JP2009073106A - 光学フィルム、その製造方法、光学フィルムを用いた偏光板、及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 溶液流延製膜法により寸法安定性が良化し、かつリタデーションの発現性が良＜なり、高リタデーションを得ることができる光学フィルム、及びその製造方法を提供し、近年の偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化、及び高品質化の要求に応え、液晶表示装置のコーナームラ、額縁故障の発生を防止する。
【解決手段】 光学フィルムの製造方法は、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施し、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部を付与する。乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を５〜５０％とし、乾燥用エンボス部付きフィルムを搬送ロールによる搬送乾燥後に、乾燥用エンボス部を断裁切除する。ついで、該フィルムの端部に、製品用エンボス加工を施して、製品用エンボス部を付与した後、フィルムを巻き取る。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルムなどの各種機能フィルム等にも利用することができる光学フィルム、その製造方法、光学フィルムを用いた偏光板、及び表示装置に関するものである。

液晶表示装置用光学フィルムは、液晶表示装置の大型化と普及により、年々生産量が増大しており、それに対応すべく、フィルムの生産速度の向上やフィルム幅の拡大が、検討実施されている。

光学フィルムは、一般に溶液流延製膜法により製造されている。溶液流延製膜法では、フィルム原料である樹脂を溶媒で溶解しており、製膜の際、その溶媒を蒸発させるために、フィルム（ウェブ）を高温で長時間、乾燥させることが必要となる。

ここで、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法については、つぎのような特許文献がある。
特開２００３−１７５５２２号公報 特許文献１に記載のセルロースアセテートフィルムの製造方法では、乾燥工程において非駆動ロールに対する摩擦力を調整する第２のナーリングをフィルムに付与する方法が開示されている。 特開平９−１１３７２７号公報 特許文献２には、支持体から剥ぎ取ったフイルムの横方向の寸法を固定した状態で、フイルム中の有機溶媒の量が２０重量％未満になるまで乾燥する工程により樹脂フイルムを製造することが開示されている。 特開平１１−９０９４６号公報 特許文献３には、フイルム中に有機溶媒が６０重量％未満の量で含まれている状態で、フイルムを支持体から剥ぎ取り、剥ぎ取ったフイルムを１２０〜１３５℃の温度で４分以上熱処理することにより、セルロースアセテートフイルムを製造する方法が開示されている。

上記のように、光学フィルムの生産量の増大、及び広幅化に伴い、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造においては、フィルム（ウェブ）の乾燥は、数多くの非駆動（回転駆動されない）搬送ロール間を搬送させることで行なわれるが、搬送ロール間距離を小さくするほど、ロール本数は多くなり、莫大な設備コストが必要となるため、一般的には、搬送ロール間距離をｌｍ程度離して設置されている。そして、搬送ロールに接していない区間において、特にフィルムは乾燥され、溶媒が蒸発する際にはフィルムが収縮するため、製品として使用されるフィルムは、加熱・加湿環境下に放置すると収縮し、この加熱が大きかったり、長時間になると、液晶表示装置の隅で光漏れが発生する、いわゆるコーナームラ、額縁故障が発生するという問題があった。

そして、上記の特許文献１では、乾燥工程において、特定の残留溶媒量の存在下で処理することにより、フィルムの形状を確保するものであるが、残留溶媒量の調整のみでは、ナーリング加工による凹凸部の跡が充分に付かないという問題があった。また、特許文献１の方法は、フィルム搬送時に発生する擦り傷などを防止するためのものであった。

また、上記特許文献２の方法では、表示装置での額縁ムラをなくすために、フィルム乾燥工程での縦横の乾燥収縮を抑えることが提案されているが、特許文献２に記載の方法は、延伸工程までの発明であり、最も乾燥エネルギーが必要となる後乾燥工程（２次乾燥）での寸法収縮については、対応ができていない。

さらに、特許文献３に記載の方法は、フィルムの寸法を安定させ、表示装置における額縁ムラをなくすために、フィルム乾燥工程での搬送張力を小さくすることが提案されているが、２次乾燥のように長い乾燥工程では、いわゆるメカニックロス（機械的損失）が大きく、特許文献３に記載のような低張力の搬送では、フィルムを搬送することができない。

本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法において、乾燥工程において、圧縮残留歪が５〜５０％の乾燥用エンボス部を幅手方向の両端部に有するフィルムを搬送することにより、搬送ロールに接触している以外のフィルム部分の乾燥による収縮が抑えられ、寸法安定性が良化する光学フィルムの製造方法を提供すること、また位相差フィルムなどでは、乾燥収縮による製造工程でのリタデーションの損失が小さくなるため、リタデーションの発現性が良＜なり、高リタデーションを得ることができる光学フィルムの製造方法を提供すること、ひいては近年の偏光板用保護フィルム等の薄膜化、広幅化、及び高品質化の要求に応えることができ、さらには、液晶表示装置に組み込んだ際に、液晶表示装置の隅で光漏れが発生するいわゆるコーナームラ、額縁故障の発生を防止することが可能となる、光学フィルム、その製造方法、光学フィルムを用いた偏光板、及び表示装置を提供することにある。

上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、熱可塑性樹脂溶液（ドープ）を金属支持体上に流延して流延膜（ウェブ）を形成し、溶剤の一部を蒸発させた後に、ウェブを金属支持体から剥離する工程と、剥離したウェブを幅手方向に延伸する工程と、延伸後に乾燥したフィルムを巻き取る巻取り工程とを具備する溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法であって、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施し、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を、５〜５０％とし、この乾燥用エンボス部付きフィルムを非駆動のフリーロールよりなる搬送ロールにより搬送しながら乾燥し、乾燥後にフィルム両端部の乾燥用エンボス部を断裁切除し、ついで、フィルムの端部に、製品用エンボス加工を施して、フィルム端部に製品用エンボス部を付与した後、製品用エンボス部を具備するフィルムを巻き取ることを特徴としている。

ここで、上記フィルム圧縮残留歪率は、ＪＩＳ Ｋ ６４００−４に規定される方法で、温度１２０℃、時間３０分で、５０％歪にて測定した値をいう。

請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、
フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、フィルム端部を上下両側より挟圧しかつ多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する左右一対ずつの乾燥用エンボス刻印リングを用い、これらの乾燥用エンボス刻印リングが互いに噛み合うことでフィルム端部を変形させて乾燥用エンボス部を付与することを特徴としている。

請求項３の発明は、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法であって、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、乾燥用エンボス刻印ロールの表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃〜Ｔｇ＋８０℃の温度範囲で加工することを特徴としている。

請求項４の発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムであって、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部の多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の直径が、それぞれ１００〜５０００μｍであることを特徴としている。

請求項５の発明は、請求項４に記載の光学フィルムであって、フィルム両端部に設けられた乾燥用エンボス部の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の高さの合計が、１．５〜５ｍｍであることを特徴としている。

請求項６の発明は、請求項４または５に記載された光学フィルムであって、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部が、乾燥用エンボス加工処理によってフィルムの部分強度を増すように変質せしめられていて、該乾燥用エンボス部の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５〜５倍となされていることを特徴としている。

請求項７に記載の偏光板の発明は、請求項４〜６のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムを一方の面に用いることを特徴としている。

請求項８に記載の表示装置の発明は、請求項７に記載の偏光板を用いることを特徴としている。

請求項１の発明は、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法であって、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施し、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を、５〜５０％とし、この乾燥用エンボス部付きフィルムを非駆動のフリーロールよりなる搬送ロールにより搬送しながら乾燥し、乾燥後にフィルム両端部の乾燥用エンボス部を断裁切除し、ついで、フィルムの端部に、製品用エンボス加工を施して、フィルム端部に製品用エンボス部を付与した後、製品用エンボス部を具備するフィルムを巻き取るもので、請求項１の発明によれば、圧縮残留歪が５〜５０％の乾燥用エンボス部を両端部に有するフィルムを乾燥工程で搬送することにより、搬送ロールで接触している部分以外のフィルム部分の乾燥による収縮が抑えられ、寸法安定性が良化するという効果を奏する。

また、本発明による光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合には、本発明による光学フィルムの製造方法によれば、乾燥工程での乾燥収縮によるリタデーションの損失が小さくなるため、リタデーションの発現性が良くなり、高リタデーションを得ることができるため、液晶表示装置に用いた場合に広い視野角を獲ることができるという効果を奏する。

請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、フィルム端部を上下両側より挟圧しかつ多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する左右一対ずつの乾燥用エンボス刻印リングを用い、これらの乾燥用エンボス刻印リングが互いに噛み合うことで、フィルム端部を変形させて、乾燥用エンボス部を付与するもので、請求項２の発明によれば、フィルムの寸法安定性や高リタデーション発現性を得るために十分な強度の乾燥用エンボスを獲ることができる。また高速搬送時でもシワ、ツレなど無く搬送できるという効果を奏する。

請求項３の発明は、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法であって、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、乾燥用エンボス刻印ロールの表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃〜Ｔｇ＋８０℃の温度範囲で加工するもので、請求項３の発明によれば、１００℃以上の高温乾燥工程を長時間搬送されてもフィルムの寸法安定性や高リタデーション発現性を得るために十分な強度の乾燥用エンボスを獲ることができるという効果を奏する。

請求項４の発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムであって、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部の多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の直径が、それぞれ２〜１０ｍｍであるもので、請求項４の発明によれば、１００℃以上の高温乾燥工程を長時間搬送されてもフィルムの寸法安定性や高リタデーション発現性を得るために十分な強度の乾燥用エンボスを獲ることができるという効果を奏する。

請求項５の発明は、請求項４に記載の光学フィルムであって、フィルム両端部に設けられた乾燥用エンボス部の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の高さの合計が、１００〜５０００μｍであるもので、請求項５の発明によれば、１００℃以上の高温乾燥工程を長時間搬送されてもフィルムの寸法安定性や高リタデーション発現性を得るために十分な強度の乾燥用エンボスを獲ることができるという効果を奏する。

請求項６の発明は、請求項４または５に記載された光学フィルムであって、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部が、乾燥用エンボス加工処理によってフィルムの部分強度を増すように変質せしめられていて、該乾燥用エンボス部の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５〜５倍となされているもので、請求項６の発明によれば、１００℃以上の高温乾燥工程を長時間搬送されてもフィルムの寸法安定性や高リタデーション発現性を得るために十分な強度の乾燥用エンボスを獲ることができるという効果を奏する。

請求項７に記載の偏光板の発明は、請求項４〜６のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムを一方の面に用いるものであるから、請求項７の偏光板の発明によれば、これを表示装置に組み込んだ場合にも、表示装置の隅で光漏れが発生することなく、いわゆるコーナームラ、額縁故障が生じないという効果を奏する。

請求項８に記載の表示装置の発明は、請求項７に記載の偏光板を用いるもので、請求項８の表示装置によれば、表示装置の隅で光漏れが発生することなく、コーナームラ、額縁故障が生じないという効果を奏する。

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明の溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂溶液（ドープ）を金属支持体上に流延して流延膜（ウェブ）を形成し、溶剤の一部を蒸発させた後に、ウェブを金属支持体から剥離する工程と、剥離したウェブを幅手方向に延伸する工程と、延伸後に乾燥したフィルムを巻き取る巻取り工程とを具備する溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法であって、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施し、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を、５〜５０％、好ましくは２０〜４０％とし、この乾燥用エンボス部付きフィルムを非駆動のフリーロールよりなる搬送ロールにより搬送しながら乾燥し、乾燥後にフィルム両端部の乾燥用エンボス部を断裁切除し、ついで、フィルムの端部に、製品用エンボス加工を施して、フィルム端部に製品用エンボス部を付与した後、製品用エンボス部を具備するフィルムを巻き取るものである。

ここで、上記フィルム圧縮残留歪率は、ＪＩＳ Ｋ ６４００−４に規定される方法で、温度１２０℃、時間３０分で、５０％歪にて測定した値をいう。

上記において、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率が、５％未満であれば、エンボス部の強度が強すぎるために高温乾燥工程での搬送時に幅方向のフィルムの搬送ロールへの接触度合いに差が生じるため、シワやツレが発生するので、好ましくない。また、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率が、５０％を超えると、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。

なお、圧縮残留歪率の調整方法としては、乾燥用エンボス温度、乾燥工程温度、乾燥工程通過時間、フィルム樹脂ガラス転移温度（Ｔｇ）、乾燥用エンボス高さ、乾燥用エンボス密度（間隔）を調整することで、変更可能である。

本発明による光学フィルムの製造方法においては、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、フィルム端部を上下両側より挟圧しかつ多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する左右一対ずつの乾燥用エンボス刻印リングを用い、これらの乾燥用エンボス刻印リングが互いに噛み合うことでフィルム端部を変形させて乾燥用エンボス部を付与することが好ましい。

また、本発明光学フィルムの製造方法では、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、乾燥用エンボス刻印ロールの表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃〜Ｔｇ＋８０℃の温度範囲で加工することが好ましい。

上記において、乾燥用エンボス刻印ロールの表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃未満であれば、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。また、乾燥用エンボス刻印ロールの表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋８０℃を超えると、エンボスリングと接触しているフィルムの表面が溶融しフィルムとエンボスリングが離れる際に樹脂の糸引きや皮膜が生じ異物となるので、好ましくない。

さらに、本発明の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部の多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の直径が、それぞれ２〜１０ｍｍであることが好ましい。

上記において、凹凸部の直径が、２ｍｍ未満であれば、凹凸の界面で穴あきや破れが生じそれがきっかけで異物を生じたり、最悪の場合はフィルムを破断させてしまい生産を停止させてしまうので、好ましくない。また、各凹凸部の直径が、１０ｍｍを超えると、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。

また、本発明の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは、フィルム両端部に設けられた乾燥用エンボス部の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の高さの合計が、１００〜５０００μｍであることが好ましい。

上記において、凹凸部の高さの合計が、１００μｍ未満であれば、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。また、凹凸部の高さの合計が、５０００μｍを超えると、エンボス部の強度が強すぎるために高温乾燥工程での搬送時に幅方向のフィルムの搬送ロールへの接触度合いに差が生じるため、シワやツレが発生するのでので、好ましくない。

また、本発明の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部が、乾燥用エンボス加工処理によってフィルムの部分強度を増すように変質せしめられていて、該乾燥用エンボス部の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５〜５倍となされていることが好ましい。

上記において、乾燥用エンボス部の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５倍未満であれば、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。また、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、５倍を超えると、エンボスリングと接触しているフィルムの表面が溶融しフィルムとエンボスリングが離れる際に樹脂の糸引きや皮膜が生じ異物となるので、好ましくない。

以下、本発明について詳述する。

本発明の光学フィルムの製造方法においては、フィルム材料として、種々の樹脂を用いることができるが、中でもセルロースエステルが好ましい。

セルロースエステルは、セルロース由来の水酸基がアシル基などで置換されたセルロースエステルである。例えば、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどのセルロースアシレートや、脂肪族ポリエステルグラフト側鎖を有するセルロースアセテートなどが挙げられる。中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、脂肪族ポリエステルグラフト側鎖を有するセルロースアセテートが好ましい。本発明の効果を阻害しない範囲であれば、その他の置換基が含まれていてもよい。

セルローストリアセテートの例としては、アセチル基の置換度が２．０以上３．０以下であることが好ましい。置換度をこの範囲にすることで、良好な成形性が得られ、かつ所望の面内リタデーション（Ｒｏ）、及び厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を得ることができるのである。アセチル基の置換度が、この範囲より低いと、位相差フィルムとしての耐湿熱性、特に湿熱下での寸法安定性に劣る場合があり、置換度が大きすぎると、必要なリタデーション特性が発現しなくなる場合がある。

本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。また、それらから得られたセルロースエステルは、それぞれ任意の割合で混合使用することができる。

本発明において、セルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。さらに７００００〜２０００００が好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルは、Ｍｗ／Ｍｎ比が１．４〜３．０が好ましく、さらに好ましくは１．４〜２．３である。

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。

測定条件は以下の通りである。

溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工株式会社製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１重量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所株式会社製）
流量：１．０ｍｌ／分
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー株式会社製）Ｍｗ＝１，０００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

セルロースエステルの総アシル基置換度は２．３〜２．９が用いられ、２．６〜２．９が好ましく用いられる。総アシル基置換度はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

本発明において、セルロースエステルには、種々の添加剤を配合することができる。

本発明による光学フィルムの製造方法では、セルロースエステルと厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減する添加剤とを含有するドープ組成物を用いるのが、好ましい。

本発明において、光学フィルムの厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を低減することが、ＩＰＳモードで動作する液晶表示装置の視野角拡大の意味において重要であるが、本発明において、このようなリタデーション低減添加剤としては、下記のものが挙げられる。

一般に、光学フィルムのリタデーションは、セルロースエステル由来のリタデーションと、添加剤由来のリタデーションの和として現れる。従って、セルロースエステルのリタデーションを低減させるための添加剤とは、セルロースエステルの配向を乱し、かつ自身が配向しにくいおよび／または分極率異方性が小さい添加剤が厚み方向リタデーション（Ｒｔ）を効果的に低下させる化合物である。従って、セルロースエステルの配向を乱すための添加剤としては、芳香族系化合物より、脂肪族系化合物が好ましい。

ここで、具体的なリタデーション低減剤として、例えば、つぎの一般式（１）または（２）で表わされるポリエステルが挙げられる。

一般式（１） Ｂ_１−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ_１
一般式（２） Ｂ_２−（Ｇ−Ａ−）ｎＧ−Ｂ_２
上記式中、Ｂ_１はモノカルボン酸成分を表わし、Ｂ_２はモノアルコール成分を表わし、Ｇは２価のアルコール成分を表わし、Ａは２塩基酸成分を表わし、これらによって合成されたことを表わす。Ｂ_１、Ｂ_２、Ｇ、およびＡは、いずれも芳香環を含まないことが特徴である。ｍ、ｎは、繰り返し数を表わす。

Ｂ_１で表わされるモノカルボン酸成分としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることができる。

好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。酢酸を含有させると、セルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましいモノカルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

Ｂ_２で表わされるモノアルコール成分としては、、特に制限はなく、公知のアルコール類を用いることができる。例えば炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１２である
ことが特に好ましい。

Ｇで表わされる２価のアルコール成分としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。例えばエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等を挙げることができるが、これらのうち、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールが好ましく、さらに、１，３−プロピレングリコール、、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールが好ましく用いられる。

Ａで表わされる２塩基酸（ジカルボン酸）成分としては、脂肪族２塩基酸、脂環式２塩基酸が好ましく、例えば脂肪族２塩基酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等、特に、脂肪族カルボン酸としては、炭素数４〜１２を有するもの、これらから選ばれる少なくとも１つのものを使用する。つまり、２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用してよい。

上記の一般式（１）または（２）における繰り返し数ｍ、ｎは、１以上で１７０以下が好ましい。

ポリエステルの重量平均分子量は、２００００以下が好ましく、１００００以下であることがさらに好ましい。特に重量平均分子量が５００〜１００００のポリエステルは、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜において蒸発も揮発も起こらない。

ポリエステルの重縮合は常法によって行なわれる。例えば上記２塩基酸とグリコールの直接反応、上記の２塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば２塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、あるいはこれらの酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により用意に合成し得るが、重量平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応によるのが、好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルは、セルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に富んだセルロースエステルフィルムを得ることができる。

分子量の調節方法は、特に制限がなく、従来の方法を使用できる。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸または１価のアルコールで分子末端を封鎖する方法により、これらの１価のものの添加する量によりコントロールできる。この場合、１価の酸がポリマーの安定性から好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸等を挙げることができるが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して、このような１価の酸を反応系外に除去するときに溜去しやすいものが選ばれる。これらを混合使用しても良い。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることよっても重量平均分子量を調節できる。その他、仕込むグリコールまたは２塩基酸のモル数を偏らせることよってもできるし、反応温度をコントロールしても調節できる。

上記一般式（１）または（２）で表わされるポリエステルは、セルロースエステルに対し、１〜４０重量％含有するとが好ましい。特に５〜１５重量％含有するとが好ましい。

本発明において、リタデーション低減添加剤としては、さらに下記のものが挙げられる。

本発明の光学フィルムの製造に使用するドープは、主に、セルロースエステル、リタデーション低減添加剤としてのポリマー（エチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマー）、及び有機溶媒を含有する。

本発明において、リタデーション低減添加剤としてのポリマーを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量をあまり大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、さらに特開２０００−１２８９１１号公報または特開２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、あるいは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、該公報に記載の方法が好ましい。

本発明において、有用なリタデーション低減添加剤としてのポリマーを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。

エチレン性不飽和モノマーを重合して得られるリタデーション低減添加剤としてのポリマーを構成するエチレン性不飽和モノマー単位としては、まず、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等が挙げられる。

つぎに、アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル等；メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものが挙げられる。

さらに、不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。

上記モノマーで構成されるポリマーはコポリマーでもホモポリマーでもよく、ビニルエステルのホモポリマー、ビニルエステルのコポリマー、ビニルエステルとアクリル酸またはメタクリル酸エステルとのコポリマーが好ましい。

本発明において、アクリル系ポリマーという（単にアクリル系ポリマーという）のは、芳香環あるいはシクロヘキシル基を有するモノマー単位を有しないアクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーを指す。

芳香環及びシクロヘキシル基を有さないアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。

アクリル系ポリマーは、上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０重量％以上を有していることが好ましく、また、メタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０重量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。

上述のエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマーは、いずれもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。

本発明において、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマーの場合はホモポリマーではなく、コポリマーの構成単位である。この場合、好ましくは、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位がアクリル系ポリマー中２〜２０重量％含有することが好ましい。

本発明の光学フィルムの製造方法においては、ドープ組成物が、セルロースエステルと、リタデーション低減添加剤としての重量平均分子量５００以上３０００以下のアクリル系ポリマーとを含有することが好ましい。

また、本発明の光学フィルムの製造方法においては、ドープ組成物が、セルロースエステルと、リタデーション低減添加剤としての重量平均分子量５０００以上３００００以下のアクリル系ポリマーとを含有するが好ましい。

本発明において、リタデーション低減添加剤としてのポリマーの重量平均分子量が５００以上３０００以下、あるいはまたポリマーの重量平均分子量が５０００以上３００００以下のものであれば、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜中において蒸発も揮発も起こらない。また、製膜後の光学フィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。

本発明において、リタデーション低減添加剤として、側鎖に水酸基を有するポリマーも好ましく用いることができる。水酸基を有するモノマー単位としては、前記したモノマーと同様であるが、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル及びメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルである。ポリマー中に水酸基を有するアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルモノマー単位はポリマー中２〜２０重量％含有することが好ましく、より好ましくは２〜１０重量％である。

前記のようなポリマーが上記の水酸基を有するモノマー単位を２〜２０重量％含有したものは、勿論、セルロースエステルとの相溶性、保留性、寸法安定性が優れ、透湿度が小さいばかりでなく、偏光板用保護フィルムとしての偏光子との接着性に特に優れ、偏光板の耐久性が向上する効果を有している。

また、本発明においては、上記ポリマーの主鎖の少なくとも一方の末端に水酸基を有することが好ましい。主鎖末端に水酸基を有するようにする方法は、特に主鎖の末端に水酸基を有するようにする方法であれば限定ないが、アゾビス（２−ヒドロキシエチルブチレート）のような水酸基を有するラジカル重合開始剤を使用する方法、２−メルカプトエタノールのような水酸基を有する連鎖移動剤を使用する方法、水酸基を有する重合停止剤を使用する方法、リビングイオン重合により水酸基を末端に有するようにする方法、特開２０００−１２８９１１号公報または特開２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、あるいは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等により得ることができ、特に該公報に記載の方法が好ましい。この公報記載に関連する方法で作られたポリマーは、綜研化学社製のアクトフロー・シリーズとして市販されており、好ましく用いることができる。

上記の末端に水酸基を有するポリマー及び／または側鎖に水酸基を有するポリマーは、本発明において、セルロースエステルに対するポリマーの相溶性、透明性を著しく向上する効果を有する。

本発明において、有用なリタデーション低減添加剤としては、上記のほかにも、例えば特開２０００−６３５６０号公報記載のジグリセリン系多価アルコールと脂肪酸とのエステル化合物、特開２００１−２４７７１７号公報記載のヘキソースの糖アルコールのエステルまたはエーテル化合物、特開２００４−３１５６１３号公報記載のリン酸トリ脂肪族アルコールエステル化合物、特開２００５−４１９１１号公報記載の一般式（１）で表わされる化合物、特開２００４−３１５６０５号公報記載のリン酸エステル化合物、特開２００５−１０５１３９号公報記載のスチレンオリゴマー、および特開２００５−１０５１４０号公報記載のスチレン系モノマーの重合体が挙げられる。

上述したリタデーション低減添加剤の含有量は、セルロースエステル系樹脂に対して５〜２５重量％含有させることが好ましい。リタデーション低減添加剤の含有量が５重量％未満であれば、フィルムのリタデーション低減効果が発現しないので、好ましくない。またリタデーション低減添加剤の含有量が２５重量％を超えると、いわゆるブリードアウトが生じるなど、フィルム中の安定性が低下するので、好ましくない。

本発明による光学フィルムの製造方法において、上記セルロース誘導体に対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。

良溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル及び塩化メチレンが好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０重量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることで、ウェブ（金属支持体上にセルロース誘導体のドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）をゲル化させ、ウェブを丈夫にして、金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロース誘導体の溶解を促進したりする役割もある。

炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないことなどからエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロース誘導体に対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。

このような条件を満たす好ましい高分子化合物であるセルロース誘導体を高濃度に溶解する溶剤として最も好ましい溶剤は塩化メチレン：エチルアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。あるいは、酢酸メチル：エチルアルコール６０：４０〜９５：５の混合溶媒も好ましく用いられる。

本発明におけるフィルムには、フィルムに加工性・柔軟性・防湿性を付与する可塑剤、フィルムに滑り性を付与する微粒子（マット剤）、紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤等を含有させても良い。

本発明において使用する可塑剤としては、特に限定はないが、フィルムにヘイズを発生させたり、フィルムからブリードアウトあるいは揮発しないように、セルロース誘導体や加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物の重縮合物と、水素結合などによって相互作用可能である官能基を有していることが好ましい。

このような官能基としては、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられるが、好ましくはカルボニル基、エステル基、ホスホニル基である。

このような可塑剤の例として、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることができるが、特に好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等の非リン酸エステル系可塑剤である。

多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

本発明に用いられる多価アルコールは、つぎの一般式（１）で表される。

一般式（１） Ｒ_１−（ＯＨ）ｎ
（ただし、Ｒ_１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す）
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

好ましい多価アルコールの例としては、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。

好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることがさらに好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させると、セルロース誘導体との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。

多価アルコールエステルの分子量は、特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが、さらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロース誘導体との相溶性の点では、小さい方が好ましい。

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

グリコレート系可塑剤は、特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤を、好ましく用いることができる。好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を用いることができる。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を用いることができるが、本発明では、リン酸エステル系可塑剤を実質的に含有しないことが好ましい。

ここで、「実質的に含有しない」とは、リン酸エステル系可塑剤の含有量が１重量％未満、好ましくは０．１重量％であり、特に好ましいのは添加していないことである。

これらの可塑剤は、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。

可塑剤の使用量は、１〜２０重量％が好ましい。６〜１６重量％がさらに好ましく、特に好ましくは８〜１３重量％である。可塑剤の使用量が、セルロース誘導体に対して１重量％未満では、フィルムの透湿度を低減させる効果が少ないため、好ましくなく、２０重量％を越えると、フィルムから可塑剤がブリードアウトし、フィルムの物性が劣化するため、好ましくない。

本発明におけるセルロース誘導体には、滑り性を付与するために、マット剤等の微粒子を添加するのが好ましい。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。

無機化合物の微粒子の例としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、ケイ素原子を含有する化合物の微粒子であることが好ましく、特に二酸化ケイ素微粒子が好ましい。二酸化ケイ素微粒子としては、例えばアエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられる。

有機化合物の微粒子の例としては、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素化合物樹脂、ウレタン樹脂等の微粒子が挙げられる。

微粒子の１次粒径は、特に限定されないが、最終的にフィルム中での平均粒径は、０．０５〜５．０μｍ程度が好ましい。さらに好ましくは、０．１〜１．０μｍである。

微粒子の平均粒径は、セルロースエステルフィルムを電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察した際に、フィルムの観察場所における、粒子の長軸方向の長さの平均値を指す。フィルム中で観察される粒子であれば、１次粒子であっても、１次粒子が凝集した２次粒子であってもよいが、通常観察される多くは２次粒子である。

測定方法の一例としては、１つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面写真を撮影し、各断面写真について、長軸長さが、０．０５〜５μｍの範囲にある１００μｍ^２中の粒子個数をカウントする。このときカウントした粒子の長軸長さの平均値を求め、１０箇所の平均値を平均した値を平均粒径とする。

微粒子の場合は、１次粒径、溶媒に分散した後の粒径、フィルムに添加されたの粒径が変化する場合が多く、重要なのは、最終的にフィルム中で微粒子がセルロースエステルと複合し凝集して形成される粒径をコントロールすることである。

ここで、微粒子の平均粒径が、５μｍを超えた場合は、ヘイズの劣化等が見られたり、異物として巻状態での故障を発生する原因にもなる。また、微粒子の平均粒径が、０．０５μｍ未満の場合は、フィルムに滑り性を付与するのが難しくなる。

上記の微粒子は、セルロースエステルに対して、０．０４〜０．５重量％添加して使用される。好ましくは、０．０５〜０．３重量％、さらに好ましくは０．０５〜０．２５重量％添加して使用される。微粒子の添加量が０．０４重量％以下では、フィルム表面粗さが平滑になりすぎて、摩擦係数の上昇によりブロッキングを発生する。微粒子の添加量が０．５重量％を超えると、フィルム表面の摩擦係数が下がりすぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低く、ヘイズが高くなるため、液晶表示装置用フィルムとしての価値を持たなくなるので、上記の範囲が必須である。

微粒子の分散は、微粒子と溶剤を混合した組成物を高圧分散装置で処理することが好ましい。本発明で用いる高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。

高圧分散装置で処理することにより、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９８０Ｎ／ｃｍ^２以上であることが好ましい。さらに好ましくは、装置内部の最大圧力条件が１９６０Ｎ／ｃｍ^２以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／ｓｅｃ以上に達するもの、伝熱速度が１００ｋｃａｌ／ｈｒ以上に達するものが、好ましい。

上記のような高圧分散装置としては、例えばMicrofluidics Corporation社製の超高圧ホモジナイザー（商品名マイクロフルイダイザー）あるいはナノマイザー社製ナノマイザーが挙げられ、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモゲナイザーなどが挙げられる。

本発明において、微粒子は、低級アルコール類を２５〜１００重量％含有する溶剤中で分散した後、セルロースエステル（セルロース誘導体）を溶剤に溶解したドープと混合し、該混合液を金属支持体上に流延し、乾燥して製膜することを特徴とするセルロースエステルフィルムを得る。

ここで、低級アルコールの含有比率としては、好ましくは５０〜１００重量％、さらに好ましくは７５〜１００重量％である。

また、低級アルコール類の例としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。

低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

微粒子は、溶媒中で１〜３０重量％の濃度で分散される。これ以上の濃度で分散すると、粘度が急激に上昇し、好ましくない。分散液中の微粒子の濃度としては、好ましく、５〜２５重量％、さらに好ましくは、１０〜２０重量％である。

フィルムの紫外線吸収機能は、液晶の劣化防止の観点から、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルムに付与されていることが好ましい。このような紫外線吸収機能は、紫外線を吸収する材料をセルロース誘導体中に含ませても良く、セルロース誘導体からなるフィルム上に紫外線吸収機能のある層を設けてもよい。

本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。

紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明において、有用な紫外線吸収剤の具体例としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、紫外線吸収剤の市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を、好ましく使用できる。

また、本発明において使用し得る紫外線吸収剤であるベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されない。

本発明において、これらの紫外線吸収剤の配合量は、セルロースエステル（セルロース誘導体）に対して、０．０１〜１０重量％の範囲が好ましく、さらに０．１〜５重量％が好ましい。紫外線吸収剤の使用量が少なすぎると、紫外線吸収効果が不充分の場合があり、紫外線吸収剤の多すぎると、フィルムの透明性が劣化する場合があるので、好ましくない。紫外線吸収剤は熱安定性の高いものが好ましい。

また、本発明の光学フィルムに用いることのできる紫外線吸収剤は、特開平６−１４８４３０号公報及び特開２００２−４７３５７号公報に記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）を好ましく用いることができる。とりわけ特開平６−１４８４３０号公報に記載の一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは特開２００２−４７３５７号公報に記載の一般式（３）（６）（７）で表される高分子紫外線吸収剤が、好ましく用いられる。

酸化防止剤は、一般に、劣化防止剤ともいわれるが、光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルム中に含有させるのが好ましい。すなわち、液晶画像表示装置などが高湿高温の状態に置かれた場合には、光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルムの劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えばフィルム中の残留溶媒中のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸などによりフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させるのが好ましい。

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。

これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して重量割合で１ｐｐｍ〜１．０重量％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。

以下、本発明による光学フィルムの製造方法について詳しく述べる。フィルムは、溶液流延製膜方法により作製できる。

図１は、溶液流延製膜法による本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の具体例を示すフローシートである。なお、本発明の実施にあたっては、図１のプロセスに限定されるものではない。

本発明の溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂溶液（ドープ）を金属支持体（１）上に流延して流延膜（ウェブ）を形成し、溶剤の一部を蒸発させた後に、ウェブ（１０）を金属支持体（１）から剥離する工程と、剥離したウェブ（１０）をテンター（４）により幅手方向に延伸する工程と、延伸後のフィルムを巻き取る巻取り工程とを具備している。

本発明の光学フィルムの製造方法では、ウェブ（フィルム）（１０）の延伸工程を経た後に、図１と図２に示すように、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施し、図３と図４に示すように、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部（２０）を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）のフィルム圧縮残留歪率を、０〜５０％とし、この乾燥用エンボス部（２０）付きフィルム（１０）を、非駆動のフリーロールよりなる搬送ロール（８）により搬送しながら乾燥し、乾燥後にフィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）を断裁切除し、ついで、フィルムの端部に、製品用エンボス加工を施して、フィルム端部に製品用エンボス部を付与した後、製品用エンボス部を具備するフィルム（Ｆ）を巻き取ることを特徴としている。

以下に、本発明の方法を詳述する。

まず、図示しない溶解釜において、熱可塑性樹脂、例えばセルロースエステル系樹脂を、良溶媒及び貧溶媒の混合溶媒に溶解し、これに上記の可塑剤や紫外線吸収剤等の添加剤を添加して樹脂溶液（ドープ）を調製する。

ついで、溶解釜で調整されたドープを、例えば加圧型定量ギヤポンプを通して、導管によって流延ダイ（２）に送液し、図１に示す無限に移送する回転駆動ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる金属製支持体（１）上の流延位置に、流延ダイ（２）からドープを流延する。

なお、図示は省略したが、例えば加圧型定量ギヤポンプを通して流延ダイ（２）に送液されたドープを、流延ダイ（２）からハードクロム鍍金により鏡面処理された表面を有するステンレス鋼製回転の冷却ドラム上に流延しても、良い。

流延ダイ（２）によるドープの流延には、流延されたドープ膜（ウェブ）をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、あるいは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調製でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。

なお、流延ダイ（２）としては、口金部分のスリット形状を調製でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。

本発明による光学フィルムの製造方法では、セルロースエステル溶液（ドープ）の固形分濃度が、２０〜３０重量％であるのが、好ましい。

ここで、セルロースエステル溶液（ドープ）の固形分濃度が、２０重量％未満であれば、金属支持体（１）上で充分な乾燥ができず、剥離時にドープ膜の一部が金属支持体（１）上に残り、ドラム汚染につながるため、好ましくない。また固形分濃度が３０％を超えると、ドープ粘度が高くなり、ドープ調整工程でフィルター詰まりが早くなったり、金属支持体（１）上への流延時に圧力が高くなり、押し出せなくなるため、好ましくない。

金属製支持体（１）として回転駆動エンドレスベルトを具備する図示の製膜装置では、該ベルト金属製支持体（１）は一対のドラムおよびその中間に配置されかつエンドレスベルト金属製支持体（１）の上部移行部及び下部移行部をそれぞれ裏側より支えている複数のロール（図示略）より構成される。

回転駆動エンドレスベルト金属製支持体（１）の両端巻回部のドラムの一方、もしくは両方に、ベルト金属製支持体（１）に張力を付与する駆動装置が設けられ、これによってベルト金属製支持体（１）は張力が掛けられて張った状態で使用される。図示は省略したが、金属支持体はドラム方式でも構わない。

また、本発明の光学フィルムの製造方法においては、金属支持体の幅は１８００〜３０００ｍｍ、セルロースエステル溶液の流延幅は１７５０〜２８００ｍｍ、巻き取り後のフィルムの幅は１０００〜２５００ｍｍである。これにより、金属支持体方式によって幅の広い液晶表示装置用セルロースエステルフィルムを製造することができるものである。

ここで、金属支持体（１）の幅、セルロースエステル溶液の流延幅、および巻き取り後のフィルムの幅が、それぞれ上記の下限値未満では、近年の液晶表示装置の大型化には、対応することができず、また、金属支持体（１）の幅、セルロースエステル溶液の流延幅、および巻き取り後のフィルムの幅が、それぞれ上限値を超えると、剥離後のフィルムの残留溶媒量が多い状態で、後述する延伸工程のテンター入り口でフィルムが垂れ下がり、幅手の伸びにムラが生じ、リタデーションのばらつきが大きくなり、好ましくない。また垂れ下がったフィルムがテンターのガイドに当たり、フィルムが破断し生産をとめてしまう場合もある。

また、本発明の光学フィルムの製造方法では、金属支持体（１）の周速度が５０〜２００ｍ／ｍｉｎであるのが、好ましい。

すなわち、薄膜フィルムでは、乾燥する溶剤量が少なくてすむため、金属支持体（１）の周速度を従来のドラム周速度より速くすることにより、フィルムの生産速度アップが可能で、セルロースエステルフィルムの生産性を増大することができる。

金属製支持体（１）としてエンドレスベルトを用いる場合には、製膜時のベルト温度は、一般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度、混合溶剤では最も沸点の低い溶剤の沸点未満の温度で流延することができ、さらには５℃〜溶剤沸点−５℃の範囲が、より好ましい。このとき、周囲の雰囲気湿度は露点以上に制御する必要がある。

上記のようにして金属支持体（１）表面に流延されたドープは、冷却ゲル化によりゲル膜の強度（フイルム強度）が増加して、さらに剥ぎ取りまでの間で乾燥が促進されることによってもゲル膜の強度（フイルム強度）が増加する。

また、製膜速度を上げるために、加圧流延ダイ（２）を流延用金属製支持体（１）上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層製膜してもよい。

金属製支持体（１）としてエンドレスベルトを用いる方式においては、金属製支持体（１）上では、ウェブ（１０）が金属製支持体（１）から剥離ロール（３）によって剥離可能な膜強度となるまで乾燥固化させるため、ウェブ（１０）中の残留溶媒量が１５０重量％以下まで乾燥させるのが好ましく、８０〜１２０重量％が、より好ましい。また、金属製支持体（１）からウェブ（１０）を剥離するときのウェブ温度は、０〜３０℃が好ましい。また、ウェブ（１０）は、金属製支持体（１）からの剥離直後に、金属製支持体（１）密着面側からの溶媒蒸発で温度が一旦急速に下がり、雰囲気中の水蒸気や溶剤蒸気など揮発性成分がコンデンスしやすいため、剥離時のウェブ温度は５〜３０℃がさらに好ましい。

ここで、残留溶媒量は、下記の式で表わせる。

残留溶媒量（重量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
式中、Ｍは、フィルムの任意時点での重量、Ｎは、重量Ｍのものを１１０℃で３時間乾燥させた後の重量を表わす。

エンドレスベルト金属製支持体（１）上に流延されたドープにより形成されたドープ膜（ウェブ）を、金属製支持体（１）上で加熱し、金属製支持体（１）から剥離ロール（３）によってウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法、及び／または金属製支持体（１）の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等がある。

金属製支持体（１）にエンドレスベルトを用いる方式においては、金属製支持体（１）とウェブ（１０）を剥離ロール（３）によって剥離する際の剥離張力は、通常１００Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍで剥離が行なわれるが、従来よりも薄膜化されている本発明により作製された光学フィルムでは、剥離の際にウェブ（１０）の残留溶媒量が多く、搬送方向に伸びやすいために、幅手方向にフィルムは縮みやすく、乾燥と縮みが重なると、端部がカールし、折れ込むことにより、シワが入りやすいため、剥離できる最低張力〜１７０Ｎ／ｍで剥離することが好ましく、さらに好ましくは、最低張力〜１４０Ｎ／ｍで剥離することである。

金属支持体（１）上でウェブ（１０）が剥離可能な膜強度となるまで乾燥固化させた後に、ウェブ（１０）を剥離ロール（３）によって剥離する。

ついで、剥離後のウェブ（１０）を、延伸工程のテンター（４）に導入する。本発明の方法において、延伸工程におけるテンター（４）としては、ピン・テンター、およびクリップ・テンターを用いることができるが、中でも、液晶表示装置用フィルムとしては、ウェブ（またはフィルム）（１０）の両側縁部をクリップで固定して延伸するクリップテンターであることが好ましく、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。

延伸工程のテンター（４）に入る直前のウェブ（フィルム）（１０）の残留溶媒量が、１０〜５０重量％であることが好ましい。

延伸工程においては、テンター（４）の底の前寄り部分の温風吹出し手段すなわち温風吹出しスリット口から温風が吹込まれ、テンター（４）の天井の後寄り部分の排出口から排気風が排出せられることによって、ウェブ（１０）が延伸されるとともに、乾燥される。

本発明において、テンター（４）におけるウェブ（１０）の延伸率は、３〜８０％であることが好ましく、さらに６〜６０％であることが好ましい。

テンター（４）におけるウェブ（１０）の幅手方向の延伸率が３％未満であれば、最も幅広いベルトや流延幅の装置を用いても、広幅のフィルムを得ることが不可能となるので、好ましくない。またテンター（４）におけるウェブ（１０）の幅手方向の延伸率が８０％を超えると、延伸温度によってはフィルムが裂けてしまうので、好ましくない。

なお、本発明における延伸工程における温風吹出し手段とは、具体的には、延伸工程のテンター（４）の温風吹出しスリット口をいうが、温風の吹き出しによりフィルムを効率的に加熱する形状であれば、特に限定されない。温風の温度は、１６５〜１９０℃であることが好ましく、さらに１７０〜１８５℃であることが望ましい。

つぎに、延伸後のフィルム（ウェブ）（１０）は、ロール搬送乾燥装置（５）に導入する前に、図１と図２に示すように、本発明の方法により、フィルム両端部に、乾燥用エンボスリング（６）およびバックロール（７）によって乾燥用エンボス加工を施し、図３と図４に詳しく示すように、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部（２０）を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）のフィルム圧縮残留歪率を、５〜５０％、好ましくは２０〜４０％とするものである。ここで、バックロール（７）表面にはエンボスリングと同様の凹凸が設けられているのが好ましく、この凹凸が互いに噛み合うような形でエンボス処理されるのが好ましい。またバックロール（７）は乾燥用エンボスリング（６）と同様の形状で互いに凹凸部が噛み合うようなものでも構わない。

ここで、上記フィルム圧縮残留歪率は、ＪＩＳ Ｋ ６４００−４に規定される方法で、温度１２０℃、時間３０分で、５０％歪にて測定した値をいう。

上記において、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）のフィルム圧縮残留歪率が、５％未満であれば、エンボス部の強度が強すぎるために高温乾燥工程での搬送時に幅方向のフィルムの搬送ロールへの接触度合いに差が生じるため、シワやツレが発生するので、好ましくない。また、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）のフィルム圧縮残留歪率が、５０％を超えると、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。

ここで、圧縮残留歪率の測定方法は、例えばつぎの通りである。

すなわち、本発明による光学フィルムの製造方法において、ウェブ（１０）の両端部に設けた乾燥用エンボス部分をサンプリングし、所定の大きさに断裁して、サンプル試料を作製する。そして、該試料より大きな平滑なステンレス鋼製板（ＳＵＳ板）を２枚準備する。サンプル試料のエンボス部の高さ（ｔ0）を測定した後、サンプル試料を一方のＳＵＳ板の上に置くとともに、サンプル試料の高さの５０％相当分のＳＵＳ製のシックネスケージをサンプル試料の両側に置き、上からもう１枚のＳＵＳ板をのせた状態で、上側のＳＵＳ板が浮かないように重りをのせて、温度１２０℃の乾燥装置内に３０分間放置後、サンプル試料を取り出し、３０分後にサンプル試料のエンボス部の高さ（ｔ2）を測定する。圧縮残留歪率の計算方法は下記の通りである。

なおここで、圧縮残留歪とは、材料の加熱圧縮による残留歪のことをいい、この値が小さいほど、長時間圧縮したときに復元する力が高いことを表わす。

ＪＩＳ Ｋ ６２６２の規格に準拠された試験により評価した。サンプル試料に厚さの５０％に相当する圧縮歪を与えて、１２０℃の雰囲気温度で、３０分間保持した後、サンプル試料を取り出し、３０分後の厚さを測定した。圧縮残留歪率Ｃｓ（％）は、次式で表わされる。

Ｃｓ（％）＝（ｔ0−ｔ2）／（ｔ0−ｔ1）×１００
ｔ0：試験片の元の厚さ（ｍｍ）
ｔ1：スペーサの厚さ（ｍｍ）
ｔ2：試験片を圧縮装置から取り出し、３０分後の厚さ（ｍｍ）
一般的に、圧縮率及び試験温度が高いほど、残留歪は大きくなる。

つぎに、本発明による光学フィルムの製造方法においては、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、図１と図２に示すように、フィルム端部を上下両側より挟圧しかつ多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する左右一対ずつの乾燥用エンボス刻印リングよりなる乾燥用エンボス刻印ロール（６）（７）を用い、これらの乾燥用エンボス刻印リングよりなる乾燥用エンボス刻印ロール（６）（７）が互いに噛み合うことで、フィルム端部を変形させて乾燥用エンボス部（２０）を付与することが好ましい。

また、本発明光学フィルムの製造方法では、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、乾燥用エンボス刻印ロール（６）（７）の表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃〜Ｔｇ＋８０℃の温度範囲で加工することが好ましい。

上記において、乾燥用エンボス刻印ロール（６）（７）の表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃未満であれば、乾燥用エンボス部の強度が不足し、フィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。また、乾燥用エンボス刻印ロール（６）（７）の表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋８０℃を超えると、エンボスリングと接触しているフィルムの表面が溶融しフィルムとエンボスリングが離れる際に樹脂の糸引きや皮膜が生じ異物となるので、好ましくない。

さらに、本発明の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部（２０）の多数の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）の直径が、それぞれ２〜１０ｍｍであることが好ましい。

上記において、各凹凸部（２１）（２２）の直径が、２ｍｍ未満であれば、凹凸の界面で穴あきや破れが生じそれがきっかけで異物を生じたり、最悪の場合はフィルムを破断させてしまい生産を停止させてしまうのでので、好ましくない。また、各凹凸部（２１）（２２）の直径が、１０ｍｍを超えると、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。

また、本発明の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは、フィルム両端部に設けられた乾燥用エンボス部の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）の高さの合計が、１００〜５０００μｍであることが好ましい。

上記において、凹凸部（２１）（２２）の高さの合計が、１００μｍ未満であれば、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。また、凹凸部（２１）（２２）の高さの合計が、５０００μｍを超えると、エンボス部の強度が強すぎるために高温乾燥工程での搬送時に幅方向のフィルムの搬送ロールへの接触度合いに差が生じるため、シワやツレが発生するので、好ましくない。

また、本発明の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部（２０）が、乾燥用エンボス加工処理によってフィルムの部分強度を増すように変質せしめられていて、該乾燥用エンボス部（２０）の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５〜５倍となされていることが好ましい。

上記において、乾燥用エンボス部（２０）の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５倍未満であれば、乾燥用エンボス部の強度が不足しフィルムの寸法特性やリタデーションの発現性を改善するのに至らないので、好ましくない。また、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、５倍を超えると、エンボスリングと接触しているフィルムの表面が溶融しフィルムとエンボスリングが離れる際に樹脂の糸引きや皮膜が生じ異物となるので、好ましくない。

ついで、この乾燥用エンボス部（２０）付きフィルムを、乾燥装置（５）において非駆動のフリーロールよりなる搬送ロール（８）により搬送しながら乾燥する。

この乾燥装置（５）内では、５０〜１０００本の側面から見て千鳥配置せられた搬送ロール（８）によってウェブ（１０）が蛇行せられ、その間にウェブ（１０）が乾燥せられるものである。また、乾燥装置（５）でのフィルム搬送張力は、ドープの物性、剥離時及びフィルム搬送工程での残留溶媒量、乾燥装置（５）での温度等に影響を受けるが、３０〜２５０Ｎ／ｍが好ましく、６０〜１５０Ｎ／ｍがさらに好ましい。８０〜１２０Ｎ／ｍが最も好ましい。

なお、ウェブ（またはフィルム）（１０）を乾燥させる手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行なう。簡便さの点から熱風で乾燥するのが好ましく、例えば乾燥装置（５）の底の前寄り部分の温風入口から吹込まれる乾燥風によって乾燥され、乾燥装置（５）の天井の後寄り部分の出口から排気風が排出せられることによって乾燥される。乾燥風の温度は４０〜１６０℃が好ましく、５０〜１６０℃が平面性、寸法安定性を良くするため、さらに好ましい。

これら流延から最終的な後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。この場合、乾燥雰囲気を溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施することは勿論のことである。

乾燥装置（５）による乾燥後に、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）を、上下一対のスリッター（１１）（１２）により製品となる幅にスリットして、断裁切除する。

さらに、スリット後のフィルム（１０）の左右両端部に、製品用エンボスリング（１３）及びバックロール（１４）よりなる製品用ナール加工装置により製品用エンボス加工（製品用ナール加工）を施して、フィルム端部に製品用エンボス部（図示略）を付与した後、製品用エンボス部を具備するフィルム（Ｆ）を、巻取り装置（１５）によって巻き取る。

ここで、製品用エンボス部の高さｈ（μｍ）は、フィルム膜厚Ｔの０．０５〜０．３倍の範囲、幅Ｗは、フィルム幅Ｌの０．００５〜０．０２倍の範囲に設定する。製品用エンボス部は、フィルムの両面に形成してもよい。この場合、製品用エンボス部の高さｈ1＋ｈ2（μｍ）は、フィルム膜厚Ｔの０．０５〜０．３倍の範囲、幅Ｗはフィルム幅Ｌの０．００５〜０．０２倍の範囲に設定する。例えばフィルム膜厚４０μｍであるとき、製品用エンボス部の高さｈ1＋ｈ2（μｍ）は２〜１２μｍに設定する。製品用エンボス部幅は５〜３０ｍｍに設定する。

製品用エンボス部高さの下限については、フィルム間の部分的な密着ムラを防ぐために必要な高さから、一方、上限は、これ以上にすると製品用エンボス部が高すぎるため、ロール状製品形態が馬の背状に多角形状に変形し、故障を誘発するからである。

製品用エンボス部の幅については、製品用エンボス部は最終的にロス部分となるため少なくしたいが、例えば５０μｍ以内の薄膜フィルムで、５０ｍ／分以上の高速製膜時において、フィルムのすべりを抑えるための最低限必要な製品用エンボス部幅である。但し、前述の製品用エンボス部の高さともリンクしており、ピラミッド状、馬の背、多角形状、巻きずれ故障を全てクリアーする製品用エンボス部高さ×製品用エンボス部幅を決定したものである。

なお、本発明において、巻取前及び巻取部直後に除電器を設置し、フィルムを除電するのが好ましい。

除電器は、元巻を再繰り出しした際の帯電電位が±２ＫＶ以下となるように、巻取時に除電装置あるいは強制帯電装置により逆電位を与える構成で行なうことができるが、強制帯電電位が、１〜１５０Ｈｚで正負交互に変換される除電器により除電する構成とすることもできる。

また、上記の除電器に代えて、イオン風を発生させるイオナイザーや除電バーを利用することができる。ここで、イオナイザー除電は、エンボス加工装置から搬送ロールを経て巻き取られていくフィルムに向けてイオン風を吹き付けることによって行なわれる。イオン風は、除電器により発生される。除電器としては、公知のものを制限なく用いることができる。

製膜巻取り時の除電は、元巻を再繰出しして機能性膜塗工する際、帯電電位が±２ＫＶ以上あると塗布ムラを誘発するためであり、特に薄膜、高速化を追求した場合、再繰り出し時のフィルム剥離帯電が高くなるため、製膜時除電は必須となる。

巻取り装置（１５）によって巻き取るフィルムの残留溶媒量は、０．５重量％以下、好ましくは０．１重量％以下とすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。

フィルムの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。

巻取りコア（巻芯）への、フィルムの接合は、両面接着テープでも、片面接着テープでもどちらでも良い。

本発明による光学フィルムは、巻き取り後のフィルムの幅が、１０００〜２５００ｍｍであることが好ましい。

光学フィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、仕上がりのフィルムとして、本発明において使用される膜厚範囲は２０〜２００μｍで、最近の薄手傾向にとっては２０〜１２０μｍの範囲が好ましく、特に２０〜１００μｍの範囲が好ましい。なお、乾燥後のフィルム膜厚とは、フィルム中の残留溶媒量が０．５重量％以下の状態のフィルムを言うものである。

ここで、巻き取り後の光学フィルムの膜厚が薄過ぎると、例えば偏光板用保護フィルムとしての必要な強度が得られない場合がある。フィルムの膜厚が厚過ぎると、従来の光学フィルムに対して薄膜化の優位性がなくなる。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、流延ダイ（２）の口金のスリット間隙、流延ダイの押し出し圧力、金属支持体（１）の速度等をコントロールするのがよい。また、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。

本発明において、光学フィルムは、透過率が９０％以上であることが望ましく、さらに好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９３％以上である。

また、本発明の方法により製造された光学フィルムは、３枚重ねた場合のヘイズが、０．３〜２．０であるもので、本発明の光学フィルムによれば、フィルムのヘイズが非常に低いものであり、透明性、平面性に優れた光学特性を有するものである。

ここで、光学フィルムのヘイズの測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ６７１４に規定される方法に従って、ヘイズ・メーター（１００１ＤＰ型、日本電色工業株式会社製）を用いて測定すれば、良い。

また、本発明による光学フィルムの製造方法で製造されたセルロースエステルフィルムの機械方向（ＭＤ方向）の引張弾性率が、１５００ＭＰａ〜３５００ＭＰａ、機械方向に垂直な方向（ＴＤ方向）の引張弾性率が、２０００ＭＰａ〜４５００ＭＰａであるのが好ましく、フィルムのＴＤ方向弾性率／ＭＤ方向弾性率の比が、１．２０〜１．９０であるのが好ましい。

ここで、セルロースエステルフィルムのＴＤ方向弾性率／ＭＤ方向弾性率の比が、１．２０未満であれば、１６５０ｍｍを超える幅のフィルムの巻取りでは中央部のたるみが大きくなり、巻き芯のフィルムの貼り付きが多くなるため、好ましくない。また、フィルムのＴＤ方向弾性率／ＭＤ方向弾性率の比が、１．９０を超えると、偏向板での過熱後のそりが生じたり、液晶パネルに組み込んだ際にバックライトの熱によりバックライト側と表面側の偏光板の寸法変化の挙動が大きく異なることにより、コーナーにムラが生じるので、好ましくない。

フィルムのＭＤ方向、及びＴＤ方向の引張弾性率の具体的な測定方法としては、例えばＪＩＳ Ｋ７２１７の方法が挙げられる。

すなわち、引っ張り試験器（ミネベア社製、ＴＧ−２ＫＮ）を用い、チャッキング圧：０．２５ＭＰａ、標線間距離：１００±１０ｍｍで、サンプルをセットし、引っ張り速度：１００±１０ｍｍ／分の速度で引っ張る。その結果、得られた引張応力−歪み曲線から、弾性率算出開始点を１０Ｎ、終了点を３０Ｎとし、その間に引いた接線を外挿し、弾性率を算出するものである。

本発明の光学フィルムでは、下記式で定義される面内リタデーション（Ｒｏ）が、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの条件下で３０〜３００ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの条件下で７０〜４００ｎｍであることが好ましい。

Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、Ｒｏはフィルム面内リタデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表わす。

なお、リタデーション値Ｒｏ、Ｒｔは、自動複屈折率計を用いて測定することができる。例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社製）を用いて、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。

本発明の方法で製造された光学フィルムは、位相差フィルムの場合、フィルムの面内リタデーション（Ｒｏ）が、４５〜８０ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が、１００〜１５０ｎｍであり、面内リタデーション（Ｒｏ）と厚み方向リタデーション（Ｒｔ）との比：Ｒｏ／Ｒｔが、１．６〜２．６であることが好ましい。

ここで、Ｒｔ／Ｒｏの値が１．６未満になると、本発明の方法で製造された光学フィルムを、ＶＡモードのパネルに使用した場合、視野角が狭くなり、好ましくない。またＲｔ／Ｒｏの値が２．６を超えると、同様にＶＡモードパネルに使用の際、視野角が狭くなるのに加え、表示ムラの原因となりやすいので、好ましくない。

本発明の方法により製造された光学フィルムは、液晶表示用部材、詳しくは偏光板用保護フィルムに用いられるのが好ましい。特に、透湿度と寸法安定性に対して共に厳しい要求のある偏光板用保護フィルムにおいて、本発明の方法により製造された光学フィルムは好ましく用いられる。

本発明の光学フィルムからなる偏光板用保護フィルムを用いることにより、薄膜化とともに、耐久性及び寸法安定性、光学的等方性に優れた偏光板を提供することができる。

ところで、偏光フィルムは、従来から使用されている、例えば、ポリビニルアルコールフィルムのような延伸配向可能なフィルムを、沃素のような二色性染料で処理して縦延伸したものである。偏光フィルム自身では、十分な強度、耐久性がないので、一般的にはその両面に保護フィルムとしての異方性のないセルロースエステルフィルムを接着して偏光板としている。

上記偏光板には、本発明の方法により製造された光学フィルムを位相差フィルムとして貼り合わせて作製してもよいし、また本発明の方法により製造された光学フィルムを位相差フィルムと保護フィルムとを兼ねて、直接偏光フィルムと貼り合わせて作製してもよい。貼り合わせる方法は、特に限定はないが、水溶性ポリマーの水溶液からなる接着剤により行なうことができる。この水溶性ポリマー接着剤は完全鹸化型のポリビニルアルコール水溶液が好ましく用いられる。さらに、長手方向に延伸し、二色性染料処理した長尺の偏光フィルムと長尺の本発明の方法により製造された位相差フィルムとを貼り合わせることによって長尺の偏光板を得ることができる。偏光板はその片面または両面に感圧性接着剤層（例えば、アクリル系感圧性接着剤層など）を介して剥離性シートを積層した貼着型のもの（剥離性シートを剥すことにより、液晶セルなどに容易に貼着することができる）としてもよい。

このようにして得られた偏光板は、種々の表示装置に使用できる。特に電圧無印加時に液晶性分子が実質的に垂直配向しているＶＡモードや、電圧無印加時に液晶性分子が実質的に水平かつねじれ配向しているＴＮモードの液晶セルを用いた液晶表示装置が好ましい。

ところで、偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、光学フィルムあるいはセルロースエステルフィルムをアルカリケン化処理し、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中に浸漬、延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリケン化処理とは、水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるために、光学フィルムを高温の強アルカリ液中に漬ける処理のことをいう。

本発明の方法により製造された光学フィルムには、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層、帯電防止層、導電層、光学異方層、液晶層、配向層、粘着層、接着層、下引き層等の各種機能層を付与することができる。これらの機能層は塗布あるいは蒸着、スパッタ、プラズマＣＶＤ、大気圧プラズマ処理等の方法で設けることができる。

このようにして得られた偏光板が、液晶セルの片面または両面に設けられ、これを用いて、液晶表示装置が得られる。

本発明の方法により製造された光学フィルムからなる偏光板用保護フィルムを用いることにより、薄膜化とともに、耐久性及び寸法安定性、光学的等方性に優れた偏光板を提供することができる。さらに、この偏光板あるいは位相差フィルムを用いた液晶表示装置は、長期間に亘って安定した表示性能を維持することができる。

本発明の方法により製造された光学フィルムは、反射防止用フィルムあるいは光学補償フィルムの基材としても使用できる。

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。

実施例１
（ドープ組成１）
セルローストリアセテート １００重量部
（Ｍｎ＝１４８０００、Ｍｗ＝３１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１）
トリフェニルフォスフェート ８重量部
エチルフタリルエチルグリコレート ２重量部
メチレンクロライド ４４０重量部
エタノール ４０重量部
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．５重量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．５重量部
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製） ０．２重量部
上記のドープ組成１の材料を、密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過した。濾過は、フィルタープレスによる濾過の後、金属焼結フィルター（捕捉粒子径＝１０ミクロン）を通過させた。ついで、ドープを、図１に示すベルト流延装置を用い、温度３５℃で、幅２０００ｍｍのステンレスバンド支持体（１）上に幅１８００ｍｍに均一に流延した。

ステンレスバンド支持体（１）上で、残留溶媒量が１００重量％になるまで溶媒を蒸発させ、ウェブ（フィルム）（１０）をステンレスバンド支持体（１）から剥離した。ついで、テンター（４）でウェブ（１０）の幅手方向（ＴＤ方向）の両端部を把持し、ウェブ（１０）の幅手方向に延伸率６％で延伸した。なお、延伸工程のテンター（４）に入る直前のウェブ（フィルム）（１０）の残留溶媒量を、３０重量％とした。

延伸工程においては、テンター（４）の底の前寄り部分の温風吹出し手段すなわち温風吹出しスリット口から温度１８００℃で温風が吹込まれ、テンター（４）の天井の後寄り部分の排出口から排気風が排出せられることによって、ウェブ（１０）を延伸するとともに、乾燥した。

つぎに、延伸後のフィルム（ウェブ）（１０）を、ロール搬送乾燥装置（５）に導入する前に、図１と図２に示すように、本発明の方法により、フィルム両端部に、乾燥用エンボスリング（６）およびバックロール（７）によって乾燥用エンボス加工を施し、図３と図４に詳しく示すように、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部（２０）を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）のフィルム圧縮残留歪率を５％とした。

ここで、フィルム圧縮残留歪率は、ＪＩＳ Ｋ ６４００−４に規定される方法で、温度１２０℃、時間３０分で、５０％歪にて測定した値をいう。

なお、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、フィルム端部を上下両側より挟圧しかつ多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する左右一対ずつの乾燥用エンボス刻印リングよりなる乾燥用エンボス刻印ロール（６）とバックロール（７）を用い、これらの乾燥用エンボス刻印リングよりなる乾燥用エンボス刻印ロール（６）とバックロール（７）が互いに噛み合うことで、フィルム端部を変形させて乾燥用エンボス部（２０）を付与させた。

ここで、乾燥用エンボス刻印ロール（６）の表面温度は、１８０℃とした。なお、セルローストリアセテートフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、１３０℃である。なお、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１に記載の方法にて求めた。

そして、上記の方法により製造されたセルローストリアセテートフィルムは、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部（２０）の多数の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）の平均直径が、３ｍｍであった。

また、上記の方法により製造されたセルローストリアセテートフィルムは、フィルム両端部に設けられた乾燥用エンボス部の断面凸弧状の凸部（２１）と断面凹弧状の凹部（２２）の高さの合計が、３００μｍであった。

（圧縮残留歪率の測定方法）
セルローストリアセテートフィルムの乾燥用エンボス部分をサンプリングし、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに断裁して、サンプル試料を作製した。そして、該試料より大きな平滑なステンレス鋼製板（ＳＵＳ板）を２枚準備した。サンプル試料のエンボス部の高さ（ｔ0）を測定した後、サンプル試料を一方のＳＵＳ板の上に置くとともに、サンプル試料の高さの５０％相当分のＳＵＳ製のシックネスケージをサンプル試料の両側に置き、上からもう１枚のＳＵＳ板をのせた状態で、上側のＳＵＳ板が浮かないように重りをのせて、温度１２０℃の乾燥装置内に３０分間放置後、サンプル試料を取り出し、３０分後にサンプル試料のエンボス部の高さ（ｔ2）を測定した。圧縮残留歪率の計算方法は下記の通りである。

なおここで、圧縮残留歪とは、材料の加熱圧縮による残留歪のことをいい、この値が小さいほど、長時間圧縮したときに復元する力が高いことを表わす。

ＪＩＳ Ｋ ６２６２の規格に準拠された試験により評価した。サンプル試料に厚さの５０％に相当する圧縮歪を与えて、１２０℃の雰囲気温度で、３０分間保持した後、サンプル試料を取り出し、３０分後の厚さを測定した。圧縮残留歪率Ｃｓ（％）は、次式で表わされる。

Ｃｓ（％）＝（ｔ0−ｔ2）／（ｔ0−ｔ1）×１００
ｔ0：試験片の元の厚さ（ｍｍ）
ｔ1：スペーサ（シックネスゲージのＳＵＳ板）の厚さ（ｍｍ）
ｔ2：試験片を圧縮装置から取り出し、３０分後の厚さ（ｍｍ）
上記の計算式から、セルローストリアセテートフィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）のフィルム圧縮残留歪率は、５％であった。

また、上記の方法により製造されたセルローストリアセテートフィルムは、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部（２０）が、乾燥用エンボス加工処理によってフィルムの部分強度を増すように変質せしめられていて、該乾燥用エンボス部（２０）の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、ヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、５．０倍となされていた。

ついで、この乾燥用エンボス部（２０）付きフィルムを、ロール搬送乾燥装置（５）において表面粗さ（Ｒｍａｘ）０．８μｍの鏡面搬送ロール（面長２２００ｍｍ、径１１０ｍｍ）よりなる５００本の非駆動のフリーロールによって構成される搬送ロール（８）により搬送しながら乾燥した。乾燥装置（５）でのフィルム搬送張力は、８０Ｎ／ｍがとした。

乾燥装置（５）では、これの底の前寄り部分の温風入口から吹込まれる温度１２０℃の乾燥風によって乾燥させた。

乾燥装置（５）による乾燥後に、フィルム両端部の乾燥用エンボス部（２０）を、上下一対のスリッター（１１）（１２）により製品となる幅にスリットして、断裁切除した。

ついで、スリット後のフィルム（１０）の左右両端部に、製品用エンボスリング（１３）及びバックロール（１４）によって製品用エンボス加工（製品用ナール加工）を施して、フィルム端部に１０ｍｍ幅の製品用エンボス部（図示略）を付与した後、製品用エンボス部を具備する最終製品幅１４９０ｍｍ、および膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（Ｆ）を、巻取り装置（１５）によって巻き取った。このフィルムは、偏光板保護フィルムとして使用するものである。

（寸法変化率）
こうして得られたセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率をつぎのようにして算出した。すなわち、セルローストリアセテートフィルム試料の表面の搬送方向（ＭＤ方向）の２箇所に、十文字形の印を付し、熱処理（条件：温度８０℃、湿度９０％ＲＨ、および２００時間）を施した後、顕微鏡で、両印間の距離を測定した。

熱処理前の距離をａ1とし、熱処理後の距離をａ2として、下記式でセルローストリアセテートフィルムの寸法変化率を算出し、得られた結果を下記の表１にあわせて示した。

寸法変化率（％）＝（ａ1−ａ2）／ａ1×ｌ００
なお、下記の表１には、ドープ組成、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、ヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比、乾燥用エンボス処理の温度をまとめて示した。

実施例２〜４
上記実施例１の場合と同様に、ドープ組成１を用いて、最終製品幅１４９０ｍｍのセルローストリアセテートフィルムを作製するが、上記実施例１の場合とは、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、ヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比、乾燥用エンボス処理の温度が、表１に示すように、異なる条件設定を行なった。

そして、得られた実施例２〜４のセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率を、実施例１の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表１にあわせて示した。

実施例５
上記実施例１の場合と同様に、ドープ組成１を用いて、セルローストリアセテートフィルムを作製するが、ここで、上記実施例１の場合と異なる点は、ドープをステンレスバンド支持体（１）上に幅１９００ｍｍに均一に流延し、かつテンター（４）でウェブ（１０）の幅手方向（ＴＤ方向）の両端部を把持し、ウェブ（１０）の幅手方向に延伸率３５％で延伸することにより、最終製品幅２２００ｍｍ、および膜厚４５μｍのセルローストリアセテートフィルムを作製した点にある。

そして、得られた実施例５のセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率を、実施例１の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表１に示した。

また、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、およびヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比を算出し、乾燥用エンボス処理の温度、および製品幅と共に、下記の表１にあわせて示した。

比較例１〜５
比較のために、上記実施例１〜５の場合と同様に、ドープ組成１を用いて、セルローストリアセテートフィルムを作製するが、上記実施例１〜５の場合と異なる点は、比較例１〜５では、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を、表１に示すように、本発明の範囲外である６０〜１００％とした点にある。

そして、得られた比較例１〜５のセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率を、実施例１の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表１に示した。

また、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、およびヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比を算出し、乾燥用エンボス処理の温度、および製品幅と共に、下記の表１にあわせて示した。

比較例６
比較のために、上記実施例１の場合と同様に、ドープ組成１を用いて、セルローストリアセテートフィルムを作製するが、上記実施例１の場合と異なる点は、比較例６では、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施すことなく、乾燥する、従来法によりセルローストリアセテートフィルムを作製した点にある。

そして、得られた比較例６のセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率を、実施例１の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表１に示した。

上記表１の結果から明らかなように、本発明の実施例１〜５で作製したセルローストリアセテートフィルムによれば、乾燥工程において、圧縮残留歪が５〜５０％の乾燥用エンボス部を幅手方向の両端部に有するフィルムを搬送することにより、搬送ロールに接触している以外のフィルム部分の乾燥による収縮が抑えられ、いずれも寸法変化率が小さく、寸法安定性が良化するものであった。

これに対し、比較例１〜６のセルローストリアセテートフィルムでは、いずれも寸法変化率が、実施例１〜５で作製したセルローストリアセテートフィルムに比べて、大きく、寸法安定性が劣るものであった。

なお、比較例３で作製したセルロースエステルフィルムでは、擦り傷が発生したため、フィルム幅手方向中間部のヘイズ値が上昇し、このような擦り傷が発生したフィルムは、光学フィルム製品としては使用できないレベルであった。

実施例６〜９
上記実施例１〜４の場合と同様にして、最終製品幅１４９０ｍｍ、および膜厚８０μｍの光学フィルムを作製するが、上記実施例１の場合と異なる点は、下記のドープ組成２を用いて、位相差フィルム用のセルロースアセテートプロピオネートを製造した点にある。

（ドープ組成２）
セルロースアセテートプロピオネート
（アセチル基置換度＋プロピオニル基置換度＝２．４５、
Ｍｎ＝６００００、Ｍｗ＝１８００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．００）
トリフェニルフォスフェート ８重量部
エチルフタリルエチルグリコレート ２重量部
メチレンクロライド ３６０重量部
エタノール ６０重量部
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．５重量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ０．５重量部
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製） ０．２重量部
そして、得られた実施例６〜９のセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率を、実施例１の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表２にあわせて示した。

また、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、ヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比を算出し、乾燥用エンボス処理の温度、および製品幅と共に、下記の表２にあわせて示した。

（Ｒｔ／Ｒｏの比）
こうして得られた実施例６〜９のセルロースアセテートプロピオネートフィルムについて、面内リタデーション（Ｒｏ）／厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の比：Ｒｔ／Ｒｏをつぎのようにして算出した。

温度２３℃、湿度５５％ＲＨの環境下に、２４時間放置したフィルムを用いて、同環境下で、波長が５９０ｎｍにおけるフィルムのリターデーションを自動複屈折計 ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社製）で求めた。

アッベ屈折率計で測定したフィルム構成材料の平均屈折率と、膜厚ｄを入力し、面内リタデーション（Ｒｏ）及び厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の値を得た。また、上記装置によって３次元屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの値を算出した。

式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ） Ｒｔ＝｛（ｎｘ十ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘはフィルム面内の還相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表わす。

測定データよりＲｔ／Ｒｏを算出した。なお、Ｒｔ／Ｒｏは、位相差フィルムの視野角特性として影響ある物性値であるため、ドープ組成２を用いて作製したセルロースアセテートプロピオネートフィルムの場合についてのみ、算出した。

実施例１０
上記実施例６の場合と同様に、ドープ組成２を用いて、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製するが、ここで、上記実施例６の場合と異なる点は、ドープをステンレスバンド支持体（１）上に幅１９００ｍｍに均一に流延し、かつテンター（４）でウェブ（１０）の幅手方向（ＴＤ方向）の両端部を把持し、ウェブ（１０）の幅手方向に延伸率３５％で延伸することにより、最終製品幅２２００ｍｍ、および膜厚４５μｍのセルローストリアセテートフィルムを作製した点にある。

そして、得られた実施例１０のセルローストリアセテートフィルムについて、寸法変化率、および面内リタデーション（Ｒｏ）／厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の比：Ｒｔ／Ｒｏを、実施例６の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表２に示した。

また、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、およびヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比を算出し、乾燥用エンボス処理の温度、および製品幅と共に、下記の表２にあわせて示した。

比較例７〜１１
比較のために、上記実施例６〜１０の場合と同様に、ドープ組成２を用いて、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製するが、上記実施例６〜１０の場合と異なる点は、比較例７〜１１では、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を、表２に示すように、本発明の範囲外である６０〜１００％とした点にある。

そして、得られた比較例７〜１１のセルロースアセテートプロピオネートフィルムについて、寸法変化率、および面内リタデーション（Ｒｏ）／厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の比：Ｒｔ／Ｒｏを、実施例６の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表２に示した。

また、乾燥用エンボス部の圧縮残留歪（％）、およびヘイズ比：乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比を算出し、乾燥用エンボス処理の温度、および製品幅と共に、下記の表２にあわせて示した。

比較例１２
比較のために、上記実施例６の場合と同様に、ドープ組成２を用いて、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製するが、上記実施例６の場合と異なる点は、比較例１２では、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施すことなく、乾燥する、従来法によりセルローストリアセテートフィルムを作製した点にある。

そして、得られた比較例１２のセルロースアセテートプロピオネートフィルムについて、寸法変化率、および面内リタデーション（Ｒｏ）／厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の比：Ｒｔ／Ｒｏを、実施例６の場合と同様に算出し、得られた結果を、下記の表２に示した。

上記表２の結果から明らかなように、本発明の実施例６〜１０で作製したセルロースエステルフィルムによれば、乾燥工程において、圧縮残留歪が５〜５０％の乾燥用エンボス部を幅手方向の両端部に有するフィルムを搬送することにより、搬送ロールに接触している以外のフィルム部分の乾燥による収縮が抑えられ、いずれも寸法変化率が小さく、寸法安定性が良化するものであった。

また特に、本発明の実施例６〜１０で作製したセルロースアセテートプロピオネートフィルムは、位相差フィルム用のフィルムであり、このような位相差フィルム用のフィルムによれば、乾燥収縮による製造工程でのリタデーションの損失が小さくなるため、面内リタデーション（Ｒｏ）／厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の比：Ｒｔ／Ｒｏが小さいものとなされており、リタデーションの発現性が良＜なり、高リタデーションを得ることができた。

これに対し、比較例７〜１２のセルロースエステルフィルムでは、いずれも寸法変化率が、実施例６〜１０で作製したセルロースアセテートプロピオネートフィルムに比べて、大きく、寸法安定性が劣るものであった。また、比較例７〜１０で作製した位相差フィルム用のセルロースアセテートプロピオネートフィルムでは、面内リタデーション（Ｒｏ）／厚み方向のリタデーション（Ｒｔ）の比：Ｒｔ／Ｒｏが大きく、リタデーションの発現性が悪く、高リタデーションを得ることができなかった。

なお、比較例９で作製したセルロースアセテートプロピオネートフィルムでは、擦り傷が発生したため、フィルム幅手方向中間部のヘイズ値が上昇し、このような擦り傷が発生したフィルムは、光学フィルム製品としては使用できないレベルであった。

実施例１１
（偏光膜を作製）
つぎに、上記実施例で作製したセルロースエステルフィルムを用いて液晶表示装置を作製するために、まず、偏光膜を作製した。すなわち、厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、温度１１０℃、延伸倍率５倍で一軸延伸した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、ついでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。

（偏光板の作製）
ついで、下記の工程１〜工程５に従って、上記の偏光膜に、実施例１で作製した膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（偏光板保護フィルム：Ｔ−１）と、実施例６で作製した膜厚４０μｍのセルロースアセテートプロピオネートフィルム（位相差フィルム：Ｔ−２）とを貼り合わせて偏光板を作製した。

工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、ついで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化した偏光板保護フィルムと、位相差フィルムを得た。

工程２：偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。

工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、この偏光膜の両側に、工程１で処理した偏光板保護フィルムおよび位相差フィルムを積層して配置した。

工程４：工程３で積層した位相差フィルムと、偏光膜と、裏面側偏光板保護フィルムを、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。

工程５：工程４で作製した偏光膜と位相差フィルムおよび偏光板保護フィルムとを貼合わせた試料を、８０℃の乾燥機中に５分間乾燥し、偏光板を作製した。

（液晶表示装置の作製）
ついで、市販の液晶表示装置（ＳＯＮＹ社製の２０型ディスプレイ：型名、ＫＬＶ−２０ＡＰ２）の両面の偏光板をそれぞれ注意深く剥離し、この液晶に、上記作製した偏光板をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼り合わせて、液晶表示装置を作製した。

その際、偏光板の貼合の向きは、各偏光板の位相差フィルムの面が液晶セル側となるように、かつ先に貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行ない、液晶表示装置を作製した。

（コーナームラ評価）
上記実施例１１で作製した液晶表示装置について、コーナームラの性能を評価するために、液晶表示装置を、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの条件にて１５００時間保管した後、液晶表示装置を点灯して、６時間後に黒表示での周縁部の光漏れ（コーナームラ）の有無を確認し、下記のランクにより評価し、得られた結果を、下記の表３に示した。

◎：周縁部の光漏れは全く認められない
○：周縁部の光漏れはほとんど気にならない
△：周縁部の光漏れが認められる
×：周縁部の光漏れが著しい
実施例１２〜２７
上記実施例１１の場合と同様にして、偏光板および液晶表示装置を作製するが、下記の表３に示すように、実施例１２〜１４では、偏光板保護フィルムとして実施例１で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、実施例７〜９で作製したフィルムを使用した。また、実施例１５〜１８では、偏光板保護フィルムとして実施例２で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、実施例６〜９で作製したフィルムを使用した。また、実施例１９〜２２では、偏光板保護フィルムとして実施例３で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、実施例６〜９で作製したフィルムを使用した。さらに、実施例２３〜２６では、偏光板保護フィルムとして実施例４で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、実施例６〜９で作製したフィルムを使用した。また、実施例２７では、偏光板保護フィルムとして実施例５で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、実施例１０で作製したフィルムを使用した。

上記実施例１２〜２７で作製した各液晶表示装置について、実施例１１の場合と同様に、コーナームラの性能を評価し、得られた結果を、下記の表３にあわせて示した。

比較例１３〜２２
比較例のために、上記実施例１１の場合と同様にして、偏光板および液晶表示装置を作製するが、下記の表３に示すように、比較例１３〜１５では、偏光板保護フィルムとして比較例１で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、比較例７〜９で作製したフィルムを使用した。また、比較例１６〜１８では、偏光板保護フィルムとして比較例２で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、比較例７〜９で作製したフィルムを使用した。また、比較例１９〜２１では、偏光板保護フィルムとして比較例４で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、比較例７〜９で作製したフィルムを使用した。さらに、比較例２２では、偏光板保護フィルムとして比較例５で作製したフィルムを使用し、位相差フィルムとしては、比較例１１で作製したフィルムを使用した。

上記比較例１３〜２２で作製した各液晶表示装置について、実施例１１の場合と同様に、コーナームラの性能を評価し、得られた結果を、下記の表３にあわせて示した。

上記表３の結果から明らかなように、本発明の実施例１１〜２７の液晶表示装置によれば、表示装置周縁部の光漏れ（コーナームラ）は、全く認められないか、または表示装置周縁部の光漏れは、ほとんど気にならないものであり、額縁故障の発生を未然に防止することができて、表示性能に優れた液晶表示装置を製造することができた。

これに対し、比較例１３〜２２の液晶表示装置によれば、表示装置周縁部の光漏れ（コーナームラ）が認められるか、または表示装置周縁部の光漏れが著しいものであり、額縁故障の発生を防止することができず、液晶表示装置は表示性能に劣るものであった。

本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の概略断面図である。 同要部拡大斜視図である。 本発明の方法により製造された光学フィルムの多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部の拡大平面図である。 同乾燥用エンボス部の拡大断面図である。

符号の説明

１：エンドレスベルト支持体
２：流延ダイ
３：剥離ロール
４：テンター
５：ロール搬送乾燥装置
６：乾燥用エンボスリング
７：バックロール
８：搬送ロール
１０：ウェブ
１１：上側スリッターロール
１２：下側スリッターロール
１３：製品用エンボスリング
１４：バックロール
１５：巻取り装置
Ｆ：セルローストリアセテートフィルム（光学フィルム）
２０：エンボス部
２１：断面凸弧状の凸部
２２：断面凹弧状の凹部

Claims (8)

1. 熱可塑性樹脂溶液（ドープ）を金属支持体上に流延して流延膜（ウェブ）を形成し、溶剤の一部を蒸発させた後に、ウェブを金属支持体から剥離する工程と、剥離したウェブを幅手方向に延伸する工程と、延伸後に乾燥したフィルムを巻き取る巻取り工程とを具備する溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法であって、ウェブ（フィルム）の延伸工程を経た後に、フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施し、フィルム両端部に多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する乾燥用エンボス部を付与して、フィルム両端部の乾燥用エンボス部のフィルム圧縮残留歪率を、５〜５０％とし、この乾燥用エンボス部付きフィルムを非駆動のフリーロールよりなる搬送ロールにより搬送しながら乾燥し、乾燥後にフィルム両端部の乾燥用エンボス部を断裁切除し、ついで、フィルムの端部に、製品用エンボス加工を施して、フィルム端部に製品用エンボス部を付与した後、製品用エンボス部を具備するフィルムを巻き取ることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
   ここで、上記フィルム圧縮残留歪率は、ＪＩＳ Ｋ ６４００−４に規定される方法で、温度１２０℃、時間３０分で、５０％歪にて測定した値をいう。
2. フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、フィルム端部を上下両側より挟圧しかつ多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部よりなる凹凸部を有する左右一対ずつの乾燥用エンボス刻印リングを用い、これらの乾燥用エンボス刻印リングが互いに噛み合うことでフィルム端部を変形させて乾燥用エンボス部を付与することを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. フィルム両端部に乾燥用エンボス加工を施す際に、乾燥用エンボス刻印ロールの表面温度が、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＋２０℃〜Ｔｇ＋８０℃の温度範囲で加工することを特徴とする、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
4. 請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法により製造された光学フィルムであって、フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部の多数の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の直径が、それぞれ２〜１０ｍｍであることを特徴とする、光学フィルム。
5. フィルム両端部に設けられた乾燥用エンボス部の断面凸弧状の凸部と断面凹弧状の凹部の高さの合計が、１００〜５０００μｍであることを特徴とする、請求項４に記載の光学フィルム。
6. フィルム両端部に形成された乾燥用エンボス部が、乾燥用エンボス加工処理によってフィルムの部分強度を増すように変質せしめられていて、該乾燥用エンボス部の変質の度合いが、ヘイズ測定法によるヘイズ値をバロメーターとして表わして、乾燥用エンボス部のヘイズ値／フィルム幅手方向中間部のヘイズ値の比で、１．５〜５倍となされていることを特徴とする、請求項４または５に記載の光学フィルム。
7. 請求項４〜６のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムを一方の面に用いることを特徴とする、偏光板。
8. 請求項７に記載の偏光板を用いることを特徴とする、表示装置。

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