述第一宽面接合所述清洁元件，及所述基板的所述第二宽面接合所述支撑元件。

在一些实施例中，驱动所述基板包括驱动所述基板以达到在20米/小时至10,000米/小时、200米/小时至10,000米/小时、300米/小时至9,000米/小时、400米/小时至7,000米/小时，或500米/小时至5,000米/小时的范围的线性速度。

在一些实施例中，驱动所述基板包括转动所述支撑元件以驱动所述基板。

在一些实施例中，转动所述支撑元件包括以与所述第一方向相反的第二方向转动所述支撑元件。在一些实施例中，在所述清洁元件的转动和所述基板的驱动期间，所述基板的线性速度和所述清洁元件的线性速度的比值在0.1至50、0.25至40、0.5至30、0.75至20或1至10的范围。

在一些实施例中，转动所述支撑元件包括以第一方向转动所述支撑元件。在一些实施例中，在所述清洁元件的转动和所述基板的驱动期间，所述清洁元件的线性速度大于所述基板的线性速度至少10％、至少25％、至少50％、至少75％、至少100％、至少200％、至少300％、至少400％，或至少500％。

在一些实施例中，提供所述液体包括提供亲水性液体。在一些实施例中，所述亲水性液体是水。在一些实施例中，所述亲水性液体是包含至少一种选自于由表面活性剂、树脂、润湿剂、去污剂、增滑剂、醇醚和酮的所组成的群组的溶质的水基溶液。

在一些实施例中，所述亲水性液体按重量计包含至少20％，至少35％或至少50％的醚。

在一些实施例中，所述亲水性液体按重量计包含至少20％，至少35％或至少50％的异丙醇。

在一些实施例中，所述亲水性液体可以包括至少一种适于减少或消除来自基板的烟味的添加剂。在一些实施例中，所述亲水性液体可包括消毒添加剂、抗菌添加剂、抗真菌添加剂或抗病毒添加剂中的至少一种。

在一些实施例中，施加压力包括持续对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。

在一些实施例中，施加压力包括周期性地对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。在一些实施例中，周期性地施加压力包括每0.5秒一次、每秒一次、每2秒一次、每3秒一次、每5秒一次或每10秒一次对所述清洁滚筒施加压力。

在一些实施例中，施加压力包括压缩所述清洁元件的所述弹性可压缩材料，将所述弹性可压缩材料的厚度压缩5％至75％、30％至75％或65％。在一些实施例中，施加压力包括对清洁元件的所述弹性可压缩材料施加的压力在2磅/平方英寸至100磅/平方英寸的范围，或是在10磅/平方英寸至70磅/平方英寸的范围。

在一些实施例中，提供液体包括从液体保存器中通过水管提供所述液体，所述水管终止于毗邻设置于所述清洁元件的出口。在一些实施例中，提供液体包括从龙头中提供所述液体，所述龙头具有出口，出口毗邻设置于所述清洁元件。

在一些实施例中，提供液体包括从出口中以一固定的流速提供所述液体。在一些实施例中，所述固定的流速在0.1升/小时至10升/小时、0.2升/小时至8升/小时，或0.3升/小时至5升/小时的范围。

在一些实施例中，提供液体包括将所述弹性弹性材料的一部分设置于盛装所述液体的液体缸，以使在所述清洁元件转动的期间，所述清洁元件的不同部分都会经过所述液体缸。

在一些实施例中，所述方法还包括借由施加于所述清洁元件的压力将从所述清洁元件中移除的液体排出。

在一些实施例中，所述方法还包括，在排水之前，将从所述清洁元件中移除的所述液体收集至液体收集器中，所述液体收集器毗邻设置于所述清洁元件以及所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点沿所述第一方向的下游。

在一些实施例中，所述基板包括纸、纸板、硬纸板、层压纸、压纹纸、具有压痕线的纸和涂有金属层的纸其中至少一种。在一些实施例中，所述基板包括多层基板，多层基板包括至少一纸层的。

在一些实施例中，所述方法还包括用所述清洁元件清洁所述基板后干燥所述基板。

根据本发明的又一实施例，提供了一种用于制造激光切割基板的方法，所述方法包括：将红外激光对准基板的第一宽面，以便在所述基板中形成至少一切口；

在将红外激光对准之后，用本文所述的方法清洁所述基板的所述第一宽面。

在一些实施例中，所述方法还包括，在清洁后，将清洁过的基板堆叠到一叠处理过的基板中，而无需事先干燥基板。

应理解，为清楚起见在单独的实施例的上下文中描述的本发明的某些特征也可以在单个实施例中组合提供。相反，为简洁起见，在单个实施例的上下文中描述的本发明的各种特征也可以单独地或以任何合适的子组合来提供。

尽管已经结合本发明的特定实施例描述了本发明，但是显然，对于本领域技术人员而言，许多替代，修改和变化将是显而易见的。因此，旨在涵盖落入所附权利要求书的精神和广泛范围内的所有这样的替代、修改和变化。本说明书中提及的所有出版物、专利和专利申请都通过引用整体并入本文，在某种程度上就如同每个单独的出版物、专利或专利申请被具体地和单独地指示通过引用并入本文一样。另外，在本申请中对任何参考文献的引用或标识均不应解释为承认该参考文献可用作本发明的现有技术。

Claims (29)

1.一种用于清洁基板表面而不会损坏所述基板的系统，所述系统包括：

清洁元件，包括至少一外层，所述外层由弹性可压缩材料所形成；

液体来源，所述液体来源适于将液体直接提供至所述清洁元件；

至少一挤水滚筒，所述挤水滚筒与所述清洁元件相接合并且至少对所述外层施加压力；以及

支撑元件，所述支撑元件至少适于支撑所述清洁元件，以使所述基板可实质上稳定地被设置于所述清洁元件和所述支撑元件之间，

其中，在所述系统的运作模式中，所述基板被设置于所述支撑元件和所述清洁元件之间，以使所述基板的第一宽面与所述清洁元件相接合，并且所述基板的第二宽面与所述支撑元件相接合，

其中，在所述运作模式中，当所述液体来源将液体提供至所述清洁元件时，所述清洁元件适于以第一方向转动，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收，

其中，在所述运作模式中，所述挤水滚筒适于以与所述第一方向相反的第二方向绕其纵向轴转动，以对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力并将至少部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除，以及

其中，在所述运作模式中，当所述基板在所述清洁元件和所述支撑元件之间被驱动并且所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面接合时，所述基板的所述第一宽面被所述弹性可压缩材料清洁干净。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述弹性弹性材料包括泡沫材料。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述泡沫材料是选自于由开孔橡胶泡沫，网状泡沫和毡状泡沫所组成的群组。

4.如权利要求1至3中任一项所述的系统，其特征在于，所述弹性可压缩材料所具有的密度在0.1克/立方厘米至0.4克/立方厘米或0.15克/立方厘米至0.3克/立方厘米的范围。

5.如权利要求1至4中任一项所述的系统，其特征在于，所述弹性可压缩材料具有65％压缩压力，其在15磅/平方英寸至80磅/平方英寸、20磅/平方英寸至75磅/平方英寸，或25磅/平方英寸至70磅/平方英寸范围。

6.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其特征在于，所述支撑元件适于通过所述系统转动并且驱动所述基板运动。

7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述支撑元件适于以所述第一方向转动并驱动所述基板运动。

8.如权利要求1至7中任一项所述的系统，其特征在于，所述液体为亲水性液体。

9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述亲水性液体为水。

10.如权利要求1至9中任一项所述的系统，其特征在于，所述至少一挤水滚筒是由选自于由铝、不锈钢和塑料所组成的群组的材料所形成。

11.如权利要求1至10中任一项所述的系统，其特征在于，在所述运作模式中，所述至少一挤水滚筒适于持续对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。

12.如权利要求1至10中任一项所述的系统，其特征在于，在所述运作模式中，所述至少一挤水滚筒适于周期性地对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加压力。

13.如权利要求1至12中任一项所述的系统，其特征在于，在其相对于所述清洁元件转动期间，所述至少一挤水滚筒适于将所述清洁元件的所述弹性可压缩材料压缩，将所述弹性可压缩材料的厚度压缩5％至75％，30％至75％或65％。

14.如权利要求1至13中任一项所述的系统，其特征在于，所述清洁元件包括环形清洁带，所述环形清洁带适于被至少两个滚筒移动和滚动，并且，在所述运作模式中，与所述基板和毗邻所述至少两个滚筒其中之一的所述支撑元件相接合。

15.如权利要求14所述的系统，其特征在于，所述清洁带的所述外层被设置于支撑层上，并且所述支撑层是由选自于由织物、橡胶和金属所组成的群组的材料所组成。

16.如权利要求1至15中任一项所述的系统，其特征在于，所述支撑元件包括环形支撑带，所述环形支撑带适于被至少两个滚筒移动和滚动，并且，在所述运作模式中，与所述基板和毗邻所述至少两个滚筒其中之一的所述清洁元件相接合。

17.如权利要求1至16中任一项所述的系统，其特征在于，所述液体来源包括液体储存器和与所述液体储存器流体连通的水管，所述水管终止于毗邻设置于所述清洁元件的出口，并且其特征在于，在所述运作模式中，所述出口适用于将所述液体提供至所述清洁元件。

18.如权利要求1至16中任一项所述的系统，其特征在于，所述液体来源包括龙头，所述龙头具有毗邻设置于所述清洁元件的出口，并且其特征在于，在所述运作模式中，所述龙头适于将所述液体提供至所述清洁元件。

19.如权利要求17或权利要求18所述的系统，其特征在于，在所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点被设置于从所述液体来源的所述出口沿着所述第一方向的下游，以使所述至少一挤水滚筒与所述清洁元件相接合，并在向清洁元件提供液体和所述液体被所述弹性可压缩材料吸收后，将所述被吸收的液体的至少一部分移除。

20.如权利要求1至16中任一项所述的系统，其特征在于，所述液体来源包括液体缸，所述液体缸盛装所述液体，所述液体缸被设置于所述清洁元件的下方，以使所述弹性弹性材料的部分被设置于所述液体缸中，并且其特征在于，在所述运作模式中，通过所述清洁元件以所述第一方向转动，所述清洁元件的不同部分经过所述液体缸，以将所述液体提供至所述清洁元件。

21.如权利要求1至19中任一项所述的系统，还包括液体收集器，所述液体收集器包括液体收集缸和液体排水渠，所述液体收集器被毗邻设置于所述清洁元件和在所述至少一挤水滚筒和所述清洁元件之间的接合点沿所述第一方向的下游处，所述液体收集器适于在所述运作模式中收集被所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件移除的液体以及将所述收集的液体从所述系统中排出。

22.如权利要求21所述的系统，其特征在于，被所述至少一挤水滚筒从所述清洁元件移除的所述液体包括由于先前经过所述基板而清洁所述基板而变脏的液体。

23.如权利要求1至22中任一项所述的系统，其特征在于，在所述运作模式中，所述清洁元件与所述基板相接合的部分达到充分干净，以使脏污不被散布至所述基板上。

24.如权利要求21至23中任一项所述的系统，其特征在于，

所述清洁元件包括清洁滚筒，并且其特征在于，所述清洁滚筒的纵向轴和所述至少一挤水滚筒的纵向轴被设置为相对于水平面呈一角度，

所述液体来源的喷嘴，在位于或靠近所述清洁元件的最高点将所述液体提供至所述清洁元件，所述液体收集缸沿着在所述至少一挤水滚筒下方的所述挤水滚筒的纵向轴延伸，并且相对于水平面呈一角度；以及

所述液体排水渠被设置于在所述液体收集缸的最低点，以使所述液体沿着所述清洁元件的长度扩散，并且在重力作用下，收集的液体到达所述液体排水渠。

25.如权利要求21至23中任一项所述的系统，其特征在于，

所述清洁元件包括清洁滚筒，其中，所述清洁滚筒的纵向轴和所述至少一挤水滚筒的纵向轴水平设置，

所述液体来源的喷嘴，在位于或靠近所述清洁元件的所述纵向轴的中心点将所述液体提供至所述清洁元件，

所述液体收集缸在至少一挤水滚筒下方沿着所述至少一挤水滚筒的所述纵向轴水平延伸，并且

所述液体排水渠被设置于毗邻所述清洁滚筒的一纵向端的所述液体收集缸的纵向端点，

以使所述液体通过所述喷嘴提供的液体流所产生的力沿着所述清洁元件的长度扩散。

26.如权利要求1至25中任一项所述的系统，其特征在于，所述基板包括至少一基板，所述至少一基板是选自于由纸、纸板、硬纸板、层压纸、压纹纸、具有压痕线的纸和涂有金属层的纸所组成的群组。

27.如权利要求1至26中任一项所述的系统，其特征在于，还包括干燥机构，沿所述支撑元件和所述清洁元件的下游设置，并且其特征在于，在所述运作模式中，所述干燥机构适于在用所述清洁元件清洁所述基板后干燥所述基板。

28.一种用于制造激光切割基板的系统，所述系统包括：

激光切割站，适于在所述系统的运作模式中，将红外激光对准基板的第一宽面，以便在所述基板中形成至少一切口；以及

清洁站，所述清洁站包括如权利要求1至27其中任一项的清洁系统，被设置于所述激光切割站的下游处，并且适于在所述运作模式中接收包括所述至少一切口的所述基板并且与所述所述基板的第一宽面接合，以清洁所述第一宽面。

29.一种使用如权利要求1至28其中任一项的系统来清洁具有第一和第二宽面的基板的所述第一宽面而不损害所述基板的方法，所述方法包括：

将液体提供至所述清洁元件，以使至少一些所述提供的液体被所述弹性可压缩材料吸收；

以第一方向转动所述清洁元件；

在所述清洁元件转动期间，通过以与所述第一方向相反的第二方向绕其纵向轴转动所述挤水滚筒来对所述清洁元件的所述弹性可压缩材料施加，以将至少一部分的所述被吸收的液体从所述弹性可压缩材料中移除；以及

驱动在所述清洁元件和所述支撑元件之间的所述基板，以使所述弹性可压缩材料的表面与所述基板的所述第一宽面相接合，以清洁所述基板的所述第一宽面。

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