CN220691967U - 竖立式晶圆表面清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种竖立式晶圆表面清洗装置，它包括底座，所述底座的上部水平放置有晶圆箱；所述晶圆箱内放置竖立的多个晶圆片；所述晶圆箱上部装配有喷淋模块，所述喷淋模块包括水平的水箱，所述水箱下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管，所述清洗管分别插入晶圆片的两面，所述水箱的上部通过升降丝杆与升降电机连接；所述底座下部设计有控制底座前后运动的水平运动模块。该装置可以双面多个晶圆片同时清洗，同时在取料放料时不需要对晶圆片单独移来移去，清洗完成后可以通过晶圆箱将所有晶圆片取出，可以直接放置晶圆箱，使得效率大大提高，竖直结构方便水流从晶圆箱内自动沥干，清洗效果更好。

Description

竖立式晶圆表面清洗装置

技术领域

本实用新型涉及晶圆片清洗设备技术领域，具体涉及竖立式晶圆表面清洗装置。

背景技术

晶圆片湿制程加工过程中，晶圆片的表面需要保持清洁，因此在许多加工步骤之后都需要对晶圆表面进行清洗。传统的清洗加工通常需要将晶圆片单独放置在清洗机中，在清洗完成之后需要重新将晶圆片取出放置，生产过程较为繁琐。另外传统的清洗结构通常对每个晶圆片单独进行，这样也使得晶圆片的清洗效率较低。而且，传统的晶圆片清洗机工作时，晶圆片都是平放在设备上，这样很难对晶圆片的双面同时进行清洗，这样就需要通过不同工序分别对晶圆片的两面分别进行清洗，清洗效率较低。

实用新型内容

针对以上问题，本实用新型提供一种不需要单独放置晶圆片，可以同时对多个晶圆片的双面进行同步清洗的竖立式晶圆表面清洗装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：该竖立式晶圆表面清洗装置包括外壳，所述外壳内设计有水平设计的底座，所述底座的上部水平放置有晶圆箱；所述晶圆箱为上部敞开的长方形状，晶圆箱的前后面分别装配有两对以上成对使用的侧料槽，所述晶圆箱底面设计有分别与侧料槽配合的两个以上的底槽，所述侧料槽上设计有竖直贯通的开槽，所述底槽上设计有水平贯穿的开槽，待清洗的两个以上晶圆片底部分别放置在底槽内，晶圆片侧边放置在对应侧料槽内，晶圆片的底部采用镂空设计；所述晶圆箱上部装配有喷淋模块，所述喷淋模块包括水平的水箱，所述水箱下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管，所述清洗管分别插入晶圆片的两面，所述水箱的上部通过升降丝杆与升降电机连接；所述底座下部设计有控制底座前后运动的水平运动模块。

作为优选，所述水平运动模块包括前后各两个竖直的支撑柱，所述四个支撑柱上部装配有两对前后成对使用的滚轮，所述底座下部设计有两个前后方向水平的轨道，所述轨道放置在所述滚轮上，所述底座下部固定装配有轴线为前后方向水平的横向电机，所述横向电机的水平输出轴上装配有横向丝杆，所述底座下部固定有运动块，所述运动块与所述横向丝杆螺纹装配。

作为优选，所述底座包括上部镂空的放置板，所述放置板下部设计有倾斜的槽板，所述放置板与槽板之间四周封闭，形成过水腔，所述槽板倾斜的低端设计有出水管，所述出水管与软管连接。

作为优选，所述晶圆箱的采用不锈钢材质的方管焊接而且，所述侧料槽装配在前后位置的方管上，所述底槽装配在底部位置的方管上。

作为优选，所述底座上部装配有两个定位块、两个活动块，所述晶圆箱定位放置在两个定位块、两个活动块中间。

作为优选，所述定位块设计为L型，所述定位块左右固定装配在所述底座上部，两个所述定位块前部位置分别对应加工有两个安装孔，所述安装孔上装配有两个可以向上拔出的所述活动块。

作为优选，所述活动块设计为L型，所述活动块下部设计有装入所述安装孔的安装柱。

本实用新型的有益效果在于：本竖立式晶圆表面清洗装置主要用来对晶圆片湿法加工后的清洗，也可以用来对于晶圆片进行一些喷淋操作，该装置使用时，通过晶圆箱将多个晶圆片一起放置到底座上，这时晶圆片竖立在晶圆箱中。通过升降气缸控制水箱下部的清洗管插入到相邻的晶圆片中间，这时清洗管同时向两侧的晶圆片表面喷水，对晶圆片表面进行清洗，然后通过所述水平运动模块控制所述底座前后运动，这时竖直的清洗管就通过侧边的喷水口完成了对晶圆片整个面的清洗。晶圆箱的底部可以采用镂空设计，便于清洗液流出。该装置通过直接将晶圆箱放置到清洗腔体内的底座上，然后通过多个竖直的清洗管直接对晶圆片的双面进行清洗，通过水平运动模块带动晶圆箱连同晶圆片前后运动，使得晶圆片完成全面清洗，整个清洗过程自动完成，这样不仅可以双面多个晶圆片同时清洗，同时在取料放料时不需要对晶圆片单独移来移去，清洗完成后可以通过晶圆箱将所有晶圆片取出，可以直接放置晶圆箱，使得效率大大提高，竖直结构方便水流从晶圆箱内自动沥干，清洗效果更好。

附图说明

图1是竖立式晶圆表面清洗装置正面的结构示意图。

图2是图1中竖立式晶圆表面清洗装置的左视图。

图3是晶圆箱放置在底座上部俯视方向的结构示意图。

图4是活动块正向的结构示意图。

图5是晶圆箱正面的结构示意图。

图6是晶圆箱侧面方向的结构示意图。

图7是晶圆箱俯视方向的结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型进一步说明：

在本专利中，所使用的方向性词语，其关系均为基于附图1和图5所示图形的方位或位置关系，仅是为了简化描述本申请，而不是指示装置或元件必须具有的特定方位，因此不能理解为对本申请的限制。

在本实施例中，如图1和图2所示，该竖立式晶圆表面清洗装置包括外壳1，所述外壳1采用封闭结构，前置开门，便于放入物料。所述外壳1内设计有水平设计的底座2，所述底座2的上部水平放置有晶圆箱3。本专利的特点在于，所述晶圆箱3为上部敞开的长方形状，如图5、6、7所示，晶圆箱3的前后面分别装配有两对以上成对使用的侧料槽31，所述晶圆箱3底面设计有分别与侧料槽31配合的两个以上的底槽32，所述侧料槽31上设计有竖直贯通的开槽，所述底槽32上设计有水平贯穿的开槽，待清洗的两个以上晶圆片4底部分别放置在底槽32内，晶圆片4侧边放置在对应侧料槽31内。

如图1和图2所示，所述晶圆箱3上部装配有喷淋模块5，所述喷淋模块5包括水平的水箱51，所述水箱51下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管52，所述清洗管52分别插入晶圆片4的两面，所述水箱51的上部通过升降丝杆53与升降电机54连接；所述底座2下部设计有控制底座2前后运动的水平运动模块6。

本竖立式晶圆表面清洗装置主要用来对晶圆片4湿法加工后的清洗，也可以用来对于晶圆片进行一些喷淋操作。该装置使用时，通过晶圆箱3将多个晶圆片4一起放置到底座2上，这时晶圆片4竖立在晶圆箱3中。通过升降气缸54控制水箱51下部的清洗管52插入到相邻的晶圆片4中间，这时清洗管52同时向两侧的晶圆片4表面喷水，对晶圆片4表面进行清洗，然后通过所述水平运动模块6控制所述底座2前后运动，这时竖直的清洗管52就通过侧边的喷水口完成了对晶圆片4整个面的清洗，晶圆箱3的底部设计有排水结构，也可以采用镂空设计，便于清洗液流出。该装置通过直接将晶圆箱3放置到清洗腔体内的底座2上，然后通过多个竖直的清洗管52直接对晶圆片4的双面进行清洗，通过水平运动模块带动晶圆箱3连同晶圆片4前后运动，使得晶圆片4完成全面清洗，整个清洗过程自动完成，这样不仅可以双面多个晶圆片4同时清洗，同时在取料放料时不需要对晶圆片4单独移来移去，清洗完成后可以通过晶圆箱3将所有晶圆片取出，可以直接放置晶圆箱3，使得效率大大提高，竖直结构方便水流从晶圆箱3内的晶圆片4上自动沥干，清洗效果更好。

在具体设计时，如图1和图2所示，所述底座2包括上部镂空的放置板21，所述放置板21下部设计有倾斜的槽板22，所述放置板21与槽板22之间四周封闭，形成过水腔，所述槽板22倾斜的低端设计有出水管23，所述出水管23通过软管连接排水结构。该装置使用时，清洗的水流穿过晶圆箱3通过镂空的放置板21流入到下部过水腔中，由于所述槽板的倾斜设计，过水腔中的水由于重力作用从出水管23位置直接流出，所述出水管23与软管的连接由于便于所述底座2前后运动。

在具体设计时，如图1和图2所示，所述水平运动模块6包括前后各两个竖直的支撑柱61，所述四个支撑柱61上部装配有两对前后成对使用的滚轮62，所述底座下部设计有两个前后方向水平的轨道24，所述轨道24放置在所述滚轮62上，所述底座2下部固定装配有轴线为前后方向水平的横向电机63，所述横向电机63的水平输出轴上装配有横向丝杆64，所述底座下部固定有运动块25，所述运动块与所述横向丝杆64螺纹装配。所述轨道24下部为凸出的圆弧边，所述滚轮62环形外壁设计为轨道24边沿对应的凹型结构，这样通过轨道24和滚轮62结构，使得所述底座2不仅可以整体在轨道上前后滑动，同时滚轮62可以防止轨道24从左右滑出。而通过横向丝杆64以及所述运动块25的螺纹连接，在横向电机63输出轴旋转运动时，可以带动底座前后运动。在本实施例中，所述喷淋模块5、水平运动模块6均采用丝杆螺纹传动结构，使得传动过程更加的缓和平稳，可以提高设备的使用寿命，同时喷淋模块5喷淋清洗时的水流更加的平稳精准，水平运动模块6工作时可以防止晶圆片过度晃动。

如图5、6、7所示，所述晶圆箱3的采用不锈钢材质的方管焊接而且，所述侧料槽31装配在前后位置的方管上，所述底槽32装配在底部位置的方管上。整个的晶圆箱3采用框架结构，便于水体的流出，同时，方管焊接也使得晶圆箱3更加的牢固，同时该晶圆箱3可以方便的将侧边作为底面，这样就可以将晶圆箱3内晶圆水平放置，从而可以适用不同的工作场景，使用更加的方便。

在具体设计时，如图1、图2和图3所示，所述底座2上部装配有两个定位块26、两个活动块27，所述晶圆箱3定位放置在两个定位块26、两个活动块27中间。所述定位块26、活动块27可以对晶圆箱3起到限位的作用，防止底座运动时，晶圆箱3产生相对运动。在本实施例中，所述定位块、活动块27均设计为L型，分别位于所述晶圆箱3的四个角位置。其中所述定位块26左右固定装配在所述底座2上部，两个所述定位块26前部位置分别对应加工有两个安装孔28，所述安装孔28上装配有两个可以向上拔出的所述活动块27。所述活动块27下部设计有装入所述安装孔27的安装柱。该装置需要放置晶圆箱3到底座2上部时，将所述活动块27向上拔出，然后通过可以方便的将晶圆箱3放到底座2上部，推动晶圆箱3顶紧所述定位块上，这时安装孔27正好位于晶圆箱3前面位置，将活动块27装配上去即可。所述定位块26、活动块27的设计，结构简单，实施方便，对晶圆箱3的定位准确。提高了工作效率和工作效果。

以上实施例仅为本实用新型的较佳方式，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种竖立式晶圆表面清洗装置，它包括外壳(1)，所述外壳(1)内设计有水平设计的底座(2)，所述底座(2)的上部水平放置有晶圆箱(3)；其特征在于：所述晶圆箱(3)为上部敞开的长方形状，晶圆箱(3)的前后面分别装配有两对以上成对使用的侧料槽(31)，所述晶圆箱(3)底面设计有分别与侧料槽(31)配合的两个以上的底槽(32)，所述侧料槽(31)上设计有竖直贯通的开槽，所述底槽(32)上设计有水平贯穿的开槽，待清洗的两个以上晶圆片(4)底部分别放置在底槽(32)内，晶圆片(4)侧边放置在对应侧料槽(31)内；所述晶圆箱(3)上部装配有喷淋模块(5)，所述喷淋模块(5)包括水平的水箱(51)，所述水箱(51)下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管(52)，所述清洗管(52)分别插入晶圆片(4)的两面，所述水箱(51)的上部通过升降丝杆(53)与升降电机(54)连接；所述底座(2)下部设计有控制底座(2)前后运动的水平运动模块(6)。

2.根据权利要求1所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述底座(2)包括上部镂空的放置板(21)，所述放置板(21)下部设计有倾斜的槽板(22)，所述放置板(21)与槽板(22)之间四周封闭，形成过水腔，所述槽板(22)倾斜的低端设计有出水管(23)，所述出水管(23)与软管连接。

3.根据权利要求2所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述水平运动模块(6)包括前后各两个竖直的支撑柱(61)，所述四个支撑柱(61)上部装配有两对前后成对使用的滚轮(62)，所述底座下部设计有两个前后方向水平的轨道(24)，所述轨道(24)放置在所述滚轮(62)上，所述底座(2)下部固定装配有轴线为前后方向水平的横向电机(63)，所述横向电机(63)的水平输出轴上装配有横向丝杆(64)，所述底座下部固定有运动块(25)，所述运动块与所述横向丝杆(64)螺纹装配。

4.根据权利要求1-3中任一条所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述晶圆箱(3)的采用不锈钢材质的方管焊接而且，所述侧料槽(31)装配在前后位置的方管上，所述底槽(32)装配在底部位置的方管上。

5.根据权利要求1-3中任一条所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述底座(2)上部装配有两个定位块(26)、两个活动块(27)，所述晶圆箱(3)定位放置在两个定位块(26)、两个活动块(27)中间。

6.根据权利要求5所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述定位块设计为L型，所述定位块(26)左右固定装配在所述底座(2)上部，两个所述定位块(26)前部位置分别对应加工有两个安装孔(28)，所述安装孔(28)上装配有两个可以向上拔出的所述活动块(27)。

7.根据权利要求6所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述活动块(27)设计为L型，所述活动块(27)下部设计有装入所述安装孔(28)的安装柱。