CN112898712A - 光学膜及光学膜的制造方法 - Google Patents

光学膜及光学膜的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明的课题在于提供光学膜及其制造方法，所述光学膜含有(甲基)丙烯酸系树脂，耐脆性优异，具有低相位差特性，卷状稳定性优异。本发明的光学膜的特征在于，含有无机粒子和(甲基)丙烯酸系树脂，相对于构成所述(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元，所述(甲基)丙烯酸系树脂是含有50～95质量％的来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、1～25质量％的来自苯基马来酰亚胺的结构单元、和1～25质量％的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物，还含有橡胶粒子，膜中的橡胶粒子的平均一次粒径与无机粒子的二次粒径之比的值在由(式1)表示的范围中的无机粒子的二次粒子数比率为全部无机二次粒子数的5.0～50个数％的范围内。(式1)0.9≤(橡胶粒子平均一次粒径)/(无机粒子二次粒径)≤1.1。

Description

光学膜及光学膜的制造方法
技术领域
本发明涉及光学膜和其制造方法。更详细地说，涉及含有(甲基)丙烯酸系树脂、耐脆性优异、具有低相位差特性、卷状稳定性优异的光学膜和其制造方法。
背景技术
近年来，不仅是作为显示设备的液晶显示装置、有机电致发光显示装置用的偏振片保护膜、相位差膜等光学膜、触摸面板用基材膜、气体阻隔性基材膜等基材膜，而且是纳米压印用基板膜、柔性电子电路用基板膜等基板膜等，对实现了高透明性、高功能性及轻质化的具有可挠性的树脂膜的需求大。
其中，由于除了低吸湿性以外，还显示出优异的透明性、尺寸稳定性，因此作为光学膜，优选使用丙烯酸系树脂。
进而，近年来，对光学膜要求高耐水性，丙烯酸系膜作为具备耐水性的IPS(InPlan Switching)方式的液晶显示装置用的相位差膜而得到应用。一般地，就丙烯酸系材料而言，由于其脆性低，因此处理是困难的，特别是就如IPS用相位差膜用途那样相位差显现性更低的丙烯酸系材料而言，在其结构上、特别是脆性倾向于低，因此作为其对策，已知通过含有橡胶粒子而改善了脆性的光学膜。
另一方面，随着目前的液晶显示装置的大型化、生产率提高的要求，需要通过光学膜的长尺寸化、宽幅化来提高生产效率，一般地，随着长尺寸化、宽幅化，制膜后将膜稳定地卷绕成卷状(ロール状)变得困难，形成的卷状层叠体的卷状的劣化成为问题。
对于上述问题，已知如下方法：为了得到光学膜的制膜时的输送性，特别是在将薄膜、长尺寸、宽幅的光学膜卷绕时抑制粘贴，并且得到良好的卷状，通过在膜中添加无机粒子而实施拉伸，在表面形成凹凸、赋予滑动性。
另外，公开有：含有作为低双折射树脂的丙烯酸类树脂、丙烯酸系橡胶粒子、进而含有具有双折射的无机粒子的膜(例如参照专利文献1)。根据该方法，得到无异物缺陷、具有机械强度、具有高透明性的膜。但是，对于专利文献1中公开的方法而言，虽然膜的低双折射和脆性得到改善，但含有无机微粒作为以赋予膜中的低双折射为目的的材料，此外，所公开的膜为未拉伸膜，对于拉伸后的膜的滑动性没有提及。
本发明人对于在低双折射的丙烯酸系树脂和橡胶粒子中添加无机粒子而拉伸的膜进行了研究，结果，获知：对于上述膜而言，脆性得到改善，但相位差增大，滑动性也不足，在制造长尺寸、宽幅的光学膜时，不能得到良好的卷状层叠体。
本发明人对由丙烯酸系树脂和橡胶粒子和无机粒子构成的光学膜进一步进行了研究，结果，弄清：对于这样的构成的光学膜而言，橡胶粒子由于吸收拉伸时的应力而变形，相位差显现，而且，无机粒子引起的表面凹凸形成不充分。就橡胶粒子引起的相位差显现而言，在使用低双折射性的橡胶粒子时，即使粒子变形也能够改善相位差显现性，关于表面凹凸形成引起的滑动性的改善，尚未发现有效的手段，这是现状。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5666751号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明鉴于上述问题而完成，其课题在于提供含有(甲基)丙烯酸系树脂、耐脆性优异、具有低相位差特性、卷状稳定性优异的光学膜和其制造方法。
用于解决课题的手段
本发明人鉴于上述课题进行了深入研究，结果发现：通过控制光学膜中的橡胶粒子的平均一次粒径和无机粒子的二次粒径而使膜拉伸时的应力分散/扩散，通过橡胶粒子的变形抑制和能够形成由无机粒子引起的表面凹凸结构，能够得到耐脆性优异、具有低相位差特性、卷状稳定性优异的光学膜，完成了本发明。
即，就本发明的上述课题而言，通过下述的手段而得以解决。
1.光学膜，其为至少含有无机粒子和(甲基)丙烯酸系树脂的光学膜，其特征在于，
就上述(甲基)丙烯酸系树脂而言，是相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元含有
50～95质量％的范围内的来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、
1～25质量％的范围内的来自N-苯基马来酰亚胺的结构单元、和
1～25质量％的范围内的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物，
所述光学膜还含有橡胶粒子，
就膜中的相对于上述无机粒子的二次粒径的橡胶粒子的平均一次粒径之比的值在由下述(式1)表示的范围中的无机粒子的二次粒子数的比率而言，相对于全部无机二次粒子数，为5.0～50个数％的范围内。
(式1)0.9≤(橡胶粒子平均一次粒径)/(无机粒子二次粒径)≤1.1
2.根据第1项所述的光学膜，其特征在于，上述无机粒子为球状二氧化硅粒子，且二次粒径为50～500nm的范围内。
3.根据第1项或第2项所述的光学膜，其特征在于，上述橡胶粒子包含：具有选自来自(甲基)丙烯酸苄酯的结构、来自(甲基)丙烯酸二环戊酯的结构、及来自(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯的结构中的至少1种的结构单元的单体。
4.光学膜的制造方法，是制造根据第1项至第3项中任一项所述的光学膜的光学膜的制造方法，其特征在于，具有制备无机粒子的分散液的工序、和制备橡胶粒子的分散液的工序，在将上述制备无机粒子的分散液的工序中的处理时间设为At(分钟)、将上述制备橡胶粒子的分散液的工序中的处理时间设为Bt(分钟)时，满足由下述(式2)规定的条件。
(式2)At＞Bt。
5.根据第4项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述无机粒子的分散时的处理时间At(分钟)与上述橡胶粒子的分散时的处理时间Bt(分钟)之比(At/Bt)的值为1.05～15的范围内。
6.根据第4项或第5项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，在将上述制备无机粒子的分散液的工序中的无机粒子的分散时剪切速度设为As(1/秒)、将上述制备橡胶粒子的分散液的工序中的橡胶粒子的分散时剪切速度设为Bs(1/秒)时，满足由下述(式3)规定的条件。
(式3)As＞Bs
7.根据第6项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述无机粒子的分散时剪切速度As(1/秒)与上述橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)之比(As/Bs)的值满足下述(式4)的关系。
(式4)As/Bs≥1×102
发明的效果
通过本发明的上述手段，能够提供耐脆性优异、具有低相位差特性、卷状稳定性优异的光学膜及其制造方法。
对于能够实现本发明的上述目标效果的显现机制·作用机制，尚不明确，推测如下所述。
如上所述，就由丙烯酸类树脂、橡胶粒子及无机粒子等构成的光学膜而言，通过橡胶粒子吸收拉伸时的应力而变形、显现出相位差，无机粒子引起的表面凹凸形成不充分，因此表面凹凸引起的滑动性不足，在制作长尺寸、宽幅的光学膜、层叠为卷状时，不能稳定地得到良好的卷状卷。
本发明人对于上述问题进行了研究，结果获知：就在低双折射的丙烯酸类树脂和橡胶粒子中添加无机粒子、进行拉伸而成的膜而言，虽然使脆性改良，但相位差显现，滑动性也不足，得不到良好的卷状。
对于上述问题进行了深入研究，结果获知：通过控制光学膜中的橡胶粒子的平均一次粒径和无机粒子的二次粒径，使膜拉伸时的应力分散/扩散，能够实现橡胶粒子的变形抑制、和形成无机粒子引起的表面凹凸结构。
推测这是由于无机粒子在光学膜中作为某种程度的二次粒径凝集体而存在，因此在拉伸时对膜给予了应力时能够使应力在橡胶粒子和无机粒子中分散，抑制橡胶粒子的变形，同时对无机粒子给予移动，由此在膜表面形成凹凸，在制膜工序的卷绕时不发生粘连等，能够得到稳定的卷状。
附图说明
图1为表示无机粒子和橡胶粒子存在的本发明的光学膜的截面的一例的电子显微镜照片。
图2为表示本发明中的无机粒子和橡胶粒子的剪切速度与分散处理时间的关系的一例的示意图。
附图标记的说明
1 无机粒子的二次粒子
G 橡胶粒子的一次粒子
S1 无机粒子的分散区域
S2 橡胶粒子的分散区域
具体实施方式
就本发明的光学膜而言，是至少含有无机粒子和(甲基)丙烯酸系树脂的光学膜，其特征在于，相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元，上述(甲基)丙烯酸系树脂是含有1)50～95质量％的范围内的来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、2)1～25质量％的范围内的来自N-苯基马来酰亚胺的结构单元、和3)1～25质量％的范围内的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物，还含有橡胶粒子，膜中的橡胶粒子的平均一次粒径与上述无机粒子的二次粒径之比的值在由上述(式1)表示的范围中的无机粒子的二次粒子数的比率相对于全部无机二次粒子数，为5.0～50个数％的范围内。该特征是下述各实施方式共同或对应的技术特征。
作为本发明的实施方式，从能够进一步显现本发明的目标效果的观点考虑，上述无机粒子为球状二氧化硅粒子、且平均二次粒径为50～500nm的范围内时，能够更稳定地在光学膜表面形成凹凸结构，能够得到更优异的卷状稳定性而优选。
另外，在能够进一步提高本发明的上述效果的方面，优选上述橡胶粒子包含：具有选自来自(甲基)丙烯酸苄酯的结构、来自(甲基)丙烯酸二环戊酯的结构和来自(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯的结构中的至少1种的结构单元的单体。
在本发明的光学膜的制造方法中，其特征在于，具有制备无机粒子的分散液的工序、和制备橡胶粒子的分散液的工序，将上述制备无机粒子的分散液的工序中的处理时间设为At(分钟)，将上述制备橡胶粒子的分散液的工序中的处理时间设为Bt(分钟)时，满足由上述(式2)规定的条件。即，通过分散时间来控制橡胶粒子的一次粒径和无机粒子的二次粒径，由此使膜拉伸时的应力分散及扩散，能够进行橡胶粒子的变形抑制和无机粒子引起的表面凹凸结构的形成。
另外，在能够进行拉伸时的橡胶粒子的变形抑制和形成无机粒子引起的表面凹凸结构、能够得到更优异的卷状稳定性的方面，优选使上述无机粒子的分散时的处理时间At(分钟)与上述橡胶粒子的分散时的处理时间Bt(分钟)之比(At/Bt)的值为1.05～15的范围内。
另外，通过使上述制备无机粒子的分散液的工序中的无机粒子的分散时剪切速度As(1/秒)与上述制备橡胶粒子的分散液的工序中的橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)为由上述(式3)规定的条件，能够进行拉伸时的橡胶粒子的变形抑制、和形成由无机粒子引起的表面凹凸结构，能够得到更优异的卷状稳定性，在这方面优选。
另外，同样地，通过使无机粒子的分散时剪切速度As(1/秒)与橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)之比(As/Bs)的值满足上述(式4)的关系，能够进行拉伸时的橡胶粒子的变形抑制、和形成由无机粒子引起的表面凹凸结构，能够得到更优异的卷状稳定性，在这方面优选。
以下对本发明及其构成要素以及用于实施本发明的形态·方式进行详细的说明。应予说明，以下的说明中所示的“～”以包含在其前后记载的数值作为下限值和上限值的含义使用。
《光学膜》
本发明的光学膜是至少含有无机粒子和(甲基)丙烯酸系树脂的光学膜，其特征在于，
相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元，上述(甲基)丙烯酸系树脂是含有以下的共聚物：
50～95质量％的范围内的来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、
1～25质量％的范围内的来自N-苯基马来酰亚胺的结构单元、和
1～25质量％的范围内的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的，
还含有橡胶粒子，
膜中的橡胶粒子的平均一次粒径与上述无机粒子的二次粒径之比的值在由下述(式1)表示的范围中的无机粒子的二次粒子数的比率相对于全部无机二次粒子数，为5.0～50个数％的范围内。
(式1)0.9≤(橡胶粒子平均一次粒径)/(无机粒子二次粒径)≤1.1
[无机粒子的二次粒径及橡胶粒子的平均一次粒径的测定]
本发明中，就上述规定的光学膜中的无机粒子的二次粒径及橡胶粒子的平均一次粒径而言，能够通过下述的方法来求出。
将本发明的光学膜的截面部采用薄片切片机(ミクロトーム)等修整后，制作了其截面的超薄切片后，通过使用透射型电子显微镜(TEM)拍摄的方法或者使用扫描型电子显微镜(SEM)对截面直接拍摄的方法，进行明视野像观察。
示出对光学膜的截面部采用透射型电子显微镜所拍摄的截面照片的一例。在用电子显微镜拍摄的明视野图像中，就成为观察对象的物质(无机粒子和橡胶粒子)具有的入射电子的散射强度而言，与构成物质的原子序数(原子量)成比例。本发明中，就用原子序数大的原子例如Si原子所构成的无机粒子而言，显示出暗的对比度，就用原子序数小的原子例如C原子等构成的橡胶粒子而言，显示出亮的对比度。由此，能够确认作为光学膜中的无机粒子的凝集体的二次粒径、和橡胶粒子的一次粒子。
图1为表示无机粒子和橡胶粒子存在的本发明的光学膜的截面的一例的电子显微镜照片，用1表示的观察为黑色的图像部为无机粒子(二次粒子)，用G表示的大量存在的椭圆形的白色图像为橡胶粒子(一次粒子)。
本发明中，就无机粒子的二次粒径而言，如上所述，能够使用透射型电子显微镜以50万倍对光学膜截面进行无机粒子的观察，对观察为黑色的无机粒子(二次粒子)进行观察，测定粒径而求出，另外，就无机粒子的平均二次粒径而言，能够通过其平均值而求出。
同样地，对于橡胶粒子的平均一次粒径，如上所述，能够使用透射型电子显微镜以50万倍对光学膜截面进行橡胶粒子(一次粒子)的观察，如图1中所示那样，对椭圆状且观察为白色的橡胶粒子G(一次粒子)进行观察，测定椭圆的长径作为橡胶粒子的一次粒径，求出其平均值，设为橡胶粒子的平均一次粒径。
在本发明的光学膜中，其特征在于，橡胶粒子平均一次粒径/无机粒子二次粒径的值成为0.9～1.1的无机粒子的二次粒子数的比率相对于全部无机二次粒子数，为5.0～50个数％的范围内。
在图1的(a)中所示的图像中，在将5μm×5μm的区域作为观察区域的情况下，无机二次粒子的总数为234个，其中，满足由(式1)规定的条件的无机二次粒子数为35个，其比率为15.0个数％。另外，在图1的(b)中所示的图像中，在将5μm×5μm的区域作为观察区域的情况下，无机二次粒子的总数为206个，其中，满足由(式1)规定的条件的无机二次粒子数为53个，其比率为25.7个数％。
通过形成为满足上述的条件的构成，能够使光学膜拉伸时的应力分散及扩散，能够进行橡胶粒子的变形抑制和由无机粒子引起的表面凹凸的形成。
以下，对本发明的光学膜的主要构成要素的详细情况进行说明。
[(甲基)丙烯酸系树脂]
作为本发明的光学膜中应用的(甲基)丙烯酸系树脂，其特征在于，相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元，为包含：
1)50～95质量％的范围内的来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、
2)1～25质量％的范围内的来自N-苯基马来酰亚胺的结构单元、和
3)1～25质量％的范围内的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物。
作为来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元的比率，为50～95质量％的范围内，优选为50～85质量％的范围内。
另外，作为来自N-苯基马来酰亚胺的结构单元的比率，为1～25质量％的范围内，优选10～25质量％的范围内。
另外，作为来自丙烯酸烷基酯的结构单元的比率，为1～25质量％的范围内，优选5～25质量％的范围内。
作为本发明中可应用的丙烯酸烷基酯的具体例，能够列举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯等。
作为本发明涉及的(甲基)丙烯酸系树脂，优选玻璃化转变温度(Tg)为110℃以上。如果(甲基)丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度(Tg)为110℃以上，则即使在相同的拉伸温度下也能够抑制流动性，也能够使橡胶粒子难以移动。由此，橡胶粒子不会过度地扩散，因此能够适度地使其接近。
另外，作为本发明涉及的(甲基)丙烯酸系树脂，优选重均分子量Mw为20万～200万的范围内。如果(甲基)丙烯酸系树脂的重均分子量Mw为上述范围，则对膜赋予充分的机械强度(韧性)，且制膜性也不易受损。就(甲基)丙烯酸系树脂的重均分子量Mw而言，从上述观点考虑，更优选为30万～200万，进一步优选为50万～200万。就重均分子量Mw而言，能够通过凝胶渗透色谱(GPC)、通过聚苯乙烯换算来测定。
就本发明涉及的(甲基)丙烯酸系树脂而言，能够通过按照以往公知的制造方法进行合成而得到。例如，能够按照日本特开2006-321871号公报、2012-153743号公报、2012-184364号公报、2017-178975号公报、2018-003005号公报、日本专利5798690号公报、国际公开第2016/052600号等中记载的方法得到。
[橡胶粒子]
本发明涉及的橡胶粒子可具有如下功能：对光学膜赋予柔软性、韧性，且在光学膜的表面形成凹凸而赋予滑动性。
本发明涉及的橡胶粒子优选为：具有包含含有橡胶状聚合物(交联聚合物)的接枝共聚物、即、橡胶状聚合物(交联聚合物)或由其构成的核部、和将其覆盖的壳部的核·壳型的橡胶粒子。
该橡胶粒子的玻璃化转变温度(Tg)优选为-10℃以下。如果橡胶粒子的玻璃化转变温度(Tg)为-10℃以下，容易对膜赋予充分的韧性。橡胶粒子的玻璃化转变温度(Tg)更优选为-15℃以下，进一步优选为-20℃以下。就橡胶粒子的玻璃化转变温度(Tg)而言，采用与上述同样的方法来测定。
作为橡胶状聚合物，包含丁二烯系交联聚合物、(甲基)丙烯酸系交联聚合物、及有机硅氧烷系交联聚合物。其中，从与(甲基)丙烯酸系树脂的折射率差小、不易损害光学膜的透明性的观点考虑，优选丙烯酸系橡胶状聚合物。
即，橡胶粒子优选为：具有包含含有丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的丙烯酸系接枝共聚物、即、丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的核部、和将其覆盖的壳部的核·壳型的粒子。就该核·壳型的粒子而言，为在丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的存在下将以甲基丙烯酸酯为主成分的单体混合物(b)聚合至少1段以上而得到的多段聚合物(或多层结构聚合物)。就聚合而言，能够采用乳液聚合法来进行。
(核部：对于丙烯酸系橡胶状聚合物(a))
丙烯酸系橡胶状聚合物(a)为以丙烯酸酯作为主成分的交联聚合物。就丙烯酸系橡胶状聚合物(a)而言，为使包含丙烯酸酯50～100质量％和可与其共聚的其他单体50～0质量％的单体混合物(a′)、及、具有每1分子2个以上的非共轭的反应性双键的多官能性单体0.05～10质量份(相对于单体混合物(a′)100质量份)聚合而得到的交联聚合物。就该交联聚合物而言，可将这些单体全部混合而聚合来得到，也可改变单体组成而以2次以上使其聚合来得到。
就构成丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的丙烯酸酯而言，优选为丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯等烷基的碳数1～12的丙烯酸烷基酯。丙烯酸酯可以为1种，也可以为2种以上。从使橡胶粒子的玻璃化转变温度为-10℃以下的观点考虑，丙烯酸酯优选至少包含碳数4～10的丙烯酸烷基酯。
就丙烯酸酯的含量而言，相对于单体混合物(a′)100质量％，优选为50～100质量％，更优选为60～99质量，进一步优选为70～99质量％。如果丙烯酸酯的含量为50重量％以上，容易对膜赋予充分的韧性。
另外，从使橡胶粒子的玻璃化转变温度为-10℃以下的观点考虑，优选使烷基的碳数为4以上的丙烯酸烷基酯/单体混合物(a′)的质量比成为3以上，更优选为4以上且10以下。
在可共聚的单体的例子中，也包含甲基丙烯酸甲酯等甲基丙烯酸酯；苯乙烯、甲基苯乙烯等苯乙烯类；丙烯腈、甲基丙烯腈等不饱和腈类等。
在多官能性单体的例子中，包含(甲基)丙烯酸烯丙酯、氰脲酸三烯丙酯、异氰脲酸三烯丙酯、邻苯二甲酸二烯丙酯、马来酸二烯丙酯、己二酸二乙烯酯、二乙烯基苯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯。
就多官能性单体的含量而言，相对于单体混合物(a′)的合计100质量％，优选为0.05～10质量％的范围内，更优选为0.1～5质量％的范围内。如果多官能性单体的含量为0.05质量％以上，容易提高得到的丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的交联度，因此不会损害得到的膜的硬度、刚性，如果为10质量％以下，则不易损害膜的韧性。
(壳部：对于单体混合物(b))
单体混合物(b)为对于丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的接枝成分，构成壳部。单体混合物(b)优选包含甲基丙烯酸酯作为主成分。
构成单体混合物(b)的甲基丙烯酸酯优选为甲基丙烯酸甲酯等烷基的碳数1～12的甲基丙烯酸烷基酯。甲基丙烯酸酯可以是1种，也可以是2种以上。
就甲基丙烯酸酯的含量而言，相对于单体混合物(b)100质量％，优选为50质量％以上。如果甲基丙烯酸酯的含量为50质量％以上，可使得到的膜的硬度、刚性不易降低。从使(甲基)丙烯酸系树脂与橡胶粒子的亲和性降低(使ΔSP变大)的观点考虑，就甲基丙烯酸酯的含量而言，相对于单体混合物(b)100质量％，更优选为70质量％以上，进一步优选为80质量％以上。
就单体混合物(b)而言，根据需要可进一步包含其他单体。在其他单体的例子中，包含丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯等丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等具有脂环式结构、杂环式结构或芳香族基团的(甲基)丙烯酸系单体类(含有环结构的(甲基)丙烯酸系单体)。
在本发明涉及的橡胶粒子中，优选包含：具有选自来自(甲基)丙烯酸苄酯的结构、来自(甲基)丙烯酸二环戊酯的结构、和来自(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯的结构中的至少1种的结构单元的单体。
(核·壳型的橡胶粒子：关于丙烯酸系接枝共聚物)
在玻璃化转变温度(Tg)成为-15℃以下的丙烯酸系接枝共聚物、即、核·壳型的橡胶粒子的例子中，包含：在作为(甲基)丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的丙烯酸系橡胶状聚合物5～90质量份(优选5～75质量份)的存在下使以甲基丙烯酸酯作为主成分的单体混合物(b)95～25质量份以至少1个阶段聚合而成的聚合物。
就丙烯酸系接枝共聚物而言，根据需要可在丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的内侧进一步包含硬质聚合物。这样的丙烯酸系接枝共聚物能够经过以下的聚合工序(I)～(III)而得到。
聚合工序(I)
将由甲基丙烯酸酯40～100质量％和可与其共聚的其他单体60～0质量％构成的单体混合物(c1)、和多官能性单体0.01～10质量份(相对于单体混合物(c1)的合计100质量份)聚合而得到硬质聚合物的工序。
聚合工序(II)
将由丙烯酸酯60～100质量％和可与其共聚的其他单体0～40质量％构成的单体混合物(a1)、和多官能性单体0.1～5质量份(相对于单体混合物(a1)的合计100质量份)聚合而得到软质聚合物的工序。
聚合工序(III)
将由甲基丙烯酸酯60～100质量％和可与其共聚的其他单体40～0质量％构成的单体混合物(b1)、和多官能性单体0～10质量份(相对于单体混合物(b1)的合计100质量份)聚合而得到硬质聚合物的工序。
在(I)～(III)的各聚合工序之间，可进一步包含其他聚合工序。
丙烯酸系接枝共聚物可进一步经过聚合工序(IV)而得到。
聚合工序(IV)
将由甲基丙烯酸酯40～100质量％、丙烯酸酯0～60质量％和可共聚的其他单体0～5质量％构成的单体混合物(b2)、以及多官能性单体0～10质量份(相对于单体混合物(b2)100质量份)聚合而得到硬质聚合物。
就各聚合工序中使用的甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、可共聚的其他单体及多官能性单体而言，能够使用与上述同样的物质。
软质层可对光学膜赋予冲击吸收性。在软质层的例子中，包含由以丙烯酸酯作为主成分的丙烯酸系橡胶状聚合物(a)构成的层。硬质层使得难以损害光学膜的韧性，并且在橡胶粒子的制造时可抑制粒子的粗大化、块状化。在硬质层的例子中，包含由以甲基丙烯酸酯作为主成分的聚合物构成的层。
就丙烯酸系接枝共聚物的接枝率(相对于丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的接枝成分(壳部)的质量比)而言，优选为10～250％，更优选为40～230％，进一步优选为60～220％。如果接枝率为10％以上，则壳部的比例不过度变少，因此膜的硬度、刚性不易受损。如果丙烯酸系接枝共聚物的接枝率为250％以下，则丙烯酸系橡胶状聚合物(a)的比例不过度变少，因此膜的韧性、脆性改善效果不易受损。
光学膜中，为了使橡胶粒子适度地接近，优选调整橡胶粒子的种类(具体地，壳部的单体组成)、和与(甲基)丙烯酸系树脂的种类的组合。
在本发明的光学膜中，就观察其截面时的橡胶粒子而言，多以椭圆状存在，就椭圆形状的橡胶粒子的平均纵横比而言，优选为1.2～3.0。如果橡胶粒子的平均纵横比为1.2以上，则橡胶粒子的对于拉伸张力的应力(要收缩的力)容易施加于刚卷绕后的光学膜，因此容易缓和在光学膜中残留的应力，能够抑制卷状故障。
如果橡胶粒子的平均纵横比为3.0以下，则进行接近的橡胶粒子之间的接点不过度变少，因此不易损害使在光学膜中残留的应力分散的效果，能够抑制卷状故障。橡胶粒子的平均纵横比更优选为1.5～2.8的范围内，进一步优选为2.0～2.5的范围内。
所谓纵横比，意指橡胶粒子的长径与短径之比(长径/短径)。另外，所谓平均纵横比，意指多个橡胶粒子的纵横比的平均值。
就橡胶粒子的长径而言，在上述图1中所示的电子显微镜摄影图像中，能够作为橡胶粒子所外接的长方形的纵向方向的长度(长边的长度)来测定。就橡胶粒子的短径而言，在后述的TEM图像中，能够作为橡胶粒子所外接的长方形的横向方向的长度(短边的长度)来测定。
橡胶粒子的平均长径优选为200～500nm的范围内。如果橡胶粒子的平均长径为200nm以上，则橡胶粒子的对于拉伸张力的应力(要收缩的力)容易施加于刚卷绕后的光学膜，因此容易充分地抑制卷状故障。如果橡胶粒子的平均长径为500nm以下，则进行接近的橡胶粒子之间的接点不过度变少，因此不易损害使应力分散的效果，容易充分地抑制卷状故障。橡胶粒子的平均长径更优选为220～400nm的范围内，进一步优选为250～350nm的范围内。橡胶粒子的平均长径为橡胶粒子的长径的平均值。
就橡胶粒子的含量而言，相对于(甲基)丙烯酸系树脂，优选为5～20质量％的范围内。如果橡胶粒子的含量为5质量％以上，不仅容易对(甲基)丙烯酸系树脂膜赋予充分的柔软性、韧性，而且在表面形成凹凸，也可赋予滑动性。如果橡胶粒子的含量为20质量％以下，则雾度不过度上升。就橡胶粒子的含量而言，从上述观点考虑，相对于(甲基)丙烯酸系树脂，更优选为5～15质量％的范围内，进一步优选为5～10质量％的范围内。
[无机粒子]
就可在本发明的光学膜中应用的无机粒子而言，通常作为膜的消光剂来使用，为了改善表面的滑动性差而含有无机粒子，使光学膜的粗糙度增加，通过所谓的消光化，降低粘接性，为了实现耐擦过性的提高而使用。
作为本发明中使用的无机粒子，优选平均一次粒径为1～1000nm的范围内，更优选为1～500nm的范围内，特别优选为3～100nm的范围内。另外，作为平均二次粒径，优选为50～500nm的范围内。
作为无机粒子，例如，可列举出硫酸钡、锰胶体、二氧化钛、硫酸锶钡、二氧化硅等无机物微粒，进而，例如，可列举出：由湿法、硅酸的凝胶化所得到的合成二氧化硅等二氧化硅、通过钛熔渣(チタンスラッグ)和硫酸而生成的二氧化钛(金红石型、锐钛矿型)等。
作为本发明中应用的无机粒子，在能够减小浊度及膜的雾度的方面，优选包含硅。就二氧化硅这样的微粒而言，多为通过有机物而被表面改性了的产物，由于能够减小膜的表面雾度，因此优选这样的产物。作为表面改性中优选的有机物，能够列举出卤代硅烷类、烷氧基硅烷类、硅氮烷、硅氧烷等。
在上述各无机粒子中，优选为二氧化硅粒子(silica粒子)。就无机粒子而言，能够优选使用市售品，优选下述日本アエロジル株式会社的制品アエロジル系列。
以R972V、R812、R805、R816、NKC130、R711、R7200、R202、RY200、RY200S、RY300、R104、R105、RA200H、RA200HS(以上为日本アエロジル株式会社制造)的商品名市售，能够使用。
[光学膜的其他添加剂]
在本发明的光学膜中，除了上述说明的(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶粒子、无机粒子以外，在不损害本发明的目标效果的范围，能够适当地选择使用以往公知的各种添加剂。
作为可应用的添加剂，例如，可包含增塑剂、抗氧化剂、光稳定剂、抗静电剂、剥离剂等。在以下记述主要的添加剂的详细情况。
(增塑剂)
在本发明的光学膜中，可含有以往公知的增塑剂。作为公知的增塑剂，例如可列举出邻苯二甲酸酯系、脂肪酸酯系、偏苯三酸酯系、磷酸酯系、聚酯系、糖酯系、丙烯酸系聚合物系的增塑剂等。其中，优选使用聚酯系增塑剂及糖酯系增塑剂。
就聚酯系增塑剂而言，通过将二羧酸和二醇聚合而得到，优选二羧酸结构单元(来自二羧酸的结构单元)的70摩尔％以上来自芳香族二羧酸，并且二醇结构单元(来自二醇的结构单元)的70摩尔％以上来自脂肪族二醇。
作为糖酯系增塑剂，为包含呋喃糖环或吡喃糖环中的至少任一个的化合物，可以是单糖，也可以是2～12个糖结构连接而成的多糖。
糖酯为糖结构所具有的OH基中的至少一个被酯化了的化合物，优选平均酯取代度为4.0～8.0的范围内，更优选为5.0～7.5的范围内。
就增塑剂的使用量而言，根据增塑剂的种类、使用条件等，并不一样，相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂，优选0.5～10质量％的范围内，更优选0.6～5质量％的范围内。
(紫外线吸收剂)
对本发明的光学膜中可应用的紫外线吸收剂并无特别限定，例如可列举出羟基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、三嗪系化合物、镍络盐系化合物、无机粉体等。
就紫外线吸收剂的使用量而言，根据紫外线吸收剂的种类、使用条件等，并不一样，相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂，优选0.5～10质量％的范围内，更优选0.6～4质量％。
(抗氧化剂)
在本发明的光学膜中，作为抗氧化剂，能够使用通常已知的化合物。特别地，能够优选使用内酯系、硫系、酚系、双键系、受阻胺系、磷系的各抗氧化剂。
例如，可列举出由BASF日本株式会社市售的“Irgafos XP40、Irgafos XP60”等。
作为上述硫系抗氧化剂，例如，能够列举出由住友化学株式会社市售的“Sumilizer TPL-R”及“Sumilizer TP-D”。
作为上述酚系抗氧化剂，优选具有2，6-二烷基苯酚的结构，例如，能够列举出由BASF日本株式会社市售的“Irganox 1076”、“Irganox 1010”、由(株)ADEKA市售的“ADEKASTAB AO-50”等。
作为上述双键系抗氧化剂，由住友化学株式会社以“Sumilizer GM”及“SumilizerGS”这样的商品名市售。
作为上述受阻胺系抗氧化剂，例如，能够列举出由BASF日本株式会社市售的“Tinuvin144”及“Tinuvin770”、由株式会社ADEKA市售的“ADK STAB LA-52”。
作为上述磷系抗氧化剂，例如，能够列举出由住友化学株式会社市售的“SumilizerGP”、由株式会社ADEKA市售的“ADK STAB PEP-24G”、“ADK STAB PEP-36”和“ADKSTAB 3010”、由BASF日本株式会社市售的“Irgafos P-EPQ”、由堺化学工业株式会社市售的“GSY-P101”。
[光学膜的特性值]
(雾度)
本发明的光学膜优选透明性高。光学膜的雾度优选为4.0％以下，更优选为2.0％以下，进一步优选为1.0％以下。就雾度而言，对于试样40mm×80nm，能够在25℃、60％RH下使用雾度计(HGM-2DP、スガ试验机)按照JIS K-6714来测定。
(相位差Ro及Rt)
就本发明的光学膜而言，例如，从用作IPS用的相位差膜的观点考虑，在测定波长550nm、23℃、55％RH的环境下所测定的面内方向的相位差Ro优选为0～10nm，更优选为0～5nm。本发明的光学膜的厚度方向的相位差Rt优选为-20～+20nm，更优选为-10～+10nm，特别优选为-5～+5nm的范围内。
Ro及Rt分别用下述式定义。
式(1a) Ro＝(nx-ny)×d
式(1b) Rt＝((nx+ny)/2-nz)×d
上述式中，nx表示膜的面内滞相轴方向(折射率成为最大的方向)的折射率，ny表示与膜的面内滞相轴正交的方向的折射率，nz表示膜的厚度方向的折射率，d表示膜的厚度(nm)。
所谓本发明的光学膜的面内滞相轴，是指在膜面中折射率成为最大的轴。就光学膜的面内滞相轴而言，能够通过自动双折射率计アクソスキャン(Axo Scan MuellerMatrix Polarimeter：アクソメトリックス公司制造)来确认。面内滞相轴通常与拉伸倍率成为最大的方向一致。
Ro及Rt能够采用以下的方法来测定。
1)在23℃、55％RH的环境下将本发明的光学膜调湿24小时。使用阿贝折射计测定该膜的平均折射率，使用市售的测微计测定厚度d。
2)分别使用自动双折射率计アクソスキャン(Axo Scan Mueller MatrixPolarimeter：アクソメトリックス公司制造)、在23℃、55％RH的环境下测定调湿后的膜的、测定波长550nm处的延迟Ro及Rth。
就本发明的光学膜的相位差Ro及Rt而言，例如能够通过(甲基)丙烯酸系树脂的种类来调整。为了降低光学膜的相位差Ro及Rt，优选为用具有负的双折射的结构单元和具有正的双折射的结构单元能够使相位差抵消的含有比率。
(膜厚)
本发明的光学膜的厚度例如能够设为5～100μm的范围内，优选为5～40μm的范围内。
《光学膜的制造方法》
[无机粒子和橡胶粒子的分散工序]
作为本发明的光学膜的制造方法，其特征在于，为了使本发明的光学膜中的橡胶粒子的平均一次粒径与无机粒子的二次粒径之比的值在由上述(式1)表示的范围的无机粒子的二次粒子数的比率相对于全部无机二次粒子数在5.0～50个数％的范围内，具有制备无机粒子的分散液的工序、和制备橡胶粒子的分散液的工序，将上述制备无机粒子的分散液的工序中的处理时间设为At(分钟)，将上述制备橡胶粒子的分散液的工序中的处理时间设为Bt(分钟)时，满足由下述(式2)规定的条件。
(式2)At＞Bt
由上述式2规定的各分散液的处理时间At和Bt依赖于各个分散液的制备量，因此是根据制备同一量的胶浆时的各自的适当的制备量所确定的因素，难以规定绝对的分散时间，因此在本发明中，优选维持由式2规定的At＞Bt的关系、且作为无机粒子的分散时的处理时间At(分钟)与橡胶粒子的分散时的处理时间Bt(分钟)的相对关系，使比(At/Bt)的值为1.05～15的范围内。
作为更优选的制造条件，将上述制备无机粒子的分散液的工序中的无机粒子的分散时剪切速度设为As(1/秒)、将上述制备橡胶粒子的分散液的工序中的橡胶粒子的分散时剪切速度设为Bs(1/秒)时，优选满足由下述(式3)规定的条件。
(式3)As＞Bs
另外，在本发明中，关于As和Bs，也同样地依赖于各自的制备量、制备配方，因此更优选的制造条件为：上述无机粒子的分散时剪切速度As(1/秒)与上述橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)之比(As/Bs)的值满足下述(式4)的关系。
(式4)As/Bs≥1×102
更优选地，As/Bs为1×102～1×108的范围内。
在图2中，用示意图来表示制备本发明中的无机粒子分散液和橡胶粒子分散液时的剪切速度与分散处理时间的关系的一例。
在图2中，将横轴设为分散工序中的处理时间(分钟)、将纵轴设为分散时的剪切速度(1/秒、对数)时，将由无机粒子涉及的分散时剪切速度As(1/秒)和制备无机粒子的分散液的工序中的处理时间At(分钟)所包围的面积设为S1、将由橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)和制备橡胶粒子的分散液的工序中的处理时间Bt(分钟)所包围的面积设为S2时，设为S1＞S2是优选的条件。即，其特征在于，将无机粒子分散液制备时的分散条件设定为比橡胶粒子分散液制备时的分散条件高的条件。
本发明中，作为将无机粒子的分散时剪切速度As(1/秒)和橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)控制为所期望的条件范围的方法，就橡胶粒子分散液制备时的剪切速度Bs而言，适当地选择分散装置的分散条件、例如在使用マイルダー分散机(大平洋机工株式会社制造)的情况下，适当选择转速和转子·定子的种类来调整，就无机粒子分散液制备时的剪切速度As而言，在使用Manton Golin(マントンゴーリン)分散机作为高压分散装置的情况下，调整Manton Golin分散机的第1段的阀压力及第2段的阀压力，以成为表I的A-1中所示的剪切速度的关系和剪切速度比(As/Bs)的方式适当地调整，由此能够得到所期望的特性。
作为分散方法，制备加入了橡胶粒子或无机粒子、和根据需要使用的溶剂(例如二氯甲烷、乙醇等)的混合液，作为以往公知的分散装置，例如，作为高压分散机，例如，能够列举出Microfluidics Corporation公司制造的超高压均化器(商品名マイクロフルイダイザー)、ナノマイザー公司制造的ナノマイザー、Manton Golin型高压分散装置、イズミフードマシナリ制造的ホモゲナイザー、太平洋机工公司制造的マイルダー分散机、超声波分散机等。
[光学膜的制膜方法]
就本发明的光学膜而言，在采用上述分散工序而制备了橡胶粒子分散液和无机粒子分散液后，按照下述的方法，通过溶液流延方式(cast法)来制造。即，就本发明的光学膜盐，在制备橡胶粒子分散液和无机粒子分散液后，经过下述工序而制造：
1)得到至少包含本发明涉及的(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶粒子分散液、无机粒子分散液和溶剂的胶浆的工序(胶浆制备工序)；
2)将得到的胶浆在支承体上流延、干燥及剥离而得到膜状的膜的工序(流延工序)；
3)将得到的膜拉伸的工序(拉伸工序)；
4)将被拉伸的膜卷绕成卷状的工序(卷绕工序)。
(1.胶浆制备工序)
添加本发明涉及的(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶粒子分散液、无机粒子分散液和根据需要使用的溶剂等，制备胶浆。
胶浆的制备中使用的溶剂至少包含可溶解(甲基)丙烯酸系树脂的有机溶剂(良溶剂)。在良溶剂的例子中，包含二氯甲烷等氯系有机溶剂、醋酸甲酯、醋酸乙酯、丙酮、四氢呋喃等非氯系有机溶剂。其中，优选二氯甲烷。
作为胶浆的制备中使用的溶剂，可进一步包含不良溶剂。在不良溶剂的例子中，包含碳原子数1～4的直链或分支链状的脂肪族醇。如果胶浆中的醇的比率升高，则膜状物容易凝胶化，从金属支承体的剥离容易变得容易。作为碳原子数1～4的直链或分支链状的脂肪族醇，能够列举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇。这些中，从胶浆的稳定性、沸点也比较低、干燥性也良好等考虑，优选乙醇。
对胶浆的固体成分浓度并无特别限制，从通过利用干燥的压缩效应而得到的光学膜中容易使橡胶粒子、无机粒子适度地接近的观点考虑，优选胶浆的固体成分浓度低。具体地，胶浆的固体成分浓度优选为25质量％以下，更优选为20质量％以下，进一步优选为15质量％以下。另一方面，从容易得到规定的厚度的膜状物的观点考虑，胶浆的固体成分浓度的下限值优选设为例如9质量％左右。
就胶浆的制备而言，可在上述的溶剂中直接添加(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶粒子分散液、无机粒子分散液及其他添加剂、进行混合而制备，也可分别预先制备在上述的溶剂中使(甲基)丙烯酸系树脂溶解而成的树脂溶液、橡胶粒子分散液、无机粒子分散液及其他添加剂、将它们混合而制备。
(2.流延工序)
将得到的胶浆在支承体上流延。就胶浆的流延而言，能够通过从流延模头使其排出而进行。
其次，使在支承体上流延了的胶浆中的溶剂蒸发，使其干燥。将干燥了的胶浆从支承体剥离，得到膜状的网状物。
就从支承体剥离时的胶浆的残留溶剂量(剥离时的膜状物的残留溶剂量)而言，在容易减小得到的(甲基)丙烯酸系树脂膜的相位差的方面，优选为10～150质量％，更优选为20～40质量％。如果剥离时的残留溶剂量为10质量％以上，在干燥或拉伸时(甲基)丙烯酸系树脂容易流动、容易使其成为未取向，因此容易减小得到的(甲基)丙烯酸系树脂膜的相位差。如果剥离时的残留溶剂量为150质量％以下，则将胶浆剥离时所需的力不易过度地变大，因此容易抑制胶浆的断裂。
就剥离时的胶浆的残留溶剂量而言，用下述式定义。在以下也同样。
胶浆的残留溶剂量(质量％)＝(胶浆的加热处理前质量-胶浆的加热处理后质量)/胶浆的加热处理后质量×100
应予说明，测定残留溶剂量时的加热处理是指140℃、30分钟的加热处理。
就剥离时的残留溶剂量而言，能够通过支承体上的胶浆的干燥温度、干燥时间、支承体的温度等来调整。
(3.拉伸工序)
将剥离而得到的网状物(也称为膜)一边干燥一边拉伸。
就拉伸而言，可根据所需的光学特性来进行，优选在至少一个方向(例如膜的宽度方向(TD方向))上拉伸，也可在相互正交的二个方向上拉伸(例如膜的宽度方向(TD方向)和与其正交的输送方向(MD方向)的双轴拉伸)。
对拉伸倍率并无特别限制，例如，优选为20～200％的范围内，更优选为30～100％的范围内，进一步优选为50～70％的范围内。这里所说的拉伸倍率(％)定义为
(拉伸前后的膜的拉伸方向的长度的变化量)/(拉伸前的膜的拉伸方向的长度)×100(％)
。予以说明，进行双轴拉伸的情况下，对于TD方向和MD方向的各个方向，优选设为上述拉伸倍率。
应予说明，就光学膜的面内滞相轴方向(在面内折射率成为最大的方向)而言，通常为拉伸倍率成为最大的方向。
就拉伸温度(干燥温度)而言，将(甲基)丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度设为Tg时，优选为(Tg-65)℃～(Tg+60)℃的范围内，更优选为(Tg-50)℃～(Tg+50)℃的范围内，进一步优选为(Tg-30)℃～(Tg+50)℃的范围内。如果拉伸温度为(Tg-30)℃以上，不仅容易使膜状物为适于拉伸的柔性膜状物，而且拉伸时对膜状物施加的张力不会过度变大，因此在得到的(甲基)丙烯酸系树脂膜中过剩的残留应力可不易残留。如果拉伸温度为Tg以下，容易抑制膜状物中的溶剂的气化所引起的气泡的产生等。就拉伸温度而言，具体地，可设为60～220℃的范围内。
就拉伸温度而言，能够作为(a)在如拉幅拉伸机等那样以非接触加热型来使其干燥的情况下拉伸机内温度或热风温度等气氛温度、(b)在采用热辊等接触加热型来使其干燥的情况下接触加热部的温度、或者(c)膜状物(被干燥面)的表面温度中的任一个温度来测定。其中，(a)在如拉幅拉伸机等那样以非接触加热型来使其干燥的情况下，优选拉伸机内温度或热风温度等气氛温度。
就拉伸开始时的膜状物中的残留溶剂量而言，优选为例如5～30质量％。拉伸开始时的残留溶剂量能够采用与上述同样的方法来测定。
就膜状物的TD方向(宽度方向)的拉伸而言，例如能够采用下述方法(拉幅机法)进行：将膜状物的两端用夹子、针固定，使夹子、针的间隔在行进方向上扩大。就膜状物的MD方向的拉伸而言，例如能够采用下述方法(辊法)进行：对多个辊施加周速差，在其间利用辊周速差。
(4.卷绕工序)
对于拉伸后得到的膜，一边根据需要进一步使其干燥，一边卷绕成卷状，得到光学膜的卷状层叠体。
就干燥温度而言，能够调整到与上述(3.拉伸工序)的拉伸温度同样的范围。就干燥温度而言，采用与上述(3.拉伸工序)同样的方法来测定。应予说明，在采用上述(b)中说明的热辊等接触加热型来干燥的情况下，优选作为接触加热部的温度来测定。
就卷绕而言，通常一边在膜状物的MD方向上施加张力(卷绕张力)一边进行。
在卷绕后得到的卷状层叠体中，优选橡胶粒子的长径方向相对于光学膜的厚度方向大致垂直。另外，从容易进一步抑制卷绕后的光学膜的卷状故障的观点考虑，优选橡胶粒子的长径方向相对于光学膜的拉伸方向(优选宽度方向)大致平行。
得到的卷状体中的、光学膜的长度(MD方向的长度)优选为2000～8000m的范围内，更优选为5000～7000m的范围内。光学膜的宽度(TD方向的长度)优选为1.3～3.0m的范围内，更优选为2.3～2.5m的范围内。
如上所述，由于卷绕张力，在刚卷绕后的卷状体的光学膜中，在纵向方向要收缩的力(应力)发挥作用，在宽度方向上要伸长的力(应力)容易发挥作用。相对于此，就本发明的光学膜而言，具有橡胶粒子适度地接近的结构。由此，即使没有使橡胶粒子的粒径增大，卷绕后的卷状体的光学膜也能够有效地缓和上述应力。由此，能够抑制在纵向方向上要收缩的力所引起的卷绕芯的转印、在宽度方向上要伸长的力所引起的链状故障。因此，能够不使光学膜的雾度增大地改善卷绕形状。
特别地，光学膜为长尺寸(MD方向的长度长)，且为宽幅(TD方向的长度长)，容易发生卷状故障。本发明在这样的光学膜的卷状体中也能够良好地抑制卷状故障。
就得到的光学膜而言，优选用作液晶显示器、有机EL显示器等各种显示装置中的偏振片保护膜、相位差膜。
实施例
以下，列举实施例，对本发明具体地说明，但本发明并不限定于这些实施例。应予说明，实施例中，使用“份”或“％”的表示，只要无特别说明，则表示“质量份”或“质量％”。
《(甲基)丙烯酸系树脂的准备》
按照以往公知的合成法合成由下述的组成构成的(甲基)丙烯酸系树脂1～5。
[(甲基)丙烯酸系树脂1的合成]
按照常规方法，合成了由甲基丙烯酸甲酯(85摩尔％)/N-苯基马来酰亚胺(10摩尔％)/丙烯酸2-乙基己酯(5摩尔％)构成的(甲基)丙烯酸系树脂1。(甲基)丙烯酸系树脂1的重均分子量Mw为200万。
[(甲基)丙烯酸系树脂2的合成]
按照常规方法，合成了由甲基丙烯酸甲酯(50摩尔％)/N-苯基马来酰亚胺(25摩尔％)/丙烯酸2-乙基己酯(25摩尔％)构成的(甲基)丙烯酸系树脂2。(甲基)丙烯酸系树脂2的重均分子量Mw为200万。
[(甲基)丙烯酸系树脂3的合成]
按照常规方法，合成了由甲基丙烯酸甲酯(85摩尔％)/N-苯基马来酰亚胺(10摩尔％)/丙烯酸甲酯(5摩尔％)构成的(甲基)丙烯酸系树脂3。(甲基)丙烯酸系树脂3的重均分子量Mw为200万。
[(甲基)丙烯酸系树脂4的合成]
按照常规方法，合成了由甲基丙烯酸甲酯(85摩尔％)/N-苯基马来酰亚胺(10摩尔％)/丙烯酸丁酯(5摩尔％)构成的(甲基)丙烯酸系树脂4。(甲基)丙烯酸系树脂4的重均分子量Mw为200万。
[(甲基)丙烯酸系树脂5的合成]
合成了由甲基丙烯酸甲酯(100摩尔％)单独构成的(甲基)丙烯酸系树脂5。(甲基)丙烯酸系树脂5的重均分子量Mw为200万。
《橡胶粒子的准备》
[橡胶粒子G1的准备：(甲基)丙烯酸苄酯系橡胶粒子]
按照日本专利第5798690号公报的段落(0379)～段落(0382)中记载的多层结构聚合物(B2)的制造方法，制备了平均一次粒径为121nm的(甲基)丙烯酸苄酯系的橡胶粒子G1。
[橡胶粒子G2的准备：(甲基)丙烯酸二环戊酯系橡胶粒子]
按照日本专利第5798690号公报的段落(0387)～段落(0390)中记载的多层结构聚合物(B4)的制造方法，制备了平均一次粒径为127nm的(甲基)丙烯酸二环戊酯系的橡胶粒子G2。
[橡胶粒子G3的准备：(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯系橡胶粒子]
按照日本专利第5798690号公报的段落(0383)～段落(0386)中记载的多层结构聚合物(B3)的制造方法，制备了平均一次粒径为133nm的(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯系的橡胶粒子G3。
《光学膜的制作》
[光学膜1的制作]
(橡胶粒子分散液1的制备)
将25质量份的橡胶粒子G1和475质量份的二氯甲烷用溶解器搅拌混合50分钟后，使用マイルダー分散机(大平洋机工株式会社制造)在1500rpm条件下分散40分钟，得到橡胶粒子分散液1。
(无机粒子分散液1的制备)
将下述的成分用溶解器搅拌混合50分钟后，使用Manton Golin分散机进行100分钟的分散。其次，使用日本精线(株)制造的ファインメットNF过滤，制备了无机粒子分散液1。
无机粒子：アエロジルR812(日本アエロジル公司制造、一次平均粒径：7nm、表观比重50g/L) 4质量份
二氯甲烷 48质量份
乙醇 48质量份
(分散条件A-1)
就上述橡胶粒子分散液1和无机粒子分散液1的分散条件而言，如表I的A-1中所示。
就橡胶粒子分散液制备时的剪切速度Bs而言，适当地选择转速和转子·定子的种类来调整，就无机粒子分散液制备时的剪切速度As而言，调整Manton Golin分散机的第1段的阀压力及第2段的阀压力，以成为表I的A-1中所示的剪切速度的关系和剪切速度比(As/Bs)的方式适当地调整。
(制膜)
〈胶浆的制备〉
按照下述的方法制备由下述的组成构成的胶浆。首先，在加压溶解罐中添加二氯甲烷及乙醇。其次，在加压溶解罐中一边搅拌一边投入(甲基)丙烯酸系树脂1。其次，投入上述制备的橡胶粒子分散液1，将其一边搅拌一边添加，其次添加无机粒子分散液1，制备了胶浆。
得到的胶浆的粘度为16000mmPa·s，含水率为0.50％。使用(株)ロキテクノ制造的SHP150，以过滤流量300L/m2·h、滤压1.0×106Pa将其过滤，得到了胶浆。
Figure BDA0002802861070000281
〈制膜〉
使用日本特开2017-102319号公报的图1中记载的具有溶液流延法的胶浆制备工序、流延工序及干燥工序的制膜装置，通过下述的方法，制作了光学膜1。
在流延工序中，使用环形带流延装置，将上述制备的胶浆以温度30℃、1900mm宽在不锈钢带支承体上均匀地流延。将不锈钢带支承体的温度控制在28℃。使不锈钢带支承体的输送速度为20m/分钟。
其次，在不锈钢带支承体上，使溶剂蒸发直至流延(cast)的胶浆中的残留溶剂量成为30质量％，形成网状物后，用剥离张力128N/m从不锈钢带支承体将网状物剥离。一边将剥离了的网状物用多个辊输送，一边将得到的网状物采用拉幅机、在(Tg+15)℃的条件下在宽度方向上拉伸30％。拉伸开始时的网状物中的残留溶剂量为10质量％。然后，一边用辊输送一边进一步采用干燥工序使其干燥，将用拉幅机夹子夹持的端部用激光切割机纵切而卷绕，得到了宽度方向的长度为2.3m、纵向方向的长度为7000m、膜厚为40μm的长尺寸的光学膜1。
[光学膜2的制作]
在上述光学膜1的制作中，使用将制作中使用的无机粒子分散液1的分散时间变为80分钟而制备的无机粒子分散液2，设为表I中记载的分散条件A-2，除此以外同样地制作了光学膜2。
[光学膜3的制作]
在上述光学膜1的制作中，使用将制作中使用的无机粒子分散液1的分散时间变为60分钟而制备的无机粒子分散液3，设为表I中记载的分散条件A-3，除此以外同样地制作了光学膜3。
[光学膜4的制作]
在上述光学膜2的制作中，将(甲基)丙烯酸系树脂1变为(甲基)丙烯酸系树脂2，除此以外同样地制作了光学膜4。
[光学膜5的制作]
在上述光学膜2的制作中，适当地改变无机粒子分散液2与橡胶粒子分散液1的分散条件，以剪切速度的关系成为表I中记载的分散条件B的方式改变，除此以外同样地制作了光学膜5。
[光学膜6的制作]
在上述光学膜2的制作中，适当地改变无机粒子分散液2与橡胶粒子分散液1的分散条件，以剪切速度的关系成为表I中记载的分散条件C的方式改变，除此以外同样地制作了光学膜6。
[光学膜7的制作]
在上述光学膜2的制作中，适当地改变无机粒子分散液2与橡胶粒子分散液1的分散条件，以剪切速度的关系成为表I中记载的分散条件D的方式改变，除此以外同样地制作了光学膜7。
[光学膜8的制作]
在上述光学膜2的制作中，将橡胶粒子分散液1变为包含(甲基)丙烯酸二环戊酯系橡胶粒子G2的橡胶粒子分散液2，除此以外同样地制作了光学膜8。
[光学膜9的制作]
在上述光学膜2的制作中，将橡胶粒子分散液1变为包含(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯系橡胶粒子G3的橡胶粒子分散液3，除此以外同样地制作了光学膜9。
[光学膜10的制作]
在上述光学膜2的制作中，将(甲基)丙烯酸系树脂1变为(甲基)丙烯酸系树脂3，除此以外同样地制作了光学膜10。
[光学膜11的制作]
在上述光学膜2的制作中，将(甲基)丙烯酸系树脂1变为(甲基)丙烯酸系树脂4，除此以外同样地制作了光学膜11。
[光学膜12的制作]
在上述光学膜1的制作中，使用将制作中使用的无机粒子分散液1的分散时间变为40分钟而制备的橡胶粒子分散液4，设为表I中记载的分散条件E，除此以外同样地制作了光学膜12。
[光学膜13的制作]
在上述光学膜1的制作中，使用将制作中使用的橡胶粒子分散液1的分散时间变为80分钟而制备的橡胶粒子分散液5和将无机粒子分散液1的分散时间变为40分钟而制备的无机粒子分散液4，设为表I中记载的分散条件F，除此以外同样地制作了光学膜13。
[光学膜14的制作]
在上述光学膜2的制作中，将(甲基)丙烯酸系树脂1变为(甲基)丙烯酸系树脂5，除此以外同样地制作了光学膜14。
[光学膜15的制作]
在上述光学膜2的制作中，不包括橡胶粒子分散液1，除此以外同样地制作了光学膜15。
[光学膜16的制作]
在上述光学膜2的制作中，代替无机粒子分散液1而使用采用下述的方法制备的有机粒子分散液5，除此以外同样地制作了光学膜16。
(有机粒子分散液5的制备)
〈种粒子的制备〉
在具备搅拌器、温度计的聚合器中，放入去离子水1000g，向其中装入甲基丙烯酸甲酯50g、叔十二烷基硫醇6g，在搅拌下一边进行氮置换一边加热到70℃。将内温保持在70℃，添加溶解有作为聚合引发剂的过硫酸钾1g的去离子水20g后，使其聚合10小时。得到的乳液中的种粒子的平均粒径为0.05μm。
〈有机粒子的制备〉
在具备搅拌器、温度计的聚合器中，放入溶解有作为凝胶化抑制剂的十二烷基硫酸钠2.4g的去离子水800g，向其中放入作为单体混合物的甲基丙烯酸甲酯66g、苯乙烯20g和乙二醇二甲基丙烯酸酯64g、作为聚合引发剂的偶氮二异丁腈1g的混合液。其次，将混合液采用T.K.均相混合机(特殊机化工业株式会社制造)搅拌，得到分散液。
在得到的分散液中，加入上述包含种粒子的乳液60g，在30℃下搅拌1小时，使种粒子吸收单体混合物。其次，将被吸收的单体混合物在氮气流下、50℃下加热5小时，使其聚合后，冷却到室温(约25℃)，得到聚合物微粒(有机粒子4)的浆料。得到的有机粒子5的平均粒径为0.14μm，Tg为280℃。
(有机粒子的聚集体的制作)
将该乳液采用作为喷雾干燥机的坂本技研公司制的喷雾干燥器(形式：雾化器导出方式、型号：TRS-3WK)在以下的条件下喷雾干燥，得到了有机粒子的聚集体。有机粒子的平均二次粒径为200μm。
供给速度：25mL/分钟
雾化器转速：11000rpm
风量：2m3/分钟
喷雾干燥器的浆料入口温度：100℃
聚合物粒子聚集体出口温度：50℃
就有机粒子的平均二次粒径而言，采用ζ电位·粒径测定系统(大塚电子株式会社制ELSZ-2000ZS)来测定。
在下述表I中示出分散条件的一览。
[表1]
表I
Figure BDA0002802861070000321
As：无机粒子的分散时剪切速度(1/秒)
Bs：橡胶粒子的分散时剪切速度(1/秒)
At：无机粒子的分散工序的处理时间(分钟)
Bt：橡胶粒子的分散工序的处理时间(分钟)
在下述表II中示出上述制作的各光学膜的构成。
Figure BDA0002802861070000331
《粒子特性值的测定》
[无机粒子的平均二次粒径的测定]
对于使用薄片切片机将截面修整了的光学膜的截面，使用透射型电子显微镜以50万倍进行无机粒子的观察，观察二次粒子的无机粒子，测定粒径，将其作为无机粒子的二次粒径。另外，求出其平均值，作为平均二次粒径。
[光学膜中的橡胶粒子平均一次粒径与无机粒子二次粒径之比的值的测定]
与上述同样地，对于使用薄片切片机将截面修整了的光学膜的截面，使用透射型电子显微镜以50万倍进行橡胶粒子和无机粒子的观察，对于观察橡胶粒子而求出的平均一次粒径和观察无机粒子而求出的二次粒径，按照式(1)求出(橡胶粒子平均一次粒径)/(无机粒子二次粒径)之比的值。
[光学膜的评价]
(耐脆性的评价：断裂伸长率的测定)
根据按照JIS K 7127(1999)的方法，测定断裂伸长率，按照下述的标准，进行耐脆性的评价。
◎：一方向的断裂伸长率为20％以上
○：一方向的断裂伸长率为15％以上且不到20％
△：一方向的断裂伸长率为10％以上且不到15％
×：一方向的断裂伸长率为不到10％
只要为△以上，则判断为是可实用的特性。
(相位差特性：Rt的测定)
对于上述制作的各光学膜，使用自动双折射计KOBRA-21ADH(王子计测机器公司制造)，在23℃、55％RH的环境下、在590nm的波长处进行三维折射率测定，求出滞相轴方向的折射率nx、进相轴方向的折射率ny、厚度方向的折射率nz，将光学膜的厚度(nm)设为d，按照下述(式5)，求出厚度方向的延迟Rt，按照下述的标准，对相位差进行评价。
(式5)Rt＝[(nx+ny)/2-nz]×g(nm)
对于上述测定的厚度方向的延迟Rt，分类为下述的等级，进行(低)相位差特性的评价。
◎：Rt为-5nm以上且不到+5nm
○：Rt为-10nm以上且不到-5nm、或者为+5nm以上且不到+10nm
△：Rt为-20nm以上且不到-10nm、或者为+10nm以上且不到+20nm
×：Rt为不到-20nm或者+20nm以上
(滑动性的评价)
〈耐粘贴性的评价〉
对于上述制作的7000m长的卷状层叠体即光学膜，在23℃、55％RH的环境下将光学膜分别全长拉出，目视观察有无发生膜之间的粘贴，按照下述的标准，进行耐粘贴性的评价。
◎：在全长完全没有发生粘贴
○：很少地发现粘贴的发生，但为良好的品质
△：部分地发现粘贴的发生，但容易地剥离
×：在全长上粘贴的发生多，不易剥离
〈卷状层叠体的卷状的观察〉
对于上述制作的7000m长的卷状层叠体，在40℃、80％RH的气氛下保存了10日后，打开卷，测定发生了从卷绕芯的转印的光学膜的长度(m)，按照下述的标准进行了卷状的评价。
◎：从卷绕芯的转印发生位置不到10m
○：从卷绕芯的转印发生位置为10m以上且不到50m
△：从卷绕芯的转印发生位置为50m以上且不到100m
×：从卷绕芯的转印发生位置为100m以上
在上述的评价中，如果为△以上，则判定为良好。
将通过以上得到的结果示于表III中。
【表3】
表III
Figure BDA0002802861070000361
由表III中记载的结果得知：就具备本发明的特性的光学膜而言，相对于比较例，耐脆性(断裂伸长率)优异，维持低相位差特性，且滑动性(耐粘贴性、层叠为卷状时的卷状)优异。

Claims (7)

1.一种光学膜，其为至少含有无机粒子和(甲基)丙烯酸系树脂的光学膜，其特征在于，
就所述(甲基)丙烯酸系树脂而言，相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元，为含有50～95质量％的范围内的来自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、1～25质量％的范围内的来自苯基马来酰亚胺的结构单元、和1～25质量％的范围内的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的聚合物，
所述光学膜还含有橡胶粒子，
就膜中的橡胶粒子的平均一次粒径相对于所述无机粒子的二次粒径之比的值在由下述(式1)所表示的范围中的无机粒子的二次粒子数的比率而言，相对于全部无机二次粒子数，为5.0～50个数％的范围内，
(式1) 0.9≤(橡胶粒子平均一次粒径)/(无机粒子二次粒径)≤1.1。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述无机粒子为球状二氧化硅粒子，且平均二次粒径为50～500nm的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其特征在于，所述橡胶粒子包含：具有选自来自(甲基)丙烯酸苄酯的结构、来自(甲基)丙烯酸二环戊酯的结构、及来自(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯的结构中的至少1种的结构单元的单体。
4.一种光学膜的制造方法，其为制造根据权利要求1至3中任一项所述的光学膜的光学膜的制造方法，其特征在于，
具有：制备无机粒子的分散液的工序、和制备橡胶粒子的分散液的工序，
在将所述制备无机粒子的分散液的工序中的处理时间设为At(分钟)、将所述制备橡胶粒子的分散液的工序中的处理时间设为Bt(分钟)时，满足由下述(式2)规定的条件：
(式2) At＞Bt。
5.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述无机粒子的分散时的处理时间At(分钟)与所述橡胶粒子的分散时的处理时间Bt(分钟)之比(At/Bt)的值为1.05～15的范围内。
6.根据权利要求4或5所述的光学膜的制造方法，其特征在于，
在将所述制备无机粒子的分散液的工序中的无机粒子的分散时剪切速度设为As(1/秒)、将所述制备橡胶粒子的分散液的工序中的橡胶粒子的分散时剪切速度设为Bs(1/秒)时，满足由下述(式3)规定的条件：
(式3) As＞Bs。
7.根据权利要求6所述的光学膜的制造方法，其特征在于，所述无机粒子的分散时剪切速度As(1/秒)与所述橡胶粒子的分散时剪切速度Bs(1/秒)之比(As/Bs)的值满足下述(式4)的关系：
(式4) As/Bs≥1×102。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102209749A (zh) * 2008-11-27 2011-10-05 株式会社日本触媒 光学膜及其制造方法
JP2013071314A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd アクリル系樹脂フィルムおよびその製造方法、並びにそれを用いてなる偏光板
CN108350125A (zh) * 2015-11-20 2018-07-31 旭化成株式会社 甲基丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂组合物、膜、制造方法
WO2019045257A1 (ko) * 2017-09-04 2019-03-07 효성화학 주식회사 아크릴 필름

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5569773B2 (ja) * 2009-02-23 2014-08-13 住友化学株式会社 複合偏光板およびそれを用いたｉｐｓモード液晶表示装置
US9360747B2 (en) * 2012-03-02 2016-06-07 Mitsubishi Paper Mills Limited Transmission type screen
TWI634131B (zh) 2013-04-05 2018-09-01 鐘化股份有限公司 Optical resin material and optical film
US20140322554A1 (en) * 2013-04-26 2014-10-30 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device
JPWO2015141340A1 (ja) * 2014-03-18 2017-04-06 コニカミノルタ株式会社 偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置
JP2017155142A (ja) * 2016-03-02 2017-09-07 コニカミノルタ株式会社 アクリル系樹脂フィルム、偏光板及び液晶表示装置
EP3438142B1 (en) * 2016-03-29 2021-08-04 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Methacrylic resin composition and molded body
WO2018168402A1 (ja) * 2017-03-13 2018-09-20 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、及びそれを有する偏光板並びに表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102209749A (zh) * 2008-11-27 2011-10-05 株式会社日本触媒 光学膜及其制造方法
JP2013071314A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd アクリル系樹脂フィルムおよびその製造方法、並びにそれを用いてなる偏光板
CN108350125A (zh) * 2015-11-20 2018-07-31 旭化成株式会社 甲基丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂组合物、膜、制造方法
WO2019045257A1 (ko) * 2017-09-04 2019-03-07 효성화학 주식회사 아크릴 필름

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