CN112859513A - 利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000001182 laser chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
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Abstract
本发明实施例涉及一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。本发明实施例通过在使用已过期的空白原材制作光罩的过程中增加一道烘烤工序，而可以有效改善因空白原材上的光刻胶保护性能降低所带来的光罩针孔和线边缺口问题，无论在针孔和线边缺口的数量还是尺寸大小上，都有显著的改善，可有效减小原材报废量，降低光罩制造成本。
Description
技术领域
本发明实施例涉及光罩制造技术领域，尤其是指一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法。
背景技术
掩膜版制造行业所用的空白(blank)原材，需先涂布光刻胶(也叫光阻、感光剂)，然后才能进行曝光制作光罩(mask)。各种光刻胶本身，都具有一定的有效期，所以，经过涂布后的blank原材也具有一定的保存期限，如苏打玻璃基板涂布AZ1500胶型，blank原材有效期为3个月左右，一旦超过有效期，光刻胶的保护性能就会下降，且随着时间的延长而加剧，这就给后续光罩制造带来了很大的隐患，尤其是针孔和线边缺口问题，会非常突出。
在实际生产中，针对上述缺陷，通常采用LCVD工艺对这些缺陷进行修补处理。但是，如果针孔和线边缺口的数量过多或尺寸过大，会大幅增加LCVD修补的工作量，牢固性也无法得到保障，且还会影响交期。而且，一旦针孔和线边缺口的数量过多或尺寸多大，采用LCVD工艺难以有效修补，只能做报废处理，直接增加光罩制造成本。
发明内容
本发明实施例要解决的技术问题在于，提供一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，能有效修复过期空白原材带来的针孔和线边缺口等缺陷。
为解决上述技术问题，本发明实施例首先采用以下技术方案：一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：
使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；
根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。
进一步地，所述烘烤作业的烘烤温度为110℃～130℃，烘烤时间为20min～45min。
进一步地，在曝光和显示工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为20min；在显影和蚀刻工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为45min。
进一步地，使用AOI检测设备扫描检查脱膜作业后获得的光罩成品的缺陷，并对检查出来的缺陷进行修复。
采用上述技术方案，本发明实施例至少具有以下有益效果：本发明实施例通过在使用已过期的空白原材按照常规的黄光制程制造光罩的过程中增加一道烘烤工序，可以是在曝光后显影前烘烤，或者在显影后蚀刻前烘烤，从而可以有效改善因空白原材上的光刻胶保护性能降低所带来的光罩针孔和线边缺口问题，无论在针孔和线边缺口的数量还是尺寸大小上，都有显著的改善，可有效减小原材报废量，降低光罩制造成本。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解，以下的示意性实施例及说明仅用来解释本发明，并不作为对本发明的限定，而且，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。
本发明一个可选实施例提供一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：
使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；
根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。
在本发明一个可选实施例中，所述烘烤作业的烘烤温度为110℃～130℃，烘烤时间为20min～45min。
在本发明另一个可选实施例中，在曝光和显示工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为20min；在显影和蚀刻工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为45min。
在本发明又一个可选实施例中，还包括使用AOI检测设备扫描检查脱膜作业后获得的光罩成品的缺陷，并对检查出来的缺陷进行修复。
在对基于本发明的技术方案制造的光罩进行检测的结果如下表所示：
由上表可以看出，增加烘烤步骤后，光罩成品中的缺陷已经大幅减少，特别是在曝光后(显影前)以130℃烘烤20min的效果为最佳，不仅边线缺口和针孔缺陷少，而且负作用(铬残留)也很少。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。
上面对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，包括以下步骤：使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；
根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。
2.如权利要求1所述的利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，所述烘烤作业的烘烤温度为110℃～130℃，烘烤时间为20min～45min。
3.如权利要求2所述的利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，在曝光和显示工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为20min；在显影和蚀刻工序之间对原材进行烘烤作业的烘烤温度为130℃，烘烤时间为45min。
4.如权利要求1或2或3所述的利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，使用AOI检测设备扫描检查脱膜作业后获得的光罩成品的缺陷，并对检查出来的缺陷进行修复。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011641934.5A CN112859513A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011641934.5A CN112859513A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112859513A true CN112859513A (zh) | 2021-05-28 |
Family
ID=76000830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011641934.5A Pending CN112859513A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112859513A (zh) |
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-
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