CN112964726A - 一种缺陷检测装置和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种缺陷检测装置和方法，通过将检测光束调整为偏振光束，以及通过电光开关高频率控制偏振光束的通过与切断，并同步控制TDI相机采集该偏振光束在待测物表面的反射或散射光束，通过采用偏振光束和电光开关，可以匹配TDI相机高频率的采样，并且TDI相机采集的图像的信噪比更好清晰，可以更精准的识别待测物缺陷。

Description

一种缺陷检测装置和方法
技术领域
本发明实施例涉及缺陷检测技术领域，尤其涉及一种缺陷检测装置和方法。
背景技术
随着工业自动化、智能化的深入及普及，使用自动光学检测设备(Auto OpticalInspection，AOI)替代传统的人工目检，已成为技术发展趋势。AOI设备凭借其快速、精确的缺陷识别定位能力，在汽车、医药、交通、半导体等领域广泛使用。
为适应不同工艺需求，当前部分AOI检测设备会同时配置明场照明部分和暗场照明部分，缺陷检测装置如图1所示，在该方案中，明场照明部分和暗场照明部分共用物镜光路和探测器，导致明场照明部分和暗场照明部分不能同时使用，这样，会导致每次测试都需要两次测试，特别是对于TDI相机，由于明场照明和暗场照明不能同时采集，故明场扫描完成后，需要再进行一次暗场扫描，测试效率低，从而导致产率较低。
发明内容
本发明提供一种缺陷检测装置和方法，以实现明场照明和暗场照明的同步扫描测试，即明场照明测试和暗场照明测试在一次扫描完成，提高检测效率。
为实现上述目的，本发明一方面实施例提出了一种缺陷检测装置，包括：
工件台，用于承载待测物；
明场检测光路，包括明场入射光路和明场反射光路，沿所述明场入射光路依次设置的明场光源单元、第一电光开关、第一分光棱镜、第一1/4波片和物镜单元，所述明场光源单元用于出射第一偏振光束，所述第一电光开关用于控制所述明场入射光路的开启与关闭，在所述第一电光开关打开时，所述第一偏振光束经过所述第一电光开关、所述第一分光棱镜、所述第一1/4波片和物镜单元入射至所述待测物，经所述待测物表面反射或散射形成第一反射或散射光束；在所述明场反射光路上，所述第一反射或散射光束依次经过所述物镜单元、所述第一1/4波片、所述第一分光棱镜、所述第二分光棱镜形成第一成像光束和第二成像光束；第一TDI相机采集所述第一成像光束或所述第二成像光束对所述待测物进行成像；
至少一个暗场检测光路，包括暗场入射光路和暗场反射光路，沿所述暗场入射光路依次设置的暗场光源单元、第二电光开关和第二1/4波片，所述暗场光源单元用于出射第二偏振光束，所述第二电光开关用于控制所述暗场入射光路的开启与关闭，在所述暗场入射光路打开时，所述第二偏振光束经过所述第二电光开关和所述第二1/4波片入射至所述待测物，经所述待测物表面反射或散射形成第二反射或散射光束；所述暗场反射光路上，所述第二反射或散射光束均依次经过所述物镜单元、所述第一1/4波片、所述第一分光棱镜、所述第二分光棱镜形成第三成像光束和第四成像光束，第二TDI相机采集所述第三成像光束或所述第四成像光束对所述待测物进行成像；
同步控制器，所述同步控制器分别与所述第一电光开关、所述第二电光开关、所述第一TDI相机、所述第二TDI相机和所述工件台电连接，所述同步控制器根据所述工件台的位置信息控制所述第一电光开关和所述第一TDI相机同步打开和关闭，以及控制所述第二电光开关和所述第二TDI相机同步打开和关闭，其中，所述第一电光开关与所述第二电光开关交错打开。
根据本发明的一个实施例，所述明场光源单元包括：明场光源、明场照明镜组和明场起偏器，所述明场光源用于出射第一检测光束，所述第一检测光束经过所述明场照明镜组和所述明场起偏器形成第一偏振光束。
根据本发明的一个实施例，所述明场光源单元还包括：明场反射镜，所述明场反射镜位于所述明场照明镜组与所述明场起偏器之间，用于将所述第一检测光束反射至所述明场起偏器中。
根据本发明的一个实施例，所述暗场光源单元包括：暗场光源、暗场照明镜组和暗场起偏器，所述暗场光源用于出射第二检测光束，所述第二检测光束经过所述暗场照明镜组和所述暗场起偏器形成第二偏振光束。
根据本发明的一个实施例，所述暗场光源单元还包括：暗场反射镜，所述暗场反射镜位于所述暗场起偏器与所述第二电光开关之间，用于将所述第二偏振光束反射至所述第二电光开关中。
根据本发明的一个实施例，所述暗场入射光路还包括：第一后端镜组，所述第一后端镜组位于所述暗场入射光路的末端，所述第二偏振光束依次经过所述第二电光开关、所述第二1/4波片和所述第一后端镜组之后，入射至所述待测物。
根据本发明的一个实施例，所述明场反射光路与所述暗场反射光路中还均包括：第二后端镜组，所述第二后端镜组位于所述第一分光棱镜与所述第二分光棱镜之间。
根据本发明的一个实施例，所述明场反射光路与所述暗场反射光路中还均包括：空间光束调制器，所述空间光束调制器位于所述第一分光棱镜与所述第二后端镜组之间。
根据本发明的一个实施例，所述第一分光棱镜为偏振分光棱镜。
为实现上述目的，本发明另一方面实施例提出了一种缺陷检测方法，基于如前所述的缺陷检测装置实现，包括以下步骤：
控制所述工件台移动；
获取所述工件台的第一位置信号；
根据所述第一位置信号控制所述第一电光开关打开；
同时控制所述第一TDI相机采样；
在所述第一TDI相机采样之后，控制所述第一电光开关关闭；
获取所述工件台的第二位置信号；
根据所述第二位置信号控制所述第二电光开关打开；
同时控制所述第二TDI相机采样；
在所述第二TDI相机采样之后，控制所述第二电光开关关闭；
重复循环上述步骤，通过所述第一TDI相机获取明场待测物图像和通过所述第二TDI相机获取暗场待测物图像；
根据所述明场待测物图像与所述暗场待测物图像识别所述待测物表面的缺陷。
与现有技术相比，本发明实施例提出的缺陷检测装置和方法，通过将检测光束调整为偏振光束，以及通过电光开关高频率控制偏振光束的通过与切断，并同步控制TDI相机采集该偏振光束在待测物表面的反射或散射光束，即言，通过采用偏振光束和电光开关，可以匹配TDI相机高频率的采样，并且TDI相机扫描采集的图像的信噪比更好，可以更精准的识别待测物缺陷。
附图说明
图1为现有技术中缺陷检测装置的结构示意图；
图2是本发明实施例提出的缺陷检测装置的结构示意图；
图3是本发明实施例提出的缺陷检测装置的同步时序图；
图4是本发明另一个实施例提出的缺陷检测装置的结构示意图；
图5是本发明实施例提出的缺陷检测方法流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为现有技术中缺陷检测装置的结构示意图。如图1所示，该缺陷检测装置中包括：明场光源10、明场照明镜组11，明场反射镜12、半反半透镜21、物镜单元20、空间光调制器22、成像光路后端镜组23、第一暗场光源50、第一暗场照明镜组51、第一暗场反射镜52、第一暗场后端镜组53、第二暗场光源40、第二暗场照明镜组41、第二暗场反射镜42、第二暗场后端镜组43、以及相机30。其中，工件台70承载待测物60，明场光源10出射第一检测光束，第一检测光束经过明场照明镜组11，再经过明场反射镜12入射至半反半透镜21，第一检测光束经过半反半透镜21的反射进入物镜单元20，经过物镜单元20之后入射至待测物表面，第一检测光束经过待测物表面反射或散射形成第一反射或散射光束，第一反射或散射光束进入物镜单元20，经过半反半透镜21以及空间光调制器22、成像光路后端镜组23之后，入射至相机30，相机30采集到第一反射或散射光束，对待测物表面进行成像。
第一暗场光源50出射第二检测光束，第二检测光束经过第一暗场照明镜组51，再经过第一暗场反射镜52入射至第一暗场后端镜组53，第二检测光束经过第一暗场后端镜组53之后入射至待测物表面，第二检测光束经过待测物表面反射或散射形成第二反射或散射光束，第二反射或散射光束进入物镜单元20，经过半反半透镜21以及空间光调制器22、成像光路后端镜组23之后，入射至相机30，相机30采集到第二反射或散射光束，对待测物表面进行成像。
同样的，第二暗场光源40出射第三检测光束，第三检测光束经过第二暗场照明镜组41，再经过第二暗场反射镜42入射至第二暗场后端镜组43，第三检测光束经过第二暗场后端镜组43之后入射至待测物表面，第三检测光束经过待测物表面反射或散射形成第三反射或散射光束，第三反射或散射光束进入物镜单元20，经过半反半透镜21以及空间光调制器22、成像光路后端镜组23之后，入射至相机30，相机30采集到第三反射或散射光束，对待测物表面进行成像。
可以理解的是，当明场光源10照明时，需要关闭第一暗场光源50与第二暗场光源40，同样的，当第一暗场光源50和第二暗场光源40照明时，需要关闭明场光源10，相机30每次采集待测物图像时，只能一次一次扫描，需要扫描待测物两次，由此，检测效率较低。
图2是本发明实施例提出的缺陷检测装置的结构示意图。如图2所示，该缺陷检测装置100，包括：
工件台101，用于承载待测物102；
明场检测光路，包括明场入射光路和明场反射光路，沿明场入射光路依次设置的明场光源单元103、第一电光开关104、第一分光棱镜105、第一1/4波片106和物镜单元107，明场光源单元103用于出射第一偏振光束，第一电光开关104用于控制明场入射光路的开启与关闭，在第一电光开关104打开时，第一偏振光束经过第一电光开关104、第一分光棱镜105、第一1/4波片106和物镜单元107入射至待测物102，经待测物102表面反射或散射形成第一反射或散射光束；在明场反射光路上，第一反射或散射光束依次经过物镜单元107、第一1/4波片106、第一分光棱镜105、第二分光棱镜108形成第一成像光束和第二成像光束；第一TDI相机109采集第一成像光束或第二成像光束对待测物102进行成像；
至少一个暗场检测光路，包括暗场入射光路和暗场反射光路，沿暗场入射光路依次设置的暗场光源单元110、第二电光开关111和第二1/4波片112，暗场光源单元110用于出射第二偏振光束，第二电光开关111用于控制暗场入射光路的开启与关闭，在暗场入射光路打开时，第二偏振光束经过第二电光开关111和第二1/4波片112入射至待测物102，经待测物102表面反射或散射形成第二反射或散射光束；暗场反射光路上，第二反射或散射光束均依次经过物镜单元107、第一1/4波片106、第一分光棱镜105、第二分光棱镜108形成第三成像光束和第四成像光束，第二TDI相机113采集第三成像光束或第四成像光束对待测物进行成像；
同步控制器114，同步控制器114分别与第一电光开关104、第二电光开关111、第一TDI相机109、第二TDI相机113和工件台101电连接，同步控制器114根据工件台101移动的距离控制第一电光开关104和第一TDI相机109同步打开和关闭，以及控制第二电光开关111和第二TDI相机113同步打开和关闭，其中，第一电光开关104与第二电光开关111交错打开。
根据本发明的一个实施例，明场光源单元103包括：明场光源1031、明场照明镜组1032和明场起偏器1033，明场光源1031用于出射第一检测光束，第一检测光束经过明场照明镜组1032和明场起偏器1033形成第一偏振光束。
根据本发明的一个实施例，暗场光源单元110包括：暗场光源1101、暗场照明镜组1102和暗场起偏器1103，暗场光源1101用于出射第二检测光束，第二检测光束经过暗场照明镜组1102和暗场起偏器1103形成第二偏振光束。
具体来说，明场光源1031和暗场光源1101均可以为LED灯、白炽灯、卤素灯等白光源。其中，明场光源1031出射第一检测光束，第一检测光束经过明场照明镜组1032和明场起偏器1033之后，形成第一偏振光束(S光)，第一电光开关打开时，第一偏振光束入射至第一分光棱镜105，第一分光棱镜105对第一偏振光束进行反射，反射至第一1/4波片处，第一偏振光束变为圆偏振光，圆偏振光经过物镜单元107入射至待测物102表面，经待测物102表面的反射或散射形成第一反射或散射光束，第一反射或散射光束经过物镜单元107、第一1/4波片106，形成偏振光束(P光)，该偏振光束经过第一分光棱镜105、第二分光棱镜108之后，形成第一成像光束和第二成像光束，第一TDI相机109用于采集第一成像光束或第二成像光束对待测物表面进行成像。
暗场光源1101出射第二检测光束，第二检测光束经过暗场照明镜组1102和暗场起偏器1103之后，形成第二偏振光束(S光)，第二电光开关111打开时，第二偏振光束入射至第二1/4波片112，经过第二1/4波片112之后，第二偏振光束形成圆偏振光，圆偏振光入射至待测物102的表面，经待测物102表面的反射或散射形成第二反射或散射光束，第二反射或散射光束经过物镜单元107、第一1/4波片106，形成偏振光束(P光)，该偏振光束经过第一分光棱镜105、第二分光棱镜108之后，形成第三成像光束和第四成像光束，第二TDI相机113用于采集第三成像光束或第四成像光束对待测物102表面进行成像。
可以理解的是，以图2的方位为例，经过第二分光棱镜108形成第一成像光束进入第一TDI相机109，第二成像光束进入第二TDI相机113，第三成像光束进入第一TDI相机109，第四成像光束进入第二TDI相机113，其中，当第一TDI相机109采集第一成像光束时，第二TDI相机113关闭，第二TDI相机采集第四成像光束时，第一TDI相机109关闭。进而，第一TDI相机109仅采集第一成像光束，第二TDI相机113仅采集第四成像光束。
同步控制器114根据工件台101的第一位置信息，控制第一电光开关104打开，同时控制第一TDI相机109采集第一成像光束，形成待测物102的明场图像，在第一TDI相机109采样之后，控制第一电光开关104关闭，当工件台101移动到第二位置时，控制第二电光开关112打开，控制第二TDI相机113采集第四成像光束，形成待测物102的暗场图像。其中，工件台101的第一位置信息与工件台101移动的第二位置之间相差TDI相机中1/2个CCD像素大小。也就是说，第一TDI相机109的起始扫描位置与工件台101的第一位置对应，第二TDI相机113的起始扫描位置与工件台101的第二位置对应。
需要说明的是，第一TDI相机109的采样频率与第二TDI相机113的采样频率相同，并且第一TDI相机109的采样频率与第一电光开关104的开关频率相同，第二TDI相机113的采样频率与第二电光开关111的开关频率相同。如图3所示，待测物102进入明场照明起始位置，第一电光开关104打开，第一TDI相机109采样，之后，第一电光开关104关闭，当待测物102进入暗场照明起始位置时，第二电光开关111打开，第二TDI相机113采样，之后，第二电光开关111关闭。其中，第一TDI相机109与第二TDI相机113之间的起始采样位置相差半个采样像素，时间上相差半个采样周期。换言之，工件台101在一个采样周期内走过相机的一个采样像素。由此，工件台101一直承载待测物102从左至右运动，假设TDI相机上有六个像素点，那么待测物102上的每个点均被TDI相机明场采样6次，暗场采样6次，而且两个TDI相机之间采样均不发生串扰，在一个扫描周期内同时完成了暗场跟明场采样，减少了扫描的次数，减少了操作步骤，提升了整个缺陷检测效率。
根据本发明的一个实施例，如图4所示，明场光源单元103还包括：明场反射镜1034，明场反射镜1034位于明场照明镜组1032与明场起偏器1033之间，用于将第一检测光束反射至明场起偏器1033中。
根据本发明的一个实施例，如图4所示，暗场光源单元110还包括：暗场反射镜1104，暗场反射镜1104位于暗场起偏器1103与第二电光开关111之间，用于将第二偏振光束反射至第二电光开关111中。
根据本发明的一个实施例，如图4所示，暗场入射光路还包括：第一后端镜组115，第一后端镜组115位于暗场入射光路的末端，第二偏振光束依次经过第二电光开关111、第二1/4波片112和第一后端镜组115之后，入射至待测物102。第一后端镜组115用于聚焦第二偏振光束于待测物102上，使得第二偏振光束形成均匀光斑入射至待测物102上。
根据本发明的一个实施例，如图4所示，明场反射光路与暗场反射光路中还均包括：第二后端镜组116，第二后端镜组116位于第一分光棱镜105与第二分光棱镜108之间。第二后端镜组116用于聚焦散射或反射光束于第二分光棱镜108之中。
根据本发明的一个实施例，如图4所示，明场反射光路与暗场反射光路中还均包括：空间光束调制器117，空间光束调制器117位于第一分光棱镜105与第二后端镜组116之间。其中，空间光束调制器117可以为孔径光阑。
根据本发明的一个实施例，第一分光棱镜105为偏振分光棱镜。
需要说明的是，如图4所示，为了比较全面的检测待测物102表面的缺陷，还可以再增加设置与上述暗场检测光路相对称的暗场检测光路，该暗场检测光路也包括暗场入射光路和暗场反射光路，沿暗场入射光路依次设置的第二暗场光源118、第二暗场照明镜组119、第二暗场起偏器120、第二暗场反射镜121、第三电光开关122、第三1/4波片和第三后端镜组123，第二暗场光源118用于出射第三检测光束，第三检测光束经过第二暗场照明镜组119、第二暗场反射镜121、第二暗场起偏器120形成第三偏振光束，当第三电光开关122打开时，第三偏振光束经过第三1/4波片形成圆偏振光，该圆偏振光经过第三后端镜组123之后入射至待测物102上。反射光路与上一示例中的暗场反射光路相同，在此不再赘述。
可以理解的是，当布置两套暗场检测光路时，两套暗场检测光路中的第二电光开关111与第三电光开关122均同时打开和关闭。
另外，多个暗场检测光路可以绕明场检测光路一周进行布置，并且所有的暗场检测光路中的电光开关均同时打开和关闭。基于此，对待测物的暗场照明更加均匀，第二TDI相机113采集的待测物102的暗场图像更加清晰。
图5是本发明实施例提出的缺陷检测方法流程图。该缺陷检测方法基于如前所述的缺陷检测装置实现，如图5所示，该方法包括以下步骤：
S101，控制工件台移动；
S102，获取工件台的第一位置信号；
S103，根据第一位置信号控制第一电光开关打开；
S104，同时控制第一TDI相机采样；
S105，在第一TDI相机采样之后，控制第一电光开关关闭；
S106，获取工件台的第二位置信号；
S107，根据第二位置信号控制第二电光开关打开；
S108，同时控制第二TDI相机采样；
S109，在第二TDI相机采样之后，控制第二电光开关关闭；
S110，重复循环上述步骤，通过第一TDI相机获取明场待测物图像和通过第二TDI相机获取暗场待测物图像；
S111，根据明场待测物图像与暗场待测物图像识别待测物表面的缺陷。
同步控制器根据工件台的第一位置信息，控制第一电光开关打开，同时控制第一TDI相机采集第一成像光束，形成待测物的明场图像，在第一TDI相机采样之后，控制第一电光开关关闭，当工件台移动到第二位置时，控制第二电光开关打开，控制第二TDI相机采集第四成像光束，形成待测物的暗场图像。其中，工件台的第一位置信息与工件台移动的第二位置之间相差TDI相机中1/2个CCD像素大小。也就是说，第一TDI相机的起始扫描位置与工件台的第一位置对应，第二TDI相机的起始扫描位置与工件台的第二位置对应。
需要说明的是，第一TDI相机的采样频率与第二TDI相机的采样频率相同，并且第一TDI相机的采样频率与第一电光开关的开关频率相同，第二TDI相机的采样频率与第二电光开关的开关频率相同。如图3所示，待测物进入明场照明起始位置，第一电光开关打开，第一TDI相机采样，之后，第一电光开关关闭，当待测物进入暗场照明起始位置时，第二电光开关打开，第二TDI相机采样，之后，第二电光开关关闭。其中，第一TDI相机与第二TDI相机之间的起始采样位置相差半个采样像素，时间上相差半个采样周期。换言之，工件台在一个采样周期内走过相机的一个采样像素。由此，工件台一直承载待测物从左至右运动，假设TDI相机上有六个像素点，那么待测物上的每个点均被TDI相机明场采样6次，暗场采样6次，而且两个TDI相机之间采样均不发生串扰，在一个扫描周期内同时完成了暗场跟明场采样，减少了扫描的次数，减少了操作步骤，提升了整个缺陷检测效率。。
综上所述，本发明实施例提出的缺陷检测装置和方法，通过将检测光束调整为偏振光束，以及通过电光开关高频率控制偏振光束的通过与切断，并同步控制TDI相机采集该偏振光束在待测物表面的反射或散射光束，通过采用偏振光束和电光开关，可以匹配TDI相机高频率的采样，并且TDI相机扫描采集的图像的信噪比更好，可以更精准的识别待测物缺陷。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种缺陷检测装置，其特征在于，包括：
工件台，用于承载待测物；
明场检测光路，包括明场入射光路和明场反射光路，沿所述明场入射光路依次设置的明场光源单元、第一电光开关、第一分光棱镜、第一1/4波片和物镜单元，所述明场光源单元用于出射第一偏振光束，所述第一电光开关用于控制所述明场入射光路的开启与关闭，在所述第一电光开关打开时，所述第一偏振光束经过所述第一电光开关、所述第一分光棱镜、所述第一1/4波片和物镜单元入射至所述待测物，经所述待测物表面反射或散射形成第一反射或散射光束；在所述明场反射光路上，所述第一反射或散射光束依次经过所述物镜单元、所述第一1/4波片、所述第一分光棱镜、所述第二分光棱镜形成第一成像光束和第二成像光束；第一TDI相机采集所述第一成像光束或所述第二成像光束对所述待测物进行成像；
至少一个暗场检测光路，包括暗场入射光路和暗场反射光路，沿所述暗场入射光路依次设置的暗场光源单元、第二电光开关和第二1/4波片，所述暗场光源单元用于出射第二偏振光束，所述第二电光开关用于控制所述暗场入射光路的开启与关闭，在所述暗场入射光路打开时，所述第二偏振光束经过所述第二电光开关和所述第二1/4波片入射至所述待测物，经所述待测物表面反射或散射形成第二反射或散射光束；所述暗场反射光路上，所述第二反射或散射光束均依次经过所述物镜单元、所述第一1/4波片、所述第一分光棱镜、所述第二分光棱镜形成第三成像光束和第四成像光束，第二TDI相机采集所述第三成像光束或所述第四成像光束对所述待测物进行成像；
同步控制器，所述同步控制器分别与所述第一电光开关、所述第二电光开关、所述第一TDI相机、所述第二TDI相机和所述工件台电连接，所述同步控制器根据所述工件台的位置信息控制所述第一电光开关和所述第一TDI相机同步打开和关闭，以及控制所述第二电光开关和所述第二TDI相机同步打开和关闭，其中，所述第一电光开关与所述第二电光开关交错打开。
2.根据权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述明场光源单元包括：明场光源、明场照明镜组和明场起偏器，所述明场光源用于出射第一检测光束，所述第一检测光束经过所述明场照明镜组和所述明场起偏器形成第一偏振光束。
3.根据权利要求2所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述明场光源单元还包括：明场反射镜，所述明场反射镜位于所述明场照明镜组与所述明场起偏器之间，用于将所述第一检测光束反射至所述明场起偏器中。
4.根据权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述暗场光源单元包括：暗场光源、暗场照明镜组和暗场起偏器，所述暗场光源用于出射第二检测光束，所述第二检测光束经过所述暗场照明镜组和所述暗场起偏器形成第二偏振光束。
5.根据权利要求4所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述暗场光源单元还包括：暗场反射镜，所述暗场反射镜位于所述暗场起偏器与所述第二电光开关之间，用于将所述第二偏振光束反射至所述第二电光开关中。
6.根据权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述暗场入射光路还包括：第一后端镜组，所述第一后端镜组位于所述暗场入射光路的末端，所述第二偏振光束依次经过所述第二电光开关、所述第二1/4波片和所述第一后端镜组之后，入射至所述待测物。
7.根据权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述明场反射光路与所述暗场反射光路中还均包括：第二后端镜组，所述第二后端镜组位于所述第一分光棱镜与所述第二分光棱镜之间。
8.根据权利要求7所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述明场反射光路与所述暗场反射光路中还均包括：空间光束调制器，所述空间光束调制器位于所述第一分光棱镜与所述第二后端镜组之间。
9.根据权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第一分光棱镜为偏振分光棱镜。
10.一种缺陷检测方法，其特征在于，基于如权利要求1-9任一项所述的缺陷检测装置实现，包括以下步骤：
控制所述工件台移动；
获取所述工件台的第一位置信号；
根据所述第一位置信号控制所述第一电光开关打开；
同时控制所述第一TDI相机采样；
在所述第一TDI相机采样之后，控制所述第一电光开关关闭；
获取所述工件台的第二位置信号；
根据所述第二位置信号控制所述第二电光开关打开；
同时控制所述第二TDI相机采样；
在所述第二TDI相机采样之后，控制所述第二电光开关关闭；
重复循环上述步骤，通过所述第一TDI相机获取明场待测物图像和通过所述第二TDI相机获取暗场待测物图像；
根据所述明场待测物图像与所述暗场待测物图像识别所述待测物表面的缺陷。
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