CN114645834A - 处理气体吸入构造及废气处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物的处理气体吸入构造及废气处理装置。处理气体吸入构造(100)具备：双层管构造体(101)；以及对双层管构造体(101)进行加热的加热装置(102)。双层管构造体(101)具备：供处理气体流动的处理气体流路部(105)；以及配置于处理气体流路部(105)的外侧的分隔部(106)。

Description

处理气体吸入构造及废气处理装置
技术领域
本发明涉及一种处理气体吸入构造及废气处理装置。
背景技术
真空泵装置作为半导体、液晶、太阳光面板或LED等的制造设备之一被广泛使用。在这些的制造过程等中，将真空泵与真空室连接，并通过真空泵对导入到真空室内的处理气体进行真空吸引。
在被真空泵真空吸引的气体中，可能含有硅烷气体(SiH4)、二氯硅烷气体(SiH2Cl2)、氨(NH3)等有害可燃性气体，或NF3、ClF3、SF6、CHF3、C2F6、CF4等卤素系难分解性气体。因此，这样的气体不能直接向大气中排出。以往，在真空泵装置中，在真空泵的后段设置有对被真空吸引的气体进行无害化处理的除害装置(废气处理装置的一例)。作为气体的无害化处理，公知有使处理气体与液体接触而去除异物及水溶性成分等的湿式、以及基于使处理气体燃烧的燃烧式等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2017-211100号公报
发明所要解决的技术问题
在湿式废气处理装置中，在处理气体被吸入的废气处理装置的吸入部中，可能由温度降低导致从处理气体产生生成物，并且该生成物附着于吸入部。作为结果，可能导致废气处理装置故障、处理气体的处理效率降低。
发明内容
因此，本发明的目的在于，提供一种能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物的处理气体吸入构造及废气处理装置。
用于解决技术问题的技术手段
在一个方式中，提供一种处理气体吸入构造，能够应用于废气处理装置，该废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将该处理气体无害化。处理气体吸入构造具备：双层管构造体；以及加热装置，该加热装置对所述双层管构造体进行加热。所述双层管构造体具备：处理气体流路部，该处理气体流路部供所述处理气体流动；以及分隔部，该分隔部配置于所述处理气体流路部的外侧。
在一个方式中，所述处理气体吸入构造具备壁构造体，该壁构造体与所述双层管构造体连接，所述加热装置具备：第一加热构造，该第一加热构造对形成于所述处理气体流路部与所述分隔部之间的第一加热空间进行加热；以及第二加热构造，该第二加热构造对形成于所述分隔部与所述壁构造体之间的第二加热空间进行加热。
在一个方式中，所述第一加热构造至少具备第一非活性气体供给构造和配置于所述第一加热空间的加热器中的一个，该第一非活性气体供给构造向所述第一加热空间供给加热后的非活性气体，所述第二加热构造至少具备第二非活性气体供给构造和配置于所述第二加热空间的加热器中的一个，该第二非活性气体供给构造向所述第二加热空间供给加热后的非活性气体。
在一个方式中，所述双层管构造体具备：对从所述第一非活性气体供给构造供给的通过所述第一加热空间的非活性气体的流路进行节流的节流部；以及对从所述第二非活性气体供给构造供给的通过所述第二加热空间的非活性气体的流路进行节流的节流部。
在一个方式中，提供一种处理气体吸入构造，能够应用于废气处理装置，该废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将该处理气体无害化。处理气体吸入构造具备：环状流路构造体；以及加热装置，该加热装置对所述环状流路构造体进行加热，所述环状流路构造体具备：处理气体流路部，该处理气体流路部供所述处理气体流动；以及环状的锯齿形流路部，该锯齿形流路部配置于所述处理气体流路部的外侧。
在一个方式中，所述锯齿形流路部具备：第一环状突起，该第一环状突起形成于所述处理气体流路部的外表面；以及第二环状突起，该第二环状突起向接近所述处理气体流路部的外表面的方向延伸。
在一个方式中，所述加热装置具备非活性气体供给构造，该非活性气体供给构造向所述锯齿形流路部供给加热后的非活性气体。
在一个方式中，提供一种废气处理装置，具备：吸入壳体，该吸入壳体具备上述处理气体吸入构造；以及液膜形成部，该液膜形成部在所述吸入壳体的内壁面形成液膜。
发明的效果
处理气体吸入构造具备对双层管构造体进行加热的加热装置。因此，处理气体吸入构造能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物。
附图说明
图1是表示废气处理装置的一实施方式的图。
图2是表示处理气体吸入构造的剖视图。
图3是表示供给到双层管构造体的非活性气体的流动的图。
图4是用于说明具备节流部的双层管构造体的效果的图。
图5是表示加热装置的其他实施方式的图。
图6是表示处理气体吸入构造的其他实施方式的图。
图7是表示供给到锯齿形流路部的高温的非活性气体的流动的图。
符号说明
10 废气处理装置
11 机壳
13 排水盘
14 漏液传感器
20 吸入壳体
21 配管
22 吸入口
23 吸入配管
24 导出口
26 液膜形成部
32 刮刀
40 液槽壳体
40a 壁
41 水位计
42a 液槽
42b 液槽
42c 液槽
43 液体排出口
44 堰
45 过滤器
46 喷雾喷嘴
461 第一喷雾喷嘴
462 第二喷雾喷嘴
47 壁
47a 开口部
48 喷射器
48b 喷射器
51 冲洗槽
51a 冲洗槽
51b 冲洗槽
51c 冲洗槽
52 喷雾喷嘴
53 喷射喷嘴
54 喷射喷嘴
55 喷雾喷嘴
56 喷雾喷嘴
57 拉希环层
61 捕雾器
63 液体流路
64 流量计
65 过压排气口
71 液体流路
72 液体流路
72a 液体流路
81 泵
82 流量计
83 流量计
84 排出阀
99 控制装置
100 处理气体吸入构造
101 双层管构造
101a 顶端部分
102 加热装置
105 处理气体流路部
105a 外周面
106 分隔部
106a 外周面
108 配管基部
110 配管构造体
115 壁构造体115
115a 外周面
115b 内周面
116 凸缘部
117 凸缘部
119 密封部件
120 第一加热构造
121 第二加热构造
125 第一气体供给管
126 第一气体线路
127 气体供给源
130 第二气体供给管
131 第二气体线路
132 气体供给源
140A 节流部
140B 节流部
141 节流部
150 加热器
200 环状流路构造体
201 处理气体流路部
201a 外表面
202 第一环状突起
203 第二环状突起
205 锯齿形流路部
206 凸缘部
207 气体供给管
208 气体线路
209 气体供给源
210 加热装置
Lf 液膜
Hs1 第一加热空间
Hs2 第二加热空间
具体实施方式
以下，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。在以下说明的附图中，对相同或相等的构造要素标注相同的符号并省略重复的说明。本实施方式的废气处理装置是通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化的湿式的废气处理装置，能够作为例如半导体、液晶、太阳光面板或LED等制造设备之一而被利用。
图1是表示废气处理装置的一个实施方式的图。该废气处理装置10是为了将来自真空泵的气体(处理气体)无害化而设置的。废气处理装置10的一次侧(上游侧)与未图示的真空泵连接。此外，本实施方式的废气处理装置可以单独用于将来自真空泵的气体无害化，也可以和燃烧式等其他废气处理装置(例如，除害装置)一起使用。例如，在被真空泵真空吸引的气体所含的去除对象的气体全部是水溶性成分的情况下，可以单独使用废气处理装置10。另外，在和其他废气处理装置一起使用的情况下，优选在废气处理装置10的后段连接其他废气处理装置。
如图1所示，废气处理装置10具备：吸入来自未图示的真空泵的处理气体的吸入壳体20、与吸入壳体20连接的液槽壳体40以及与液槽壳体40连接的处理壳体50。液槽壳体40及处理壳体50可以是一体的壳体。
被吸入到吸入壳体20的处理气体在通过液槽壳体40及处理壳体50而被处理之后，向外部排出，或继续被导入别的废气处理装置。吸入壳体20、液槽壳体40及处理壳体50配置于机壳11内，在机壳11的底部设置有排水盘13。在排水盘13设置有对水分进行检测的漏液传感器14，并构成为对来自装置内的构造的漏液进行监视。
废气处理装置10具备对其各部分进行控制的控制装置99。控制装置99具有例如存储了各种设定数据和各种程序的存储器、及执行存储器的程序的CPU。
本实施方式的吸入壳体20整体形成为圆筒状。吸入壳体20的形状不限于圆筒状，而能够是任意的形状。吸入壳体20的下端侧(末端侧)配置于液槽壳体40内。吸入壳体20的下端的开口构成导出口24，该导出口24将处理气体从吸入壳体20向液槽壳体40内导出。
在吸入壳体20的上端附近形成有吸入口22，该吸入口22经由吸入配管23与未图示的真空泵连接。从吸入口22被吸入吸入壳体20内的处理气体通过导出口24被导向液槽壳体40内。
在从吸入口22朝向真空泵的吸入配管23能够设置配管加热器(省略图示)。在处理气体流经吸入配管23内时，配管加热器将吸入配管23加热到规定温度(例如180℃)，该配管加热器能够采用套式加热器等各种加热器。通过这样的配管加热器，能够抑制异物堆积于吸入配管23及吸入口22的情况。另外，也可以在吸入壳体20的气体流路(例如，吸入口22、吸入配管23等)设置测量处理气体的压力的压力计，从而监视配管是否闭塞。
在吸入壳体20的吸入口22与导出口24之间设置有液膜形成部26，该液膜形成部26用于在吸入壳体20的内壁面形成液膜(湿壁)Lf。本实施方式的液膜形成部26在环状的吸入壳体20的周向上设置为遍及整周。通过液膜形成部26而在吸入壳体20的内壁面形成液膜Lf，由此，异物在配管21的内壁面附近被液膜冲走，因此能够抑制反应副生成物等异物堆积于配管21的情况。以下，将反应副生成物仅称作生成物。
在本实施方式中，在吸入壳体20的上端设置有刮刀32。刮刀32始终或随时动作，并机械性地刮落附着于吸入壳体20的内壁面的生成物。作为结果，刮刀32抑制了生成物附着于吸入壳体20的内壁面的情况。
如图1所示，吸入壳体20的下端侧配置于液槽壳体40的内部，吸入壳体20的导出口24在液槽壳体40内开口。液槽壳体40是用于贮存液体并将贮存的液体再利用到废气处理装置10的处理的循环箱。
液槽壳体40具有液槽42a，例如作为液膜Lf而被冲走的液体流下到该液槽42a。液槽42a具有堰44，该堰44位于液槽42a的下游侧，即与吸入壳体20的导出口24相比位于处理壳体50侧。在堰44的下游侧配置有设置于处理壳体50内的下部的液槽42b、液槽42c，在液槽42b与液槽42c之间配置有过滤器45。
从吸入壳体20的导出口24流下的液体暂时进入液槽42a。然后，贮存在液槽42a的液体溢出堰44而流入液槽42b，并通过过滤器45而流入液槽42c。在液槽42c设置有液体排出口43，液槽42c内的液体从液体排出口43排出。
液槽42a具备将上方、下方及侧方包围的壁40a和将液槽42a与液槽42b隔开的壁47。在壁47设置有将液槽42a及液槽42b连通的开口部47a，且壁47的开口部47a的下方的部分构成堰44。液槽42a是贮存的液体从堰44溢出而流入液槽42b的溢出方式的液槽，液槽42a内的液体的液面被稳定地维持。
在液槽42a设置有一个或多个喷雾喷嘴46。在该例中，设置有多个喷雾喷嘴46，且该喷雾喷嘴46在吸入壳体20的配管21的周围以均等的间隔配置。在图1中，示出了两个喷雾喷嘴46，但是喷雾喷嘴46的数量可以是三个以上。
各喷雾喷嘴46在吸入壳体20的侧方且配置在与导出口24相比的上方。各喷雾喷嘴46构成为与液体流路72a流体性地连通，并从液体流路72a接受液体的供给。各喷雾喷嘴46具备朝向上方呈雾状地喷出液体的第一喷雾喷嘴461和朝向下方呈雾状地喷出液体的第二喷雾喷嘴462。
第一喷雾喷嘴461构成为在液槽42a内将液体朝向上方喷雾洒水，以使得液槽42a的壁及吸入壳体20的外表面被液体覆盖。第二喷雾喷嘴462构成为在液槽42a内对吸入壳体20的下端的导出口24的周围的部分进行液体的喷雾洒水。第二喷雾喷嘴462也可以构成为进一步对液槽42a的壁进行液体的喷雾洒水。
通过从各喷雾喷嘴46呈雾状地喷出液体，能够使被导入液槽42a内的处理气体与液体接触而将处理气体水解，并且通过呈雾状地喷出的液体将水解时的生成物击落到贮存液中。由此，能够抑制生成物在液槽壳体40内漂浮的情况。
另外，通过从各喷雾喷嘴46对液槽42a内整体呈雾状地喷出液体，能够将液槽42a内整体(液槽42a的壁、吸入壳体20)用液体覆盖。由此，能够将成为生成物的附着的主要原因的界面整体用液体膜覆盖，从而能够抑制生成物附着于液槽42a的壁面及吸入壳体20。由于第一喷雾喷嘴461朝向上方呈雾状地喷出液体，因此也能够用液体有效地覆盖液槽壳体40的顶部部分。
另外，通过使用第二喷雾喷嘴462从周围对吸入壳体20的导出口24的周围的部分呈雾状地喷出液体，从而能够使处理气体与液体在吸入壳体20的导出口24的附近发生反应而生成的生成物落到贮存液体中。由此，能够进一步抑制生成物从吸入壳体20的导出口24附近飞散。
在图1中，在液槽42a配置有喷射器48。喷射器48是如下装置：由驱动液体驱动，将驱动液体的数倍的量的液体吸入，并将吸入后的液体和驱动液体一起排出。喷射器48在液槽42a的贮存液体中配置于液面附近，该喷射器48将贮存液体吸入，且方向被设定为将液体朝向下游侧(液槽42b侧)排出。通过由喷射器48对液体进行吸入及排出，从而液槽42a的贮存液体被搅拌。通过喷射器48对贮存液体的搅拌，能够使进入贮存液体的生成物溶入贮存液体中，从而能够抑制生成物滞留或漂浮于贮存液体中的情况。喷射器48例如从液体流路72a被供给驱动液体，将贮存液体吸入，并和驱动液体一起排出。
处理壳体50与液槽壳体40连接，且对从液槽壳体40流入的处理气体进一步进行除害处理并排出。处理壳体50具备冲洗槽51a、冲洗槽51b以及冲洗槽51c。冲洗槽51a与冲洗槽51b被壁50a隔开，冲洗槽51b与冲洗槽51c被壁50b隔开。在本实施方式中，在冲洗槽51a、冲洗槽51b的下部分别设置有液槽42b、液槽42c。
液槽42b构成为通过壁47而与液槽42a隔开，且从壁47的开口部47a的下方的堰44溢出的液体流入该液槽42b。液槽42b的下游侧通过壁50a而与液槽42c隔开，液槽42b的液体经由设置于壁50a的开口的过滤器45而流向液槽42c。
液槽42c通过壁50a而与液槽42b隔开，且位于液槽42b的下游侧。来自液槽42b的液体通过过滤器45而将生成物等异物去除后流入液槽42c。在液槽42c配置有喷射器48b。喷射器48b的方向被设定为朝向过滤器45排出液体。通过由喷射器48b将液体排出，从而抑制过滤器45的堵塞。另外，在液槽42c设置有水位计41，使用水位计41的检测值并通过后述的泵81及/或排出阀84，而将液槽42c的水位控制为规定范围(预先设定的第一阈值以上且小于第二阈值的范围)。
第一级的冲洗槽51a具备上下并排配置的两个喷雾喷嘴52和配置于喷雾喷嘴52的上方的喷雾喷嘴或喷射喷嘴53。喷雾喷嘴52从液体流路72b被供给液体，并朝向下方呈雾状地喷出液体。喷雾喷嘴或喷射喷嘴53从液体流路72b被供给液体，并朝向下方及上方呈雾状地喷出液体。来自液槽42a的处理气体从下方朝向上方流过冲洗槽51a，并在冲洗槽51a的上端部附近流入第二级的冲洗槽51b。
处理气体在通过冲洗槽51a时与被喷雾喷嘴52、52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53呈雾状地喷出的液体接触而水解。在冲洗槽51a的上部设置有过压排气口65。在槽内施加有过剩压力时，过压排气口65释放槽内的压力。
第二级的冲洗槽51b具备：喷雾喷嘴或喷射喷嘴53、配置于喷雾喷嘴或喷射喷嘴53的下方的喷雾喷嘴52以及配置于喷雾喷嘴52的下方的喷射喷嘴54。喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53与配置于第一级的冲洗槽51a的喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53相同，且从液体流路72b被供给液体。喷射喷嘴54从液体流路72a接受液体的供给，并以使液体撞击液槽42c内的液面的方式喷射液体。
来自冲洗槽51a的处理气体从上方朝向下方流过冲洗槽51b，并从冲洗槽51b的下端部流入第三级的冲洗槽51c。处理气体在通过冲洗槽51b时与被喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53、喷射喷嘴54喷雾或喷射的液体接触而水解。另外，通过来自喷射喷嘴54的液体的喷射，能够搅拌漂浮于液槽42c内的液面的生成物，从而使该生成如溶入液体中。
最后一级的冲洗槽51c具备：上下并排配置的两个拉希环层57、朝向下侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体的喷雾喷嘴55以及朝向上侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体的喷雾喷嘴56。在冲洗槽51c的上端连接有捕雾器61，处理气体经由捕雾器61从排气口62排出。
拉希环层57用于防止雾的产生，由多个树脂制的环层叠而形成。喷雾喷嘴55从液体流路72b接受液体的供给，并朝向下侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体。喷雾喷嘴56从液体流路63接受淡水(例如，自来水)的供给，并向下方而朝向上侧的拉希环层57呈雾状地喷出液体。在液体流路63设置有流量计64，基于流量计64的检测值，控制对于喷雾喷嘴56的淡水的供给量。
捕雾器61具备一个或多个挡板，该捕雾器61从成为雾状的处理气体除去水分，并将处理气体在气体的状态下排出。来自冲洗槽51b的处理气体从下方朝向上方流过冲洗槽51c，并与被喷雾喷嘴55及喷雾喷嘴56呈雾状地喷出的液体接触而进一步水解，进而在捕雾器61回到气体的状态之后，从排出口62排出。
本实施方式的废气处理装置10具备泵81，该泵81对从液槽42c的液体排出口43排出的液体进行压送。在与泵81连接的液体流路71、72也可以设置去除液体所含的异物等的去除机构(未图示)。泵81将从液体排出口43排出的液体经由液体流路72、72a向喷雾喷嘴46、52及喷射喷嘴54供给。
泵81将从液体排出口43排出的液体经由液体流路72、72b向喷雾喷嘴52、喷雾喷嘴或喷射喷嘴53、喷雾喷嘴55、喷雾喷嘴56供给。另外，泵81将从液体排出口43排出的液体经由液体流路72、72c向吸入壳体20的液膜形成部26供给。通过像这样对贮存于液槽42a～42c的液体进行再利用，从而能够降低运行成本，并有利于保护环境。
另外，在液体流路72c设置有流量计83。通过基于流量计83的检测结果对泵81进行控制，能够调节向液膜形成部26的液体的流量，从而对液膜Lf的厚度等进行适当地控制。例如，对液膜Lf的厚度进行控制，以抑制处理气体的压损并且抑制生成物的飞散。另外，流量计83在检测流量的功能之外，还可以是具有控制流量的功能的流量控制阀。例如，能够采用CLC(Closed Loop Controller：闭环控制器)，该CLC基于流量计的检测值自动地控制流量控制阀，以使流量成为设定值。另外，也可以在液体流路72设置流量计82，对来自泵81液体的流量整体进行监视并控制。流量计82能够与流量计83相同地，具有控制流量的功能。
此外，通过泵81从液体排出口43排出的液体根据设置于液体流路71的排出阀84的开闭而经由液体流路71向废气处理装置10外部排出。在一例中，在处理气体的处理中，泵81始终运转以使液体循环，并且基于设置于液槽42c的水位计41的检测值来控制排出阀84的开闭，以使液槽42c的水位成为规定范围(预先设定的第一阈值以上且小于第二阈值的范围)。
根据上述的本实施方式，由于导出口24与液槽42a的液面分离，因此能够抑制从导出口24流出的处理气体的压损，提高处理气体的流速，从而提高废气处理装置的处理速度。另外，由于导出口24与贮存液体的液面之间的距离近，因此能够抑制生成物向周围飞散。
另外，根据本实施方式，由于液槽42a是溢出方式的液槽，因此能够使导出口24的正下方的液面的高度稳定，从而能够抑制处理气体的压损的增大及生成物的飞散。
根据本实施方式，通过由喷雾喷嘴46向液槽42a内整体(液面上方的构造整体)呈雾状地喷出液体而由液体覆盖液槽42a内的界面，能够抑制生成物附着于液槽42a内的构造的情况。另外，由于还通过喷雾喷嘴46对吸入壳体20的导出口24的周围的部分呈雾状地喷出液体，因此能够使处理气体与液体在吸入壳体20的导出口24的附近发生反应而生成的生成物落到贮存液体中。由此，能够抑制生成物从吸入壳体20的导出口24附近飞散的情况。另外，由于由吸入壳体20的液膜形成部26形成的液膜Lf的液体从导出口24流出，因此根据这一点也能够抑制导出口24中的生成物的飞散。
在吸入壳体20的内部的温度较低的情况下，可能因温度降低而导致从被吸入到吸入壳体20的处理气体产生生成物。当该生成物附着于吸入壳体20的内部时，废气处理装置10可能发生故障，或处理气体的处理效率降低。
因此，废气处理装置10的吸入壳体20具备配置于吸入壳体20的上部的处理气体吸入构造100。处理气体吸入构造100能够应用到用于通过使处理气体与液体接触而进行无害化的废气处理装置10。以下，参照附图，对处理气体吸入构造100的结构进行说明。
图2是表示处理气体吸入构造的剖视图。此外，在图2中，省略了吸入配管23和刮刀32的图示。如图2所示，处理气体吸入构造100具备双层管构造体101和对双层管构造体101进行加热的加热装置102。双层管构造体101具备供从吸入口22导入的处理气体流动的处理气体流路部105和配置于处理气体流路部105的外侧的分隔部106。
处理气体流路部105和分隔部106分别具有筒形状。分隔部106包围处理气体流路部105，处理气体流路部105和分隔部106配置为同心状。
处理气体吸入构造100具备配管构造体110，该配管构造体110具备吸入口22和配管基部108。配管构造体110与双层管构造体101连接，配置于双层管构造体101的上方。在该状态下，配管构造体110与双层管构造体101连接。
处理气体吸入构造100具备壁构造体115，该壁构造体115与双层管构造体101连接。壁构造体115配置于双层管构造体101的下方。因此，双层管构造体101配置于配管构造体110与壁构造体115之间。图1所示的液膜形成部26配置于壁构造体115，液膜Lf形成于壁构造体115的内周面。
在双层管构造体101与壁构造体115之间配置有环状的密封部件(例如，垫圈)119。更具体而言，双层管构造体101(更具体而言，分隔部106)具有凸缘部116，该凸缘部116从其外周面106a向外侧延伸，壁构造体115具有凸缘部117，该凸缘部117从其外周面115a向外侧延伸。密封部件119配置于双层管构造体101的凸缘部116与壁构造体115的凸缘部117之间。
加热装置102具备第一加热构造120和第二加热构造121，该第一加热构造120对形成于处理气体流路部105与分隔部106之间的环状的第一加热空间Hs1进行加热，该第二加热构造121对形成于分隔部106与壁构造体115之间的环状的第二加热空间Hs2进行加热。第二加热空间Hs2配置于第一加热空间Hs1的外侧。
在本实施方式中，第一加热构造120和第二加热构造121具有相同的结构。第一加热构造120和第二加热构造121分别是将被加热至规定温度(例如，180℃)的非活性气体(例如，氮(N2)气)向双层管构造体101供给的非活性气体供给构造。
根据本实施方式，处理气体吸入构造100具备对双层管构造体101进行加热的加热装置102，因此，处理气体吸入构造100能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物。
第一加热构造120具备：与第一加热空间Hs1连通的第一气体供给管125、与第一气体供给管125连接的第一气体线路126以及通过第一气体线路126和第一气体供给管125向第一加热空间Hs1供给加热后的非活性气体的气体供给源127。
同样地，第二加热构造121具备：与第二加热空间Hs2连通的第二气体供给管130、与第二气体供给管130连接的第二气体线路131以及通过第二气体线路131和第二气体供给管130向第二加热空间Hs2供给加热后的非活性气体的气体供给源132。气体供给源127和气体供给源132也可以是共通的供给源。
在本实施方式中，第一气体供给管125配置于第二气体供给管130的上方，并与分隔部106的上部连接。第二气体供给管130配置于第一气体供给管125的下方，并与分隔部106的下部(更具体而言，凸缘部116)连接。
图3是表示供给到双层管构造体的非活性气体的流动的图。如图3所示，通过第一加热构造120(即，第一非活性气体供给构造)供给到第一加热空间Hs1的高温的非活性气体沿着处理气体流路部105的外周面105a向下方流动而通过处理气体流路部105。像这样流动的非活性气体与处理气体流路部105和分隔部106接触，从而将处理气体流路部105和分隔部106的表面温度保持为高温。
如图3所示，双层管构造体101具备节流部140A、140B，该节流部140A、140B对从第一加热构造120供给的通过第一加热空间Hs1的非活性气体的流路进行节流。节流部140A是配置于分隔部106的下端的下端侧节流部。节流部140B是配置于节流部140A的上方的上侧节流部。在本说明书中，存在不区分下端侧节流部140A和上侧节流部140B而仅称作节流部140的情况。
在本实施方式中，虽然设置了两个节流部140A、140B，但在一个实施方式中，可以设置一个节流部140，在其他实施方式中，也可以设置三个以上的节流部140。
节流部140A、140B分别具有环状形状，并从分隔部106朝向处理气体流路部105延伸。第一加热空间Hs1中的非活性气体的流路在与处理气体流路部105的外周面105a相邻的位置变小。
如图3所示，通过第二加热构造121(即，第二非活性气体供给构造)供给到第二加热空间Hs2的高温的非活性气体沿着壁构造体115的内周面115b向下方流动而通过分隔部106。像这样流动的非活性气体与分隔部106和壁构造体115接触，从而将分隔部106和壁构造体115的表面温度保持为高温。尤其是，由于在壁构造体115的内周面115b形成有液膜Lf(参照图1)，因此壁构造体115的温度可能降低。通过使高温的非活性气体与壁构造体115接触，第二加热构造121能够将壁构造体115的表面温度保持为高温。
双层管构造体101具备节流部141，该节流部141对从第二加热构造121供给的通过第二加热空间Hs2的非活性气体的流路进行节流。节流部141具有环状形状，并从分隔部106朝向壁构造体115延伸。第二加热空间Hs2中的非活性气体的流路在与壁构造体115的内周面115b相邻的位置变小。在本实施方式中，虽然设置了一个节流部141，但在一个实施方式中，可以设置两个以上的节流部141。
图4是用于说明具备节流部的双层管构造体的效果的图。如上所述，通过形成节流部140、141，从而非活性气体的流路的截面积变小，作为结果，非活性气体猛烈向下方流动。在非活性气体的流速较小的情况下，非活性气体可能在双层管构造体101的圆周方向上以不均匀的状态向下方流动。即，非活性气体可能仅在双层管构造体101的圆周方向上的特定的区域积极地流，而在其他区域几乎不流动。这样的非活性气体的不均匀的流动可能成为吸入壳体20的温度降低的原因。
在本实施方式中，配置于第一加热空间Hs1的节流部140A、140B和配置于第二加热空间Hs2的节流部141分别使非活性气体的流路的截面积变小。因此，处理气体吸入构造100能够使非活性气体猛烈地流动，作为结果，能够可靠地防止非活性气体在双层管构造体101的圆周方向上以不均匀的状态向下方流动。
如图4所示，通过下端侧节流部140A与处理气体流路部105的外周面105a之间的隙间的非活性气体猛烈地流动至位于双层管构造体101的顶端部分101a的下方的液膜Lf。像这样流动的非活性气体具有环状形状，且帘状地延伸，以包围在处理气体流路部105流动的处理气体的方式形成于处理气体的外侧。因此，形成为帘状的非活性气体的流动阻碍了处理气体向处理气体流路部105的半径方向外侧的流动。作为结果，通过处理气体流路部105的处理气体不扩散而沿着配管21向下方顺畅地流动。
通过壁构造体115的内周面115b与节流部141之间的隙间的非活性气体也同样地，猛烈地流动至位于节流部141的下方的液膜Lf。像这样流动的非活性气体具有环状形状，且帘状地延伸，并形成为包围通过下端侧节流部140A与处理气体流路部105的外周面105a之间的隙间的活性气体。因此，能够更可靠地防止处理气体向处理气体流路部105的半径方向外侧的流动。
根据本实施方式，加热装置102能够形成形成于处理气体流路部105的外侧的双层的帘状地延伸的非活性气体的流动，因此，不仅能够加热双层管构造体101，还能够可靠地防止通过处理气体流路部105的处理气体的扩散。
如图4所示，双层管构造体101的顶端部分101a配置为与液膜Lf相邻，因此该顶端部分101a的温度尤其降低。根据本实施方式，如图4的箭头所示，加热装置102除了能够通过第一加热空间Hs1的非活性气体之外，还能够使通过第二加热空间Hs2的非活性气体也与双层管构造体101的顶端部分101a接触。因此，加热装置102能够防止顶端部分101a的温度降低。
图5是表示加热装置的其他实施方式的图。如图5所示，加热装置102也可以具备配置于第一加热空间Hs1的加热器150。加热器150只要能够将双层管构造体101加热至规定的温度(例如，180℃)即可，没有特别的限定。例如，加热器150可以是盒式加热器，也可以是片状的加热器。在采用盒式加热器的情况下，多个加热器150可以沿着处理气体流路部105的周向等间隔地配置。在采用片状的加热器的情况下，加热器150可以绕设于处理气体流路部105。
配置于第一加热空间Hs1的加热器150能够对双层管构造体101(即，处理气体流路部105和分隔部106)进行加热。在本实施方式中，加热器150配置为与处理气体流路部105相邻，因此能够积极地对处理气体流路部105进行加热。在一实施方式中，只要高温的非活性气体能够通过第一加热空间Hs1，加热装置102也可以具备第一非活性气体供给构造120和加热器150这两者。
虽然未图示，但加热装置102也可以具备配置于第二加热空间Hs2的加热器。即使在这样的情况下，只要高温的非活性气体能够通过第二加热空间Hs2，加热装置102也可以具备第二非活性气体供给构造121和加热器(图示)这两者。
图6是表示处理气体吸入构造的其他实施方式的图。如图6所示，处理气体吸入构造100具备供高温的非活性气体流动的环状流路构造体200和对环状流路构造体200进行加热的加热装置210。环状流路构造体200具备供处理气体流动的处理气体流路部201和配置于处理气体流路部201的外侧的环状的锯齿形流路部205。
壁构造体115形成于处理气体流路部201的外侧。处理气体流路部201和壁构造体115分别具有筒形状，壁构造体115包围处理气体流路部201。处理气体流路部201和壁构造体115配置为同心状。
锯齿形流路部205具备形成于处理气体流路部201的外表面201a的第一环状突起202和向接近处理气体流路部201的外表面201a的方向延伸的第二环状突起203。第一环状突起202和第二环状突起203彼此配置为同心状。第二环状突起203配置于第一环状突起202的上方。
环状流路构造体200具有能够与壁构造体115的凸缘部117连结的凸缘部206，第二环状突起203与该凸缘部206连接，并朝向外表面201a延伸。在一个实施方式中，第二环状突起203也可以形成于配置于处理气体流路部201的外侧的壁构造体115的内周面115b。
加热装置210具备向锯齿形流路部205供给加热后的非活性气体(例如，氮(N2)气)的加热构造(在本实施方式中，非活性气体供给构造)102。如图6所示，非活性气体供给构造102具备：与锯齿形流路部205连通的气体供给管207、与气体供给管207连接的气体线路208以及通过气体线路208和气体供给管207向锯齿形流路部205供给加热后的非活性气体的气体供给源209。
图7是表示供给至锯齿形流路部的高温的非活性气体的流动的图。第一环状突起202和第二环状突起203彼此分别具有环状形状，第二环状突起203和第一环状突起202在非活性气体的流动方向上依次配置。
因此，被导入锯齿形流路部205的非活性气体以包围处理气体流路部201的方式回旋流动，并流入第二环状突起203与第一环状突起202之间的隙间。该隙间是形成于处理气体流路部201与壁构造体115之间的环状的空间。流入到该空间的非活性气体一边对处理气体流路部201和壁构造体115进行加热，一边回旋流动，并向第二环状突起203和第一环状突起202的下方流动。
如图7所示，通过第二环状突起203和第一环状突起202的非活性气体猛烈地流动至位于处理气体流路部201的下方的液膜Lf。像这样流动的非活性气体具有环状形状，且帘状地延伸。在图6和图7所示的实施方式中，处理气体吸入构造100也能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物。
以上，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明不限于上述实施方式，能够在专利请求的范围所记载的技术思想的范围内进行各种变形。

Claims (8)

1.一种处理气体吸入构造，能够应用于废气处理装置，该废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将该处理气体无害化，其特征在于，具备：
双层管构造体；以及
加热装置，该加热装置对所述双层管构造体进行加热，
所述双层管构造体具备：
处理气体流路部，该处理气体流路部供所述处理气体流动；以及
分隔部，该分隔部配置于所述处理气体流路部的外侧。
2.根据权利要求1所述的处理气体吸入构造，其特征在于，
所述处理气体吸入构造具备壁构造体，该壁构造体与所述双层管构造体连接，
所述加热装置具备：
第一加热构造，该第一加热构造对形成于所述处理气体流路部与所述分隔部之间的第一加热空间进行加热；以及
第二加热构造，该第二加热构造对形成于所述分隔部与所述壁构造体之间的第二加热空间进行加热。
3.根据权利要求2所述的处理气体吸入构造，其特征在于，
所述第一加热构造至少具备第一非活性气体供给构造和配置于所述第一加热空间的加热器中的一个，该第一非活性气体供给构造向所述第一加热空间供给加热后的非活性气体，
所述第二加热构造至少具备第二非活性气体供给构造和配置于所述第二加热空间的加热器中的一个，该第二非活性气体供给构造向所述第二加热空间供给加热后的非活性气体。
4.根据权利要求3所述的处理气体吸入构造，其特征在于，
所述双层管构造体具备：
对从所述第一非活性气体供给构造供给的通过所述第一加热空间的非活性气体的流路进行节流的节流部；以及
对从所述第二非活性气体供给构造供给的通过所述第二加热空间的非活性气体的流路进行节流的节流部。
5.一种处理气体吸入构造，能够应用于废气处理装置，该废气处理装置用于通过使处理气体与液体接触而将该处理气体无害化，其特征在于，具备：
环状流路构造体；以及
加热装置，该加热装置对所述环状流路构造体进行加热，
所述环状流路构造体具备：
处理气体流路部，该处理气体流路部供所述处理气体流动；以及
环状的锯齿形流路部，该锯齿形流路部配置于所述处理气体流路部的外侧。
6.根据权利要求5所述的处理气体吸入构造，其特征在于，
所述锯齿形流路部具备：
第一环状突起，该第一环状突起形成于所述处理气体流路部的外表面；以及
第二环状突起，该第二环状突起向接近所述处理气体流路部的外表面的方向延伸。
7.根据权利要求5或6所述的处理气体吸入构造，其特征在于，
所述加热装置具备非活性气体供给构造，该非活性气体供给构造向所述锯齿形流路部供给加热后的非活性气体。
8.一种废气处理装置，其特征在于，具备：
吸入壳体，该吸入壳体具备权利要求1～权利要求7中的任一项所述的处理气体吸入构造；以及
液膜形成部，该液膜形成部在所述吸入壳体的内壁面形成液膜。
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