CN112609226A - 一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及半导体分立器件制造技术领域，且公开了一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，包括电镀箱，所述电镀箱的底部固定连接有气筒，所述气筒的内侧壁滑动连接有活塞柱，所述活塞柱的底端固定连接有浮球，所述气筒的顶端固定连接有检测管，所述检测管的内部滑动连接有滑动块。两个导电柱同时触发接电座，使接电座控制封堵块上的电磁铁一和电磁铁二同时工作，使电磁铁一吸引电磁铁二，使电磁铁二上的滑动柱带动封堵块向进口端的外侧移动，使封堵块不再对进液管进行封堵，使电镀液可以进入电镀箱内进行电镀，从而有效避免了由于电镀液出现倾斜时，导致电镀不均匀的现象发生，进而提升二极管的电镀质量。

Description

一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置
技术领域
本发明涉及半导体分立器件制造技术领域，具体为一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置。
背景技术
半导体分立器件，泛指半导体晶体二极管、半导体三极管简称三极管、三极管及半导体特殊器件，其中，在晶体二极管制造的过程中，需要进行电镀操作，二极管引线电镀机有滚镀式和挂镀等方法，镀适用于受形状、大小等因素影响无法或不宜装挂的小零件的电镀，它与早期小零件电镀采用挂镀或篮筐镀的方式相比，节省了劳动力，提高了劳动生产效率，而且镀件表面质量也大大提高。
现有技术中，在进行电镀时，需要将器件放置于电镀箱内进行电镀，当电镀液的液面处于倾斜状态时，液面进入电镀箱的开口速度就不一致，使电镀液会首先进入倾斜面的开口，导致出现电镀不均匀的现象，大大降低电镀的不良品率。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，具备利用浮力，自动开启通道，使液面可以同时进入电解箱内的优点，解决了在进行电镀时，需要将器件放置于电镀箱内进行电镀，当电镀液的液面处于倾斜状态时，液面进入电镀箱的开口速度就不一致，使电镀液会首先进入倾斜面的开口，导致出现电镀不均匀的现象，大大降低电镀的不良品率的问题。
(二)技术方案
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，包括电镀箱，所述电镀箱的底部固定连接有气筒，所述气筒的内侧壁滑动连接有活塞柱，所述活塞柱的底端固定连接有浮球，所述气筒的顶端固定连接有检测管，所述检测管的内部滑动连接有滑动块，所述检测管的内部中线位置处固定连接有接电座，所述接电座的两侧活动连接有导电柱；
所述电镀箱的两侧均固定连接有进液管，所述进液管的内部固定连接有驱动座，所述驱动座的内侧壁固定连接有电磁铁一，所述驱动座的内侧壁滑动连接有滑动柱，所述滑动柱的一端固定连接有电磁铁二，所述滑动柱的另一端固定连接有封堵块；
所述电镀箱的内侧壁固定连接有三通管，所述三通管的一侧固定连接有进气管，所述三通管的内侧壁滑动连接有活动丝杆，所述活动丝杆的外侧壁啮合有传动齿一，所述传动齿一的外侧壁啮合有传动齿二，所述传动齿二的旋转轴固定连接有引流板。
优选的，所述浮球共设有两个，两个所述浮球参照所述电镀箱的底部中线位置处对称分布，两个对称的浮球对液面的两个端点的高度进行检测。
优选的，所述接电座通过导线与外部电源电性连接，所述接电座的电性输出端通过导线与所述电磁铁一和所述电磁铁二的电性输入端电性连接，接电座与导电柱接触后，形成通路，使接电座控制电磁铁一和电磁铁二开始工作。
优选的，所述电磁铁一与所述电磁铁二的磁极相反，所述电磁铁一与所述电磁铁二处于同一垂直线上，电磁铁一与电磁铁二在工作时，相互吸引。
优选的，所述滑动柱的一端固定连接有复位弹簧，复位弹簧带动滑动柱复位。
优选的，所述封堵块共设有两个，两个所述封堵块参照所述进液管的中线对称分布，两个封堵块相互接触，对进液管进行封堵。
优选的，所述引流板共设有两个，两个所述引流板参照所述进液管的中线对称分布，两个引流板对电镀液进行引流，使电镀液可以快速进入电镀箱内。
(三)有益效果
与现有技术相比，本发明提供了一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，具备以下有益效果：
1、该利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，通过在电镀箱的底部设置两个对称的浮球，当电镀箱向电镀液移动时，电镀箱底部的两个浮球首先与电镀液面接触，使浮球在电镀液的浮力作用下，向上移动，使浮球带动活塞柱上升，使活塞柱将气筒内的空气泵入检测管内，使气流带动检测管内的两个滑动块向内移动，使两个滑动块向内推动导电柱与接电座接触，当电镀液的液面出现倾斜时，两个浮球的高度也就不一致，使活塞柱泵入检测管内的气流量也就不相同，使与倾斜面相反的一端的滑动块不会与导电柱接触，使接电座不被触发，使进液管内的封堵块在复位弹簧的作用下对进口端进行封堵，当电镀液的液面处于水平状态时，两个浮球的高度一致，使检测管内的滑动块在气流的作用下，可以同时与导电柱接触，使两个导电柱同时触发接电座，使接电座控制封堵块上的电磁铁一和电磁铁二同时工作，使电磁铁一吸引电磁铁二，使电磁铁二上的滑动柱带动封堵块向进口端的外侧移动，使封堵块不再对进液管进行封堵，使电镀液可以进入电镀箱内进行电镀，从而有效避免了由于电镀液出现倾斜时，导致电镀不均匀的现象发生，进而提升二极管的电镀质量。
2、该利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，通过设置三通管，三通管通过进气管与检测管连通，滑动块在移动的过程中，检测管内的空气被泵入三通管内，使气流推动三通管内的活动丝杆移动，使活动丝杆带动传动齿一旋转，传动齿一再带动与之啮合的传动齿二旋转，使传动齿二带动引流板发生翻转，使电镀箱在进入液面时，引流板可以自动张开，使电镀液在引流板上形成对流，使电镀液可以快速进入电镀箱内，达到提升电镀效率的目的。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明中图1的A处放大图；
图3为本发明中进液管的结构示意图，此时，进液管处于闭合状态；
图4为本发明中进液管的结构示意图，此时，进液管处于开启状态；
图5为本发明中图4的B处放大图；
图6为本发明中引流板的位置关系图，此时引流板处于闭合状态；
图7为本发明中引流板的位置关系图，此时引流板处于开启状态。
图中：1、电镀箱；2、气筒；21、活塞柱；22、浮球；23、检测管；24、滑动块；25、接电座；26、导电柱；3、进液管；31、驱动座；32、电磁铁一；33、电磁铁二；34、滑动柱；35、复位弹簧；36、封堵块；4、三通管；41、进气管；42、活动丝杆；43、传动齿一；44、传动齿二；45、引流板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-7，一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，包括电镀箱1，电镀箱1的底部固定连接有气筒2，气筒2的内侧壁滑动连接有活塞柱21，活塞柱21的底端固定连接有浮球22，浮球22共设有两个，两个浮球22参照电镀箱1的底部中线位置处对称分布，两个对称的浮球22对液面的两个端点的高度进行检测，气筒2的顶端固定连接有检测管23，检测管23的内部滑动连接有滑动块24，检测管23的内部中线位置处固定连接有接电座25，接电座25通过导线与外部电源电性连接，接电座25的电性输出端通过导线与电磁铁一32和电磁铁二33的电性输入端电性连接，接电座25与导电柱26接触后，形成通路，使接电座25控制电磁铁一32和电磁铁二33开始工作，接电座25的两侧活动连接有导电柱26；
电镀箱1的两侧均固定连接有进液管3，进液管3的内部固定连接有驱动座31，驱动座31的内侧壁固定连接有电磁铁一32，电磁铁一32与电磁铁二33的磁极相反，电磁铁一32与电磁铁二33处于同一垂直线上，电磁铁一32与电磁铁二33在工作时，相互吸引，驱动座31的内侧壁滑动连接有滑动柱34，滑动柱34的一端固定连接有复位弹簧35，复位弹簧35带动滑动柱34复位，滑动柱34的一端固定连接有电磁铁二33，滑动柱34的另一端固定连接有封堵块36，封堵块36共设有两个，两个封堵块36参照进液管3的中线对称分布，两个封堵块36相互接触，对进液管3进行封堵；
电镀箱1的内侧壁固定连接有三通管4，三通管4的一侧固定连接有进气管41，三通管4的内侧壁滑动连接有活动丝杆42，活动丝杆42的外侧壁啮合有传动齿一43，传动齿一43的外侧壁啮合有传动齿二44，传动齿二44的旋转轴固定连接有引流板45，引流板45共设有两个，两个引流板45参照进液管3的中线对称分布，两个引流板45对电镀液进行引流，使电镀液可以快速进入电镀箱1内。
工作原理：当电镀箱1向电镀液移动时，电镀箱1底部的两个浮球22首先与电镀液面接触，使浮球22在电镀液的浮力作用下，向上移动，使浮球22带动活塞柱21上升，使活塞柱21将气筒2内的空气泵入检测管23内，使气流带动检测管23内的两个滑动块24向内移动，使两个滑动块24向内推动导电柱26与接电座25接触，当电镀液的液面出现倾斜时，两个浮球22的高度也就不一致，使活塞柱21泵入检测管23内的气流量也就不相同，使与倾斜面相反的一端的滑动块24不会与导电柱26接触，使接电座25不被触发，使进液管3内的封堵块36在复位弹簧35的作用下对进口端进行封堵，当电镀液的液面处于水平状态时，两个浮球22的高度一致，使检测管23内的滑动块24在气流的作用下，可以同时与导电柱26接触，使两个导电柱26同时触发接电座25，使接电座25控制封堵块36上的电磁铁一32和电磁铁二33同时工作，使电磁铁一32吸引电磁铁二33，使电磁铁二33上的滑动柱34带动封堵块36向进口端的外侧移动，使封堵块36不再对进液管3进行封堵，使电镀液可以进入电镀箱1内进行电镀，从而有效避免了由于电镀液出现倾斜时，导致电镀不均匀的现象发生，进而提升二极管的电镀质量。
上述结构及过程请参阅图1至图5。
同时，滑动块24在移动的过程中，检测管23内的空气被泵入三通管4内，使气流推动三通管4内的活动丝杆42移动，使活动丝杆42带动传动齿一43旋转，传动齿一43再带动与之啮合的传动齿二44旋转，使传动齿二44带动引流板45发生翻转，使电镀箱1在进入液面时，引流板45可以自动张开，使电镀液在引流板45上形成对流，使电镀液可以快速进入电镀箱1内，达到提升电镀效率的目的。
上述结构及过程请参阅图1、图6和图7。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，包括电镀箱(1)，其特征在于：所述电镀箱(1)的底部固定连接有气筒(2)，所述气筒(2)的内侧壁滑动连接有活塞柱(21)，所述活塞柱(21)的底端固定连接有浮球(22)，所述气筒(2)的顶端固定连接有检测管(23)，所述检测管(23)的内部滑动连接有滑动块(24)，所述检测管(23)的内部中线位置处固定连接有接电座(25)，所述接电座(25)的两侧活动连接有导电柱(26)；
所述电镀箱(1)的两侧均固定连接有进液管(3)，所述进液管(3)的内部固定连接有驱动座(31)，所述驱动座(31)的内侧壁固定连接有电磁铁一(32)，所述驱动座(31)的内侧壁滑动连接有滑动柱(34)，所述滑动柱(34)的一端固定连接有电磁铁二(33)，所述滑动柱(34)的另一端固定连接有封堵块(36)；
所述电镀箱(1)的内侧壁固定连接有三通管(4)，所述三通管(4)的一侧固定连接有进气管(41)，所述三通管(4)的内侧壁滑动连接有活动丝杆(42)，所述活动丝杆(42)的外侧壁啮合有传动齿一(43)，所述传动齿一(43)的外侧壁啮合有传动齿二(44)，所述传动齿二(44)的旋转轴固定连接有引流板(45)。
2.根据权利要求1所述的一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，其特征在于：所述浮球(22)共设有两个，两个所述浮球(22)参照所述电镀箱(1)的底部中线位置处对称分布。
3.根据权利要求1所述的一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，其特征在于：所述接电座(25)通过导线与外部电源电性连接，所述接电座(25)的电性输出端通过导线与所述电磁铁一(32)和所述电磁铁二(33)的电性输入端电性连接。
4.根据权利要求1所述的一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，其特征在于：所述电磁铁一(32)与所述电磁铁二(33)的磁极相反，所述电磁铁一(32)与所述电磁铁二(33)处于同一垂直线上。
5.根据权利要求1所述的一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，其特征在于：所述滑动柱(34)的一端固定连接有复位弹簧(35)。
6.根据权利要求1所述的一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，其特征在于：所述封堵块(36)共设有两个，两个所述封堵块(36)参照所述进液管(3)的中线对称分布。
7.根据权利要求1所述的一种利用浮力检测电镀液面水平的二极管电镀支撑装置，其特征在于：所述引流板(45)共设有两个，两个所述引流板(45)参照所述进液管(3)的中线对称分布。
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