CN112665932A - 样本涂抹装置及涂抹方法、涂抹标本制作装置及制作方法 - Google Patents

样本涂抹装置及涂抹方法、涂抹标本制作装置及制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112665932A
CN112665932A CN202011216018.7A CN202011216018A CN112665932A CN 112665932 A CN112665932 A CN 112665932A CN 202011216018 A CN202011216018 A CN 202011216018A CN 112665932 A CN112665932 A CN 112665932A
Authority
CN
China
Prior art keywords
slide glass
unit
section
staining
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202011216018.7A
Other languages
English (en)
Inventor
久保田尚吾
品部诚也
古贺裕之
中西利志
大前勇一郎
田中利尚
小田哲也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sysmex Corp
Original Assignee
Sysmex Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sysmex Corp filed Critical Sysmex Corp
Publication of CN112665932A publication Critical patent/CN112665932A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/2813Producing thin layers of samples on a substrate, e.g. smearing, spinning-on
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/30Staining; Impregnating ; Fixation; Dehydration; Multistep processes for preparing samples of tissue, cell or nucleic acid material and the like for analysis
    • G01N1/31Apparatus therefor
    • G01N1/312Apparatus therefor for samples mounted on planar substrates
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/30Staining; Impregnating ; Fixation; Dehydration; Multistep processes for preparing samples of tissue, cell or nucleic acid material and the like for analysis
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/48Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/00029Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor provided with flat sample substrates, e.g. slides
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/0099Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor comprising robots or similar manipulators
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/02Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
    • G01N35/04Details of the conveyor system
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/00029Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor provided with flat sample substrates, e.g. slides
    • G01N2035/00039Transport arrangements specific to flat sample substrates, e.g. pusher blade
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/00029Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor provided with flat sample substrates, e.g. slides
    • G01N2035/00099Characterised by type of test elements
    • G01N2035/00138Slides

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Hematology (AREA)
  • Urology & Nephrology (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
  • Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)

Abstract

本发明的样本涂抹装置具备:载玻片供给部;相对于载玻片供给部来说配置在第1方向的第1处理部;相对于第1处理部来说配置在和第1方向正交的第2方向的第2处理部;相对于第2处理部来说配置在和第1方向相反的第3方向的第1干燥处理部。第1处理部及第2处理部的其中一者执行对载玻片涂抹样本的涂抹处理。

Description

样本涂抹装置及涂抹方法、涂抹标本制作装置及制作方法
本申请是申请号为201680050083.2、申请日为2016年7月27日、名称为“样本涂抹装置、样本涂抹方法、涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法”的由同一申请人提交的中国发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及样本涂抹装置、样本涂抹方法、涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法。
背景技术
样本涂抹装置是将作为显微镜检查对象的样本涂布在载玻片上的装置。样本涂抹装置具备多个处理部来对载玻片进行印字处理、涂抹处理及干燥处理等。因为各个处理部之间载玻片的搬送比较烦杂,所以样本涂抹装置体积往往较大。
比如,专利文献1中公开的样本涂抹装置具备:供给载玻片的载玻片供给部;搬送载玻片的第1搬送部及第2搬送部;往载玻片上涂抹样本的涂抹部;用于干燥涂抹在载玻片的样本的样本用干燥部;在载玻片上印字的印字部。以水平方向成正交的两个方向为X方向、Y方向,则第1搬送部将从载玻片供给部供给的载玻片在Y方向上搬送,移交到第2搬送部。第2搬送部将接受的载玻片搬送到X方向一侧的涂抹部之后,将涂抹处理后的载玻片往相反方向搬送,搬送到X方向另一侧的样本用干燥部。第2搬送部再将样本干燥处理后的载玻片搬送到X方向另一侧的印字部。
在专利文献1中,由第1搬送部及第2搬送部构成T字状的搬送路径,从载玻片供给部向Y方向搬送载玻片后,在X方向上往返搬送载玻片。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开(日本专利公开)2009-145261号公报。
发明内容
发明要解决的技术问题
如上,像所述专利文献1等的以往的样本涂抹装置中因为设置多个处理部而导致载玻片的搬送路径变得复杂,例如需要往返同一路径等,因此装置会变得大型化。在此,为了减少医院、检查机构等所需要的放置空间,人们希望将载玻片的搬送路径简化,使样本涂抹装置小型化。
另外,有时候要由使用者对样本涂抹装置进行各种各样的操作,比如,将未处理的载玻片往样本涂抹装置中放置、将涂抹处理结束的载玻片取出、放置使用者亲自进行了涂抹的载玻片、将染色结束的载玻片取出等。人们希望有一种使用者能够简单进行诸如此的各种各样的操作的样本涂抹装置。
本发明目的在于将载玻片的搬送路径简化,由此使样本涂抹装置小型化,且使得需要由使用者实施的操作能更简单地得以进行。
解决技术问题的技术方案
基于本发明的第1层面的样本涂抹装置具备:载玻片供给部,用于供给未处理的载玻片;第1处理部,对载玻片进行第1处理,相对于载玻片供给部来说配置在装置主体的纵深方向,即第1方向;第2处理部,对载玻片进行不同于第1处理的第2处理,相对于第1处理部来说配置在与第1方向正交的装置主体的左右方向,即第2方向;第1干燥处理部,相对于第2处理部来说配置在和第1方向相反的装置主体的前向,即第3方向,对进行了第1处理及第2处理的载玻片上的样本进行干燥;其中,第1处理部及第2处理部中的一者进行往载玻片上涂抹样本的涂抹处理。
基于本发明的第2层面的样本涂抹方法是一种在载玻片上涂抹样本的样本涂抹方法,其从供给未处理载玻片的供给位置沿第1方向搬送载玻片,对载玻片进行第1处理,将第1处理后的载玻片从第1处理的处理位置沿与第1方向正交的第2方向进行搬送并进行和第1处理不同的第2处理,将第2处理后的载玻片从第2处理的处理位置沿与第1方向相反的第3方向进行搬送,进行用于干燥进行了第1处理及第2处理的载玻片上的样本的干燥处理,第1处理及第2处理的其中一者是在载玻片上涂抹样本的涂抹处理。
基于本发明的第3层面的涂抹标本制作装置具备:载玻片供给部,用来供给载玻片;涂抹处理部,用来对由载玻片供给部供给的载玻片实施样本的涂抹处理;染色处理部,用来对由涂抹处理部实施了涂抹处理的载玻片实施染色处理;载玻片放置部,能够放置用来收纳载玻片的第1收纳容器;第1搬送部,将从涂抹处理部到染色处理部的搬送路径上的取出位置往载玻片放置部放置的第1收纳容器搬送载玻片。
基于本发明的第4层面的涂抹标本制作方法中执行下述模式:涂抹染色模式,对载玻片实施样本的涂抹处理,将实施了涂抹处理的载玻片搬送到染色处理部并对载玻片实施染色处理,将实施了染色处理的载玻片搬送到收纳容器;涂抹模式,对载玻片实施样本的涂抹处理,使实施了涂抹处理的载玻片不搬送到染色处理部而是搬送到收纳容器。
发明效果
通过简化载玻片的搬送路径能使样本涂抹装置小型化,还能使需要由于使用者实施的操作能更简单地得以进行。
附图说明
图1为基于一实施方式的样本涂抹装置的概要示意图;
图2为对涂抹标本制作装置整体结构的一例进行说明的俯视图;
图3为图2的涂抹标本制作装置中的载玻片的搬送路径图;
图4为第1载玻片搬送部的具体结构例的斜视图;
图5为第1载玻片搬送部的具体结构例的俯视图;
图6为第1载玻片搬送部的具体结构例的侧视图;
图7为载玻片供给部及第1载玻片搬送部的示意性侧视图;
图8为第1处理部及第1载玻片搬送部的示意性侧视图;
图9为第2处理部及第1载玻片搬送部的示意性侧视图;
图10为载玻片供给部、第1处理部、第2处理部及第1干燥处理部的位置关系俯视图;
图11为对第1干燥处理部及搬出机构进行说明的示意性侧视图;
图12为对从第1干燥处理部往第2载玻片搬送部的载玻片移交进行说明的侧视图;
图13为放置在载玻片放置部的载玻片收纳容器结构例的斜视图;
图14为对载玻片放置部、染色处理部、第2干燥处理部及第3载玻片搬送部进行说明的示意性侧视图;
图15为涂抹标本制成处理的流程图;
图16为载玻片供给部、第1处理部、第2处理部及第1干燥处理部的斜视图;
图17为样本搬送部及吸移部的结构的示意图;
图18为染色处理部及第3载玻片搬送部的结构的斜视图;
图19为载玻片放置部的结构的俯视图;
图20为第1放置部及第2放置部的结构的斜视图;
图21为采样模式步骤的流程图;
图22为自动样本吸移作业步骤的流程图;
图23为染色处理步骤的流程图;
图24为手动模式步骤的流程图;
图25为手动模式界面的图;
图26为涂抹染色模式步骤的流程图;
图27为涂抹染色模式中的作业条件输入界面的图;
图28为手动涂抹染色作业步骤的流程图;
图29为手动样本吸移作业步骤的流程图;
图30A为涂抹模式步骤的流程图;
图30B为涂抹模式步骤的流程图;
图30C为涂抹模式步骤的流程图;
图31为手动涂抹作业步骤的流程图;
图32A为印字模式步骤的流程图;
图32B为印字模式步骤的流程图;
图32C为印字模式步骤的流程图;
图33为印字模式中作业条件输入界面的图;
图34为手动印字作业步骤的流程图;
图35为印字模式其他例子的流程图;
图36A为染色模式步骤的流程图;
图36B为染色模式步骤的流程图;
图37为手动染色作业步骤的流程图;
图38为染色模式其他例子的流程图。
具体实施方式
以下,基于附图对实施方式进行说明。
[第1实施方式]
(样本涂抹装置的概要)
参照图1,对基于第1实施方式的样本涂抹装置100的概要进行说明。
样本涂抹装置100是对载玻片10进行样本涂抹的装置。样本是采自受检体(受检者)的生物体试样,比如血液、尿、细胞等。
如图1所示,样本涂抹装置100具备:载玻片供给部20、第1处理部30、第2处理部40、第1干燥处理部50。
载玻片10比如是为长方形形状的板状部件。载玻片10比如具有用于涂抹样本的涂抹区域11、用于显示样本信息等各种信息的印字区域12。比如,在长边方向的中央部的沿长边方向延伸的一定范围内形成涂抹区域11。比如,在长边方向的一端部形成印字区域12并使印字区域12和涂抹区域11隔开。比如,印字区域12是通过树脂材料等对载玻片10进行涂层并由此进行了可印字处理的部位。印字区域12可印上样本编号、日期、条形码或二维码等。
载玻片供给部20具有供给未处理的载玻片10的功能。载玻片供给部20能够收纳数个载玻片10。在样本涂抹装置100中,载玻片供给部20供给的载玻片10按照第1处理部30、第2处理部40、第1干燥处理部50的顺序被搬送。载玻片10按照第1处理部30、第2处理部40、第1干燥处理部50的顺序供于各处理部的处理。
第1处理部30对载玻片10进行第1处理。第2处理部40对载玻片10进行不同于第1处理的第2处理。第1处理部30及第2处理部40的其中一者进行对载玻片进行涂抹样本的涂抹处理。即,第1处理及第2处理的其中一者是涂抹处理。第1处理部30及第2处理部40的另一者所进行的处理并无特别限定。比如,第1处理及第2处理的另一者是对载玻片10印字的印字处理。在图1所示一例中,第1处理部30及第2处理部40的一者进行涂抹处理、第1处理部30及第2处理部40的另一者进行印字处理。印字处理是在载玻片10表面的印字区域12上印上样本信息等各种信息的处理。对印字区域12的印字处理比如可通过热转印式印刷机、喷墨打印机等众所周知的印字部来进行。涂抹处理是往载玻片10表面的涂抹区域11涂样本的处理。按照与使用载玻片10所进行的显微镜检查相应的量及涂布厚度来涂抹样本。涂抹处理可采用方法有:使用推玻片等涂抹部件的涂抹方法(所谓的wedgemethod)或其他涂抹方法。
在图1所示一例中通过第1处理部30进行印字处理,但第1处理部30也可进行涂抹处理。第1处理部30相对于载玻片供给部20来说配置在第1方向。第1方向是装置主体的纵深方向。在本说明书中,第1处理部30相对于载玻片供给部20来说被配置在第1方向的意思是:在第1方向的投影图中,第1处理部30和载玻片供给部20是重叠的。换言之,从第1方向看过去,第1处理部30和载玻片供给部20被配置在相互重叠的位置上。载玻片供给部20供给的载玻片10沿着第1方向-即向装置主体里侧的方向搬送,并被定位在第1处理部30的处理位置上。在图1中,第1方向显示为Ah方向。
在图1所示一例中,通过第2处理部40进行涂抹处理,但第2处理部40也可以进行印字处理。第2处理部40相对于第1处理部30来说被配置在和第1方向正交的第2方向。所谓第2方向是指装置主体的左右方向。在本说明书中,第2处理部40相对于第1处理部30来说被配置在第2方向的意思是:在第2方向的投影图中,第2处理部40和第1处理部30是重叠的。第1处理部30处理后的载玻片10沿着第2方向搬送,即沿着去往装置主体左右的两方向中的一方向运送,并被定位在第2处理部40的处理位置。在图1中,第2方向显示为Bh方向。
第1干燥处理部50对进行了第1处理及第2处理的载玻片10上的样本进行干燥。干燥处理比如是对载玻片10表面的涂抹区域11进行强制送风的处理。这种情况,第1干燥处理部50包括风扇或送风机等。第1干燥处理部50相对于第2处理部40来说被配置在和第1方向相反的第3方向。第3方向是装置主体的前向。在本说明书中,第1干燥处理部50相对于第2处理部40来说配置在第3方向的意思是:在第3方向的投影图中,第1干燥处理部50和第2处理部40是重叠的。通过第2处理部40处理后的载玻片10沿着第3方向搬送,即沿着去往装置主体前侧的方向搬送,并被定位在第1干燥处理部50的处理位置上。在图1中,第3方向显示为Ch方向。
第1方向、第2方向、第3方向是和放置样本涂抹装置100的放置面大致平行的面内的各方向。放置面基本可解读为水平面,所以简单来说,第1方向~第3方向是水平面内的各方向。
根据上述结构,载玻片供给部20供给的载玻片10按照第1方向、第2方向、第3方向的顺序被搬送,各项处理得以实施。载玻片10的搬送路径包含第1方向的路径61、第2方向的路径62、第3方向的路径63。载玻片供给部20、第1处理部30、第2处理部40、第1干燥处理部50大致被配置于由路径61、路径62、路径63、连接载玻片供给部20及第1干燥处理部50的假想线64所构成的四角形区域的各角落部,载玻片10的搬送路径61~63是沿着四角形区域的3条边设置的路径。路径61、路径62、路径63的长度根据装置结构来设定。在图1图示中,路径61和路径63具有相同的长度,但路径61和路径63也可不一样。各路径61、路径62、路径63不一定是直线状的路径,也可以是弯曲的路径或分叉的路径。即使在这种情况下,因为各处理部的位置关系是确定的,所以载玻片10的搬送路径大致是沿着路径61、路径62、路径63形成的路径。
像这样,在样本涂抹装置100中能够按照载玻片供给部20、第1处理部30、第2处理部40及第1干燥处理部50的顺序在第1方向Ah、第2方向Bh、第3方向Ch上依次搬送载玻片10。即在俯视图中载玻片供给部20、第1处理部30、第2处理部40及第1干燥处理部50配置在由路径61、路径62、路径63、假想线64所构成的四角形区域的各角落部,能够将载玻片10沿着四角形区域的边按顺序呈倒U字形搬送。和将多个处理部排列在直线路径上并使载玻片10来回往返的结构不同,本发明中载玻片10不需要逆方向返回,只要顺着路径方向按照U字形搬送即可,因此能够实现搬送路径的简化。另外,载玻片供给部20及各处理部(30、40、50)被配置在四角形区域的各角落部,因此能够实现放置空间的有效利用。其结果,能够使载玻片供给部20及各处理部(30、40、50)更密集,能够实现载玻片10搬送路径的简化,从而能够使样本涂抹装置100小型化。
另外,比如,使用者需要对载玻片供给部20进行放置未处理的载玻片10的操作。比如,使用者需要进行从第1干燥处理部50取出结束了涂抹处理、印字处理及干燥处理的载玻片10的操作。需要使用者进行操作的载玻片供给部20和第1干燥处理部50均被设置在样本涂抹装置100的前侧,因此能将样本涂抹装置100中的使用者的操作区域集中在装置主体的前侧。其结果,需要由使用者实施的操作能更简单地得以进行。
更进一步,因为在第1处理部30及第2处理部40中会设置例如具备印字头的印字部、用来滴下样本的滴下部及推玻片等涂抹部件的移动机构,因此,比起其他处理部,其在样本涂抹装置100内的高度尺寸往往较大。因此,如果第1处理部30及第2处理部40在第1方向Ah上并排,那么使用者在操作时前侧的处理部会造成妨碍,难以接近里侧的处理部。与此相对,如上所述使第1处理部30及第2处理部40在左右方向-即第2方向Bh并排,则印字色带的更换、推玻片的更换等需要由使用者对第1处理部30及第2处理部40进行的操作将会更简单地得以进行。
综上,本发明所述结构能通过简化载玻片10的搬送路径实现样本涂抹装置100的小型化,还能使使用者所实施的操作更简单地得以进行。即能够提供一种紧凑、更易使用的样本涂抹装置100。
(涂抹标本制作装置的结构例)
接下来,参照图2及以后附图对图1所示的样本涂抹装置100用作涂抹标本制作装置300的样本涂抹部时的结构例进行说明。涂抹标本制作装置300这一装置进行对载玻片10涂抹样本的涂抹处理,并对涂抹了样本的载玻片10实施样本染色处理。样本比如是血液。
〈整体结构〉
图1所示具备载玻片供给部20、第1处理部30、第2处理部40、第1干燥处理部50的样本涂抹装置100在图2的结构例中作为涂抹标本制作装置300的涂抹部110。在图2的结构例中,涂抹部110还具备:第1载玻片搬送部120、附着物去除部130和搬出机构140。另外,在图2的结构例中,涂抹标本制作装置300具备:第2载玻片搬送部150、染色处理部160、载玻片放置部170、第3载玻片搬送部180、第2干燥处理部190、载玻片收纳部200。在图2的结构例中,涂抹标本制作装置300更进一步具备:样本搬送部210、吸移部220、控制部230。
在接下来中,在和涂抹标本制作装置300的放置面平行的面内(即水平面内)成正交的2个方向分别被作为X方向、Y方向。在图2的例子中,涂抹标本制作装置300在俯视图中的外形形状是分别沿X方向及Y方向的四角形状。以X方向作为涂抹标本制作装置300的左右方向,以Y方向作为涂抹标本制作装置300的纵深方向。Y1方向一侧为装置的前侧,Y2方向一侧为装置的里侧。另外,以和水平面正交的上下方向为Z方向。在图2的结构例中第1方向和Y2方向一致,第2方向和X1方向一致,第3方向和Y1方向一致。
样本搬送部210被配置在涂抹标本制作装置300的最前侧。收容样本的数个样本容器211被放置在样本搬送部210,样本搬送部210将所放置的样本容器211搬送到一定的取入位置。比如,数个样本容器211被安放在架212上,样本搬送部210对所述架212进行搬送。吸移部220从通过样本搬送部210搬送到取入位置的样本容器211中吸移血液、尿等液体的样本。吸移部220将所吸移的样本往涂抹部110供给。
在图2的结构例中,载玻片供给部20包含第1供给部21、第2供给部22。载玻片供给部20还可包含1个或3个以上的供给部。载玻片供给部20能够分别在第1供给部21及第2供给部22收纳多个未涂抹样本的处于未使用状态的载玻片10。载玻片10以涂抹面朝上的平放状态被收纳在第1供给部21及第2供给部22的内部。载玻片供给部20安放载玻片10并使得载玻片10的长边方向和Y方向(第1方向及第3方向)一致、载玻片10的短边方向和X方向(第2方向)一致。
第1供给部21及第2供给部22实质上具有相同结构。第1供给部21及第2供给部22在X方向上并排配置。第1供给部21及第2供给部22分别能够使收容在内部的未涂抹的载玻片10沿Y2方向移动并一枚一枚地供给载玻片10。
在图2的结构例中,第1载玻片搬送部120至少在载玻片供给部20、第1处理部30及第2处理部40之间移动并对载玻片10进行搬送。即,第1载玻片搬送部120作为载玻片供给部20、第1处理部30及第2处理部40共同的搬送部发挥功能。由此,相比于在载玻片供给部20、第1处理部30及第2处理部40分别设置独立的专用搬送部的情形,本发明的结构能够实现装置结构的简化及小型化。载玻片供给部20、第1处理部30及第2处理部40之间的载玻片10的搬送也可以由相互独立的载玻片搬送部来进行。
比如,第1载玻片搬送部120能够将1枚载玻片10安放在其上侧面进行搬送。第1载玻片搬送部120能够从第1供给部21接受载玻片10。另外,第1载玻片搬送部120也能从第2供给部22接受载玻片10。另外,第1载玻片搬送部120能够在水平方向(XY方向)移动。另外,第1载玻片搬送部120能够使所安放的载玻片10在上下方向(Z方向)移动。第1载玻片搬送部120能够将所安放的载玻片10搬送到附着物去除部130、第1处理部30及第2处理部40的相应的处理位置上。第1载玻片搬送部120将从载玻片供给部20接受的载玻片10按照附着物去除部130、第1处理部30及第2处理部40的顺序进行搬送。载玻片10以安放于第1载玻片搬送部120的状态分别在附着物去除部130、第1处理部30及第2处理部40供于一定的处理。也可以将第1载玻片搬送部120设计为能安放数枚载玻片的形态。也可将第1载玻片搬送部120设计为能够在XY方向上移动但不能在Z方向上移动的形态。
在图2的结构例中,第1载玻片搬送部120使载玻片10的长边方向和第1方向(Y2方向)一致、使载玻片10的短边方向和第2方向(X方向)一致并对载玻片10进行搬送。由此能够缩短往涂抹标本制作装置300的左右方向-即第2方向(X方向)搬送载玻片10的搬送路径。即能缩短第1处理部30和第2处理部40之间的路径。因为装置左右方向(X方向)的外形尺寸较小,因此,针对在左右方向将涂抹标本制作装置300或相关装置并排使用的情景,本发明能确保至关重要的左右方向的放置空间。
附着物去除部130具有将附着在载玻片10表面的付着物去除的功能。附着物去除部130对安放在第1载玻片搬送部120上侧面的载玻片10进行付着物的去除处理。比如,附着物去除部130连接没有图示的压力源,能够通过排出空气将载玻片10的涂抹区域11及印字区域12的付着物吹飞。付着物是比如玻璃粉末、灰尘等小的异物。
在图2的结构例中,第1处理部30由印字处理部构成,其进行印字处理作为第1处理。第1处理部30能够在载玻片10的印字区域12印刷样本信息等各种信息。另外,第1处理部30对安放在第1载玻片搬送部120上侧面的载玻片10进行印刷。
在图2的结构例中,第2处理部40由涂抹处理部构成,其进行涂抹处理作为第2处理。第2处理部40能够在载玻片10的涂抹区域11涂抹样本。第2处理部40对安放在第1载玻片搬送部120上侧面的载玻片10进行样本的涂抹。
在图2的结构例中,第1处理部30和第2处理部40在第2方向(X1方向)上相邻配置。
在图2的结构例中,第1载玻片搬送部120将第1载玻片10从第1处理部30搬送到第2处理部40之后再从载玻片供给部20接受接下来的第2载玻片10。第1载玻片和第2载玻片指的是通过第1载玻片搬送部120依次搬送的2枚载玻片10中先搬送的载玻片和后搬送的载玻片。比如,相比于第1载玻片搬送部120将载玻片10一直搬送到第1干燥处理部50的情形,本发明的结构能够防止第1载玻片搬送部120的搬送路径不必要地变长。因此,即使所设置的第1载玻片搬送部120是载玻片供给部20、第1处理部30及第2处理部40共用的,也能缩短第1载玻片10搬送到第2处理部40后、下一枚第2载玻片10往第1处理部30搬送前的时间。
在图2的结构例中,搬出机构140具有将搬送到第2处理部40的载玻片10搬出到第1干燥处理部50的功能。由此,第1载玻片搬送部120将载玻片10搬送到第2处理部40后第2处理部40的处理结束时,通过在第1载玻片搬送部120之外另行设置的搬出机构140就能够将载玻片10迅速地往第1干燥处理部50搬送。搬出机构140使被搬送到第2处理部40的载玻片10在Y1方向(第3方向)上移动并定位在第1干燥处理部50的处理位置。
第1干燥处理部50具有从第2处理部40接受涂抹了样本的载玻片10并往载玻片10的涂抹区域11送风的功能。第1干燥处理部50能够通过送风使涂抹在载玻片10上的样本得到干燥。
在图2的结构例中,搬出机构140将搬出到第1干燥处理部50的载玻片10进一步从第1干燥处理部50搬出到第2载玻片搬送部150。搬出机构140使搬送到第1干燥处理部50的载玻片10沿Y1方向(第3方向)上移动,并将其转交到作为第3搬送部的第2载玻片搬送部150。
第2载玻片搬送部150被配置在第1干燥处理部50及染色处理部160的Y1方向一侧(第3方向一侧),并在X方向上延伸。第2载玻片搬送部150沿着X1方向(第2方向)将载玻片10从第1干燥处理部50向染色处理部160和载玻片放置部170之间的取出位置410搬送。第2载玻片搬送部150具有收容载玻片10的收容部151,且能够将收容部151在X方向上移动。第2载玻片搬送部150将和放置面大致平行的、呈放倒状态的载玻片10接收到收容部151内再将其变为与放置面基本垂直的立起状态,然后搬送往取出位置410。因此,在取出位置410,载玻片10以其涂抹面朝上下方向(Z方向)的立起状态被安放。被搬送到取出位置410的载玻片10再被搬送到染色处理部160或者载玻片放置部170。
染色处理部160对涂抹在载玻片10上的样本进行染色。染色处理部160相对于第1干燥处理部50来说排列在第2方向一侧(X1方向一侧),其接受从第1干燥处理部50往第2方向搬送的载玻片10。由此就能使从载玻片供给部20经由第1处理部30、第2处理部40及第1干燥处理部50一直到染色处理部160的载玻片10的搬送路径成为按照第1方向(Y2方向)、第2方向(X1方向)、第3方向(Y1方向)、第2方向(X1方向)的顺序曲折的路径(图3参照)。这样就能在第2方向上配置数列沿着第1方向、第3方向排列的各种处理部,因此不会浪费空间。因此即使设置染色处理部160的情况下也能防止装置的大型化。
染色处理部160沿Y方向延伸。染色处理部160具备蓄存染色液的染色槽及蓄存清洗液的清洗槽。染色处理部160在染色槽及清洗槽中对涂抹完成的载玻片10实施染色处理及清洗处理。
载玻片放置部170被配置在染色处理部160的第3方向一侧(Y1方向一侧),其安放载玻片10并使载玻片10能够放入、取出。载玻片放置部170能够放置2个能收纳数个载玻片10的第1收纳容器601。第1收纳容器601可使用后述的载玻片收纳容器240(参照图13)。载玻片放置部170具有载玻片收纳容器240,在载玻片收纳容器240内安放载玻片10。
第3载玻片搬送部180能够将载玻片10在染色处理部160、载玻片放置部170及取出位置410之间进行搬送。第3载玻片搬送部180比如能够在染色处理部160、载玻片放置部170及取出位置410上方的高度位置沿X方向、Y方向及Z方向各方向移动。由此,第3载玻片搬送部180就能够将分别配置在染色处理部160、载玻片放置部170及取出位置410的载玻片10夹持住并取出,能将载玻片10分别搬送到染色处理部160、载玻片放置部170、取出位置410。取出位置410可以是位于染色处理部160和载玻片放置部170之间的位置。由此就能使取出位置410位于既靠近染色处理部160又靠近载玻片放置部170的位置,能将载玻片10从取出位置410高效地搬送到染色处理部160及载玻片放置部170。
像这样,第3载玻片搬送部180在染色处理部160、载玻片放置部170及取出位置410之间搬送载玻片10,通过这样的结构,涂抹标本制作装置300不但能将在涂抹部110进行了印字处理及涂抹处理的载玻片10从取出位置410搬送到染色处理部160,还能将其从取出位置410搬送到载玻片放置部170。另外,涂抹标本制作装置300还能将使用者手动放置在载玻片放置部170的、样本涂抹已完成的载玻片10从载玻片放置部170搬送到染色处理部160。由此,除了能在进行印字处理、涂抹处理及染色处理的普通模式下进行的作业之外,还能在下述模式下进行作业:涂抹模式,即在涂抹部110进行了印字处理及涂抹处理的载玻片10不进行染色处理而送出到载玻片放置部170;染色模式,对使用者手动放置在载玻片放置部170的、样本涂抹已完成的载玻片10通过染色处理部160进行染色处理并将其送出到载玻片收纳部200。这样就能根据使用者的需求实现各种各样的作业,因此提高了装置的便利性。另外,因为载玻片放置部170被配置在染色处理部160的前侧,因此,需要由使用者进行的针对载玻片放置部170放置及回收载玻片收纳容器240的操作、对载玻片收纳容器240放置及回收载玻片10的操作就能够在装置前侧实施,这和载玻片供给部20相同。由此,由使用者所实施的操作就变得更简单,更进一步提高了涂抹标本制作装置300的便利性。
另外,在图2的结构例中,载玻片供给部20及载玻片放置部170相对于样本搬送部210来说分别排在第1方向(Y2方向一侧)侧。图2结构例中,载玻片供给部20及载玻片放置部170在样本搬送部210的第1方向(Y2方向一侧)侧与其相邻。由此能够将载玻片供给部20及载玻片放置部170排列配置在装置的前侧所配置的样本搬送部210附近位置,因此能将需要由使用者进行操作的部分集中在装置的前侧。即,能将往样本搬送部210放置样本容器211的操作、往载玻片供给部20安放新的载玻片10的操作、针对载玻片放置部170取出或放置样本涂抹完成的载玻片10的操作各自的位置集中在装置前侧的附近位置。由此,需要由使用者进行的操作变得更容易,因此提高了装置的便利性。
在图2的结构例中,除了染色处理部160、载玻片放置部170及取出位置410之外,第3载玻片搬送部180还能往第2干燥处理部190及载玻片收纳部200搬送载玻片10。往第2干燥处理部190及载玻片收纳部200搬送载玻片10的作业还可由第3载玻片搬送部180以外的别的搬送部实施。
在图2的结构例中,所配置的第2干燥处理部190相对于染色处理部160来说排在第1方向一侧(Y2方向一侧)。第2干燥处理部190接受从染色处理部160沿第1方向搬送的载玻片10。由此就能使从载玻片供给部20经由第1处理部30、第2处理部40及第1干燥处理部50、染色处理部160直到第2干燥处理部190的载玻片10的搬送路径成为按照第1方向(Y2方向)、第2方向(X1方向)、第3方向(Y1方向)、第2方向(X1方向)、第1方向(Y2方向)的顺序曲折的路径(参照图3)。这样能在第2方向配置数列沿第1方向、第3方向排列的各种处理部,因此不会浪费空间。这样即使设置第2干燥处理部190也能防止装置的大型化。在图2的结构例中,第2干燥处理部190和染色处理部160在第1方向(Y2方向)上相邻配置。
比如,第2干燥处理部190具有通过送风使染色处理部160染色完毕的载玻片10干燥的功能。第2干燥处理部190将干燥后的载玻片10移交到载玻片收纳部200。
载玻片收纳部200具有接受、收纳处理结束的载玻片10的功能。在图2的结构例中,所配置的载玻片收纳部200相对于第2干燥处理部190来说排在第2方向一侧(X1方向一侧),其接受从第2干燥处理部190起沿第2方向搬送的载玻片10。由此就能将从载玻片供给部20经由第1处理部30、第2处理部40及第1干燥处理部50、染色处理部160、第2干燥处理部190直到载玻片收纳部200的载玻片10的搬送路径成为按照第1方向(Y2方向)、第2方向(X1方向)、第3方向(Y1方向)、第2方向(X1方向)、第1方向(Y2方向)、第2方向(X1方向)的顺序曲折的路径(参照图3)。这样能在第2方向上配置数列沿第1方向、第3方向排列的各种处理部,因此能够防止浪费空间。这样,即使设置载玻片收纳部200也能避免装置大型化。
载玻片收纳部200能够放置数个第2收纳容器602。第2收纳容器602可使用后述载玻片收纳容器240(参照图13)。即,载玻片收纳部200具有载玻片收纳容器240,在载玻片收纳容器240内安放载玻片10。载玻片收纳部200将放置在放置位置411的空的载玻片收纳容器240沿第1方向(Y2方向)移动到收纳位置412。收纳位置412是在第2方向一侧与第2干燥处理部190相邻的位置。第3载玻片搬送部180使载玻片10从第2干燥处理部190沿第2方向移动,将处理结束的载玻片10放置到收纳位置412的载玻片收纳容器240。载玻片收纳部200使收容了载玻片10的载玻片收纳容器240在X1方向移动,然后使其在Y1方向移动后,配置到回收位置413。放置位置411及回收位置413是和载玻片供给部20及载玻片放置部170在X方向上排列的位置。使用者能够取出被配置在回收位置413的载玻片收纳容器240。
在图2的结构例中,载玻片收纳部200包含第1搬送路径201、第2搬送路径202。第1搬送路径201使载玻片收纳容器240沿着第1方向(Y2方向)从放置收纳载玻片10的载玻片收纳容器240的放置位置411往将第2干燥处理部190的载玻片10收纳于载玻片收纳容器240内的收纳位置412移动。第2搬送路径202使在收纳位置412收纳了载玻片10的载玻片收纳容器240在第3方向(Y1方向)往相对于放置位置411来说排列在第2方向(X1方向)侧的回收位置413移动。由此能够将收纳载玻片10前后的载玻片收纳容器240在第1方向(Y2方向)及第3方向(Y1方向)进行搬送,因此能够控制载玻片收纳部200在第2方向(X1方向)上的宽幅。另外,放置位置411及回收位置413都被配置在装置主体的前侧(第3方向一侧),通过这样的结构,载玻片收纳部200的载玻片收纳容器240的放置操作及回收操作就能够在装置的前侧实施,和载玻片供给部20的情形相同。因此,需要由使用者所实施的操作就变得更简单,更进一步提高了涂抹标本制作装置300的便利性。
第1搬送路径201及第2搬送路径202比如是传送带式搬送机构,在Y方向(第1方向及第3方向)上成直线状延伸。第1搬送路径201及第2搬送路径202通过没有进行图示的马达能够相互独立地将放置在传送带上的载玻片收纳容器240沿Y方向搬送。在图2的结构例中,载玻片收纳部200具备横向运送部203。横向运送部203将收纳有载玻片10的载玻片收纳容器240从第1搬送路径201移动到第2搬送路径202。横向运送部203能够在第2方向(X1方向)上移动。横向运送部203抵接配置在收纳位置412的载玻片收纳容器240并使其在第2方向(X1方向)上移动到第2搬送路径202。
控制部230具备没有进行图示的CPU及存储器,其控制涂抹标本制作装置300各部的作业。控制部230具备输出部231。输出部231比如是液晶屏等显示部。输出部231还可以是打印机。
通过上述结构,涂抹标本制作装置300就能够对载玻片10实施印字处理、样本的涂抹处理、染色处理,自动制作涂抹标本。
〈载玻片的搬送路径〉
如图3所示,从载玻片供给部20到载玻片收纳部200的载玻片10的搬送路径沿着以下路径构成:第1方向(Y2方向)的路径501、第2方向(X1方向)的路径502、第3方向(Y1方向)的路径503、第2方向(X1方向)的路径504、第1方向(Y2方向)的路径505、第2方向(X1方向)的路径506。不进行染色处理时,从载玻片供给部20到载玻片放置部170的搬送路径在路径504之后取第3方向(Y1方向)的路径507。载玻片10的搬送过程不会出现后退,只需顺序方向运送即可。另外,在图3的例子中,载玻片供给部20、第1处理部30、第2处理部40、第1干燥处理部50大致被配置在由路径501、路径502及路径503、连接载玻片供给部20及第1干燥处理部50的假想线508所构成的四角形区域的各角落部。
另外,在图2及图3的结构例中,涂抹标本制作装置300中各处理部沿装置的纵深方向(Y方向)成列状配置,处理部构成的列510在X方向共排有4列。此外,从处理部构成的Y方向的列510的一端到另一端将载玻片10在第1方向(Y2方向)或第3方向(Y1方向)搬送后,通过往第2方向(X1方向)的搬送作业,将载玻片10搬送到相邻的处理部的列510,由此就构成了倒W字状曲折的搬送路径。这样,在需要配置多个处理部的涂抹标本制作装置300中配置各处理部时能尽最大可能减少无用空间,因此能够实现装置的小型化。
〈第1载玻片搬送部的结构〉
接下来,参照图4,对第1载玻片搬送部120的结构例进行说明。
在图4所示的结构例中,第1载玻片搬送部120包含安放部件121。安放部件121包含载置部122、夹持部123、抵接部124、壁部125。
安放部件121能够将载玻片10载置在载置部122的上侧面来进行安放。具体来说,安放部件121将载玻片10以涂抹面朝上的平放状态安放在载置部122的上侧面上。载置部122从下侧(Z2方向一侧)支撑载玻片10。第1载玻片搬送部120能够通过后述移动机构使上侧面安放载玻片10的安放部件121移动到第1处理部30及第2处理部40。由此就能以能够直接执行印字处理、涂抹处理的平放状态将载玻片10搬送到第1处理部30及第2处理部40。因此,在搬送到第1处理部30及第2处理部40之后,没有必要对载玻片10的姿态进行改变,这样就能迅速地执行印字处理及涂抹处理。载置部122是在水平方向(XY方向)延伸的板状。
夹持部123包含推压部123a、开合部123b、转轴123c。夹持部123能够移动到允许放入、取出载玻片10的打开位置421(参照图7)、安放载玻片10的夹持位置422(参照图6)。通过夹持部123能够将载玻片10安放在安放部件121上并保持不动。由此,能够针对安放部件121放入、取出载玻片10,还能将放置在安放部件121上的载玻片10稳定地搬送。另外,如后面所述,针对安放部件121上的载玻片10进行第1处理部30及第2处理部40的印字处理及涂抹处理时能防止处理中的载玻片10的位置发生偏离。
如图4所示的结构例中,夹持部123被配置在安放部件121的Y1方向一侧。另外,在载置部122上侧面的Y2方向一侧端部设置有向上方突出的抵接部124。夹持部123能够以X方向延伸的转轴123c为中心向Y1方向一侧及Y2方向一侧转动。夹持部123的推压部123a能够抵接载玻片10的Y1方向一侧并将载玻片10向Y2方向一侧推压。夹持部123通过没有进行图示的弹簧部件将推压部123a往Y2方向一侧拉。由此,夹持部123将载置部122的上侧面上的载玻片10的端部的面推压至Y2方向一侧的抵接部124,由此从长边方向夹持载玻片10的短边。
另外,夹持部123具有隔着转轴123c配置在和推压部123a相反的一侧的开合部123b。即,推压部123a相对于转轴123c来说配置在上侧(Z1方向一侧)。开合部123b相对于转轴123c来说被配置在下侧(Z2方向一侧)。向Y2方向一侧推开合部123b,由此夹持部123就能和弹簧部件的拉力相对抗地以转轴123c为中心往Y1方向一侧转动。这样,通过推压部123a退避到载置部122的上侧面的下侧,夹持部123就能够移动到允许载玻片10放入、取出的打开位置421;通过推压部123a突出于载置部122上侧面的上侧,夹持部123就能移动到安放载玻片10的夹持位置422。
另外,安放部件121包含用来限制载置在安放部件121上的载玻片10的移动的壁部125。由此,就能防止载玻片10在安放部件121上发生位置偏离,因此就能防止载玻片10从安放部件121伸出。这样,通过第1载玻片搬送部120搬送载玻片10时搬送位置的精度能够得到提高。
安放部件121的X方向的两端部设置了一对壁部125。一对壁部125设置在和安放部件121从第1供给部21或第2供给部22接受载玻片10的方向正交的方向上。即,一对壁部125设置在与夹持部123夹持载玻片10的长边方向正交的短边方向的端部。
在图4的结构例中,安放部件121的X2方向一侧的端部设置有槽口部122a,该槽口部是向X2方向一侧切掉具有一定长度的部分而得到的。槽口部122a形成于载置部122的Y方向中央偏Y2方向的位置上。没有图示的推压部从安放部件121的X2方向一侧向槽口部122a的内侧沿X1方向移动,由此就能使载置部122上侧面上的载玻片10往X1侧移动。由此,载玻片10的端面抵接X1侧的壁部125就能对安放部件121上的载玻片10的X方向的位置进行定位。此外,通过夹持部123使载玻片10的端面抵接在抵接部124,这样针对安放部件121上的载玻片10进行Y方向的定位。
〈第1载玻片搬送部的移动机构的结构〉
图5及图6所示的结构例中,第1载玻片搬送部120包括:第1移动机构126、第2移动机构127、第3移动机构128。第1移动机构126能够使所安放的载玻片10在X方向移动。第2移动机构127能够使所安放的载玻片10在Y方向移动。第3移动机构128能够使所安放的载玻片10在Z方向移动。由此,第1载玻片搬送部120能够使载玻片10在水平面内及上下方向进行移动。
在图5及图6的结构例中,第1移动机构126由传送带驱动式的直线移动机构构成,该直线移动机构包含基部126a、马达126b、传送带126c和没有进行图示的轨道。第2移动机构127由送带驱动式的直线移动机构构成,该直线移动机构包含马达127a、一对轨道127b、传送带127c。第3移动机构128(参照图6)由包含空气气缸128a在内的空气驱动机构构成。
安放部件121通过第3移动机构128的支撑而能向上下方向移动。空气气缸128a能够使杆128b在上下方向(Z方向)伸缩。安放部件121通过设在杆128b的上端部的弹性部件128c安装在杆128b上。杆128b上、安放部件121及弹性部件128c的下侧设置有抵接部件128d。空气气缸128a通过杆128b的进退使安放部件121及弹性部件128c和抵接部件128d在上下方向移动。空气气缸128a连接着与附着物去除部130共用的气压源,不需要专用的驱动源。
在图5及图6的结构例中,弹性部件128c比如由压缩螺旋弹簧构成。弹性部件128c配置有数个,包围住安放部件121的重心位置(参照图5)。比如,弹性部件128c在所安放的载玻片10的长边方向(Y方向)上以一定间隔配置有2个;在短边方向(X方向)上以一定间隔配置有2个。即,4个弹性部件128c分别被配置在菱形的顶点上。弹性部件128c具有调整安放部件121所安放的载玻片10的姿态的功能。弹性部件128c还可以是橡胶等缓冲材料。
如图6所示,安放部件121和抵接部件128d之间的一定的高度位置上设置有限制部件250。限制部件250比如是平板形状,沿XY方向延伸。限制部件250上形成有贯通槽,以使得杆128b能通过。限制部件250通过和因空气气缸128a而上升的抵接部件128d抵接就能够对安放部件121的上升位置进行定位。抵接部件128d是长方体形状,其大小不能通过贯通槽,且其被固定在杆128b上。抵接部件128d比如由树脂材料构成,优选滑动摩擦小的树脂材料。
第3移动机构128被第1移动机构126支撑并因此能在X方向移动。第1移动机构126的马达126b、传送带126c及轨道被配置在基部126a上。通过马达126b的驱动,传送带126c转动,安放部件121连同第3移动机构128在X方向移动。基部126a设置在第2移动机构127的轨道127b上,能够在Y方向移动。
第1移动机构126被第2移动机构127支撑并因此能在Y方向移动。第2移动机构127使基部126a在Y方向移动,由此能够使安放部件121在Y方向移动。具体来说,通过马达127a的驱动,传送带127c转动,安放部件121、第3移动机构128及第1移动机构126共同在Y方向移动。
〈载玻片供给部的结构〉
在图7所示的结构例中,载玻片供给部20包括:将未处理的载玻片10以数个层叠在一起的状态进行安放的盒部25;将在盒部25中层叠的载玻片10一枚一枚地从盒部25推出并进行供给的搬出部23。由此能通过将载玻片10进行层叠来控制放置面积,还能将载玻片10一枚一枚地进行供给。
载玻片供给部20的第1供给部21及第2供给部22分别包含盒部25和搬出部23。盒部25是在上下方向(Z方向)延伸的中空筒状。盒部25能使数个载玻片10以在上下方向层叠的状态安放于其内部。盒部25外形呈长方体,其围住在上下方向层叠一定枚数的载玻片10的周围。
第1供给部21及第2供给部22各自的下方分别设有搬出部23。另外,载玻片10的移交位置设有抵靠部件24。第1载玻片搬送部120沿着Y1方向移动,使夹持部123的开合部123b和配置在载玻片10的移交位置的抵靠部件24抵接。由此,夹持部123的推压部123a以转轴123c为中心进行转动,推压部123a移动到打开位置421。
搬出部23从载玻片10的放置面向上方(Z1方向)突出。搬出部23的突出量比载玻片10的厚度小。搬出部23能够通过马达等没有进行图示的驱动源在Y方向移动。第1供给部21及第2供给部22分别在夹持部123位于打开位置421的状态下通过搬出部23将载玻片10推向Y2方向,载玻片10从而被供给到第1载玻片搬送部120。搬出部23将被层叠在最下方的载玻片10搬到第1载玻片搬送部120。由此就能从第1供给部21或第2供给部22将载玻片10一枚一枚地供给到第1载玻片搬送部120。
〈第1处理部及第2处理部的结构〉
在图8及图9所示的结构例中,第1处理部30及第2处理部40分别对安放在安放部件121上侧面的载玻片10进行处理。由此,在第1处理部30及第2处理部40中,不需要将安放部件121上的载玻片10移交到其他支撑部件,能直接在安放部件121上对载玻片10进行处理。这样,第1处理部30及第2处理部40均不需要设置用于安放载玻片10的机构,所以就能简化第1处理部30及第2处理部40的装置结构并实现小型化。
在图8的结构例中,第1处理部30包含印字部31。印字部31配置在第1载玻片搬送部120搬送来的载玻片10的上方。印字部31的下端部有印字头且其能够在上下方向(Z方向)移动。在图8的结构例中,因为第1载玻片搬送部120的安放部件121能够在XY方向移动,因此就没有必要在印字部31中设置XY方向的移动机构。
第1载玻片搬送部120以安放部件121被降到下方的状态-即以位于下降位置430(参照图6)状态沿第1方向(Y2方向)移动,将安放部件121从载玻片供给部20侧起定位于第1处理部30的处理位置。位于下降位置430时,限制部件250和抵接部件128d相互分开。且在往第1处理部30移动的途中,通过附着物去除部130进行去除处理。
如图8所示,第1载玻片搬送部120在第1处理部30的处理位置使安放部件121上升。通过抵接部件128d抵接在限制部件250来对安放部件121的上升位置进行定位。即,安放部件121上的载玻片10的上下位置定位为第1处理部30的第1处理高度位置431。第1处理高度位置431是抵接部件128d抵接限制部件250的状态下的高度位置。在通过限制部件250进行了定位的上升状态下,通过第1处理部30对安放在安放部件121的载玻片10进行印字处理。
第1处理部30使印字部31下降,将印字头压到载玻片10的印字区域12。此时,印字头和载玻片10之间微小的倾斜差会被支撑安放部件121的弹性部件128c的变形吸收,保证了印字头和载玻片10印字区域12之间的密合状态。在受到印字部31的印字头施加的向下方的压力的状态下,第1载玻片搬送部120在Y方向移动,由此通过印字部31在印字区域12的全体范围内印字。
在图9的结构例中,第2处理部40包含滴下部41、涂抹部件42。滴下部41具有往所搬送来的载玻片10滴下样本的功能。涂抹部件42具有将所滴下的样本在载玻片10上进行涂抹的功能。由此,往载玻片10滴下样本的作业和对所滴下的样本进行涂抹的作业就能通过同一第2处理部40进行。因此,相比于通过不同的处理部进行样本滴下作业和样本涂抹作业的情形,本发明能够将载玻片10的搬送路径简化,能实现装置的小型化。
滴下部41及涂抹部件42均配置在由第1载玻片搬送部120搬送来的载玻片10上方。涂抹部件42比如是推玻片。涂抹部件42能通过没有图示的移动机构在上下方向(Z方向)及Y方向移动。在图9的结构例中,因为第1载玻片搬送部120的安放部件121能够在XY方向移动,因此就没有必要设置使涂抹部件42在X方向移动的机构。滴下部41和吸移部220进行流体性连接,其由喷嘴构成,所述喷嘴能排出通过吸移部220所吸移的样本。滴下部41比如能够通过没有进行图示的移动机构在X方向(和图9的纸面成正交的方向)进行移动。
第1载玻片搬送部120在处于下降位置430(参照图6)的状态下向X1方向移动,将安放部件121从第1处理部30侧定位到第2处理部40的处理位置。如图9所示,第1载玻片搬送部120在第2处理部40的处理位置使安放部件121上升。
在此,第2处理部40包含定位部件43。定位部件43被配置在第2处理部40的第2处理高度位置432处,和被第1载玻片搬送部120上升后的安放部件121上的载玻片10相抵接。由此,在载玻片10的厚度(Z方向的长度)有所差异时能将载玻片10的上侧面定位于恒定的第2处理高度位置432处。
定位部件43和载玻片10相抵接的第2处理高度位置432是下述两者之间的高度位置:位于第1处理高度位置431的载玻片10的高度位置、下降位置430时载玻片10的高度位置。即,涂抹处理的第2处理高度位置432比印字处理的第1处理高度位置431低。因此,第2处理部40的定位部件43和载玻片10相抵接时,抵接部件128d和限制部件250不会抵接。
在通过定位部件43定位于第2处理高度位置432的上升状态下,通过第2处理部40对安放在安放部件121的载玻片10进行涂抹处理。且,定位部件43和载玻片10之间微小的倾斜差会被支撑安放部件121的弹性部件128c的变形吸收,由此保证了定位部件43和载玻片10之间的密合状态。由此保证了涂抹部件42的端面和载玻片10的涂抹区域11之间的平行度。
第2处理部40使滴下部41移动到涂抹区域11的上方并往涂抹区域11滴下样本。接下来,第2处理部40使涂抹部件42的端面和样本的液滴进行接触,并使涂抹部件42在载玻片10的长边方向(Y方向)移动,由此在涂抹区域11上涂抹样本。
另外,如图16所示,配置在装置主体里侧(第1方向一侧)的第1处理部30及第2处理部40会因为印字部31、滴下部41及涂抹部件42进行作业所需要的机构等而导致高度尺寸较大。因此,假设将第1处理部30及第2处理部40在第1方向上排列的话,使用者如果要进行印字色带的更换、推玻片的更换等的操作,前侧的处理部会成为障碍,不能轻易接近里侧的处理部。而如图16所示使第1处理部30及第2处理部40在左右方向-即第2方向排列的话,使用者更易对第1处理部30及第2处理部40进行操作。
〈载玻片供给部、第1处理部及第2处理部的位置关系〉
如图10所示,载玻片供给部20在第1供给部21的供给位置401或第2供给部22的供给位置402处供给载玻片10。附着物去除部130在相对于供给位置401及供给位置402来说排在X方向的去除位置403进行付着物的去除。第1处理部30在位于供给位置402的第1方向(Y2方向)侧的处理位置404进行印字处理作为第1处理。第2处理部40在相对于第1处理部30的处理位置404来说位于第2方向(X1方向)侧的处理位置405进行涂抹处理作为第2处理。
供给位置402和处理位置404在第1方向(Y2方向)成直线状排列。第1载玻片搬送部120使载玻片10在供给位置402和处理位置404之间沿第1方向(Y2方向)直线移动。处理位置404和处理位置405在第2方向(X1方向)上成直线状排列。第1载玻片搬送部120使载玻片10在处理位置404和处理位置405之间沿着第2方向(X1方向)直线移动。处理位置405和第1干燥处理部50在第3方向(Y1方向)上成直线状排列。搬出机构140使载玻片10在处理位置405和第1干燥处理部50之间沿第3方向(Y1方向)直线移动。
在图10的结构例中,载玻片供给部20和第1处理部30的处理位置404在第1方向(Y2方向)上相隔第1距离D1。另外,第1处理部30的处理位置404和第2处理部40的处理位置405在第2方向(X1方向)上相隔第2距离D2。第2距离D2小于第1距离D1。由此,相比于载玻片供给部20和第1处理部30之间的载玻片10的搬送距离,能使第1处理部30和第2处理部40之间的载玻片10的搬送距离更短。这样能够使装置左右方向(X方向)的外形尺寸变小,在将涂抹标本制作装置300或相关装置在左右方向排列的使用形态中,左右方向的放置空间很重要,本发明能够保证左右方向的放置空间。在图10的结构例中,第2距离D2是第1距离D1的一半以下。
〈第1干燥处理部及搬出机构的结构〉
接下来,参照图11,对第1干燥处理部50、搬出机构140、作为第3搬送部的第2载玻片搬送部150进行说明。在图11的结构例中,搬出机构140配置在配置有第2处理部40的位置。搬出机构140能够将载玻片10从第1载玻片搬送部120向第3方向(Y1方向)推出并移交到第1干燥处理部50。
搬出机构140能够在Y方向移动。搬出机构140包括第1推出部141。第1推出部141能够和载玻片10的Y2方向一侧的端面相抵接并将载玻片10从位于第2处理部40的第1载玻片搬送部120沿Y1方向搬出到第1干燥处理部50。
第1干燥处理部50包含:被配置在载玻片10上方位置的送风风扇51、管道部件52。送风风扇51朝向载玻片10往Y2方向一侧朝着斜下方送风。管道部件52配置在送风风扇51的出口侧,其使送风风扇51的风往下方(Z2方向)转向,将风导向载玻片10。另外,图中没有示出,但管道部件52在X方向一侧形成有排气口(没有图示),其具有遮挡功能,送风风扇51的风不会到达Y2方向一侧第2处理部40。
在图11的结构例中,搬出机构140能够将载玻片10从第1干燥处理部50往第3方向(Y1方向)推出并将载玻片10移交到第2载玻片搬送部150。搬出机构140包含第2推出部142、第3推出部143、抵靠部件144。第2推出部142能够将第1干燥处理部50的载玻片10搬到第2载玻片搬送部150。第2推出部142在上升状态下沿Y1方向移动,由此将第1干燥处理部50的载玻片10朝第2载玻片搬送部150推动。另外,第2推出部142在下降的状态下向Y2方向移动,由此就能避开第1干燥处理部50上的载玻片10并回到原来的位置。
第3推出部143能够将第2载玻片搬送部150的收容部151往Y1方向推出并使第2载玻片搬送部150转动。具体来说,第2载玻片搬送部150的收容部151能够以X方向的转轴152为中心转动。将载玻片10从第1干燥处理部50搬到第2载玻片搬送部150时,收容部151被第3推出部143推动,并由此转动成为在水平方向延伸的姿态。如图12所示,收容部151在水平姿态状态下接收第2推出部142向第3方向(Y1方向)推出的载玻片10。然后,收容部151接受载玻片10后转动成为在垂直方向延伸的姿态(参照图11)。即,因第3推出部143向Y2方向退避,第2载玻片搬送部150由于重力作用变成在垂直方向延伸的姿态。由此就能使载玻片10立起,从水平方向姿态变为垂直方向姿态。
第1推出部141、第2推出部142、第3推出部143相互联动地在Y方向移动。即,通过搬出机构140的共用驱动部(没有图示),第1推出部141、第2推出部142、第3推出部143得以移动。
抵靠部件144能够通过与第1载玻片搬送部120的夹持部123抵接使夹持部123移动到打开位置421。
〈载玻片放置部〉
图13的示例是作为第1收纳容器601及第2收纳容器602的一例的通用的载玻片收纳容器240。例如,在载玻片放置部170放置图13所示的载玻片收纳容器240。载玻片收纳容器240能够收纳数枚载玻片10。板状的隔板241从载玻片收纳容器240的短边方向两侧的内侧面向短边方向内侧突出。隔板241在长边方向按照同等间隔排列。隔板241之间的空间插入1枚载玻片10。插入的载玻片10的左右方向的两端部分被隔板241支撑,由此以在垂直方向延伸的姿态被安放。由此,载玻片收纳容器240能够将数枚载玻片10在Y方向上排列收纳。
(染色处理部、第3载玻片搬送部及第2干燥处理部)
在图14的结构例中,染色处理部160包含染色槽161及清洗槽162。染色槽161及清洗槽162都是上侧开放的容器形状,能够在内部蓄存液体。染色槽161及清洗槽162能使载玻片10以立起的状态在Y方向上排列放置。染色槽161里蓄存一定的染色液,清洗槽162里蓄存一定的清洗液。在图14中,为方便起见,图示了3个染色槽161及2个清洗槽162,但染色槽161及清洗槽162的个数与染色处理工序的数目及清洗处理工序的数目是相应的。各染色槽161及各清洗槽162根据处理工序的顺序在Y方向上排列配置。载玻片10按顺序从Y1方向一侧向Y2方向一侧被搬送到各槽,并在一定的设定时间中浸泡在各个槽所蓄存的染色液或清洗液中进行处理。
第2干燥处理部190包含干燥槽191和设置在干燥槽191的送风风扇192。干燥槽191上侧是开放的,能够插入载玻片10。干燥槽191能将立起状态的载玻片10在Y方向上排列放置。送风风扇192对安放在干燥槽191中的载玻片10送风。由此,第2干燥处理部190干燥染色处理后的载玻片10。
第3载玻片搬送部180包含:设置在装置上部的移动机构181、设置在移动机构181的手部件182。移动机构181能够使手部件182在属于水平方向的X方向及Y方向移动。手部件182能够在Z方向移动夹持1枚载玻片10。作为一种示例手部件182通过一对夹持板从厚度方向夹住载玻片10进行夹持。手部件182也可以采用从左右方向夹住载玻片10的结构。
在图14的结构例中,设置了2个第3载玻片搬送部180。即,第3载玻片搬送部180包含第1搬送部730及第2搬送部740。Y1方向一侧的第3载玻片搬送部180能够在载玻片放置部170、取出位置410及染色处理部160的上方位置移动,将载玻片10放入、取出。Y2方向一侧的第3载玻片搬送部180能够在染色处理部160、第2干燥处理部190及载玻片收纳部200的收纳位置412(参照图2)的上方位置移动,将载玻片10放入、取出。通过Y1方向一侧的第3载玻片搬送部180将载玻片10搬送到染色处理部160的中途,再通过Y2方向一侧的第3载玻片搬送部180将其搬送到第2干燥处理部190或载玻片收纳部200。第3载玻片搬送部180还可设置1个或3个以上。
(涂抹标本制作装置的涂抹标本制成作业)
参照图15,对涂抹标本制作装置300的涂抹标本制成作业的例子进行说明。对涂抹标本制作装置300的控制通过控制部230进行。
首先,在图15的步骤S1,进行样本的吸移处理。样本搬送部210搬送到吸移位置的样本容器211中的样本被吸移部220吸移。与步骤S1的处理并列进行的步骤S2中,载玻片10被搬送到附着物去除部130。具体来说,载玻片10从载玻片供给部20被供给到第1载玻片搬送部120。然后,被安放在第1载玻片搬送部120的载玻片10被搬送到附着物去除部130。在步骤S3中,通过附着物去除部130对安放在第1载玻片搬送部120的载玻片10进行付着物去除处理。
在步骤S4中,通过第1载玻片搬送部120将载玻片10搬往第1处理部30。在处理位置404(参照图10),第1载玻片搬送部120将载玻片10定位到第1处理高度位置431(参照图8)。在步骤S5中,通过第1处理部30对被安放在第1载玻片搬送部120的载玻片10进行印字处理。
在步骤S6中,通过第1载玻片搬送部120将载玻片10搬送到第2处理部40。在处理位置405(参照图10),第1载玻片搬送部120将载玻片10定位到第2处理高度位置432(参照图9)。在步骤S7中,通过第2处理部40对被安放在第1载玻片搬送部120的载玻片10进行涂抹处理。
在步骤S8中,载玻片10被搬送到第1干燥处理部50。具体来说,通过搬出机构140,载玻片10从第1载玻片搬送部120被移交到第1干燥处理部50。在步骤S9中,通过第1干燥处理部50对涂抹在载玻片10上的样本进行干燥处理。
在步骤S10中,通过第2载玻片搬送部150将载玻片10搬送到取出位置410(参照图2)。具体来说,通过搬出机构140将载玻片10从第1干燥处理部50移交到第2载玻片搬送部150的收容部151。第2载玻片搬送部150将安置在收容部151内的载玻片10搬送到取出位置410。
在步骤S11中,载玻片10被搬送到染色处理部160。具体来说,通过第3载玻片搬送部180将载玻片10从位于取出位置410的第2载玻片搬送部150取出并搬送到染色处理部160。在步骤S12中,通过染色处理部160对涂抹在载玻片10上的样本进行染色处理。载玻片10根据处理工序的顺序依次被搬送到各染色槽及各清洗槽。在这个过程中,载玻片10在染色处理部160内从Y1方向一侧向Y2方向一侧移动。
在步骤S13中,载玻片10被搬送到第2干燥处理部190。具体来说,通过第3载玻片搬送部180将载玻片10从染色处理部160移交到第2干燥处理部190。在步骤S14中,通过第2干燥处理部190对涂抹在载玻片10上的、已被染色的样本进行干燥处理。由此,在载玻片10上制作涂抹标本。
在步骤S15中,载玻片10被搬送到载玻片收纳部200。具体来说,通过第3载玻片搬送部180将载玻片10从第2干燥处理部190移交到被配置在载玻片收纳部200的收纳位置412的载玻片收纳容器240。然后,载玻片收纳容器240被搬送到回收位置413。在回收位置413,已制作涂抹标本的载玻片10被保管在载玻片收纳部200。然后,涂抹标本制成处理就结束了。
另外,如果是涂抹模式,在步骤S10中,被搬送到取出位置410的载玻片10通过第3载玻片搬送部180被搬送到载玻片放置部170,至此处理结束。使用者能够从载玻片放置部170回收进行了印字处理及涂抹处理但未染色的载玻片10。
如果是染色模式,则对于使用者安置在载玻片放置部170的、涂抹完成的载玻片10实施步骤S11之后的处理。这种情况,通过第3载玻片搬送部180将载玻片10从载玻片放置部170搬送到染色处理部160。
[第2实施方式]
接下来,对第2实施方式进行说明。
(第2实施方式的概要)
在特开(日本专利公开)2006-78296号公报(以下称为“专利文献2”)中公开了一种具备涂抹部、印字部、染色部及保管部的标本制作装置。这种标本制作装置能在数个作业模式下作业。在“采样模式”或“涂抹染色模式”中,标本制作装置将载玻片按顺序移送到涂抹部、印字部、染色部、保管部,且在涂抹部将样本涂抹在载玻片上,在印字部将样本识别信息等印字到载玻片,在染色部对载玻片上的样本进行染色,将所制作的涂抹标本保管于保管部。标本制作装置还能在以下模式下能作业:进行涂抹和印字但不进行染色的“涂抹模式”;进行染色但不进行涂抹和印字的“染色模式”;进行印字但不进行涂抹和染色的“印字模式”。
所述专利文献2中所公开的标本制作装置在所有的作业模式下都利用通过涂抹部、印字部、染色部及保管部的同一路径对载玻片进行移送。因此,比如,如果染色部正对其他载玻片实施染色处理,则无需染色的载玻片也必须等染色处理结束才能进行载玻片的移送,因此,使载玻片移送到保管部并成为使用者能取出的状态需要很长一段时间。
第2实施方式所说明的涂抹标本制作装置300的结构例能让使用者迅速从装置取出不需要染色的载玻片。
第2实施方式中的涂抹标本制作装置300的装置结构可以和图2所示的结构例相同。在第2实施方式中,将进行印字处理的第1处理部30改称为印字处理部30A。在第2实施方式中,将进行涂抹处理的第2处理部40改称为涂抹处理部40A。在第2实施方式中,针对样本搬送部210及吸移部220、染色处理部160及第3载玻片搬送部180、载玻片放置部170的详细的结构例进行说明。另外,在第2实施方式中,针对涂抹标本制作装置300的各种处理作业例进行说明。
(样本搬送部及吸移部的详细结构)
参照图17,对样本搬送部210及吸移部220的结构进行说明。样本搬送部210具备:能够安放架212的第1安放部801及第2安放部802、搬送架212的搬送线803。第1安放部801和第2安放部802在水平方向上排列,第1安放部801被配置在X2方向一侧,第2安放部802被配置在X1方向一侧。在第1安放部801及第2安放部802的Y2方向一侧配置有搬送线803。搬送线803在X方向上延伸,将第1安放部801和第2安放部802进行连接。
第1安放部801是安放使用者所放入的架的凹状区域。第1安放部801的两侧面分别设有能突出的爪部804。爪部804以突出的状态向Y2方向移动,由此,将架212推向Y2方向并并将其送到搬送线803。
搬送线803是带式输送机,将架212向X1方向进行搬送。
吸移部220被设置在搬送线803的上侧。吸移部220具备:样本容器放置部811、条形码读码器812、吸移管813。样本容器放置部811具备夹持样本容器211的夹持部814。夹持部814往下方移动,夹持搬送线803上的供给位置805处的样本容器211,然后往上方移动,将样本容器211从架212取出。样本容器放置部811摇动夹持部814夹持的样本容器211,由此对样本容器211内部的样本进行搅拌。
样本容器放置部811能在Y方向上移动,在夹持部814夹持样本容器211的状态下,样本容器放置部811往Y2方向移动,由此就将样本容器211移送到涂抹标本制作装置300的内部。
样本容器放置部811将样本容器211移送到涂抹标本制作装置300内部的读取位置815。样本容器211上贴附着条形码标签,条形码标签上印有样本ID的条形码。条形码读码器812从位于读取位置815的样本容器211的条形码读取样本ID。
样本容器放置部811将样本容器211更进一步往Y2方向移送,并将其定位在吸移位置816。尖头的管状吸移管813贯穿样本容器211的盖并吸移样本。
样本吸移后,样本容器放置部811往Y1方向移动,夹持部814往下方移动,由此,将样本容器211返还到架212中的原位置。
第2安放部802是安放样本吸移后的架的凹状区域。搬送线803的Y2方向一侧设有能够向Y1方向移动的架移送部806。搬送线803将架212搬送到X1方向尽头之后,架移送部806就向Y1方向移动。由此,架212被架移送部806推着向Y1方向移动并到达第2安放部802。
样本容器放置部811还能从涂抹标本制作装置300的机壳向Y1方向突出。使用者能够将样本容器211放置在被送出到Y1方向的样本容器放置部811上。放置有样本容器211的样本容器放置部811向Y2方向移动,由此,就将样本容器211移送到涂抹标本制作装置300的内部。样本吸移后,样本容器放置部811再次移动到涂抹标本制作装置300的外部。由此将样本容器211返还给使用者。
(染色处理部及第3载玻片搬送部的详细结构)
参照图18,对染色处理部160及第3载玻片搬送部180的结构进行说明。另外,在接下来的说明中,将上下方向称作Z方向。
染色处理部160具备染色槽161和清洗槽162。涂抹标本制作装置300具备流体回路部700,流体回路部700分别往染色槽161及清洗槽162供给或排出染色液701、清洗液702。
染色槽161及清洗槽162都是上侧开放的容器状,内部能够蓄存染色液701、清洗液702。染色槽161及清洗槽162分别能插入以宽幅方向为X方向、以厚度方向为Y方向的载玻片10。
染色槽161宜包含第1染色槽711和第2染色槽712。在图18的示例中,染色槽包含第1染色槽711~第5染色槽715这5个染色槽161。
清洗槽162包含第1清洗槽721和第2清洗槽722。
在染色处理部160中,第1染色槽711、第2染色槽712、第3染色槽713、第1清洗槽721、第4染色槽714、第5染色槽715,及第2清洗槽722沿着Y2方向依次排列。
在染色槽161的内部,板状的第1安放部716及第2安放部717在X方向上相互分离。另外,数个第1安放部716及第2安放部717以同等间隔在Y方向上排列。在第1安放部716、第2安放部717和与之相邻的第1安放部716、第2安放部717之间的空间插入1枚载玻片10。所插入的载玻片10被第1安放部716和第2安放部717支撑着宽幅方向的两端部分,从而维持立起的状态。清洗槽162也能以立起状态安放载玻片10。
载玻片10从第1染色槽711按顺序被搬送到各槽,并在一定的设定时间中浸泡在各个槽所蓄存的染色液701或清洗液702中进行处理。
第3载玻片搬送部180被配置在染色处理部160及载玻片放置部170的上方(Z1方向)。第3载玻片搬送部180宜包含第1搬送部730及第2搬送部740。在第1搬送部730以外另置第2搬送部740的话,从取出位置410往染色处理部160搬送载玻片10的作业和从染色处理部160往载玻片收纳部200搬送载玻片的作业就能分别进行,由此就提高了搬送効率。第1搬送部730及第2搬送部740能通过移动机构181分别在水平方向(即X方向以及Y方向)移动。
移动机构181具备:在Y方向延伸的Y轴轨道751及Y轴滑块752;在X方向延伸的X轴轨道753及X轴滑块754;Y轴马达755及X轴马达756。Y轴马达755及X轴马达756可采用比如步进马达或伺服马达。
Y轴轨道751被固定在支撑部件757的下侧面。支撑部件757是涂抹标本制作装置300机壳的顶部或者支撑用的梁部件等。Y轴滑块752被安装在Y轴轨道751的下侧面一侧(Z2方向一侧),能够沿着Y轴轨道751进行移动。Y轴马达755通过没有进行图示的传送机构使Y轴滑块752在Y方向上移动。传送机构比如可采用传送带-滑轮机构或齿条-齿轮机构等。
X轴轨道753被固定在Y轴滑块752的下侧面。X轴滑块754被安装在X轴轨道753的下侧面一侧(Z2方向一侧),能够沿着X轴轨道753进行移动。X轴马达756通过没有进行图示的传送机构使X轴滑块754在X方向上移动。
Y轴滑块752、X轴轨道753、X轴滑块754、X轴马达756,及Y轴马达755各设有一对。一X轴滑块754的下侧面一侧安装有第1搬送部730,另一X轴滑块754的下侧面一侧安装有第2搬送部740。由此,第1搬送部730及第2搬送部740能沿着各自的X轴轨道753在X方向相互独立进行移动。另外,第1搬送部730及第2搬送部740能沿着共同的Y轴轨道751在Y方向相互独立进行移动。
第1搬送部730及第2搬送部740的结构是相同的。第1搬送部730及第2搬送部740分别具备:手部件182、使手部件182上升下降的Z轴马达761、传送机构762。Z轴马达761通过传送机构762使手部件182进行上升下降。传送机构762比如可采用带-滑轮机构或齿条-齿轮机构等。
手部件182能够夹持1枚载玻片10。在图18的示例中,通过一对夹持板763从厚度方向上夹住、夹持载玻片10。一对夹持板763分别和载玻片10的表面和背面接触并将载玻片10夹住。一对夹持板763能在载玻片10的厚度方向(Y方向)上相对地移动。夹持板763的移动比如可通过空气气缸、马达、螺线管等驱动器得到实现。另外也可将手部件182设计为从宽幅方向夹住载玻片10的结构。
第1搬送部730能够移动到第1染色槽711、第2染色槽712、第3染色槽713、及第1清洗槽721的上方位置。因此,第1搬送部730能够分别针对第1染色槽711、第2染色槽712、第3染色槽713、及第1清洗槽721一枚一枚地插入、拔出载玻片10。
另外,第1搬送部730也能移动到取出位置410以及载玻片放置部170的2个第1收纳容器601的上方位置。因此,第1搬送部730能够从取出位置410拔出1枚载玻片10,也能分别对载玻片放置部170的2个第1收纳容器601一枚一枚地插入、拔出载玻片10。
第2搬送部740能够移动到第1清洗槽721、第4染色槽714、第5染色槽715、及第2清洗槽722的上方位置。因此,第2搬送部740能够分别对第1清洗槽721、第4染色槽714、第5染色槽715、及第2清洗槽722一枚一枚地插入、拔出载玻片10。
另外,第2搬送部740也能移动到第2干燥处理部190以及载玻片收纳部200的收纳位置412的上方位置。因此,第2搬送部740能够对第2干燥处理部190一枚一枚地插入、拔出载玻片10,也能对载玻片收纳部200收纳位置412上的第2收纳容器602一枚一枚地插入载玻片10。
第1搬送部730及第2搬送部740能并行不悖地分别搬送各自的载玻片10。第1搬送部730和第2搬送部740的作业范围在第1清洗槽721是重复的,在第1清洗槽721进行载玻片10的移交。移交的位置也可以选第1清洗槽721之外的其他位置。
第2干燥处理部190具备收容部771、送风部772。收容部771是上部开口的容器,能够将数个载玻片10以立起状态进行收容。送风部772能够往收容部771的内部送风。通过送风部772送风,收容在收容部771的染完色的载玻片10得到干燥。
(载玻片放置部的详细结构)
参照图19对载玻片放置部170的结构进行说明。载玻片放置部170具备第1放置部610和第2放置部620。第1放置部610和第2放置部620在X方向上排列配置。第1放置部610被配置在X2方向一侧,第2放置部620被配置在X1方向一侧。第1放置部610及第2放置部620的结构是相同的。
第1放置部610及第2放置部620分别能够放置1个第1收纳容器601。如图20所示,第1放置部610及第2放置部620分别具备:用来放置第1收纳容器601的放置部件631、滑动机构632、基部件633、盖部件634。
滑动机构632具备在Y方向上延伸的Y轴轨道635、Y轴滑块636。Y轴轨道635被固定在基部件633上。基部件633被固定在涂抹标本制作装置300机壳的底面上。Y轴滑块636被安装在Y轴轨道635的上侧面一侧(Z1方向一侧)且能够沿着Y轴轨道635进行移动。
Y轴滑块636的上侧面一侧安装有放置部件631。由此,放置部件631就能在Y方向上移动。
盖部件634被配置在放置部件631的Y1方向一侧。另外,盖部件634被配置在涂抹标本制作装置300机壳上所设置的开口处。盖部件634安装在基部件633的Y1方向的端部且能以在X方向延伸的转轴为中心进行旋转。通过盖部件634的旋转就能够闭合或打开涂抹标本制作装置300机壳上所设置的开口。即,盖部件634能够通过旋转进行开合。图20所示例的是盖部件634打开的状态。
盖部件634和放置部件631通过一对连接部件637相连结。一个连接部件637设置在盖部件634及放置部件631的X1方向一侧,另一个连接部件637被设置在盖部件634及放置部件631的X2方向一侧。连接部件637的一端安装在盖部件634上且能以在X方向延伸的转轴为中心进行旋转。放置部件631的两侧下端部分设置有向Z1方向延伸的杆部件638。连接部件637的另一端安装在杆部件638的Z1方向一侧(上侧)部分上且能够以在X方向延伸的转轴为中心进行旋转。由此,将关闭的盖部件634打开,则放置部件631就会与之联动地往Y1方向滑动。若将打开的盖部件634关上,则放置部件631会与之联动往Y2方向滑动。
第1收纳容器601是上部开口的长方体箱。放置部件631的上侧面一侧设有凹状部分639,凹状部分639用来安装、卸下第1收纳容器601。使用者打开盖部件634使放置部件631向Y1方向移动后针对凹状部分639安装、卸下第1收纳容器601。盖部件634打开的状态下,凹状部分639会被定位在涂抹标本制作装置300机壳的开口的附近,因此,使用者很容易就能针对凹状部分639安装、卸下第1收纳容器601。
再次参考图19。第1收纳容器601和第2收纳容器602有同样的形状。因此,第1收纳容器601最多能将10枚载玻片10以立起的状态在Y方向上排列收纳。
第1放置部610及第2放置部620的Y2方向一侧分别设有测出部640,测出部能测出收纳在第1收纳容器601中的载玻片10。测出部640是近距离传感器,比如可采用光遮断器、光反射器等。
第1搬送部730在染色处理部160和载玻片放置部170之间移动时或在取出位置410和载玻片放置部170之间移动时,若第1搬送部730想要通过第1放置部610或第2放置部620的Y2方向一侧的位置,那么被第1搬送部730所夹持的载玻片10将会干扰测出部640。所以,第1搬送部730会通过第1放置部610和第2放置部620之间,通过2个测出部640之间。第1放置部610和第2放置部620以及2个测出部640在X方向上的距离大于且仅大于1个载玻片10的宽幅。由此防止第1搬送部730所夹持的载玻片10干扰测出部640。
更具体来说,第1搬送部730在将载玻片10从取出位置410搬送到载玻片放置部170时,在取出位置410将载玻片10夹持并往Z1方向移动,将其从收容部151取出。然后,第1搬送部730往Y1方向移动,通过2个测出部640之间,到达第1放置部610及第2放置部620之间。接下来,第1搬送部730往X1方向或X2方向移动,将载玻片10定位到第1放置部610或第2放置部620的上方,然后往Z2方向移动,将载玻片10收纳到第1收纳容器601。第1搬送部730松开载玻片10后往Z1方向移动,再在X2方向或X1方向移动,移动到第1放置部610及第2放置部620之间。然后,第1搬送部730向Y2方向移动,通过2个测出部640之间往取出位置410或染色处理部160移动。
第1搬送部730将载玻片10从载玻片放置部170搬送到染色处理部160时,夹持被第1放置部610或第2放置部620的第1收纳容器601所收纳的载玻片10并在Z1方向移动,将载玻片10从第1收纳容器601取出。接下来,第1搬送部730在X2方向或X1方向移动,移动到第1放置部610及第2放置部620之间。然后,第1搬送部730在Y2方向移动,通过2个测出部640之间往染色处理部160移动。第1搬送部730将载玻片10定位在染色处理部160的第1染色槽711的上方并往Z2方向移动,将载玻片10插入到第1染色槽711。第1搬送部730松开载玻片10后往Z1方向移动,进而往Y1方向移动,移动至取出位置410或载玻片放置部170。
载玻片放置部170还可进一步具备第1锁部641和第2锁部642。第1锁部641及第2锁部642的结构是相同的。第1锁部641及第2锁部642均具备能插入盖部件634上所设的锁孔里的、没有进行图示的棒体。棒体被空气气缸、螺线管、马达等驱动器驱动。第1锁部641及第2锁部642能往关闭状态的盖部件634的锁孔里插入棒体上锁。另外,第1锁部641及第2锁部642能将棒体从盖部件634的锁孔拔出并由此解锁。第1锁部641及第2锁部642能通过锁住盖部件634来禁止第1收纳容器601的放置及取出;通过解锁盖部件634就能允许第1收纳容器601的放置及取出。
(涂抹标本制作装置的作业)
涂抹标本制作装置300能够设定为采样模式及手动模式其中任何一种作业模式。采样模式这一作业模式用于从样本搬送部210自动搬送来的样本容器211吸移样本,使用该样本对载玻片10实施涂抹处理,对载玻片10实施染色处理。手动模式这一作业模式下则用由使用者手动放置的样本容器或载玻片实施处理。
手动模式包含涂抹模式。涂抹模式这一作业模式下从使用者放置在样本容器放置部811的样本容器吸移样本,用该样本对载玻片10实施涂抹处理,且对载玻片10不实施染色处理。
另外,手动模式还可包含:涂抹染色模式、印字模式、染色模式。其中涂抹染色模式这一种作业模式下,从使用者放置在样本容器放置部811的样本容器吸移样本,使用该样本对载玻片10实施涂抹处理,并对载玻片10实施染色处理。印字模式这一种作业模式下,对载玻片10实施印字处理,且对载玻片10不实施涂抹处理及染色处理。染色模式这一种作业模式下,对使用者放置在载玻片放置部170的载玻片10实施染色处理,且对载玻片10不实施涂抹处理及印字处理。
〈采样模式〉
在初始设定中,涂抹标本制作装置300被设定为采样模式。参照图21对采样模式下的涂抹标本制作装置300的作业进行说明。
在采样模式下,样本搬送部210及吸移部220执行自动样本吸移作业(S101)。自动样本吸移作业是从样本搬送部210自动搬送来的样本容器211吸移样本的作业。参照图22对自动样本吸移作业进行说明。
样本搬送部210搬送架212,并将1个样本容器211定位到供给位置805(S151)。夹持部814将在供给位置805的样本容器211从架212取出并对样本进行搅拌后移送到涂抹标本制作装置300的内部(S152)。
样本容器放置部811将样本容器211移送到读取位置815,条形码读码器812从样本容器211的条形码读取样本ID(S153)。控制部230将读取到的样本ID发送给没有进行图示的主机,并问询指令(S154)。指令中包含涂抹条件、染色条件。样本容器放置部811将样本容器211移送到吸移位置816,吸移管813从样本容器211吸移样本(S155)。然后,样本容器放置部811将样本容器211返还到架212中的原位置,自动样本吸移作业就此结束。
再次参照图21。在上述自动样本吸移作业进行的同时,第1载玻片搬送部120将未涂抹样本的载玻片10从载玻片供给部20搬送到印字处理部30A(S102)。印字处理部30A将条形码读码器812读取到的样本ID等样本信息印字到载玻片10端部的印字区域---即磨砂区域(没有图示)(S103)。
接下来,第1载玻片搬送部120将实施了印字处理的载玻片10搬送往涂抹处理部40A(S104)。涂抹处理部40A使用吸移管813所吸移的样本对实施了印字处理的载玻片10实施涂抹处理(S105)。
第1载玻片搬送部120将实施了涂抹处理的载玻片10搬送往第1干燥处理部50(S106)。第1干燥处理部50对实施了涂抹处理的载玻片10进行干燥(S107)。
第1干燥处理部50的干燥完成后,第1载玻片搬送部120将干燥后的载玻片10搬送到第2载玻片搬送部150的收容部151。收容载玻片10的收容部151立起并往X1方向移动,将载玻片10搬送到取出位置410(S108)。
载玻片10到达取出位置410后,第1搬送部730将载玻片10从取出位置410搬送往染色处理部160(S109)。对该作业进行更详细地说明。第1搬送部730夹持以立起的状态被定位在取出位置410的载玻片10并往Z1方向移动,将其从收容部151取出。然后,第1搬送部730往水平方向移动将载玻片10定位在第1染色槽711的上方,接下来往Z2方向移动将载玻片10插入到第1染色槽711。第1搬送部730松开载玻片10后往Z1方向移动。
接下来,染色处理部160对通过第1搬送部730搬送来的载玻片10实施染色处理(S110)。参照图23对染色处理进行说明。
首先,在第1染色槽711进行染色(S161)。具体来说,在第1染色槽711中蓄存着第1染色液701。载玻片10在一定的设定时间T1期间被浸泡在第1染色液701中,由此,涂抹在载玻片10上的样本被染色。
接下来,第1搬送部730将载玻片10从第1染色槽711搬送往第2染色槽712,染色处理部160将涂抹在载玻片10上的样本在第2染色槽712进行染色(S162)。具体来说,第1搬送部730将插入到第1染色槽711的载玻片10夹持并往Z1方向移动,从第1染色槽711取出载玻片10。然后,第1搬送部730往Y2方向移动,将载玻片10定位在第2染色槽712的上方,接下来往Z2方向移动将载玻片10插入第2染色槽712。第1搬送部730松开载玻片10并往Z1方向移动。在第2染色槽712中蓄存着第2染色液701。载玻片10在一定的设定时间T2期间被浸泡在第2染色液701中,由此,涂抹在载玻片10上的样本被染色。
接下来,第1搬送部730将载玻片10从第2染色槽712搬送往第3染色槽713,染色处理部160将涂抹在载玻片10上的样本在第3染色槽713进行染色(S163)。在S163~S166中的第1搬送部730及第2搬送部740的作业和载玻片从第1染色槽711往第2染色槽712的搬送作业一样,因此省略说明。在第3染色槽713中蓄存着第3染色液701。在一定的设定时间T3期间,载玻片10被浸泡在第3染色液701中,由此,涂抹在载玻片10上的样本被染色。
接下来,第1搬送部730将载玻片10从第3染色槽713搬送往第1清洗槽721,染色处理部160将载玻片10在第1清洗槽721进行清洗(S164)。在第1清洗槽721中蓄存着第1清洗液702。在一定的设定时间T4期间,载玻片10被浸泡在第1清洗液702中,由此,载玻片10被清洗。
接下来,第2搬送部740将载玻片10从第1清洗槽721搬送往第4染色槽714或第5染色槽715,染色处理部160将涂抹在载玻片10上的样本在第4染色槽714或第5染色槽715进行染色(S165)。在第4染色槽714及第5染色槽715中蓄存着相同的第4染色液701。在一定的设定时间T5期间,载玻片10被浸泡在第4染色液701中,由此,涂抹在载玻片10上的样本被染色。
接下来,第2搬送部740将载玻片10从第4染色槽714或第5染色槽715搬送往第2清洗槽722,染色处理部160将载玻片10在第2清洗槽722中进行清洗(S166)。在第2清洗槽722中蓄存着第2清洗液702。在一定的设定时间T6期间,载玻片10被浸泡在第2清洗液702中,由此,载玻片10被清洗。到此,对载玻片10的染色处理结束。
再次参照图21。染色处理结束后,第2搬送部740将载玻片10从第2清洗槽722搬送往第2干燥处理部190的收容部771(S111)。因为此时的第2搬送部740的作业也和在S162中的第1搬送部730的作业相同,因此说明省略。
通过送风部772往收容部771的内部送风,被收容在收容部771的载玻片10得到干燥(S112)。
第2干燥处理部190的干燥完成后,第2搬送部740将干燥后的载玻片10搬送往载玻片收纳部200(S113)。具体来说,第2搬送部740夹持收容在收容部771的载玻片10并往Z1方向移动,将载玻片10从收容部771取出。然后,第2搬送部740往X1方向移动,将载玻片10定位在载玻片收纳部200的收纳位置412的上方,接下来往Z2方向移动,将载玻片10收纳到收纳位置412上的第2收纳容器602中。然后第2搬送部740松开载玻片10并往Z1方向移动。
在采样模式下,样本搬送部210按顺序搬送架212,吸移部220从架212按顺序将样本容器211取出并从样本容器211吸移样本。另外,第1载玻片搬送部120、第2载玻片搬送部150及第1搬送部730从载玻片供给部20将载玻片按顺序搬送往印字处理部30A、涂抹处理部40A、第1干燥处理部50、染色处理部160、第2干燥处理部190、载玻片收纳部200。由此,对各载玻片10的依次进行印字处理、涂抹处理、染色处理,各载玻片10被收纳到放置在载玻片收纳部200的第2收纳容器602中。
在这样的采样模式下,印字处理部30A的印字处理、涂抹处理部40A的涂抹处理、染色处理部160的染色处理是并列进行的。另外,在染色处理中,在第1染色槽711中的染色、在第2染色槽712中的染色、在第3染色槽713中的染色、在第1清洗槽721中的清洗、在第4染色槽714或第5染色槽715中的染色、在第2清洗槽722中的清洗是并列进行的。
〈手动模式〉
接下来,参照图24对手动模式进行说明。在执行采样模式的过程中,使用者按下设置在涂抹标本制作装置300机壳的、没有进行图示的模式变更按钮就能够给予涂抹标本制作装置300往手动模式切换的指示。控制部230判定是否接受了往手动模式切换的指示(S201),若没有接受(在S201为否),则重复步骤S201的处理。由此,采样模式得以继续。
若接受了往手动模式切换的指示(在S201为是),则控制部230判定吸移部220是否已将样本容器211放入涂抹标本制作装置300的内部(S202)。若样本容器211没有放入涂抹标本制作装置300的内部(在S202为否),控制部230将处理移往S204。
若样本容器211被放入涂抹标本制作装置300的内部(在S202为是),则控制部230判定所放入的样本容器211是否已被返还到架212(S203)。若样本容器211尚未被返还到架212(在S203为否),则控制部230重复S203的处理,等待样本容器211被返还到架212。
若样本容器211已返还到架212(在S203为是),则控制部230控制样本搬送部210,样本搬送部210中断架212的搬送(S204)。由此,采样模式中断。并且,吸移部220将样本容器放置部811送到涂抹标本制作装置300机壳的外部(S205)。
控制部230将手动模式界面显示在输出部231(S206)。在此,参照图25,对手动模式界面进行说明。手动模式界面是供使用者从涂抹染色模式、涂抹模式、印字模式、染色模式中进行任意选择的界面。手动模式界面920上包含:用来选择涂抹染色模式的选择部921、用来选择涂抹模式的选择部922、用来选择印字模式的选择部923、用来选择染色模式的选择部924、用来确定选择的OK按钮925、及用来取消选择的取消按钮926。使用者选择所希望的模式选择部921~924后选择OK按钮,以此确定所选择的模式。
再次参照图24。控制部230接受使用者的模式选择(S207),判定选择了哪种模式(S208)。若涂抹染色模式被选择(S208为“涂抹染色模式”),控制部230执行涂抹染色模式(S209)。若选择的是涂抹模式(在S208为“涂抹模式”),控制部230执行涂抹模式(S210),若选择了印字模式(在S208为“印字模式”),控制部230执行印字模式(S211),若选择了染色模式(在S208为“染色模式”),控制部230执行染色模式(S212)。所执行的模式的作业结束后,控制部230结束手动模式。
而且,在图24中的例子中根据没有进行图示的模式变更按钮的输入从采样模式向手动模式转换(S201),根据对手动模式界面的选择操作往各模式转移(S207),但也可以根据输入操作以外的其他条件往各模式转移。
比如,在染色模式中,如后所述,收纳未染色的载玻片10的第1收纳容器601由使用者放置在载玻片放置部170,载玻片10被测出部640测出。因此也可设计为:测出部640测出由使用者放置的第1收纳容器601中的载玻片10后,不必接受使用者的输入操作就转换为染色模式。
〈涂抹染色模式〉
参照图26,对涂抹染色模式进行说明。
涂抹染色模式开始后,控制部230就将作业条件输入界面显示在输出部231(S301)。
在此,参照图27,对作业条件输入界面进行说明。作业条件输入界面930是用于指定涂抹染色模式的作业条件的界面。使用者能够在作业条件输入界面930输入以下作业条件:样本ID;是否要读取条形码;样本容器211的种类;样本容器211盖的有无;涂抹条件;使用2个载玻片供给部20(第1供给部21、第2供给部22)中哪一个所收纳的载玻片10;涂抹同一样本的载玻片的枚数等。
再次参照图26。控制部230接受对作业条件输入界面930的作业条件的输入(S302)。
使用者能通过按下涂抹标本制作装置300机壳上的没有进行图示的开始按钮将所输入的作业条件下的涂抹染色模式作业(以下称为“手动涂抹染色作业”)的开始指示下达给涂抹标本制作装置300。使用者将样本容器211放置在样本容器放置部811,按下开始按钮下达手动涂抹染色作业的开始指示。控制部230接受手动涂抹染色作业的开始指示(S303),开始手动涂抹染色作业(S304)。
如图28所示,手动涂抹染色作业除了自动样本吸移作业(S101)改为“手动样本吸移作业”以外其余均和采样模式相同。手动样本吸移作业是从使用者放置在样本容器放置部811上的样本容器211吸移样本的作业。即,在手动涂抹染色作业中,从使用者放置在样本容器放置部811的样本容器211中所吸移的样本被涂抹处理部40A涂抹在载玻片供给部20供给的载玻片10上。实施了涂抹处理的载玻片10通过第1干燥处理部50被干燥后,被搬送往染色处理部160实施染色处理。实施了染色处理的载玻片10在通过第2干燥处理部190被干燥之后被搬送到载玻片收纳部200。
参照图29对手动样本吸移作业进行说明。样本容器放置部811移动到涂抹标本制作装置300的内部。由此,样本容器211被移送到涂抹标本制作装置300的内部(S371)。步骤S372~步骤S374和自动样本吸移作业中的步骤S153~S155相同,因此说明省略。
吸移管813吸移样本后,样本容器放置部811移动到涂抹标本制作装置300机壳外部。由此,样本容器211被排出到涂抹标本制作装置300的外部(S375)。至此,手动样本吸移作业结束。
再次参照图26。控制部230判定样本容器211是否被排出到了涂抹标本制作装置300的外部(S305)。若样本容器211在涂抹标本制作装置300的内部(在S305为否),则控制部230重复步骤S305的处理,等待手动涂抹染色作业中样本容器211被排出到涂抹标本制作装置300的外部。
样本容器211若被排出到了涂抹标本制作装置300的外部(在S305为是),则控制部230会将表示能连续执行手动涂抹染色作业的信息显示在输出部231(S306)。若要连续执行手动涂抹染色作业,则使用者将放置在样本容器放置部811上的样本容器211更换为别的样本容器211。另外,使用者若要使涂抹标本制作装置300恢复为采样模式,则可通过按下模式变更按钮将切换为采样模式指示下达给涂抹标本制作装置300。
控制部230判定是否接受了切换到采样模式的指示(S307),若没有接受(在S307为否),则将处理返回到步骤S301。由此,连续执行手动涂抹染色作业。
若接受了切换到采样模式的指示(在S307为是),控制部230将样本容器放置部811收纳到涂抹标本制作装置300机壳的内部(S308),采样模式重新开始(S309)。至此,涂抹染色模式终止。
〈涂抹模式〉
参照图30A~图30C,对涂抹模式进行说明。
涂抹模式开始后,控制部230就将作业条件输入界面显示在输出部231(S401)。
作业条件输入界面和涂抹染色模式下显示的作业条件输入界面相同。但,因为在涂抹模式中不进行染色处理,因此在作业条件输入界面中不能输入染色条件。
控制部230接受对作业条件输入界面的作业条件输入(S402)。
使用者按下开始按钮就能将所输入的作业条件下涂抹模式的作业(以下称为“手动涂抹作业”)的开始指示下达给涂抹标本制作装置300。使用者将样本容器211放置在样本容器放置部811后按下开始按钮来指示开始手动涂抹作业。控制部230接受手动涂抹作业的开始指示(S403)。
控制部230判定放置在载玻片放置部170的第1收纳容器601是否有空(S404)。具体来说可设计为:若测出部640没有测出收纳在第1收纳容器601中的载玻片10,那么控制部230就够判定第1收纳容器601有空。在此可如下设计:若其中1个测出部640测出载玻片10、另一个测出部640没有测出载玻片10,那么判定测出载玻片10的第1收纳容器601中没有空,没有测出载玻片10的第1收纳容器601中有空。
另外还可如下设计:若通过测出部640测出载玻片10,则第1搬送部730按顺序移动到第1收纳容器601中的各安放位置,夹持载玻片10并上升,由此判断每一个安放位置是否收纳着载玻片10。在收纳着载玻片10的安放位置,第1搬送部730会将载玻片10拔出,因此,被拔出的载玻片10就由测出部640测出。在没有收纳载玻片10的安放位置,第1搬送部730就不会拔出载玻片10,因此,测出部640就不会测出载玻片10。也可以如上所述地,若存在没有收纳载玻片10的安放位置,则控制部230判定第1收纳容器601有空。
另外还可如下设计:控制部230预先记忆各第1收纳容器601载玻片10的收纳状况,若存在没有收纳载玻片10的安放位置,则判定第1收纳容器601有空。
若在第1收纳容器601中没有空(在S404为否),控制部230将错误信息显示在输出部231(S405),将处理返回步骤S404。如果载玻片放置部170没有用来收纳载玻片10的空,那么就不能将实施了涂抹处理的载玻片10收纳到载玻片放置部170。因此,在这种情况下可以通过输出错误信息促使使用者换上有空的第1收纳容器601。
若第1收纳容器601中有空(在S404为是),那么控制部230将有空的第1收纳容器601设定为搬送对象(S406)。
另外,控制部230将作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634上锁(S407)。具体来说,搬送对象如果是被放置在第1放置部610的第1收纳容器601,则第1锁部641对盖部件634上锁。搬送对象如果是被放置在第2放置部620的第1收纳容器601,则第2锁部642对盖部件634上锁。由此,作为搬送对象的第1收纳容器601的取出就被禁止,因此就能防止使用者接触作为搬送对象的第1收纳容器601。另外,非搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634没有被上锁,因此,比如这个第1收纳容器601如果没有空的话,使用者就能将其更换为有空的第1收纳容器601。
接下来,控制部230开始手动涂抹作业(S408)。
如图31所示,手动涂抹作业中的步骤S451~S458和图28所示的手动涂抹染色作业中的步骤S351~步骤S358相同。即,在手动涂抹作业中,从使用者放置在样本容器放置部811的样本容器211吸移的样本被涂抹处理部40A涂抹在载玻片供给部20供给的载玻片10上。实施了涂抹处理的载玻片10通过第1干燥处理部50被干燥后被搬送到取出位置410。
涂抹完成的载玻片10到达取出位置410后,第1搬送部730就将涂抹完成的载玻片10从取出位置410搬送往作为搬送对象的第1收纳容器601(S459)。
再次参照图30A。控制部230判定样本容器211是否已被排出到涂抹标本制作装置300的外部(S409)。若样本容器211在涂抹标本制作装置300的内部(在S409为否),那么控制部230重复步骤S409的处理,等待手动涂抹作业中样本容器211被排出到涂抹标本制作装置300的外部。
若样本容器211已被排出到涂抹标本制作装置300的外部(在S409为是),那么控制部230将表示能连续执行手动涂抹作业的信息显示在输出部231(S410)。若要连续执行手动涂抹作业,则使用者将放置在样本容器放置部811上的样本容器211更换为别的样本容器211。另外,使用者若要使涂抹标本制作装置300恢复为采样模式,则可通过按下模式变更按钮向涂抹标本制作装置300下达向采样模式切换的指示。
控制部230判定是否接受了切换到采样模式的指示(S411)。若接受了切换到采样模式的指示(在S411为是),则控制部230将样本容器放置部811收纳到涂抹标本制作装置300的机壳内部(S412),采样模式重新开始(S413)。
接下来,控制部230判断是否在涂抹模式下处理的所有的载玻片10都收纳到了第1收纳容器601(S414)。如果有尚在涂抹模式下进行处理的、未被第1收纳容器601收纳的载玻片10(在S414为否),那么控制部230重复步骤S414的处理,等待涂抹模式下处理的所有的载玻片10被收纳到第1收纳容器601。
如果涂抹模式下处理的所有的载玻片10均已被收纳到了第1收纳容器601(在S414为是),那么控制部230将作为搬送对象的第1收纳容器601的设定解除(S415),将第1锁部641或第2锁部642解锁(S416)。至此,涂抹模式结束。
由此,不实施染色处理但实施了涂抹处理的载玻片10不用搬送到染色处理部160而能够搬送到载玻片放置部170,能迅速地将其从装置取出。
另外,若没有接受切换到采样模式的指示(在S411为否),则控制部230判定作为搬送对象的第1收纳容器601是否是满的(S417)。作为搬送对象的第1收纳容器601如果有空(在S417为否),控制部230将处理返回步骤S408。由此连续执行手动涂抹作业。
若作为搬送对象的第1收纳容器601是满的(在S417为是),则控制部230将作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634解锁(S418),将搬送对象设定为另一个第1收纳容器601(S419)。由此就能够将已满的第1收纳容器601更换为有空的第1收纳容器601。
接下来,控制部230判定作为搬送对象的第1收纳容器601是否有空(S420)。在此项处理中,和步骤S404同样地,既可以在测出部640没有测出载玻片10时判定为有空;也可以对判定第1收纳容器601的各安放位置是否有空。
若作为搬送对象的第1收纳容器601没有空(在S420为否),则控制部230将错误信息显示在输出部231(S421),并将处理返回步骤S420。由此,就能促使使用者换上有空的第1收纳容器601。
作为搬送对象的第1收纳容器601若有空(在S420为是),控制部230将作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634上锁(S422),将处理返回步骤S408。由此连续执行手动涂抹作业。
〈印字模式〉
参照图32A~图32C对印字模式进行说明。
印字模式开始后,控制部230就将作业条件输入界面显示在输出部231(S501)。
在此,参照图33,对作业条件输入界面进行说明。作业条件输入界面940是用来指定印字模式下的作业条件的界面。使用者能够将以下作业条件输入到作业条件输入界面940:样本ID;使用2个载玻片供给部20(第1供给部21、第2供给部22)中的哪一个所收纳的载玻片10等。
再次参照图32A。步骤S502~S507因为和如图30A所示的涂抹模式下的步骤S402~S407相同,因此说明省略。
将作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件上锁后,控制部230开始手动印字作业(S508)。
如图34所示,手动印字作业中的步骤S551~S553和图28所示的手动涂抹染色作业中的步骤S352~S354相同。即,在手动印字作业中,印字处理部30A将样本信息印字到从载玻片供给部20供给来的载玻片10上。实施了印字处理的载玻片10被搬送往涂抹处理部40A。
在手动印字作业中,涂抹处理部40A不对载玻片10实施涂抹处理。第1载玻片搬送部120将实施了印字处理的载玻片10搬送往第1干燥处理部50(S554)。
在手动印字作业中,第1干燥处理部50不对载玻片10进行干燥,第1载玻片搬送部120将载玻片10搬送到第2载玻片搬送部150的收容部151。收容载玻片10后的收容部151立起并往X1方向移动,将载玻片10搬送到取出位置410(S555)。
载玻片10到达取出位置410后,第1搬送部730就将载玻片10从取出位置410搬送往作为搬送对象的第1收纳容器601(S556)。
由此,未实施染色处理及涂抹处理、实施了印字处理的载玻片10不必搬送到染色处理部160而能直接搬送到载玻片放置部170,能迅速从载玻片放置部170取出。
再次参照图32A。在所述的手动印字作业中,样本容器放置部811一直处于涂抹标本制作装置300的机壳外部。控制部230将表示能连续执行手动印字作业的信息显示在输出部231(S509)。若要连续执行手动印字作业,则使用者使作业条件输入界面940再次显示在输出部。另外,使用者若要使涂抹标本制作装置300恢复为采样模式,则可通过按下模式变更按钮来向涂抹标本制作装置300下达向采样模式切换的指示。
图32A~图32C所示的步骤S510~步骤S521和图30A~图30C所示的涂抹模式下的步骤S411~步骤S422相同,因此说明省略。
接下来,参照图35对印字模式的其他例子进行说明。
在图35的例子中,如果控制部230在采样模式控制处理中(参照图21的S101~S113)接受了印字模式设定(参照图24的S201~S211),则优先执行印字模式控制(图34的S551~S556)而搁置采样模式处理,印字模式控制是指在印字处理部30A对不需要染色处理及涂抹处理的载玻片进行印字处理,在执行印字模式控制后重新开始采样模式控制。
由此,在从采样模式转为手动印字模式后从手动印字模式恢复为采样模式的过程是自动进行的,因此,就不需要由使用者进行恢复为采样模式的操作。即,在手动印字后,使用者不必特意按下模式变更按钮就能切实恢复到采样模式。这样,使用者管理涂抹标本制作装置300的状态这一负担得到了减轻,由此提高了涂抹标本制作装置300的便利性。
图35的步骤S501~S510和图32A所示的印字模式处理相同,因此说明省略。
若没有接受切换到采样模式的指示(在S510为否),则控制部230会将表示能连续执行手动印字作业的信息显示到输出部231,然后判断是否在没有接受输入的情况下已经过了一定时间(S570)。即,在上一载玻片10的印字作业开始后(S508),控制部230以下一枚载玻片10印字所需要的作业条件输入界面940显示在输出部(S509)为起点,判断是否在没有接受输入的情况下已经过了一定时间。一定时间是任意的。一定时间比如是5分钟。
如果控制部230在一定时间经过之前接受了针对下一枚载玻片10进行印字所需要的作业条件输入界面940的信息输入(在S570为否),那么控制部230开始下一枚载玻片10的印字作业(S508)。即,控制部230实施步骤S551~S556的印字模式控制。
在步骤S570,若在没有接受输入的情况下已经过了一定时间(在S570为是),则控制部230实施图32B的步骤S511~S515的处理。如果在步骤S510接受了切换到采样模式的指示(在S510为是),控制部230也会实施图32B的步骤S511~S515的处理。此时,控制部230会在步骤S512重新开始采样模式控制。
在图35的印字模式中,控制部230执行印字模式控制(S551~S556),并执行印字模式控制后重新开始采样模式控制(S512)。在上述示例中,控制部230通过判断是否在没有接受输入的情况下已经过了一定时间(S570)来根据时间经过自动地从印字模式恢复为采样模式。由此,若使用者想要继续印字模式,只要在一定时间内往作业条件输入界面940进行信息输入即可,且印字模式操作完成后,使用者不需要进行特别操作,根据时间经过就能自动恢复到采样模式。
〈染色模式〉
参照图36A及图36B,对染色模式进行说明。
染色模式开始后,控制部230判定载玻片放置部170是否有载玻片10(S601)。具体来说,可以设计为:若通过测出部640测出收纳在第1收纳容器601中的载玻片10,那么控制部230就判定第1收纳容器601有载玻片10,若通过测出部640没有测出收纳在第1收纳容器601中的载玻片10,那么控制部230够判定第1收纳容器601没有载玻片10。
若第1收纳容器601中没有载玻片10(在S601为否),控制部230将错误信息显示在输出部231上(S602),并将处理返回步骤S601。如果载玻片放置部170没有涂抹完样本的载玻片10,那么在染色模式下就不能给染色处理部160供给载玻片10。因此,在这种情况下,通过输出错误信息,就能促使使用者换上收纳有样本涂抹完毕的载玻片10的第1收纳容器601。
若第1收纳容器601中有载玻片10(在S601为是),则控制部230将收纳载玻片10的第1收纳容器601设定为搬送对象(S603)。
另外,控制部230对作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634上锁(S604)。由此,就能防止使用者接触作为搬送对象的第1收纳容器601。在此,非搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634没有上锁,如果这个第1收纳容器601中没有载玻片10,使用者就能将其更换为收纳了载玻片10的第1收纳容器601。
接下来,控制部230开始手动染色作业(S605)。
如图37所示,在手动染色作业中,第1搬送部730将载玻片10从作为搬送对象的第1收纳容器601搬送往染色处理部160的第1染色槽711(S651)。如上所述地,第1搬送部730将载玻片10从载玻片放置部170搬送往染色处理部160,由此,就能将载玻片放置部170用于两种用途,一是在涂抹模式及印字模式下用于取出处理完的载玻片10;二是在染色模式下供应要进行处理的载玻片10。
接下来,染色处理部160对第1搬送部730搬送的载玻片10实施染色处理(S652)。
染色处理结束后,第2搬送部740将载玻片10从第2清洗槽722搬送往第2干燥处理部190(S653)。接下来,送风部772往收容部771内部送风,由此使收容在收容部771的载玻片10干燥(S654)。第2干燥处理部190的干燥完成后,第2搬送部740就将干燥后的载玻片10搬送往载玻片收纳部200(S655)。步骤S653~步骤S655和上述步骤S111~步骤S113相同。
由此,就能将不实施涂抹处理而实施了染色处理的载玻片10搬送到载玻片收纳部200。即,实施了染色处理的载玻片10-即在采样模式、涂抹染色模式、及染色模式下处理过的载玻片10能从染色处理部160搬送到载玻片收纳部200。
针对作为搬送对象的第1收纳容器601中的所有的载玻片10连续进行上述手动染色作业。
再次参照图36A。控制部230判定作为搬送对象的第1收纳容器601是否已空(S606)。具体来说,测出部640测不到作为搬送对象的第1收纳容器601所收纳的载玻片10就判定该第1收纳容器601已空。
若作为搬送对象的第1收纳容器601中还有载玻片10(在S606为否),则控制部230判定是否接受了切换到采样模式的指示(S607)。若没有接受切换到采样模式的指示(在S607为否),则控制部230将处理返回步骤S606,再次判定作为搬送对象的第1收纳容器601是否已空。
若接受了切换到采样模式的指示(在S607为是),则控制部230将作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634解锁(S608)。
控制部230更进一步地中止从作为搬送对象的第1收纳容器601搬出载玻片10(S609)。由此,载玻片10就无法往染色处理部160供给。
接下来,控制部230对作为搬送对象的第1收纳容器601解除设定(S610),将样本容器放置部811收纳到涂抹标本制作装置300的机壳内部(S611),重新开始采样模式(S612)。至此,染色模式终止。
作为搬送对象的第1收纳容器601若是空的(在S606为是),则控制部230将作为搬送对象的第1收纳容器601的盖部件634解锁(S613)。接下来,控制部230将表示能连续进行手动染色作业的信息显示在输出部231(S614)。若要连续执行手动染色作业,则使用者不按模式变更按钮,若要恢复为采样模式,则按下模式变更按钮。
控制部230判定是否接受了切换到采样模式的指示(S615)。若接受了切换到采样模式的指示(在S615为是),则控制部230将处理移到步骤S609。
另一者面,若没有接受切换到采样模式的指示(在S615为否),则控制部230将搬送对象改设为另一个第1收纳容器601(S616)。
接下来,控制部230判定作为搬送对象的第1收纳容器601中是否有载玻片10(S617)。若作为搬送对象的第1收纳容器601中没有载玻片10(在S617为否),则控制部230将错误信息显示在输出部231(S618)并将处理返回步骤S617。由此就能促使使用者换上收纳了载玻片10的第1收纳容器601。
若作为搬送对象的第1收纳容器601中有载玻片10(在S617为是),则控制部230将处理返回步骤S604。由此,连续执行手动染色作业。
接下来,参照图38,对染色模式的其他例子进行说明。
在图38的例子中,如果控制部230在采样模式控制的处理过程中(参照图21的S101~S113)中接受了对染色模式的设定(参照图24的S201~S212),则搁置采样模式的处理而优先执行染色模式控制(S651~S655),染色模式控制是指对第1收纳容器601中的载玻片10在染色处理部160实施染色处理,控制部在执行染色模式控制后重新开始采样模式控制。
由此,在从采样模式转换为手动染色模式后从手动染色模式恢复到采样模式是自动的,因此,使用者不需要为恢复采样模式进行操作。即,在手动染色后,无需使用者按下模式变更按钮且能切实恢复到采样模式。这样,使用者管理涂抹标本制作装置300状态的这一负担得以减轻,由此提高了涂抹标本制作装置300的便利性。
图38的步骤S601~S605和图36A所示的染色模式的处理相同,因此说明省略。且,在图38所示流程中省略了图36A的S604及S608以进行简化,但也可以执行S604及S608。
在步骤S605基于染色模式控制(图37的S651~S655)的手动染色作业开始后,控制部230判定载玻片放置部170是否有载玻片10(S670)。具体来说可以如下设计:只要第1放置部610、第2放置部620其中任意一者的测出部640测出被收纳在第1收纳容器601中的载玻片10,控制部230就判定第1收纳容器601有载玻片10,若任何一个测出部640都没有测出收纳在第1收纳容器601中的载玻片10,那么控制部230判定第1收纳容器601中没有载玻片10。
若载玻片放置部170有载玻片10(在S670为是),则控制部230判定是否接受了切换到采样模式的指示(S607)。若没有接受切换到采样模式的指示(在S607为否),则控制部230设定作为搬送对象的第1收纳容器601(S603),继续手动染色作业。
在步骤S670,若载玻片放置部170没有载玻片10(在S670为否),则控制部230停止从载玻片放置部170搬出载玻片10(S609),解除对作为搬送对象的第1收纳容器601的设定(S610),将样本容器放置部811收纳到涂抹标本制作装置300的机壳内部(S611),重新开始采样模式控制(S612)。至此,染色模式终止。
若在步骤S607接受了切换到采样模式的指示(在S607为是),控制部230同样会实施步骤S609~S612的处理。此时,控制部230在步骤S612重新开始采样模式控制。
在图38的染色模式中,若使用者想要继续染色模式,则可通过往载玻片放置部170补充已完成涂抹的载玻片10来继续手动染色作业。即,本发明在载玻片放置部170的第1放置部610及第2放置部620中的其中一者所放置的第1收纳容器601变空后会对另一者所放置的第1收纳容器601内的完成涂抹的载玻片10开始手动染色作业,因此,使用者可将其中一者已空的第1收纳容器601取出并放置收纳完成涂抹的载玻片10的第1收纳容器601来使手动染色作业继续。
如上所述,在图38的染色模式中,控制部230执行染色模式控制(S651~S655),且在执行染色模式控制之后重新开始采样模式控制(S612)。在该例中,控制部230判断载玻片放置部170是否有载玻片10(S670)并根据有无完成涂抹的载玻片10自动从染色模式恢复到采样模式,而无需接受输入。由此,若使用者想使染色模式继续,只要在染色模式的过程中往载玻片放置部170补充完成涂抹的载玻片10即可,基于染色模式的操作完成后则能根据有无完成涂抹的载玻片10自动恢复为采样模式,使用者不需要进行特别操作。
特别是在第1收纳容器601所能收纳的完成涂抹的载玻片10全部进行手动染色处理的情况下,染色处理要花费一定的时间,在这段期间使用者有可能忘了向采样模式进行切换,或者想要进行别的操作而不会注意装置的状态。而上述结构能够根据有无完成涂抹的载玻片10自动恢复为采样模式,针对这一情形特别有用,提高了装置的便利性。
另外,本次所公开的实施方式中的所有点都是示例,绝无限制性。本发明的范围由权利要求所示而不受上述实施方式的说明所限,且包含和权利要求具有同等意义的变更(变形例),包含在权利要求的范围内的所有的变更(变形例)。
符号说明:
10:载玻片、20:载玻片供给部、23:搬出部、25:盒部、30:第1处理部、30A:印字处理部、40:第2处理部、40A:涂抹处理部、41:滴下部、42:涂抹部件、50:第1干燥处理部、120:第1载玻片搬送部、121:安放部件、123:夹持部、125:壁部、140:搬出机构、150:第2载玻片搬送部(第3搬送部)、151:收容部、160:染色处理部、161:染色槽、170:载玻片放置部、180:第3载玻片搬送部、190:第2干燥处理部、200:载玻片收纳部、201:第1搬送路径、202:第2搬送路径、210:样本搬送部、211:样本容器、212:架、220:吸移部、230:控制部、231:输出部、410:取出位置、421:打开位置、422:夹持位置、601:第1收纳容器、602:第2收纳容器、610:第1放置部、620:第2放置部、640:测出部、641:第1锁部、642:第2锁部、711:第1染色槽、712:第2染色槽、730:第1搬送部、740:第2搬送部、811:样本容器放置部、D1:第1距离、D2:第2距离

Claims (22)

1.一种涂抹标本制作装置,包括:
载玻片供给部,用于供给载玻片;
涂抹处理部,用于对所述载玻片供给部供给的载玻片实施样本的涂抹处理;
染色处理部,用于对所述涂抹处理部实施了所述涂抹处理的载玻片实施染色处理;
载玻片放置部,能够放置用于收纳载玻片的第1收纳容器;
第1搬送部,用于从所述涂抹处理部到所述染色处理部的搬送路径上的取出位置往所述载玻片放置部所放置的第1收纳容器搬送载玻片。
2.根据权利要求1所述的涂抹标本制作装置,还包括:
载玻片收纳部,能够放置用来收纳在所述染色处理部实施了所述染色处理的载玻片的第2收纳容器。
3.根据权利要求1或2所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述第1搬送部能够从所述取出位置往所述染色处理部搬送载玻片。
4.根据权利要求3所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述取出位置是位于所述染色处理部和所述载玻片放置部之间的位置。
5.根据权利要求1所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述第1搬送部能够将所述载玻片放置部中放置的所述第1收纳容器所收纳的载玻片搬送至所述染色处理部。
6.根据权利要求2所述的涂抹标本制作装置,还包括:
第2搬送部,将在所述染色处理部实施了所述染色处理的载玻片搬送至载玻片收纳部中放置的所述第2收纳容器。
7.根据权利要求1所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述第1收纳容器能够将载玻片以立起的状态进行收纳;
所述第1搬送部将载玻片以立起的状态从所述取出位置往所述载玻片放置部中放置的所述第1收纳容器搬送。
8.根据权利要求7所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述第1搬送部能够夹持立起状态的载玻片,在所述取出位置夹持载玻片并上升,使所述载玻片以被吊住的状态安放着并将所述载玻片定位在所述载玻片放置部中放置的所述第1收纳容器的上方,然后通过下降将所述载玻片收纳到所述第1收纳容器。
9.根据权利要求7或8所述的涂抹标本制作装置,还包括:第3搬送部,所述第3搬送部具有将进行了所述涂抹处理的载玻片以倒下状态进行收容的收容部,通过立起收容了所述载玻片的所述收容部而立起所述载玻片后往所述取出位置进行搬送。
10.根据权利要求7所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述染色处理部具有收容有染色液的染色槽;
所述第1搬送部将载玻片以立起状态从所述取出位置往所述染色槽搬送。
11.根据权利要求10所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述染色处理部具有收容有染色液的第1染色槽及第2染色槽;
所述第1搬送部能够将载玻片从所述第1染色槽往所述第2染色槽搬送。
12.根据权利要求6所述的涂抹标本制作装置,还包括:
控制部;
若设定对载玻片实施所述涂抹处理和所述染色处理的涂抹染色模式,则控制部控制所述第2搬送部将实施了所述涂抹处理和所述染色处理的载玻片从所述染色处理部搬送到所述载玻片收纳部;
若设定对载玻片不实施所述染色处理而实施所述涂抹处理的涂抹模式,则控制部控制所述第1搬送部将未实施所述染色处理而实施了所述涂抹处理的载玻片从所述取出位置搬送到所述载玻片放置部。
13.根据权利要求12所述的涂抹标本制作装置,还包括:
印字处理部,用于对载玻片实施印字处理;
其中,若设定的是对载玻片不实施所述染色处理和所述涂抹处理而实施所述印字处理的印字模式,则所述控制部控制所述第1搬送部将未实施所述染色处理和所述涂抹处理而实施了所述印字处理的载玻片从所述取出位置搬送到所述载玻片放置部。
14.根据权利要求1所述的涂抹标本制作装置,还包括:
印字处理部,用于对载玻片实施印字处理;
样本搬送部,对安放数个样本容器的架进行搬送;
吸移部,吸移所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的所述样本容器中的样本;
控制部,若设定用所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的样本容器收容的样本对载玻片实施所述涂抹处理的采样模式,则控制部执行采样模式控制,控制所述吸移部从所述架上安放的数个样本容器依次吸移样本;
其中,如果在所述采样模式处理过程中接受了对载玻片不实施所述染色处理和所述涂抹处理而实施所述印字处理这一印字模式的设定,则所述控制部搁置所述采样模式的处理而优先执行印字模式控制,在所述印字处理部对不实施所述染色处理和所述涂抹处理的载玻片实施印字处理;
所述控制部在执行所述印字模式控制后再次开始所述采样模式控制。
15.根据权利要求12或13所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
若设定对载玻片不实施所述涂抹处理而实施所述染色处理的染色模式,则所述控制部控制所述第2搬送部将未实施所述涂抹处理而实施了所述染色处理的载玻片从所述染色处理部搬送到所述载玻片收纳部。
16.根据权利要求15所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
若设定的是所述染色模式,则所述控制部控制所述第1搬送部将载玻片从所述载玻片放置部中放置的所述第1收纳容器往所述染色处理部搬送。
17.根据权利要求1所述的涂抹标本制作装置,还包括:
样本搬送部,对安放数个样本容器的架进行搬送;
吸移部,吸移所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的所述样本容器中的样本;
控制部,若设定的是用所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的样本容器中收容的样本对载玻片实施所述涂抹处理的采样模式,则控制部执行采样模式控制,控制所述吸移部从所述架上安放的数个样本容器依次吸移样本;
其中,如果在所述采样模式处理过程中接受了对载玻片不实施所述涂抹处理而实施所述染色处理这一染色模式的设定,则所述控制部搁置所述采样模式的处理而优先执行染色模式控制,在所述染色处理部对所述第1收纳容器的载玻片实施染色处理;
所述控制部执行所述染色模式控制后再次开始所述采样模式控制。
18.根据权利要求16或17所述的涂抹标本制作装置,还包括:
测出部,用于测出所述载玻片放置部中放置的所述第1收纳容器中收纳的载玻片; 输出部;
其中,在接受了所述涂抹模式设定的情况下如果所述测出部测出了载玻片,则所述控制部使错误信息输出到所述输出部。
19.根据权利要求18所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
在接受了所述染色模式设定的情况下,如果所述测出部未测出载玻片,则所述控制部使错误信息输出到所述输出部。
20.根据权利要求12所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述载玻片放置部具备能够分别放置可收纳数个载玻片的所述第1收纳容器的第1放置部和第2放置部;
在设定为所述涂抹模式的情况下,所述控制部控制所述第1搬送部,将所述涂抹处理部实施了所述涂抹处理的数个载玻片依次搬送到所述第1放置部中放置的所述第1收纳容器,之后,将所述涂抹处理部实施了所述涂抹处理的数个载玻片依次搬送到所述第2放置部中放置的所述第1收纳容器。
21.根据权利要求20所述的涂抹标本制作装置,其特征在于:
所述载玻片放置部具有在许可/禁止所述第1放置部中的所述第1收纳容器取出之间进行切换的第1锁部、在许可/禁止所述第2放置部中的所述第1收纳容器取出之间进行切换的第2锁部;
设定为所述涂抹模式的情况下,在通过所述第1搬送部向所述第1放置部中放置的所述第1收纳容器搬送载玻片期间,所述控制部通过所述第1锁部禁止所述第1放置部中的所述第1收纳容器取出且通过所述第2锁部许可所述第2放置部中的所述第1收纳容器取出;在通过所述第1搬送部向所述第2放置部中放置的所述第1收纳容器搬送载玻片期间,所述控制部通过所述第2锁部禁止所述第2放置部中的所述第1收纳容器取出且通过所述第1锁部许可所述第1放置部中的所述第1收纳容器取出。
22.根据权利要求12或13所述的涂抹标本制作装置,还包括:
样本搬送部,对安放数个样本容器的架进行搬送;
吸移部,吸移所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的所述样本容器中的样本;
样本容器放置部,供使用者放置样本容器;
其中,如果设定用所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的样本容器中收容的样本对载玻片实施所述涂抹处理且实施所述染色处理的采样模式,则所述控制部执行采样模式控制处理,控制所述吸移部从所述样本搬送部搬送来的所述架上安放的数个样本容器依次吸移数个样本,使用所述吸移部吸移的所述数个样本在所述涂抹处理部对数个载玻片依次实施所述涂抹处理,在所述染色处理部对在所述涂抹处理部实施了所述涂抹处理的所述数个载玻片依次实施所述染色处理,控制所述第2搬送部将在所述染色处理部实施了所述染色处理的所述数个载玻片依次搬送到所述载玻片收纳部;
如果在执行所述采样模式控制处理期间接受了所述涂抹模式的设定,则在所述吸移部执行的1个样本的吸移结束后执行涂抹模式控制处理,控制所述吸移部从被放置在所述样本容器放置部的所述样本容器吸移样本,控制所述涂抹处理部用所述吸移部吸移的所述样本对载玻片实施所述涂抹处理,控制所述第1搬送部将在所述涂抹处理部实施了所述涂抹处理的载玻片搬送到所述载玻片放置部;
在所述涂抹模式控制处理中所述吸移部对样本的吸移结束后再次开始所述采样模式控制处理。
CN202011216018.7A 2015-08-31 2016-07-27 样本涂抹装置及涂抹方法、涂抹标本制作装置及制作方法 Pending CN112665932A (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015171204 2015-08-31
JP2015-171204 2015-08-31
JP2016-092071 2016-04-28
JP2016092071 2016-04-28
CN201680050083.2A CN108027304A (zh) 2015-08-31 2016-07-27 样本涂抹装置、样本涂抹方法、涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680050083.2A Division CN108027304A (zh) 2015-08-31 2016-07-27 样本涂抹装置、样本涂抹方法、涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112665932A true CN112665932A (zh) 2021-04-16

Family

ID=58187316

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011216018.7A Pending CN112665932A (zh) 2015-08-31 2016-07-27 样本涂抹装置及涂抹方法、涂抹标本制作装置及制作方法
CN201680050083.2A Pending CN108027304A (zh) 2015-08-31 2016-07-27 样本涂抹装置、样本涂抹方法、涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680050083.2A Pending CN108027304A (zh) 2015-08-31 2016-07-27 样本涂抹装置、样本涂抹方法、涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法

Country Status (5)

Country Link
US (3) US10801929B2 (zh)
EP (2) EP3346254B1 (zh)
JP (1) JP6254330B2 (zh)
CN (2) CN112665932A (zh)
WO (1) WO2017038323A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3346254B1 (en) 2015-08-31 2022-03-23 Sysmex Corporation Smear sample preparation apparatus and smear sample preparing method
JP6243965B2 (ja) * 2016-05-26 2017-12-06 シスメックス株式会社 塗抹標本作製装置および塗抹標本作成方法
JP6868479B2 (ja) * 2017-06-20 2021-05-12 シスメックス株式会社 スライドガラスセット、スライドガラス用包装箱およびスライドガラスの設置方法
FR3072171B1 (fr) * 2017-10-06 2021-02-19 Diagdev Dispositif et procede de coloration d'un element organique sur une lame
CN108195654B (zh) * 2018-01-10 2024-03-29 襄阳市科瑞杰医疗器械有限公司 一种自动涂片染色机
JP7272878B2 (ja) 2019-06-26 2023-05-12 シスメックス株式会社 塗抹標本作製装置および塗抹標本作製方法
JP7223648B2 (ja) 2019-06-26 2023-02-16 シスメックス株式会社 塗抹標本作製装置、塗抹標本作製装置の制御方法および検体処理装置
CN112840195B (zh) * 2019-06-27 2024-05-07 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 样本染色方法、涂片制备设备及染色液组合
JP7236358B2 (ja) * 2019-09-04 2023-03-09 平田機工株式会社 標本作製装置
CN111006924B (zh) * 2019-11-24 2022-02-08 南通市第一人民医院 一种用于临床医学观察检验的便捷化涂片装置
JP2024127635A (ja) 2023-03-09 2024-09-20 シスメックス株式会社 検体分析装置および検体処理システム

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1148175A (zh) * 1995-03-31 1997-04-23 东亚医用电子株式会社 自动样品制作装置
US6319470B1 (en) * 1998-09-01 2001-11-20 Abx Device for automatic preparation of blood smears on plates
CN101464237A (zh) * 2007-12-17 2009-06-24 希森美康株式会社 涂抹标本制作装置
CN102192852A (zh) * 2010-03-11 2011-09-21 希森美康株式会社 涂片染色装置、制备装置、处理系统及染色条件决定方法
CN103713144A (zh) * 2012-09-28 2014-04-09 希森美康株式会社 标本运送装置、标本检查系统及标本运送方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US145766A (en) * 1873-12-23 Improvement in machines for shaping pickets
JPS471990U (zh) * 1971-01-21 1972-08-22
JPS5611337A (en) * 1979-07-09 1981-02-04 Agency Of Ind Science & Technol Blood daubing unit
JPH02140447U (zh) * 1989-04-25 1990-11-26
US5209903A (en) 1989-09-06 1993-05-11 Toa Medical Electronics, Co., Ltd. Synthetic apparatus for inspection of blood
AU636384B2 (en) 1989-09-06 1993-04-29 Toa Medical Electronics Co., Ltd. Synthetic apparatus for inspection of blood
US5270012A (en) 1989-09-06 1993-12-14 Toa Medical Electronics Co., Ltd. Synethic apparatus for inspection of blood
JPH0734361Y2 (ja) * 1990-06-13 1995-08-02 東亜医用電子株式会社 スライドガラス供給装置
JPH08316289A (ja) * 1995-05-23 1996-11-29 Nikon Corp 自動搬送装置
JP3725089B2 (ja) * 2002-04-11 2005-12-07 アロカ株式会社 検体処理システム
JP4327581B2 (ja) 2003-12-24 2009-09-09 シスメックス株式会社 標本作製装置
EP1612537B1 (en) * 2004-06-30 2012-12-19 Sysmex Corporation Specimen preparation apparatus, specimen preparation/analysis system and specimen plate
JP4508790B2 (ja) * 2004-09-08 2010-07-21 シスメックス株式会社 標本作製装置
CN101900720B (zh) * 2009-05-29 2014-09-10 希森美康株式会社 检体处理装置以及检体处理方法
JP5647913B2 (ja) 2011-02-03 2015-01-07 シスメックス株式会社 標本作製装置
JP5829643B2 (ja) 2013-03-29 2015-12-09 シスメックス株式会社 分析装置
DE102013009629B4 (de) * 2013-06-10 2019-09-12 Carl Freudenberg Kg Elektrodenmodul und Anordnung mit Elektrodenmodulen
JP6118223B2 (ja) 2013-09-27 2017-04-19 シスメックス株式会社 液体吸引装置、検体分析装置、およびチップ収容容器
CN111337321A (zh) 2014-04-28 2020-06-26 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 涂片制备装置和涂片制备方法
JP6190799B2 (ja) 2014-11-26 2017-08-30 シスメックス株式会社 塗抹標本染色装置
EP3346254B1 (en) 2015-08-31 2022-03-23 Sysmex Corporation Smear sample preparation apparatus and smear sample preparing method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1148175A (zh) * 1995-03-31 1997-04-23 东亚医用电子株式会社 自动样品制作装置
US6319470B1 (en) * 1998-09-01 2001-11-20 Abx Device for automatic preparation of blood smears on plates
CN101464237A (zh) * 2007-12-17 2009-06-24 希森美康株式会社 涂抹标本制作装置
CN102192852A (zh) * 2010-03-11 2011-09-21 希森美康株式会社 涂片染色装置、制备装置、处理系统及染色条件决定方法
CN103713144A (zh) * 2012-09-28 2014-04-09 希森美康株式会社 标本运送装置、标本检查系统及标本运送方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20220357245A1 (en) 2022-11-10
CN108027304A (zh) 2018-05-11
US11422072B2 (en) 2022-08-23
EP4012373A1 (en) 2022-06-15
EP3346254B1 (en) 2022-03-23
JP6254330B2 (ja) 2017-12-27
US20180188140A1 (en) 2018-07-05
JPWO2017038323A1 (ja) 2017-09-07
EP3346254A4 (en) 2019-04-17
WO2017038323A1 (ja) 2017-03-09
EP3346254A1 (en) 2018-07-11
US20200348214A1 (en) 2020-11-05
US10801929B2 (en) 2020-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112665932A (zh) 样本涂抹装置及涂抹方法、涂抹标本制作装置及制作方法
US10900982B2 (en) Automated high volume slide processing system
US7833485B2 (en) Sample preparing apparatus
JP5268870B2 (ja) 核酸の自動抽出システムおよびその方法
CN107144458B (zh) 标本染色装置、涂抹标本制作装置以及标本染色方法
CN107340160B (zh) 样本涂抹装置及样本涂抹方法
JP2010127936A (ja) 液体試料の処理のためのシステムおよび方法
JP2010127941A5 (zh)
CN108687087B (zh) 涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置
CN107436255B (zh) 涂抹标本制作装置和涂抹标本制作方法
CN112146964B (zh) 涂抹标本制作装置、涂抹标本制作装置的控制方法以及样本处理装置
CN116046500A (zh) 样本涂抹装置
CN113941383A (zh) 一种移液平台
JP2001165941A (ja) 分注方法
US11313871B2 (en) Specimen treatment and measurement system
JP6283130B2 (ja) 検体処理装置および検体処理方法
CN118010638A (zh) 油去除方法及油去除装置、输送装置及检查系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination