CN112538607B - 一种钒钨合金靶坯的制备方法 - Google Patents

一种钒钨合金靶坯的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112538607B
CN112538607B CN202011301391.2A CN202011301391A CN112538607B CN 112538607 B CN112538607 B CN 112538607B CN 202011301391 A CN202011301391 A CN 202011301391A CN 112538607 B CN112538607 B CN 112538607B
Authority
CN
China
Prior art keywords
vanadium
powder
tungsten
ball
heat preservation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011301391.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112538607A (zh
Inventor
姚力军
边逸军
潘杰
王学泽
章丽娜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd
Original Assignee
Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd filed Critical Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd
Priority to CN202011301391.2A priority Critical patent/CN112538607B/zh
Publication of CN112538607A publication Critical patent/CN112538607A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112538607B publication Critical patent/CN112538607B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10—Sintering only
    • B22F3/1017—Multiple heating or additional steps
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12—Both compacting and sintering
    • B22F3/14—Both compacting and sintering simultaneously
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F5/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the special shape of the product
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
    • B22F9/04—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from solid material, e.g. by crushing, grinding or milling
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
    • B22F9/04—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from solid material, e.g. by crushing, grinding or milling
    • B22F2009/043—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from solid material, e.g. by crushing, grinding or milling by ball milling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种钒钨合金靶坯的制备方法，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为(10.06‑10.16):1；所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为500‑600r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压。本发明提供的方法，通过在金属粉末混合过程中引入高能球磨(转速为500‑600r/min)，使得在混粉阶段就使得钒和钨之间进行初步合金化，使得溅射所得的镀膜厚度均匀，提高了靶材的实际使用效率。

Description

一种钒钨合金靶坯的制备方法
技术领域
本发明涉及靶材制备领域，具体涉及一种钒钨合金靶坯的制备方法。
背景技术
目前，钒钨合金靶材是一种新型的合金靶材，作为一种真空溅镀的良好导体，广泛用于红外芯片的生产。为了使钒钨合金溅射靶材在进行真空溅镀时发挥良好的性能，要求钒钨溅射合金靶材具有较高的致密度，靶材完整无气孔、疏松等内部缺陷。
如CN104946950A公开了一种钒钨合金靶材及其制备方法，该靶材由钒粉、钨粉及粘结剂制作组成，其中钒粉与钨粉的质量配比为19:1-3:2，所述钒粉与钨粉的纯度大于99.5％。该制备方法包括以下步骤：按比例称取钒粉与钨粉，并将两者充分混匀；将混匀的钒粉和钨粉加入粘结剂进一步混匀，并处理得到干燥的钒钨粉与粘结剂的复合粉末材料；将步骤(2)的复合粉末材料进行等离子喷涂操作；取下喷涂所得的构件，并对所述构件进行处理得到成品。本发明的钒钨合金靶材均匀性好，稳定性高。本发明的制备方法采用等离子喷涂方式简单易行，无需模具设计和昂贵的压制设备，操作方便，制备所得的靶材溅射性能优良，杂质少，适用于光学镀膜。
CN105463387A公开了采用真空烧结工艺制备金属钨及钒钨合金靶材,制备工艺流程步骤依次为：选取纯度≥99.9％，粒度≤5μm的金属钨粉或钒钨合金粉为原料，使用造粒设备将其制成1-3mm粒子，填入模具内振实；等静压压制成型，真空烧结完成后，静置冷却获得靶材成品；粉体先制粒后等静压烧结，工艺简单易行，操作方便，易控制；制备所得的靶材溅射性能优良，杂质少，靶材均匀性好，稳定性高。满足热致变色应用，也适用于光学镀膜。
然而现有技术中的制备过程中需要添加粘结剂或压实前还需造粒，显著提高工艺的复杂程度，同时所得靶坯的致密度较低，导致制备得到的靶材在溅射使用时溅射性能差，溅射不稳定，进行镀膜时所得膜厚度不均，造成材料的浪费。
发明内容
鉴于现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种钒钨合金靶坯的制备方法，可以实现致密度≥98％的钒钨合金靶坯的制备，用于溅射时溅射稳定，同时溅射所得的镀膜厚度均匀，提高了靶材的实际使用效率。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
本发明提供了一种钒钨合金靶坯的制备方法，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为(10.06-10.16):1；
所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为500-600r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；
所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压。
本发明提供的方法，通过在金属粉末混合过程中引入高能球磨(转速为500-600r/min)，使得在混粉阶段就使得钒和钨之间进行初步合金化，进而使得在接下来的热压烧结过程中可以使的钒和钨更容易结合，进而避免空隙的形成，进一步地，通过初步合金化的引入，可以使的钒和钨在热压烧结过程中更加均匀，使得溅射所得的镀膜厚度均匀，提高了靶材的实际使用效率。
本发明中，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为(10.06-10.16):1，例如可以是10.06:1、10.07:1、10.08:1、10.09:1、10.1:1、10.11:1、10.12:1、10.13:1、10.14:1、10.15:1或10.16:1等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
本发明中，所述在转速为500-600r/min下进行球磨，例如可以是500r/min、510r/min、520r/min、530r/min、540r/min、550r/min、560r/min、570r/min、580r/min、590r/min或600r/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述钒粉的纯度≥99.6％，例如可以是99.6％、99.62％、99.64％、99.66％、99.7％、99.72％、99.74％、99.76％、99.78％、99.8％、99.82％、99.84％、99.86％、99.88％或99.9％等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述钒粉的粒度≤74μm，例如可以是74μm、73μm、72μm、71μm、70μm、69μm、68μm、67μm、66μm、65μm、64μm或63μm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述钨粉的纯度≥3N，例如可以是3N、4N或5N等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述钨粉的粒度为2-3μm，例如可以是2μm、2.1μm、2.2μm、2.3μm、2.4μm、2.5μm、2.6μm、2.7μm、2.8μm、2.9μm或3μm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述球磨在保护气氛下进行。
优选地，所述保护气氛为氮气气氛和/或惰性气氛。
本发明中，所述惰性气氛可以是氦气气氛、氖气气氛或氩气气氛等。
作为本发明优选的技术方案，所述球磨中球磨介质为氧化锆球。
优选地，所述球磨中球磨介质和粉料的质量比为(8-10):1，例如可以是8:1、8.2:1、8.4:1、8.6:1、8.8:1、9:1、9.2:1、9.4:1、9.6:1、9.8:1或10:1等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述球磨的时间为15-20h，例如可以是15h、16h、17h、18h、19h或20h等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述烧结进行前进行抽真空至绝对真空度≤100Pa，例如可以是100Pa、90Pa、80Pa、70Pa、60Pa、50Pa、40Pa或30Pa等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
本发明中，所述抽真空为在模具中夯实后进行。
作为本发明优选的技术方案，所述第一保温的温度为900-1050℃，例如可以是900℃、910℃、920℃、930℃、940℃、950℃、960℃、970℃、980℃、990℃、1000℃、1010℃、1020℃、1030℃、1040℃或1050℃等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第一保温的时间为1-1.4h，例如可以是1h、1.1h、1.2h、1.3h或1.4h等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述升温的终点温度为1200-1250℃，例如可以是1200℃、1210℃、1220℃、1230℃、1240℃或1250℃等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述升温的速率为6-10℃/min，例如可以是6℃/min、7℃/min、8℃/min、9℃/min或10℃/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第二保温的温度为升温的终点温度。
优选地，所述第二保温的时间为30-45min，例如可以是30min、31min、32min、33min、34min、35min、36min、37min、38min、39min、40min、41min、42min、43min、44min或45min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述加压的时间为1-1.3h，例如可以是1h、1.05h、1.1h、1.15h、1.2h、1.25h或1.3h等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
本发明中，加压时间的控制可以保证在反应过程中反应物交换有序的进行，使得得到的靶坯具有良好的性能。
优选地，所述加压的终点压力为20-30MPa，例如可以是20MPa、21MPa、22MPa、23MPa、24MPa、25MPa、26MPa、27MPa、28MPa、29MPa或30MPa等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述保温保压的时间为40-50min，例如可以是40min、41min、42min、43min、44min、45min、46min、47min、48min、49min或50min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为(10.06-10.16):1；
所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为500-600r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；
所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压；
所述第一保温的温度为900-1050℃；所述升温的终点温度为1200-1250℃。
与现有技术方案相比，本发明至少具有以下有益效果：
通过在金属粉末混合过程中引入高能球磨(转速为500-600r/min)，使得在混粉阶段就使得钒和钨之间进行初步合金化，进而使得在接下来的热压烧结过程中可以使的钒和钨更容易结合，进而避免空隙的形成，进一步地，通过初步合金化的引入，可以使的钒和钨在热压烧结过程中更加均匀，使得溅射所得的镀膜厚度均匀，提高了靶材的实际使用效率。
具体实施方式
为更好地说明本发明，便于理解本发明的技术方案，本发明的典型但非限制性的实施例如下：
实施例1
本实施例提供一种钒钨合金靶坯的制备方法，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为10.1:1；
所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为550r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；
所述钒粉的纯度为99.6％，粒度为35-74μm；
所述钨粉的纯度为3N，粒度为2-2.5μm；
所述球磨在保护气氛下进行，所述保护气氛为氮气气氛或惰性气氛，球磨介质为氧化锆球，球磨介质和粉料的质量比为9:1，时间为17h；
烧结进行前进行抽真空至真空度为100Pa；
所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压；
所述第一保温的温度为1000℃，时间为1.2h；
所述升温的终点温度为1225℃，升温的速率为8℃/min；
所述第二保温的温度为升温的终点温度，时间为38min；
所述加压的时间为1.12h，加压的终点压力为25MPa；
所述保温保压的时间为45min。
所得钒钨合金靶坯的致密度为99.7％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀。
实施例2
本实施例提供一种钒钨合金靶坯的制备方法，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为10.06:1；
所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为600r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；
所述钒粉的纯度为99.8％，粒度为30-45μm；
所述钨粉的纯度为4N，粒度为2.4-3μm；
所述球磨在保护气氛下进行，所述保护气氛为氮气气氛或惰性气氛，球磨介质为氧化锆球，球磨介质和粉料的质量比为8:1，时间为20h；
烧结进行前进行抽真空至真空度为80Pa；
所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压；
所述第一保温的温度为1050℃，时间为1h；
所述升温的终点温度为1200℃，升温的速率为6℃/min；
所述第二保温的温度为升温的终点温度，时间为45min；
所述加压的时间为1h，加压的终点压力为30MPa；
所述保温保压的时间为50min。
所得钒钨合金靶坯的致密度为98.5％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀。
实施例3
本实施例提供一种钒钨合金靶坯的制备方法，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为10.16:1；
所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为500r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；
所述钒粉的纯度为99.9％，粒度为30-74μm；
所述钨粉的纯度为5N，粒度为2-3μm；
所述球磨在保护气氛下进行，所述保护气氛为氮气气氛或惰性气氛，球磨介质为氧化锆球，球磨介质和粉料的质量比为10:1，时间为15h；
烧结进行前进行抽真空至真空度为90Pa；
所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压；
所述第一保温的温度为900℃，时间为1.4h；
所述升温的终点温度为1250℃，升温的速率为10℃/min；
所述第二保温的温度为升温的终点温度，时间为30min；
所述加压的时间为1.3h，加压的终点压力为20MPa；
所述保温保压的时间为50min。
所得钒钨合金靶坯的致密度为99.2％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀。
对比例1
与实施例1的区别仅在于钒粉和钨粉的质量比为8:1，所得钒钨合金靶坯的致密度为96％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀性变差。
对比例2
与实施例1的区别仅在于钒粉和钨粉的质量比为12:1，所得钒钨合金靶坯的致密度为95.7％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀性变差。
对比例3
与实施例1的区别仅在于球磨中的转速为300r/min，所得钒钨合金靶坯的致密度为96％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀性变差。
对比例4
与实施例1的区别仅在于球磨中的转速为50r/min，所得钒钨合金靶坯的致密度为94％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀性变差。
对比例5
与实施例1的区别仅在于加压的时间为0.5h，所得钒钨合金靶坯的致密度为97.8％，制成靶材后用于溅射镀膜时，所得镀膜厚度均匀性变差。
通过上述实施例和对比例的结果可知，本发明提供的方法，通过在金属粉末混合过程中引入高能球磨(转速为500-600r/min)，使得在混粉阶段就使得钒和钨之间进行初步合金化，进而使得在接下来的热压烧结过程中可以使的钒和钨更容易结合，进而避免空隙的形成，进一步地，通过初步合金化的引入，可以使的钒和钨在热压烧结过程中更加均匀，使得溅射所得的镀膜厚度均匀，提高了靶材的实际使用效率。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细结构特征，但本发明并不局限于上述详细结构特征，即不意味着本发明必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (11)

1.一种钒钨合金靶坯的制备方法，其特征在于，所述钒钨合金靶坯中钒和钨的质量比为(10.06-10.16):1；
所述制备方法包括如下步骤：按配方将钒粉和钨粉在转速为500-600r/min下进行球磨，之后加入模具中夯实后进行烧结，得到所述钒钨合金靶坯；
所述烧结为先进行第一保温，之后升温进行第二保温，然后依次进行加压和保温保压；所述第一保温的温度为900-1050℃；所述第一保温的时间为1-1.4h；所述升温的终点温度为1200-1250℃；所述升温的速率为6-10℃/min；所述第二保温的温度为升温的终点温度；所述第二保温的时间为30-45min；所述加压的时间为1-1.3h；所述加压的终点压力为20-30MPa；所述保温保压的时间为40-50min。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钒粉的纯度≥99.6％。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钒粉的粒度≤74μm。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钨粉的纯度≥3N。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钨粉的粒度为2-3μm。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述球磨在保护气氛下进行。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述保护气氛为氮气气氛和/或惰性气氛。
8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述球磨中球磨介质为氧化锆球。
9.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述球磨中球磨介质和粉料的质量比为(8-10):1。
10.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述球磨的时间为15-20h。
11.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述烧结进行前进行抽真空至绝对真空度≤100Pa。
CN202011301391.2A 2020-11-19 2020-11-19 一种钒钨合金靶坯的制备方法 Active CN112538607B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011301391.2A CN112538607B (zh) 2020-11-19 2020-11-19 一种钒钨合金靶坯的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011301391.2A CN112538607B (zh) 2020-11-19 2020-11-19 一种钒钨合金靶坯的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112538607A CN112538607A (zh) 2021-03-23
CN112538607B true CN112538607B (zh) 2022-07-29

Family

ID=75014398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011301391.2A Active CN112538607B (zh) 2020-11-19 2020-11-19 一种钒钨合金靶坯的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112538607B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112760538B (zh) * 2020-12-22 2022-04-12 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种钒钨合金靶坯的制备方法
CN114540692B (zh) * 2022-03-29 2022-12-13 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种钒钨合金靶材及其制备方法与应用
CN114892137B (zh) * 2022-03-31 2023-09-08 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种钒锌合金溅射靶材及其制备方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102312132B (zh) * 2011-09-15 2013-01-02 西安理工大学 一种真空烧结制备Ni-W合金的方法
CN103834923B (zh) * 2012-11-27 2016-04-06 宁波江丰电子材料股份有限公司 钨钛靶材的制作方法
CN103255379A (zh) * 2013-04-16 2013-08-21 洛阳高新四丰电子材料有限公司 一种平面显示器用钼钨合金溅射靶材及其制备方法
CN104513953B (zh) * 2013-09-30 2018-02-09 宁波江丰电子材料股份有限公司 钼硅靶材的制作方法
CN105345007B (zh) * 2014-08-15 2017-11-07 安泰科技股份有限公司 一种高致密铬钨合金靶材的制备方法
CN105568237A (zh) * 2014-10-15 2016-05-11 宁波江丰电子材料股份有限公司 铬钼合金靶材的制备方法
CN104439247B (zh) * 2014-12-30 2017-08-29 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 钼合金靶材的制备方法
CN104946950A (zh) * 2015-06-10 2015-09-30 深圳市威勒达科技开发有限公司 一种钒钨合金靶材及其制备方法
CN105063558B (zh) * 2015-08-17 2017-09-12 金堆城钼业股份有限公司 一种Mo‑Ta合金靶材的制备方法
CN105463387A (zh) * 2016-01-22 2016-04-06 基迈克材料科技（苏州）有限公司 采用真空烧结工艺制备金属钨及钒钨合金靶材
CN111893442B (zh) * 2020-07-17 2022-04-19 厦门虹鹭钨钼工业有限公司 一种钼钨溅射靶材及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN112538607A (zh) 2021-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112538607B (zh) 一种钒钨合金靶坯的制备方法
CN104694895A (zh) 一种W-Ti合金靶材及其制造方法
CN111996507A (zh) 一种铬硅溅射靶材的制备方法
CN111139390A (zh) 一种铬掺杂改性Mo2NiB2基金属陶瓷及其制备方法
CN112030120A (zh) 一种钽硅合金溅射靶材的制备方法
CN113862623A (zh) 一种钨硅靶坯的制备方法
CN110668821A (zh) 一种无压制备max相陶瓷的方法
CN113716580A (zh) 一种高熵硼化物微纳陶瓷颗粒及其制备方法
CN115353373B (zh) 一种氧化铝靶材及其制备方法与应用
JPH0577632B2 (zh)
CN114892137B (zh) 一种钒锌合金溅射靶材及其制备方法
CN111825458A (zh) 一种高致密碳化硼陶瓷材料及其无压烧结的制备方法
CN112225565A (zh) 一种钨硅靶坯的制备方法
CN110590375A (zh) 氮化铝掺氮化钪靶材的生产工艺
CN112760538B (zh) 一种钒钨合金靶坯的制备方法
CN111116208A (zh) 一种钇改性Mo2NiB2基金属陶瓷及其制备方法
CN114941127A (zh) 一种钽硅氧化物溅射靶材的制备方法
CN113135756B (zh) 一种碳碳化硅陶瓷靶坯的制备方法
CN115110044B (zh) 一种铬硅合金溅射靶材的制备方法
CN111484330A (zh) 金刚石增强碳化硅基板及其制备方法和电子产品
CN111621659A (zh) 一种粉末冶金法制备Ti2AlNb合金的方法
CN115255367B (zh) 一种镍铝合金溅射靶材及其热压制备方法
CN113981386B (zh) 高钪含量铝钪合金靶材及其制造方法
CN116329549A (zh) 一种tc4钛合金小型模锻件的制备方法
CN113652657B (zh) 铝钪合金靶材及采用大气高温扩散烧结成型制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant