CN112403247A - 废气处理装置 - Google Patents

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Abstract

一种废气处理装置，用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口供所述处理气体流出；液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；以及一个或多个喷雾喷嘴，该一个或多个喷雾喷嘴配置于所述液槽内，所述吸入壳体的所述导出口配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于上方，所述一个或多个喷雾喷嘴的喷雾构成为，从周围对所述吸入壳体的所述导出口的周围的部分呈雾状地喷出液体。

Description

废气处理装置
技术领域
本发明涉及一种废气处理装置，详细地说，涉及一种用于通过使处理气体与液体接触而将该处理气体无害化的废气处理装置。
背景技术
真空泵装置作为半导体、液晶、太阳光面板、或LED等的制造设备之一而被广泛使用。在这些的制造过程等中，将真空泵与真空室连接，并通过真空泵对导入到真空室内的处理气体进行真空吸引。在被真空泵真空吸引的气体中，可能含有硅烷气体(SiH4)、二氯硅烷气体(SiH2Cl2)、氨气(NH3)等有害可燃性气体，或NF3、ClF3、SF6、CHF3、C2F6、CF4等卤素难分解性气体，不能直接向大气中排出。因此，以往，在真空泵装置中，在真空泵的后段设置有对被真空吸引的气体进行无害化处理的除害装置(废气处理装置的一例)。作为气体的无害化处理，公知有使处理气体与液体接触而去除异物及水溶性成分等的湿式、以及基于燃烧处理气体的燃烧式等。
另外，在从真空泵排出的处理气体中，作为反应副生成物，可能混入有因在真空室内的反应等而固态化的物质或容易固态化的物质。当这样的生成物侵入到除害装置时，可能会引起配管及除害装置的堵塞，或除害装置的处理效率的降低。因此，存在在真空泵装置与除害装置之间设置用于去除异物的异物去除机构(废气处理装置的一例)的情况。
作为异物去除机构，能够使用例如过滤器或捕集器等。虽然过滤器或捕集器能够通过简易的结构去除异物，但需要定期性的进行交换过滤器的交换等维护。另外，作为异物去除机构，公知有具备对气体进行搅拌的风扇、驱动风扇的电动机以及喷出液体的喷嘴的风扇洗涤器。在风扇洗涤器中，通过从喷嘴喷出的液体来捕捉异物。风扇洗涤器作为异物去除机构发挥功能，并且还作为废气处理装置发挥功能。
在现有的异物去除机构或除害装置中，凝缩性生成物等异物可能会堆积在该异物去除机构或除害装置发挥功能的部分的上游侧的配管等。为了防止这样的异物向配管的堆积，进行使配管升温、使配管形成湿壁(液面)，或通过刮刀等机械性的刮落。这里，在使配管升温的情况下，优选将配管加温至例如150℃以上的高温。但是，在湿式除害装置中，在供给有液体的区域附近，配管的温度因液体而下降，从而异物可能会堆积在该附近。另外，即使在形成湿壁的情况下，凝缩性生成物等异物可能会堆积在该湿壁的上游侧，或者二氯硅烷(SiH2Cl2)等水溶性气体与水发生反应的反应生成物可能会堆积在用于形成湿壁的液体供给部。在与水发生反应的生成物中，可能会生成反应没有完全结束而处于不稳定状态的反应物，具体而言，是产生氢的高反应性的硅氧烷混合物。当在供给有液体的区域附近，通过刮刀等来去除异物时，众所周知，伴随着摩擦产生的静电成为点火源，从而引起火灾的危险。
另外，在异物去除机构或除害装置中，存在为了使装置内使用的液体循环而进行再利用，而设置储存液体的循环箱的情况。在该情况下，存在处理气体与循环箱内的液体发生反应而形成生成物，并且生成物附着于通向循环箱的配管及/或循环箱的壁面的情况。因此，为了防止装置的故障及/或维持装置的处理效率，需要定期地停止装置，并进行用于去除生成物的维护。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-251130号公报
专利文献2：日本特开2015-379号公报
发明所要解决的技术问题
为了至少解决上述技术问题的一部分，本发明的申请人在日本特愿2018-031823号中提出了如下结构，在液膜形成部的上方的壁部的内部嵌入加热器，该液膜形成部在废气处理装置的吸入壳体的内壁面形成液膜。根据该结构，能够将吸入壳体加热到形成有液膜的内壁面附近位置为止，从而能够抑制异物堆积于处理气体的路径。
发明内容
本发明的目的在于至少解决上述技术问题的一部分，及/或进一步改善现有申请的结构。
用于解决技术问题的手段
根据本发明的一侧面，废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口供所述处理气体流出；液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；以及一个或多个喷雾喷嘴，该一个或多个喷雾喷嘴配置于所述液槽内，所述吸入壳体的所述导出口配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于上方，所述一个或多个喷雾喷嘴的喷雾构成为，从周围对所述吸入壳体的所述导出口的周围的部分呈雾状地喷出液体。
根据本发明的一侧面，废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口与该吸入口相比设置于下方，并供所述处理气体流动；液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；液膜形成部，该液膜形成部设置于所述吸入壳体的所述吸入口与所述导出口之间，并在所述吸入壳体的内壁面形成液膜；以及一个或多个液体供给装置，该一个或多个液体供给装置配置于所述液槽内，并喷射或呈雾状地喷出液体，所述吸入壳体的末端配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于下方，所述吸入壳体在所述末端侧的侧壁具有所述导出口，在所述液槽内设置有管道，该管道从所述吸入壳体的所述导出口朝向下游侧对所述处理气体进行引导，所述一个或多个液体供给装置配置为，朝向所述管道的内部及壁面喷射或呈雾状地喷出液体。
附图说明
图1是表示第一实施方式的废气处理装置的概略结构的图。
图2是表示变形例的废气处理装置的液槽中的结构的图。
图3是表示第二实施方式的废气处理装置的液槽中的结构的图。
图4是表示第三实施方式的废气处理装置的液槽中的结构的侧视图。
图5是表示第三实施方式的废气处理装置的液槽中的结构的俯视图。
图6是表示第三实施方式的废气处理装置的液槽中的结构的立体图。
图7是表示第三实施方式的废气处理装置的吸入壳体的立体图。
图8是用于说明喷射器的动作的示意图。
符号说明
10 废气处理装置
11 机柜
13 排水盘
14 漏液传感器
20 吸入壳体
21 配管
21a 液膜形成部
21b 通路
21c 开口部
22 吸入口
23 吸入配管
24 导出口
26 液膜形成部
31 壁部
32 刮刀
40 液槽壳体
40a 壁
41 水位计
42a～42c 液槽
43 液体排出口
44 堰
45 过滤器
46 喷雾喷嘴
46b 喷雾喷嘴
46c 喷雾喷嘴
47 壁
47a 开口部
48 喷射器
48b 喷射器
48c 喷射器
50 处理壳体
50a、50b 壁
51a～51c 冲洗槽
52 喷雾喷嘴
53 喷雾喷嘴或喷射喷嘴
54 喷射喷嘴
55 喷雾喷嘴
56 喷雾喷嘴
57 拉希环层
61 捕雾器
62 排气口
63 液体流路
64 流量计
65 过压排气口
71、72、72a～72d 液体流路
81 泵
82、83、85 流量计
84 排水阀
91 管道
91a 侧板
91b 顶板
92 隔板
100 控制装置
461 第一喷雾喷嘴
462 第二喷雾喷嘴
具体实施方式
以下，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。在以下说明的附图中，对相同或相等的结构要素标注相同的符号并省略重复的说明。本实施方式的废气处理装置是通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化的湿式的废气处理装置，能够作为例如半导体、液晶、太阳光面板、或LED等制造设备之一而被利用。
(第一实施方式)
图1是表示第一实施方式的废气处理装置的概略结构的图。该废气处理装置10是为了将来自真空泵的气体(处理气体)无害化而设置的，在一次侧(上游侧)与未图示的真空泵连接。此外，本实施方式的废气处理装置可以单独用于将来自真空泵的气体无害化，也可以和燃烧式等其他废气处理装置(例如，除害装置)一起使用。例如，在被真空泵真空吸引的气体所含的去除对象的气体全部是水溶性成分的情况下，可以单独使用废气处理装置10。另外，在和其他废气处理装置一起使用的情况下，优选在废气处理装置10的后段连接其他废气处理装置。
如图1所示，废气处理装置10具备：吸入来自未图示的真空泵的处理气体的吸入壳体20、与吸入壳体20连接的液槽壳体40以及与液槽壳体40连接的处理壳体50。液槽壳体40及处理壳体50可以是一体的壳体。被吸入吸入壳体20的处理气体在通过液槽壳体40及处理壳体50而被处理之后，向外部排出，或继续被导入别的废气处理装置。吸入壳体20、液槽壳体40及处理壳体50配置于机柜11内，在机柜11的底部设置有排水盘13。在排水盘13设置有检测水分的漏液传感器14，从而能够监视来自装置内的结构的漏液。
另外，设置有对废气处理装置10的各部分进行控制的控制装置100。控制装置100具有存储器和CPU，该存储器存储例如各种设定数据及各种程序，该CPU执行存储器的程序。构成存储器的存储介质能够包含易失性存储介质及/或非易失性存储介质。存储介质能够包含例如、ROM、RAM、闪速存储器、硬盘、CD-ROM、DVD-ROM、软盘等任意的存储介质之一或多个。此外，控制装置100能够包含存储器、CPU、序列发生器、及/或专用集成电路。控制装置100的一部分或全部的结构能够在废气处理装置10内部及或外部集中或分散地配置。
本实施方式的吸入壳体20整体形成为圆筒状。吸入壳体20的形状不限于圆筒状，而能够是任意的形状。吸入壳体20的下端侧(末端侧)配置于液槽壳体40内。吸入壳体20的下端的开口构成导出口24，该导出口24将处理气体从吸入壳体20向液槽壳体40内导出。在吸入壳体20的上端附近形成有吸入口22，该吸入口22经由吸入配管23与未图示的真空泵连接。从吸入口22被吸入吸入壳体20内的处理气体通过导出口24被导向液槽壳体40内。在从吸入口22朝向真空泵的吸入配管23能够设置配管加热器(省略图示)。在处理气体流经吸入配管23内时，配管加热器将吸入配管23加热到规定温度(例如180℃)，该配管加热器能够采用夹套加热器等各种加热器。通过这样的配管加热器，能够抑制异物堆积于吸入配管23及吸入口22。另外，也可以在吸入壳体20的气体流路(例如，吸入口22、吸入配管23等)设置测量处理气体的压力的压力计，从而监视配管是否闭塞。
在吸入壳体20的吸入口22与导出口24之间设置有液膜形成部26，该液膜形成部26用于在吸入壳体20的内壁面形成液膜(湿壁)Lf。本实施方式的液膜形成部26在环状的吸入壳体20的周向上设置为遍及整周。即，吸入壳体20被划分为液膜形成部26的上方的壁部(配管)31和液膜形成部26的下方的壁部(配管)21。通过由液膜形成部26在内壁面形成液膜Lf，异物在配管21的内壁面附近被液膜冲走，因此能够抑制反应副生成物等异物堆积于配管21。以下，将反应副生成物仅称作生成物。在一例中，在处理气体含有二氯硅烷气体的情况下，作为二氯硅烷与水反应的生成物，生成有SiO2(水溶性成分)。另外，在处理气体含有二氯硅烷及氨的情况下，虽然两者发生反应而生成NH4Cl，但是该反应在低温下容易进行，因此优选用加热器等对气体及/或液体的流路进行加热。
另外，优选在通过液膜形成部26形成的液膜Lf的上端部及其周边供给吹扫气体。吹扫气体能够使用氮气等惰性气体。另外，优选将吹扫气体加温到规定温度(例如，180℃)而供给。在图1中，示出了将N2气体作为吹扫气体供给到液膜Lf的上端部及其周边的例。由此，能够抑制生成物附着于在液膜形成部26附近，即，液膜Lf的上端部及其周边露出的吸入壳体20的壁面。
在本实施方式中，在吸入壳体20中的液膜形成部26的上方的壁部31嵌入有盒式加热器(图示略)，该盒式加热器将壁部31加热到规定温度(例如180℃)。通过将盒式加热器嵌入壁部31，能够将壁部31适当地加热到液膜形成部26的附近为止，从而能够防止异物堆积在液膜形成部26的附近。另外，通过由嵌入内部的盒式加热器对壁部31直接进行加温，与夹套加热器相比，能够有效地使壁部31升温，并能够节约能源。并且，盒式加热器一般比夹套加热器便宜，从而能够降低成本。另外，只要将盒式加热器以能够拆卸的方式插入配置于形成于壁部31的孔，就能够容易地进行盒式加热器的维护及更换。
在本实施方式中，在壁部31的上端设置有刮刀32。刮刀32始终或随时动作，并通过机械性地刮落附着于壁部31的内壁面的生成物，从而抑制生成物附着于壁部31的内壁面。在壁部31的上端设置有对刮刀32的轴进行引导的引导部，且吹扫气体(在图1的例中，是N2气体)被导入引导部。由此，抑制了生成物附着于刮刀32的轴及其周边，从而能够防止刮刀32的动作被阻碍。
如图1所示，吸入壳体20的下端侧配置于液槽壳体40的内部，吸入壳体20的导出口24在液槽壳体40内开口。液槽壳体40是用于储存液体并将储存的液体再利用到废气处理装置10的处理的循环箱。液槽壳体40具有液槽42a，例如作为液膜Lf而被冲走的液体流下到该液槽42a。液槽42a具有堰44，该堰44位于液槽42a的下游侧，即与吸入壳体20的导出口24相比位于处理壳体50侧。在堰44的下游侧配置有设置于处理壳体50内的下部的液槽42b、液槽42c，在液槽42b与液槽42c之间配置有过滤器45。
从吸入壳体20的导出口24流下的液体暂时进入液槽42a。然后，储存在液槽42a的液体溢出堰44而流入液槽42b，并通过过滤器45而流入液槽42c。在液槽42c设置有液体排出口43，液槽42c内的液体从液体排出口43排出。
此外，也可以是在液槽壳体40设置液槽42a～42c，并在液槽42b、42c的上方与处理壳体50连接的结构。
在本实施方式中，吸入壳体20具有到储存于液槽42a的液体的液面附近为止的长度。换言之，导出口24在储存于液槽42a的液体的液面的附近，并且与液面分离。在一例中，导出口24与液面的距离是例如约20mm～30mm。导出口24与液面之间的距离被选择为，充分地抑制从导出口24排出的处理气体从液体受到的压力(压损)，并且抑制来自导出口24附近的生成物的飞散。在该结构中，由于在吸入壳体20的导出口24与液面之间存在间隙，因此抑制从导出口24流出的处理气体因储存液体而受到压损。另外，由于导出口24与储存液体的液面之间的距离近，因此能够抑制生成物向周围飞散。如后述那样，由于液槽42a采用溢出方式，因此在一例中，液面的变动被抑制在几mm范围内。因此，考虑到液面的变动，优选以导出口24始终位于离液面约20mm～30mm的距离的上方的方式，将导出口24配置于与堰44的上端相比靠上方。例如，在液面的变动为5mm的情况下，能够留出液面的变动量的余量，而将导出口24以约25mm～35mm程度的距离配置在与堰44的上端相比靠上方。
液槽42a具备将上方、下方及侧方包围的壁40a和将液槽42a与液槽42b隔开的壁47。在壁47设置有将液槽42a及液槽42b连通的开口部47a，且壁47的开口部47a的下方的部分构成堰44。液槽42a是储存的液体从堰44溢出而流入液槽42b的溢出方式的液槽，液槽42a内的液体的液面被稳定地维持。在一例中，液面的变动被抑制在几mm的范围。由此，能够使导出口24正下方的液面的高度稳定，从而能够抑制处理气体的压损的增大及生成物的飞散。
在液槽42a设置有一个或多个喷雾喷嘴46。在该例中，设置有多个喷雾喷嘴46，且该喷雾喷嘴46在吸入壳体20的配管21的周围以均等的间隔配置。在图1中，示出了两个喷雾喷嘴46，但是喷雾喷嘴46的数量可以是三个以上。喷雾喷嘴46的数量选择为，通过将液体呈雾状地喷出到液槽42a内整体(液面上方的结构整体)，使得液槽42a内不存在从液体露出的装置结构的界面。液面上方的结构包含液槽42a的壁、吸入壳体20的配管21的外表面。
各喷雾喷嘴46在吸入壳体20的侧方且配置在与导出口24相比的上方。各喷雾喷嘴46构成为与液体流路72a流体性地连通，并从液体流路72a接受液体的供给。各喷雾喷嘴46具备朝向上方呈雾状地喷出液体的第一喷雾喷嘴461和朝向下方呈雾状地喷出液体的第二喷雾喷嘴462。第一喷雾喷嘴461构成为在液槽42a内将液体朝向上方喷雾洒水，以使得液槽42a的壁及吸入壳体20的外表面被液体覆盖。第二喷雾喷嘴462构成为在液槽42a内对吸入壳体20的下端的导出口24的周围的部分进行液体的喷雾洒水。第二喷雾喷嘴462也可以构成为进一步对液槽42a的壁进行液体的喷雾洒水。
通过从各喷雾喷嘴46呈雾状地喷出液体，能够使被导入液槽42a内的处理气体与液体接触而将处理气体水解，并且通过呈雾状地喷出的液体将水解时的生成物击落到储存液中。由此，能够抑制生成物在液槽壳体40内浮游。
另外，通过从各喷雾喷嘴46对液槽42a内整体呈雾状地喷出液体，能够将液槽42a内整体(液槽42a的壁、吸入壳体20)用液体覆盖。由此，能够将成为生成物的附着的主要原因的界面整体用液体膜覆盖，从而能够抑制生成物附着于液槽42a的壁面及吸入壳体20。由于第一喷雾喷嘴461朝向上方呈雾状地喷出液体，因此也能够用液体有效地覆盖液槽壳体40的顶部部分。
另外，通过使用第二喷雾喷嘴462从周围对吸入壳体20的导出口24的周围的部分呈雾状地喷出液体，从而能够使处理气体与液体在吸入壳体20的导出口24的附近发生反应而生成的生成物落到储存液体中。由此，能够进一步抑制生成物从吸入壳体20的导出口24附近飞散。
在图1中，在液槽42a配置有喷射器48。喷射器48是如下装置：由驱动液体驱动，将驱动液体的数倍的量的液体吸入，并将吸入后的液体和驱动液体一起排出。喷射器48在液槽42a的储存液体中配置于液面附近，该喷射器48将储存液体吸入，且方向被设定为将液体朝向下游侧(液槽42b侧)排出。通过由喷射器48对液体进行吸入及排出，从而液槽42a的储存液体被搅拌。通过喷射器48对储存液体的搅拌，能够使进入储存液体的生成物溶入储存液体中，从而能够抑制生成物滞留或浮游于储存液体中。喷射器48例如从液体流路72a被供给驱动液体，将储存液体吸入，并和驱动液体一起排出。
图8是用于说明喷射器48的动作的示意图。如白色的箭头所示，从供水部482的供水口48IN被供给的驱动液体在喷嘴484被节流，从而高速放出到扩散室485。此时，扩散室485的压力因高速流而降低，液槽42的液体如涂黑的箭头所示从两个吸入口483、483被吸入扩散室485。从吸入口483、483被吸入扩散室485的液体和从供水部482流入的驱动液体一起从排出口48OUT排出。在该情况下，当将从供水部482供水的水量设为Q时，从两个吸入口483、483被吸入的水量为大约4Q，从而总计5Q水量的液体从喷射器48被喷射。
处理壳体50与液槽壳体40连接，且对从液槽壳体40流入的处理气体进一步进行除害处理并排出。处理壳体50具备冲洗槽51a、冲洗槽51b以及冲洗槽51c。冲洗槽51a与冲洗槽51b被壁50a隔开，冲洗槽51b与冲洗槽51c被壁50b隔开。在本实施方式中，在冲洗槽51a、冲洗槽51b的下部分别设置有液槽42b、液槽42c。
液槽42b构成为通过壁47而与液槽42a隔开，且从壁47的开口部47a的下方的堰44溢出的液体流入该液槽42b。液槽42b的下游侧通过壁50a而与液槽42c隔开，液槽42b的液体经由设置于壁50a的开口的过滤器45而流向液槽42c。
液槽42c通过壁50a而与液槽42b隔开，且位于液槽42b的下游侧。来自液槽42b的液体通过过滤器45而将生成物等异物去除后流入液槽42c。在液槽42c配置有喷射器48b。喷射器48b的方向被设定为朝向过滤器45排出液体。通过由喷射器48b将液体排出，从而抑制过滤器45的堵塞。另外，在液槽42c设置有水位计41，使用水位计41的检测值并通过后述的泵81及/或排水阀84，而将液槽42c的水位控制为规定范围(预先设定的第一阈值以上且小于第二阈值的范围)。
第一级的冲洗槽51a具备上下并排配置的两个喷雾喷嘴52和配置于喷雾喷嘴52的上方的喷雾喷嘴或喷射喷嘴53。喷雾喷嘴52从液体流路72b被供给液体，并朝向下方呈雾状地喷出液体。喷雾喷嘴或喷射喷嘴53从液体流路72b被供给液体，并朝向下方及上方呈雾状地喷出液体。来自液槽42a的处理气体从下方朝向上方流过冲洗槽51a，并在冲洗槽51a的上端部附近流入第二级的冲洗槽51b。处理气体在通过冲洗槽51a时与被喷雾喷嘴52、52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53呈雾状地喷出的液体接触而水解。在冲洗槽51a的上部设置有过压排气口65。在槽内施加有过剩压力时，过压排气口65释放槽内的压力。
第二级的冲洗槽51b具备：喷雾喷嘴或喷射喷嘴53、配置于喷雾喷嘴或喷射喷嘴53的下方的喷雾喷嘴52以及配置于喷雾喷嘴52的下方的喷射喷嘴54。喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53与配置于第一级的冲洗槽51a的喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53相同，且从液体流路72b被供给液体。喷射喷嘴54从液体流路72a接受液体的供给，并以使液体撞击液槽42c内的液面的方式喷射液体。来自冲洗槽51a的处理气体从上方朝向下方流过冲洗槽51b，并从冲洗槽51b的下端部流入第三级的冲洗槽51c。处理气体在通过冲洗槽51b时与被喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53、喷射喷嘴54喷雾或喷射的液体接触而水解。另外，通过来自喷射喷嘴54的液体的喷射，能够搅拌浮游于液槽42c内的液面的生成物，从而使该生成如溶入液体中。
最后一级的冲洗槽51c具备：上下并排配置的两个拉希环(Raschig ring)层57、朝向下侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体的喷雾喷嘴55以及朝向上侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体的喷雾喷嘴56。在冲洗槽51c的上端连接有捕雾器61，处理气体经由捕雾器61从排气口62排出。拉希环层57用于防止雾的产生，由多个树脂制的环层叠而形成。喷雾喷嘴55从液体流路72b接受液体的供给，并朝向下侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体。喷雾喷嘴56从液体流路63接受淡水(例如，城市水)的供给，并向下方而朝向上侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体。在液体流路63设置有流量计64，基于流量计64的检测值，控制对于喷雾喷嘴56的淡水的供给量。捕雾器61具备一个或多个挡板，该捕雾器61从成为雾状的处理气体除去水分，并将处理气体在气体的状态下排出。来自冲洗槽51b的处理气体从下方朝向上方流过冲洗槽51c，并与被喷雾喷嘴55及喷雾喷嘴56呈雾状地喷出的液体接触而进一步水解，进而在捕雾器61回到气体的状态之后，从排出口62排出。
本实施方式的废气处理装置10具备泵81，该泵81对从液槽42c的液体排出口43排出的液体进行压送。也可以在与泵81连接的液体流路71、72设置去除液体所含的异物等的去除机构(未图示)。泵81将从液体排出口43排出的液体经由液体流路72、72a向喷雾喷嘴46、52及喷射喷嘴54供给。另外，泵81将从液体排出口43排出的液体经由液体流路72、72b向喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53、喷雾喷嘴55供给。另外，泵81将从液体排出口43排出的液体经由液体流路72、72c向吸入壳体20的液膜形成部26供给。通过像这样对储存于液槽42a～42c的液体进行再利用，从而能够降低运行成本，并有利于保护环境。
另外，在液体流路72c设置有流量计83。通过基于流量计83的检测结果对泵81进行控制，能够调节向液膜形成部26的液体的流量，从而对液膜Lf的厚度等进行适当地控制。例如，对液膜Lf的厚度进行控制，以抑制处理气体的压损并且抑制生成物的飞散。另外，流量计83在检测流量的功能之外，还可以是具有控制流量的功能的流量控制阀。例如，能够采用CLC(Closed Loop Controller：闭环控制器)，该CLC基于流量计的检测值自动地控制流量控制阀，以使流量成为设定值。另外，也可以在液体流路72设置流量计82，对来自泵81液体的流量整体进行监视并控制。流量计82能够与流量计83相同地，具有控制流量的功能。
此外，通过泵81从液体排出口43排出的液体根据设置于液体流路71的排水阀84的开闭而经由液体流路71向废气处理装置10外部排出。在一例中，在处理气体的处理中，泵81始终运转以使液体循环，并且基于设置于液槽42c的水位计41的检测值来控制排水阀84的开闭，以使液槽42c的水位成为规定范围(预先设定的第一阈值以上且小于第二阈值的范围)。
根据上述的本实施方式，由于导出口24与液槽42a的液面分离，因此能够抑制从导出口24流出的处理气体的压损，提高处理气体的流速，从而提高废气处理装置的处理速度。另外，由于导出口24与储存液体的液面之间的距离近，因此能够抑制生成物向周围飞散。
另外，根据本实施方式，由于液槽42a是溢出方式的液槽，因此能够使导出口24的正下方的液面的高度稳定，从而能够抑制处理气体的压损的增大及生成物的飞散。
根据本实施方式，通过由喷雾喷嘴46向液槽42a内整体(液面上方的结构整体)呈雾状地喷出液体而由液体覆盖液槽42a内的界面，能够抑制生成物附着于液槽42a内的结构。另外，由于还通过喷雾喷嘴46对吸入壳体20的导出口24的周围的部分呈雾状地喷出液体，因此能够使处理气体与液体在吸入壳体20的导出口24的附近发生反应而生成的生成物落到储存液体中。由此，能够抑制生成物从吸入壳体20的导出口24附近飞散。另外，由于由吸入壳体20的液膜形成部26形成的液膜Lf的液体从导出口24流出，因此根据这一点也能够抑制导出口24中的生成物的飞散。
(变形例)
图2是表示变形例的废气处理装置的液槽内的结构的图。在该例中，在液槽42a中在储存液体的液面附近还配置有一个或多个喷雾喷嘴46b。一个或多个喷雾喷嘴46b仅排出口从液面露出，且朝向吸入壳体20的导出口24呈雾状地喷出液体。由于喷雾喷嘴46b仅排出口从液面露出，因此排出口以外的部分位于液中，从而抑制了生成物的附着。另外，由于液体从喷雾喷嘴46b的排出口排出，因此抑制了生成物在排出口的附着。
为了在导出口24的整周呈雾状地喷出液体，优选在导出口24的周围配置多个喷雾喷嘴46b。另外，在喷雾喷嘴46停止或继续呈雾状地喷出液体时，通过从喷雾喷嘴46b朝向喷雾喷嘴46放出液体而对喷雾喷嘴46进行清洗，从而能够抑制生成物附着于喷雾喷嘴46，或冲洗附着于喷雾喷嘴46的生成物，从而能够抑制附着于喷雾喷嘴46的生成物的体积。另外，通过喷雾喷嘴46b朝向吸入壳体20的导出口24从周围放出液体而对导出口24的周围的部分进行清洗，从而能够进一步抑制生成物附着于导出口24的周围的部分。
此外，在图2的结构中，也可以是省略喷雾喷嘴46中的向下方呈雾状地喷出液体的第二喷雾喷嘴，并从喷雾喷嘴46b向上方呈雾状地喷出液体的结构。在该情况下，也能够通过喷雾喷嘴46b向吸入壳体20的导出口24的周围的部分呈雾状地喷出液体。
(第二实施方式)
图3是表示第二实施方式的废气处理装置的液槽中的结构的图。以下，对与第一实施方式不同的结构进行说明，并省略与第一实施方式相同的结构的说明。在本实施方式的排气气体处理装置10中，在液槽42a中，在吸入壳体20的配管21的内部设置有液膜形成部21a。液膜形成部21a具有设置于吸入壳体20的配管21的内部的液体的通路21b和在配管21的下端面开口的开口部21c。
例如在将吸入壳体20的配管21设为双层管结构的情况下，通路21b能够由内侧及外侧的管之间的空间形成。通路21b不限于该结构，可以是在吸入壳体20的配管21加工设置孔及/或狭缝的结构，能够采用其他任意的结构。通路21b也可以是储存液体并且将液体从开口部21c放出的水库。开口部21c可以是在末端面遍及整周地设置的多个孔或狭缝，也可以是遍及整周地连续的狭缝。在吸入壳体20的配管21的内部的通路21b，可以例如从液体流路72分支的液体流路72a(参照图1)或从液体流路72分支的单独的液体流路供给液体。
被供给到配管21的内部的通路21b的液体向下方流过通路21b，并从配管21的末端面的开口部21c向下方流出，从而在导出口24的周围形成帘状的液膜Cf。其结果是，导出口24被形成于吸入壳体20的内壁面的液体膜Lf和液体膜Lf的外侧的帘状的液膜Cf双层包围，因此能够进一步抑制生成物从导出口24的附近飞散。另外，通过从喷雾喷嘴46向下方呈雾状地喷出的液体和从配管21的下端面流出的帘状的液膜Cf的液体，能够使吸入壳体20的末端面充分湿润，从而能够进一步抑制生成物附着于导出口24的周围的部分。
也可以在与液膜形成部21a连接的液体流路72d(72a)设置流量计85，并基于流量计85的检测值对向液膜形成部21a供给的液体的流量进行控制，以使帘状的液膜Cf成为适当的厚度。流量计85的结构可以与上述的流量计83的结构同样地具有控制流量的功能。此外，在将单独的液体流路72d与液膜形成部21a连接的情况下，能够抑制或防止对其他喷雾喷嘴的流量的影响，并且精确地控制向液膜形成部21a的液体的流量。
在图3的结构中，设置有与第一实施方式的变形例相同的喷雾喷嘴46b。此外，在图3的结构中，也可以省略喷雾喷嘴46b。另外，在图3的结构中，也可以是省略喷雾喷嘴46中的向下方呈雾状地喷出液体的第二喷雾喷嘴462，并从喷雾喷嘴46b向上方呈雾状地喷出液体的结构。在情况下，也能够通过喷雾喷嘴46b向吸入壳体20的导出口24的周围的部分呈雾状地喷出液体。
作为在吸入壳体20的配管21的末端面设置液膜形成部21a的开口部21c的代替或在此之外，还可以在吸入壳体20的配管21的侧面设置液膜形成部21a的开口部21c。在该情况下，通过使液体从吸入壳体20的配管21的侧面的开口部21c沿配管21的外表面流下，也能够在液体膜Lf的外侧形成帘状的液膜Cf。
(第三实施方式)
图4至图7表示第三实施方式的废气处理装置的液槽中的结构。以下，对与上述实施方式不同的结构进行说明，并省略与第一实施方式相同的结构的说明。在本实施方式中，如图7所示，在吸入壳体20的下端，通过在将配管21的一部分设置切口而形成有导出口24a。另外，设置有管道91，该管道91从导出口24a连续地朝向侧方延伸。管道91具备两侧的侧板91a和从两侧的侧板91a的上端部连续的顶板91b，在侧板91a及顶板91b的内侧形成有管道通路24b。管道通路24b具有剖面从导出口24a朝向下游侧逐渐扩大的形状。在本实施方式中，管道通路24b的剖面形状是四边形，但也可以是椭圆等其他形状。
管道91的顶板91b随着从导出口24a朝向下游侧而向上方倾斜(图4)、左右的侧板91a随着从导出口24a朝向下游侧而向外侧倾斜(图5)。如图4所示，吸入壳体20的下端与堰44的上端相比配置于下方。换言之，吸入壳体20的下端位于与液槽42a的储存液体的液面相比靠下方的位置。另外，与上述实施方式相同地，液槽42a是具备堰44的溢出方式的液槽。由此，能够使导出口24a的正下方的液面的高度稳定，从而能够抑制处理气体的压损的增大及生成物的飞散。
另外，从管道91的下端连续设置有隔板92(图4、图6)。隔板92设置为从管道91和吸入壳体20的下端的整周向外侧连续，并且延伸为从除了管道通路24b的部分的液槽42a的内周的整个区域连续。通过该结构，管道91及隔板92将液槽42a分隔为上下的空间，上下的空间相互流体性地分离。如图4所示，隔板92的下方的下侧空间401被液体充满到隔板92的下表面为止，管道91的内部的管道通路24b的周围被管道91和液面包围。隔板92的上方的上侧空间402与下侧空间401流体性地分离，因此，处理气体及液体不会侵入该上侧空间402。由于液槽42a是溢出方式的，因此液槽42a内的液面稳定，从而抑制了隔板92与液面之间产生间隙。由此，抑制了处理气体与隔板92的下表面接触而使生成物附着于隔板92的下表面。此外，在处理气体经由储存液泄漏到管道91的可能性小的情况下，也可以省略隔板92。
在管道通路24b内，在液体的液面附近设置有一个或多个喷雾喷嘴46c和一个或多个喷射器48c。也可以将一个或多个喷雾喷嘴46c置换为喷射器，从而使46c及48c全部是喷射器。另外，也可以将一个或多个喷射器48c置换为喷雾喷嘴，从而使46c及48c全部是喷雾喷嘴。喷雾喷嘴46c及喷射器48c的排出口的方向被设为，从液面露出并朝向上方放出液体。喷雾喷嘴46c及喷射器48c的排出口以外的大部分位于液体中，因此，抑制了生成物附着于喷雾喷嘴46c及喷射器48c。
在该例中，如图5所示，四个喷射器48c在靠近导出口24a的一侧，在横穿管道通路24b的方向上并列，两个喷雾喷嘴46c在喷射器48c的下游侧，在横穿管道通路24b的方向上并列並。另外，四个喷射器48c以越靠近管道通路24b的中心则越位于下游侧的方式并列。通过像这样配置，能够将更多的喷射器配置于管道通路24b内。另外，也可以使多个喷雾喷嘴46c以越靠近管道通路24b的中心则越位于下游侧的方式并列。喷射器48c及喷雾喷嘴46c的数量及配置是一例，能够采用其他数量及配置。
喷射器48c构成为，通过朝向管道通路24b的内部及管道通路24b的内壁面喷射液体，从而由液体使通过管道通路24b内的处理气体水解，并且通过喷射的液体使生成物落到储存液体，或者将管道通路24b的内壁面的整体用液体覆盖。喷雾喷嘴46c构成为通过朝向管道通路24b的内部及管道通路24b的内壁面呈雾状地喷出液体，从而由液体使通过管道通路24b内的处理气体水解，并且通过呈雾状地喷出的液体使生成物落到储存液体，或者将管道通路24b的内壁面的整体用液体覆盖。这里，如图4所示，管道91的顶板91b设置为朝向导出口24a而下降，因此，从喷雾喷嘴46c到达顶板91b的下表面的液体沿着顶板91b的下表面而朝向导出口24a流动，从而顶板91b的下表面被液体覆盖。
在本实施方式中，由于通过管道91及隔板92将液槽42a内上下分隔，并在下侧空间401导入液体及处理气体，因此能够将下侧空间401内整体用液体覆盖而抑制生成物的附着。因此，能够减少由喷雾喷嘴呈雾状地喷出液体的范围，从而减少液体的使用量。另外，能够减少喷雾喷嘴的数量。另外，由于处理气体的流动被限定于管道通路24b内，因此容易使处理气体与来自喷射器及/或喷雾喷嘴的液体接触，从而能够提高处理气体的水解的效率。另外，由于在靠近管道通路24b的导出口24a的一侧，流路的截面积小，特别是处理气体集中，因此通过由喷射器48c喷射液体，能够有效地使处理气体与液体接触，从而能够促进处理气体的水解。
根据本实施方式，由于导出口24a在液面上向侧方开口，因此能够抑制处理气体的压损，提高处理气体的流速，从而提高废气处理装置的处理速度。另外，由于导出口24a被管道91及液面包围，因此能够抑制生成物的飞散。另外，液槽42a内流体性地分为下侧空间401和上侧空间402，在配置有导出口24a的下侧空间401，从储存液体露出的部分仅位于管道91的内部，因此，仅通过将管道91的内壁用液体覆盖，就能够抑制液槽42a内的生成物的附着。
从上述实施方式至少可以把握以下的方式。
根据第一方式，废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口供所述处理气体流出；液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；以及一个或多个喷雾喷嘴，该一个或多个喷雾喷嘴配置于所述液槽内所述吸入壳体的所述导出口配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于上方，所述一个或多个喷雾喷嘴的喷雾构成为，从周围对所述吸入壳体的所述导出口的周围的部分呈雾状地喷出液体。
根据该方式，吸入壳体的导出口与液槽内的液体的液面相比位于上方的位置，因此与导出口位于液面下而向液体中导出处理气体的情况相比，能够降低从吸入壳体向液槽内导出的处理气体的压损。由此，能够提高废气处理装置中的处理气体的处理速度。
另外，由于从周围对吸入壳体的导出口的周围呈雾状地喷出液体，因此能够在容易产生生成物的处理气体的导出口的附近抑制生成物附着于吸入壳体末端。另外，能够通过呈雾状地喷出的液体使在导出口的附近生成的生成物落到液槽内的液体，因此能够抑制生成物的浮游。
根据第二方式，在第一方式的废气处理装置中，所述一个或多个喷雾喷嘴构成为，在所述液槽内，将液面上方的包含所述吸入壳体的外表面及所述液槽的壁在内的整个面用呈雾状地喷出的液体覆盖。
根据该方式，由于将液槽内整体用液体覆盖，因此能够抑制生成物附着于液槽内的结构(液槽的壁面、吸入壳体)。换言之，由于将液槽内的整个界面用液体覆盖，因此能够抑制生成物附着于液槽内的界面。这里，界面是指，在生成有生成物的液体的附近没有被液体覆盖的装置的露出部位，也可能被称作气液界面。在这样的界面中，处理气体与液体发生反应而产生的生成物容易附着，如上所述，根据本方式，能够有效地抑制生成物附着于液槽内的界面。
根据第三方式，在第一或第二方式的废气处理装置中，所述液槽具有堰，该堰使溢出的液体向下游侧流动，所述吸入壳体的所述导出口与所述堰相比位于上方。
根据该方式，能够将液槽内的液面稳定地维持在堰的上端附近的高度，从而容易将导出口与液面之间的距离保持为恒定。由此，能够抑制液面上升而使导出口与液面过近或接触，从而导致被导出的处理气体的压损增加。另外，能够抑制液面下降而使导出口与液面过远，从而使生成物向周围的飞散地增加。
根据第四方式，在第一至第三方式的任一种废气处理装置中，所述一个或多个喷雾喷嘴具有：第一喷嘴，该第一喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向上方呈雾状地喷出液体；以及第二喷嘴，该第二喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向下方呈雾状地喷出液体。
根据该方式，能够通过第一喷嘴向吸入壳体的外表面及液槽的壁面呈雾状地喷出液体。另外，能够通过第二喷嘴向吸入壳体的导出口的周围的部分呈雾状地喷出液体。由此。能够将液槽内的界面整体用液体覆盖，从而能够抑制生成物附着于界面。另外，能够在容易产生生成物的处理气体的导出口的附近抑制生成物附着于吸入壳体末端。另外，由于能够使在导出口附近生成的生成物落到液槽内的液体，因此能够抑制生成物的浮游。
根据第五方式，在第一至第三方式的任一种废气处理装置中，所述一个或多个喷雾喷嘴具有：第一喷嘴，该第一喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向上方呈雾状地喷出液体；以及第二喷嘴及/或第三喷嘴，该第二喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向下方呈雾状地喷出液体，该第三喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于下方的位置，朝向上方呈雾状地喷出液体。
根据该方式，通过第一喷嘴和第二喷嘴及/或第三喷嘴，能够起到与第四方式相同的作用效果。另外，通过使第二喷嘴停止或继续呈雾状地喷出液体，并且从第三喷嘴朝向第一喷嘴及/或第二喷嘴呈雾状地喷出液体，能够抑制生成物附着于第一喷嘴及/或第二喷嘴。另外，通过第三喷嘴从下方进行喷雾，容易将吸入壳体的末端面用液体覆盖。
根据第六方式，在第一至第四方式的任一种废气处理装置中，所述吸入壳体具有第一液膜形成部，该第一液膜形成部设置于所述吸入壳体的壁的内部，并在所述导出口的周围形成帘状的液体膜。
根据该方式，由于在导出口的周围形成液体的帘状的液体膜，因此也能够通过帘状的液体膜使生成物落到液体中，从而能够进一步抑制生成物的飞散。另外，当在吸入壳体内表面设置形成液体膜的第二液膜形成部时，能够通过通过吸入壳体的内表面而从导出口流出的帘状的液体膜与从吸入壳体的壁的内部向导出口的周围流出的帘状的液体膜这双层的帘状液体膜来使生成物落到液体中，从而能够进一步抑制生成物的飞散。
根据第七方式，在第六方式的废气处理装置中，所述吸入壳体是双层管结构，所述第一液膜形成部具有液体的通路和开口部，该液体的通路设置于内侧及外侧的管之间，该开口部与所述通路流体性地连通，并在所述吸入壳体的末端面或侧壁开口。
根据该方式，能够以简单的结构设置第一液膜形成部。
根据第八方式，在第七方式的废气处理装置中，还具备流量计及/或流量控制阀，该流量计及/或流量控制阀对向所述第一液膜形成部供给的液体的流量进行测量。
根据该方式，能够精确地控制第一液膜形成部的液体的供给量，从而能够精确地调整帘状的液体膜的液体的流量及/或厚度。
根据第九方式，在第一至第八方式的任一种废气处理装置中，还具备第二液膜形成部，该第二液膜形成部设置于所述吸入壳体的所述吸入口与所述导出口之间，并在所述吸入壳体的内壁面形成液膜。
根据该方式，能够抑制生成物附着于吸入壳体的内表面(处理气体流路的壁面)。另外，当在吸入壳体的壁内部设置有第一液膜形成部时，能够通过通过吸入壳体的内表面而从导出口流出的帘状的液体膜与从吸入壳体的壁的内部向导出口的周围流出的帘状的液体膜这双层的帘状液体膜来使生成物落到液体中，从而能够进一步抑制生成物的飞散。
根据第十方式，在第一乃至第九方式的任一种废气处理装置中，所述吸入壳体配置为，所述导出口位于所述液槽内的液体的液面的附近。
根据该方式，由于导出口位于液面的上方且附近，因此能够抑制处理气体的压损，并且抑制生成物的飞散。
根据第十一方式，在第一至第十方式的任一种废气处理装置中，多个所述喷雾喷嘴配置于所述吸入壳体的周围。
根据该方式，通过在吸入壳体的周围以适当地数量及/或间隔配置喷雾喷嘴，能够更有效地将液槽内整体(吸入壳体及液槽的壁整体)用液体覆盖。
根据第十二方式，在第一至第十一方式的任一种废气处理装置中，还具备喷射器，该喷射器设置于所述液槽内，并对储存于所述液槽的液体进行搅拌。
根据该方式，对液槽内的液体进行搅拌而使生成物溶入液体，从而能够抑制生成物的滞留。
根据第十三方式，废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口与该吸入口相比设置于下方，并供所述处理气体流动；液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；液膜形成部，该液膜形成部设置于所述吸入壳体的所述吸入口与所述导出口之间，并在所述吸入壳体的内壁面形成液膜；以及一个或多个液体供给装置，该一个或多个液体供给装置配置于所述液槽内，并喷射或呈雾状地喷出液体，所述吸入壳体的末端配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于下方，所述吸入壳体在所述末端侧的侧壁具有所述导出口，在所述液槽内设置有管道，该管道从所述吸入壳体的所述导出口朝向下游侧对所述处理气体进行引导，所述一个或多个液体供给装置配置为，朝向所述管道的内部及壁面喷射或呈雾状地喷出液体。
根据该方式，由于导出口在液面上向侧方开口，因此能够抑制处理气体的压损，提高处理气体的流速，从而提高废气处理装置的处理速度。另外，由于导出口被管道及液面包围，因此能够抑制生成物的飞散。另外，吸入壳体的导出口被液面和管道包围，从而能够将处理气体的流动限定在被液面和管道包围的通路内。因此，在液体通过一个或多个液体供给装置朝向管道的内部及壁面喷射或呈雾状地喷出时，有效地使处理气体与液体接触，从而促进水解。另外，仅通过将被管道包围的通路的壁面用液体覆盖，就能够抑制液槽内的生成物的附着。
另外，由于通过液膜形成部在吸入壳体的内表面形成液体膜，因此设置于吸入壳体的侧壁的导出口被液体膜的窗帘覆盖，从而抑制了生成物附着于导出口附近。
根据第十四方式，在第十三方式的废气处理装置中，所述液槽具有堰，该堰使溢出的液体向下游侧流动，所述吸入壳体的所述末端与所述堰的上端相比位于下方。
根据该方式，能够将液槽内的液面稳定地维持在堰的上端附近的高度，从而容易将导出口与液面之间的距离保持为恒定。由此，能够抑制液面上升而使从液面露出的导出口的流通面积减小，进而导致压损增加。另外，能够抑制液面下降而使导出口与液面之间产生间隙，从而抑制处理气体从间隙直接向管道外放出，以及抑制生成物从导出口附近向管道外的飞散增加。
根据第十五方式，在第十三或第十四方式的废气处理装置中，还具备隔板，该隔板从所述吸入壳体的下端及所述管道的下端的整周连续地形成，并将所述液槽内分隔为上下的空间。
根据该方式，液槽内被隔板流体性地分割为上下的空间，由于在配置有导出口的下侧空间，从储存液体露出的部分仅管道的内部，因此只要在管道的内壁形成液体膜，就能够抑制液槽内的生成物的附着。另外，能够抑制处理气体经由储存液从管道外放出。
根据第十六方式，在第十三至第十五方式的任一种废气处理装置中，多个所述液体供给装置配置为，横穿所述处理气体的流动方向。
根据该方式，能够将管道内的处理气体的通路整体用液体良好地覆盖。另外，能够有效地使管道内的处理气体与液体接触，从而促进水解。
根据第十七方式，在第十三至第十六方式的任一种废气处理装置中，所述一个或多个液体供给装置包含喷射器及/或喷雾喷嘴。
根据该方式，能够以简单的结构将管道内的处理气体的通路用液体良好地覆盖。
本申请基于2019年8月22日申请的日本专利申请编号特愿2019-152118号，并主张其优先权。将包含2019年8月22日申请的日本专利申请编号特愿2019-152118号的说明书、权利要求书、附图及摘要的全部发明内容通过参照而作为整体编入本申请。将包含特开2003-251130号公报(专利文献1)、特开2015-379号公报(专利文献2)的说明书、权利要求书、附图及摘要的全部发明通过参照而作为整体编入本申请。将包含2018年2月26日提出的特愿2018-031823号的说明书、权利要求书、附图及摘要的全部发明通过参照而作为整体并入本申请。
以上，基于多个例对本发明的实施方式进行了说明，但是上述的发明的实施方式是为了容易地理解本发明，而不对本发明进行限定。本发明只要不脱离其主旨，就能够进行变更、改良，并且该均等物当然也包含于本发明。另外，在能够解决上述技术问题的至少一部分的范围内，或起到至少一部分的效果的范围内，能够对权利要求书及说明书所记载的各结构要素进行任意的组合或省略。

Claims (17)

1.一种废气处理装置，用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置的特征在于，具备：
吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口供所述处理气体流出；
液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；以及
一个或多个喷雾喷嘴，该一个或多个喷雾喷嘴配置于所述液槽内，
所述吸入壳体的所述导出口配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于上方，
所述一个或多个喷雾喷嘴的喷雾构成为，从周围对所述吸入壳体的所述导出口的周围的部分呈雾状地喷出液体。
2.根据权利要求1所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述一个或多个喷雾喷嘴构成为，在所述液槽内，将液面上方的包含所述吸入壳体的外表面及所述液槽的壁在内的整个面用呈雾状地喷出的液体覆盖。
3.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述液槽具有堰，该堰使溢出的液体向下游侧流动，
所述吸入壳体的所述导出口与所述堰相比位于上方。
4.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述一个或多个喷雾喷嘴具有：
第一喷嘴，该第一喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向上方呈雾状地喷出液体；以及
第二喷嘴，该第二喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向下方呈雾状地喷出液体。
5.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述一个或多个喷雾喷嘴具有：
第一喷嘴，该第一喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向上方呈雾状地喷出液体；以及
第二喷嘴及/或第三喷嘴，该第二喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于上方的位置，朝向下方呈雾状地喷出液体，该第三喷嘴在与所述吸入壳体的所述导出口相比位于下方的位置，朝向上方呈雾状地喷出液体。
6.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述吸入壳体具有第一液膜形成部，该第一液膜形成部设置于所述吸入壳体的壁的内部，并在所述导出口的周围形成帘状的液体膜。
7.根据权利要求6所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述吸入壳体是双层管结构，
所述第一液膜形成部具有液体的通路和开口部，该液体的通路设置于内侧及外侧的管之间，该开口部与所述通路流体性地连通，并在所述吸入壳体的末端面或侧壁开口。
8.根据权利要求7所记载的废气处理装置，其特征在于，
还具备流量计及/或流量控制阀，该流量计及/或流量控制阀对向所述第一液膜形成部供给的液体的流量进行测量。
9.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
还具备第二液膜形成部，该第二液膜形成部设置于所述吸入壳体的所述吸入口与所述导出口之间，并在所述吸入壳体的内壁面形成液膜。
10.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述吸入壳体配置为，所述导出口位于所述液槽内的液体的液面的附近。
11.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
多个所述喷雾喷嘴配置于所述吸入壳体的周围。
12.根据权利要求1或2所记载的废气处理装置，其特征在于，
还具备喷射器，该喷射器设置于所述液槽内，并对储存于所述液槽的液体进行搅拌。
13.一种废气处理装置，用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置的特征在于，具备：
吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口与该吸入口相比设置于下方，并供所述处理气体流动；
液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；
液膜形成部，该液膜形成部设置于所述吸入壳体的所述吸入口与所述导出口之间，并在所述吸入壳体的内壁面形成液膜；以及
一个或多个液体供给装置，该一个或多个液体供给装置配置于所述液槽内，并喷射或呈雾状地喷出液体，
所述吸入壳体的末端配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于下方，所述吸入壳体在所述末端侧的侧壁具有所述导出口，
在所述液槽内设置有管道，该管道从所述吸入壳体的所述导出口朝向下游侧对所述处理气体进行引导，
所述一个或多个液体供给装置配置为，朝向所述管道的内部及壁面喷射或呈雾状地喷出液体。
14.根据权利要求13所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述液槽具有堰，该堰使溢出的液体向下游侧流动，
所述吸入壳体的所述末端与所述堰的上端相比位于下方。
15.根据权利要求13或14所记载的废气处理装置，其特征在于，
还具备隔板，该隔板从所述吸入壳体的下端及所述管道的下端的整周连续地形成，并将所述液槽内分隔为上下的空间。
16.根据权利要求13或14所记载的废气处理装置，其特征在于，
多个所述液体供给装置配置为，横穿所述处理气体的流动方向。
17.根据权利要求13或14所记载的废气处理装置，其特征在于，
所述一个或多个液体供给装置包含喷射器及/或喷雾喷嘴。
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