CN112186025B - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域。本发明通过在像素间隔区域的衬底上设置降阻走线，并在衬底上设置层间介质层，该层间介质层具有暴露出降阻走线的开口，在开口内设置信号线，信号线与降阻走线连接，且在沿着显示面板的行方向，开口的宽度大于或等于信号线的宽度。通过在层间介质层的开口内形成信号线，并且开口的宽度大于或等于信号线的宽度，即信号线仅位于开口内，而不会超出层间介质层的表面设置，则降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，使得后续形成的各个区域处的平坦层的厚度较为均匀，平坦化效果较好，因此，降低了因像素间隔区域存在段差导致平坦层剥落的风险，提高产品的信赖性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示装置由于其具有的低能耗、生产成本低、自发光、宽视角及响应速度快等优点，得到了人们广泛的关注。
如图1所示，目前位于相邻两列子像素区域之间的像素间隔区域的显示面板包括：衬底101、设置在衬底101上的降阻走线102、覆盖降阻走线102和衬底101的层间介质层103，以及设置在层间介质层103上的信号线104，信号线104通过贯穿层间介质层103的过孔与降阻走线102连接，以通过降阻走线102降低信号线104的线电阻。
但是，由于信号线104设置在层间介质层103上，使得信号线104相对于层间介质层103凸起，导致位于像素间隔区域的显示面板存在段差，因此，后续在形成平坦层时，凸起处的平坦层的厚度较薄，容易出现平坦化的效果较差，甚至出现平坦层剥落的问题，进而影响产品的信赖性。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，以解决现有的信号线相对于层间介质层凸起，导致后续形成的平坦层的平坦化效果差，甚至出现平坦层剥落，影响产品的信赖性的问题。
为了解决上述问题，本发明公开了一种显示面板，包括：
衬底；所述衬底被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列所述子像素区域之间的像素间隔区域；
设置在所述像素间隔区域的所述衬底上的降阻走线；
设置在所述衬底上的层间介质层；所述层间介质层具有暴露出所述降阻走线的开口；
设置在所述开口内的信号线；所述信号线与所述降阻走线连接，且所述信号线沿着所述显示面板的列方向分布，在沿着所述显示面板的行方向，所述开口的宽度大于或等于所述信号线的宽度。
可选的，在垂直于所述显示面板的方向上，所述层间介质层的厚度与所述降阻走线和所述信号线的厚度之和的差值为0至
可选的，所述降阻走线也沿着所述显示面板的列方向分布；
在沿着所述显示面板的行方向，所述信号线的宽度与所述降阻走线的宽度相等。
可选的，所述信号线包括VDD信号线和/或感应信号线。
可选的，位于所述像素间隔区域的所述衬底包括基板以及设置在所述基板上的缓冲层，所述基板设置在所述缓冲层远离所述层间介质层的一侧。
可选的，所述显示面板还包括：
覆盖所述层间介质层和所述信号线的钝化层；
设置在所述钝化层上的彩膜层；
覆盖所述彩膜层的平坦层。
可选的，所述显示面板还包括设置在所述子像素区域内的栅极层和源漏电极层；
所述降阻走线和所述栅极层采用同一构图工艺形成，所述信号线和所述源漏电极层采用同一构图工艺形成。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示面板的制作方法，包括：
提供一衬底；所述衬底被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列所述子像素区域之间的像素间隔区域；
在所述像素间隔区域的所述衬底上形成降阻走线；
在所述衬底上形成层间介质层；所述层间介质层具有暴露出所述降阻走线的开口；
在所述开口内形成信号线；所述信号线与所述降阻走线连接，且所述信号线沿着所述显示面板的列方向分布，在沿着所述显示面板的行方向，所述开口的宽度大于或等于所述信号线的宽度。
可选的，在所述开口内形成信号线的步骤之后，还包括：
形成覆盖所述层间介质层和所述信号线的钝化层；
在所述钝化层上形成彩膜层；
形成覆盖所述彩膜层的平坦层。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包括上述的显示面板。
与现有技术相比，本发明包括以下优点：
通过在像素间隔区域的衬底上设置降阻走线，并在衬底上设置层间介质层，该层间介质层具有暴露出降阻走线的开口，在开口内设置信号线，信号线与降阻走线连接，且信号线沿着显示面板的列方向分布，在沿着显示面板的行方向，开口的宽度大于或等于信号线的宽度。通过在层间介质层的开口内形成信号线，并且开口的宽度大于或等于信号线的宽度，即信号线仅位于开口内，而不会超出层间介质层的表面设置，则降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，使得后续形成的各个区域处的平坦层的厚度较为均匀，平坦化效果较好，因此，降低了因像素间隔区域存在段差导致平坦层剥落的风险，提高产品的信赖性。
附图说明
图1示出了现有的一种位于像素间隔区域的显示面板的结构示意图；
图2示出了本发明实施例的一种位于像素间隔区域的显示面板的结构示意图；
图3示出了本发明实施例的另一种位于像素间隔区域的显示面板的结构示意图；
图4示出了本发明实施例的一种位于子像素区域的显示面板的结构示意图；
图5示出了本发明实施例的一种显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
参照图2，示出了本发明实施例的一种位于像素间隔区域的显示面板的结构示意图。
本发明实施例提供了一种显示面板，包括：衬底201，衬底201被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列子像素区域之间的像素间隔区域；设置在像素间隔区域的衬底201上的降阻走线202；设置在衬底201上的层间介质层203，层间介质层203具有暴露出降阻走线202的开口；设置在开口内的信号线204，信号线204与降阻走线202连接，且信号线204沿着显示面板的列方向分布，在沿着显示面板的行方向，开口的宽度大于或等于信号线204的宽度。
具体的，衬底201包括显示区和围绕显示区的非显示区，显示区被划分成多个子像素区域以及位于相邻两列子像素区域之间的像素间隔区域，子像素区域指的是后续形成的发光子像素所在的区域，将相邻两列子像素区域之间的区域称为像素间隔区域。
在像素间隔区域的衬底201上设置有降阻走线202，降阻走线202的材料为金属材料，如降阻走线202的材料为铜。
此外，显示面板还包括设置在衬底201上的层间介质层203，该层间介质层203的材料为无机材料，如氮化硅和氧化硅中的至少一种。该层间介质层203具有贯穿的开口，该开口可暴露出设置在衬底201上的降阻走线202，并且，在沿着显示面板的行方向上，该开口的尺寸大于现有技术中贯穿层间介质层的过孔的尺寸。
需要说明的是，显示面板的行方向指的是显示面板中的栅线(即Gate线)的延伸方向，显示面板的列方向指的是显示面板中的数据线(即Data线)的延伸方向；此外，在降阻走线202之外的区域，层间介质层203是覆盖衬底201的。
在层间介质层203的开口内设置有信号线204，信号线204与降阻走线202直接接触并连接，以通过降阻走线202降低信号线204的线电阻，并且，信号线204沿着显示面板的列方向分布，在沿着显示面板的行方向，开口的宽度大于或等于信号线204的宽度。此时，信号线204仅位于开口内，而不会超出层间介质层203的表面设置，在信号线204与降阻走线202之间不存在层间介质层203，信号线204的材料为金属材料，如信号线204的材料为铜。
通过对层间介质层203进行刻蚀，使得层间介质层203具有暴露出降阻走线202的开口，在开口内设置信号线204，并且口的宽度大于或等于信号线204的宽度，使得信号线204仅位于开口内，而未超出层间介质层203远离衬底201的表面，则信号线204不会相对于层间介质层203凸出设置，进而降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，后续在形成平坦层时，各个区域处的平坦层的厚度较为均匀，平坦化效果较好，因此，降低了因像素间隔区域存在段差导致平坦层剥落的风险，提高产品的信赖性。
在本发明实施例中，位于像素间隔区域的衬底201可以仅包括基板2011，此时，降阻走线202直接设置在基板2011上，且层间介质层203也是设置在基板2011上的，该基板2011可以为玻璃基板、石英基板、金属基板、树脂基板等；或者，位于像素间隔区域的衬底201包括基板2011以及设置在基板2011上的缓冲层2012，基板2011设置在缓冲层2012远离层间介质层203的一侧，此时，降阻走线202设置在缓冲层2012上，且层间介质层203也是设置在缓冲层2012上的，该缓冲层2012的材料为无机材料，如氮化硅和氧化硅中的至少一种。
其中，在垂直于显示面板的方向上，层间介质层203的厚度h3与降阻走线202和信号线204的厚度之和的差值为0至
如图2所示，降阻走线202的厚度为h1，信号线204的厚度为h2，降阻走线202和信号线204的厚度之和为h1+h2，因此，层间介质层203的厚度h3与降阻走线202和信号线204的厚度之和的差值H＝h3-(h1+h2)，且差值H为0至例如，差值H可以为0、或/>等。
当差值H等于0时，层间介质层203的厚度等于降阻走线202和信号线204的厚度之和，此时，信号线204远离衬底201的表面与层间介质层203远离衬底201的表面位于同一平面；当差值H大于0时，层间介质层203的厚度大于降阻走线202和信号线204的厚度之和，此时，信号线204远离衬底201的表面相对于层间介质层203远离衬底201的表面凹陷。
其中，层间介质层203的厚度为至/>降阻走线202的厚度为至/>根据需要设置信号线204的厚度，使得层间介质层203的厚度与降阻走线202和信号线204的厚度之和的差值为0至/>
例如，当层间介质层203的厚度与降阻走线202和信号线204的厚度之和相等时，可将层间介质层203的厚度设置为降阻走线202的厚度设置为/>信号线204的厚度设置为/>
在本发明实施例中，降阻走线202也沿着显示面板的列方向分布；在沿着显示面板的行方向，信号线204的宽度d2与降阻走线202的宽度d1相等。
在形成贯穿层间介质层203的开口时，可将开口在沿着显示面板的行方向的宽度与降阻走线202的宽度设置成相等，则在开口内形成信号线204时，若开口沿着显示面板的行方向的宽度也等于信号线204沿着显示面板的行方向的宽度，则使得在沿着显示面板的行方向，信号线204的宽度与降阻走线202的宽度也相等。
其中，在沿着显示面板的行方向，降阻走线202的宽度d1为8μm至10μm，则信号线204的宽度d2也为8μm至10μm，且与降阻走线202的宽度d1相等。
例如，当降阻走线202的宽度d1为8μm时，信号线204的宽度d2也为8μm；当降阻走线202的宽度d1为9μm时，信号线204的宽度d2也为9μm；当降阻走线202的宽度d1为10μm时，信号线204的宽度d2也为10μm。
而现有的贯穿层间介质层的过孔的尺寸较小，在沿着显示面板的行方向，与降阻走线接触的信号线的宽度远小于降阻走线的宽度，而本发明实施例在沿着显示面板的行方向，信号线204的宽度与降阻走线202的宽度相等，且由于在沿着显示面板的行方向，信号线204全部位于开口内，则与降阻走线202接触的信号线204的宽度也就与降阻走线202的宽度相等，从而增大信号线204与降阻走线202的接触面积，进一步降低信号线204的线电阻。
此时，在沿着显示面板的列方向，降阻走线202的长度可与现有的降阻走线的长度设置成一致；并且，在沿着显示面板的列方向，降阻走线202的长度可以与信号线204的长度相等，也可以不相等。
在本发明实施例中，信号线204包括VDD信号线和/或感应信号线。信号线204可以仅包括VDD信号线，也可以仅包括感应信号线，还可以既包括VDD信号线又包括感应信号线。
该VDD信号线用于向位于子像素区域内的像素驱动电路提供VDD信号，该感应信号线为Sense信号线，其用于向位于子像素区域内的像素驱动电路提供感应信号。
需要说明的是，信号线204包括的具体走线的类型，与像素驱动电路的具体结构相关。当像素驱动电路需要与VDD信号线连接，并接收VDD信号线输入的VDD信号时，信号线204包括VDD信号线；当像素驱动电路需要与感应信号线连接，并接收感应信号线输入的感应信号时，信号线204包括感应信号线。
在本发明实施例中，如图3所示，显示面板还包括：覆盖层间介质层203和信号线204的钝化层205；设置在钝化层205上的彩膜层206；覆盖彩膜层206的平坦层207。
位于像素间隔区域的显示面板还包括覆盖层间介质层203和信号线204的钝化层205，该钝化层205的材料为无机材料，如氮化硅和氧化硅中的至少一种。
在钝化层205上设置有彩膜层206，该彩膜层206用于对发光器件发光的光线进行滤色。彩膜层206包括多个阵列分布的彩膜单元，每个彩膜单元包括多个色阻单元，如每个彩膜单元包括第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，第一色阻单元允许通过红光，而不允许红外以外的光线穿过，第二色阻单元允许通过绿光，而不允许绿光以外的光线穿过，第三色阻单元允许通过蓝光，而不允许蓝光以外的光线穿过。
具体的，后续形成的各个发光器件发出的光线可以均为白光，通过彩膜层206对白光进行滤色，以分别得到红光、绿光和蓝光，最终实现彩色显示；或者，后续形成的各个发光器件发出的光线与对应的色阻单元允许通过的光的颜色相同，即第一色阻单元对应的发光器件发出的光线为红光，第二色阻单元对应的发光器件发出的光线为绿光，第三色阻单元对应的发光器件发出的光线为蓝光，通过彩膜层206对各个发光器件发出的光线进行滤色，可提高显示面板的色域，使得显示面板的显示效果更好。
在图3中，2061可以看作第一色阻单元，2062可以看作第二色阻单元，像素间隔区域也就是位于相邻两列色阻单元交叠的区域。
此外，位于像素间隔区域的显示面板还包括覆盖彩膜层206的平坦层207，用于实现显示面板的平坦化，该平坦层207的材料为有机材料，如树脂材料等。
现有技术中，由于信号线104设置在层间介质层103上，使得信号线104相对于层间介质层103凸起，并且，由于彩膜层的厚度较大，在像素间隔区域，两个色阻单元之间也会存在交叠，则进一步导致像素间隔区域的显示面板的段差增大，导致平坦化的效果更差；而本发明实施例在层间介质层203的开口内设置信号线204，并且开口的宽度大于或等于信号线204的宽度，使得信号线204仅位于开口内，而未超出层间介质层203远离衬底201的表面，则信号线204不会相对于层间介质层203凸出设置，进而降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，则在像素间隔区域形成彩膜层206后，其段差相对于现有技术中的段差小，则平坦化效果相对于现有技术较好。
此外，由于本发明实施例的显示面板的段差较小，则在形成平坦层207时，可降低平坦层207的厚度，从而提高显示面板的光线透过率，并节省平坦层207所需的材料，降低显示面板的制作成本。
以上描述均针对位于像素间隔区域的显示面板的结构，如图4所示，位于子像素区域内的显示面板包括衬底201，该衬底201包括基板2011、设置在基板2011上的遮光层2013以及覆盖遮光层2013和基板2011的缓冲层2012；此外，位于子像素区域内的显示面板还包括设置在衬底201中的缓冲层2012上的有源层208、设置在有源层208上的栅绝缘层209，以及设置在栅绝缘层209上的栅极层210；位于像素间隔区域的层间介质层203延伸至子像素区域内，且该层间介质层203覆盖栅极层210、栅绝缘层209、有源层208和衬底201；此外，位于子像素区域内的显示面板还包括设置在层间介质层203上的源漏电极层211，该源漏电极层211通过贯穿层间介质层203的第一过孔与有源层208连接，且该源漏电极层211通过贯穿层间介质层203和缓冲层2012的第二过孔与遮光层2013连接；位于像素间隔区域的钝化层205延伸至子像素区域内，且该钝化层205覆盖源漏电极层211和层间介质层203。
需要说明的是，遮光层2013的材料为金属材料，遮光层2013用于对薄膜晶体管进行挡光，防止光线对薄膜晶体管的影响，且源漏电极层211通过贯穿层间介质层203和缓冲层2012的第二过孔与遮光层2013连接，其目的是将源漏电极层211上的信号传输给遮光层2013，避免遮光层2013上没有固定信号而出现电压浮动，影响薄膜晶体管的性能的问题。
综上所述，显示面板还包括设置在子像素区域内的栅极层210和源漏电极层211；降阻走线202和栅极层210采用同一构图工艺形成，信号线204和源漏电极层211采用同一构图工艺形成。
通过将降阻走线202和栅极层210采用同一构图工艺形成，信号线204和源漏电极层211采用同一构图工艺形成，在不增加制作工序的情况下，制作得到降阻走线202和信号线204，简化显示面板的制作工序，降低制作成本。
具体的，栅极层210包括沿显示面板的行方向分布的栅线，以及薄膜晶体管的栅极等结构，源漏电极层211包括沿显示面板的列方向分布的数据线以及薄膜晶体管的源极和漏极等结构。
需要说明的是，本发明实施例的显示面板可以为OLED显示面板，此外，该显示面板还包括设置在平坦层207上的发光器件以及覆盖发光器件的封装层，发光器件发出的光线是经过彩膜层206向衬底201的方向出射的。
具体的，发光器件包括层叠设置的阳极层、有机功能层和阴极层。阳极层设置在平坦层207上，且通过贯穿平坦层207和钝化层205的第三过孔与源漏电极层211连接；有机功能层可以仅包括发光层，也可以包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层等膜层。
封装层可以是薄膜封装层，其包括至少一层有机封装层和至少一层无机封装层，如封装层包括依次层叠设置在阴极层上的第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。
在本发明实施例中，通过在层间介质层的开口内形成信号线，并且开口的宽度大于或等于信号线的宽度，即信号线仅位于开口内，而不会超出层间介质层的表面设置，则降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，使得后续形成的各个区域处的平坦层的厚度较为均匀，平坦化效果较好，因此，降低了因像素间隔区域存在段差导致平坦层剥落的风险，提高产品的信赖性。
实施例二
参照图5，示出了本发明实施例的一种显示面板的制作方法的流程图，具体可以包括如下步骤：
步骤501，提供一衬底；所述衬底被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列所述子像素区域之间的像素间隔区域。
在本发明实施例中，首先，提供一衬底201，衬底被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列子像素区域之间的像素间隔区域。
位于像素间隔区域的衬底201包括基板2011以及设置在基板2011上的缓冲层2012；位于子像素区域内的衬底201包括基板2011、设置在基板2011上的遮光层2013以及覆盖遮光层2013和基板2011的缓冲层2012。
具体的，首先在基板2011上采用构图工艺形成遮光层2013，再采用沉积工艺形成覆盖遮光层2013和基板2011的缓冲层2012，该缓冲层2012位于子像素区域和像素间隔区域内。
步骤502，在所述像素间隔区域的所述衬底上形成降阻走线。
在本发明实施例中，在制作得到衬底201之后，在位于子像素区域内的衬底201中的缓冲层2012上形成有源层208，然后在有源层208上采用构图工艺形成栅绝缘层209；接着，在子像素区域内的栅绝缘层209上形成栅极层210，并在像素间隔区域内的衬底201中的缓冲层2012上形成降阻走线202，降阻走线202和栅极层210采用同一构图工艺形成。
步骤503，在所述衬底上形成层间介质层；所述层间介质层具有暴露出所述降阻走线的开口。
在本发明实施例中，在子像素区域内的栅绝缘层209上形成栅极层210，并在像素间隔区域内的衬底201中的缓冲层2012上形成降阻走线202之后，形成层间介质层203。
其中，位于像素间隔区域内的层间介质层203设置在衬底201上，且位于像素间隔区域内的层间介质层203具有暴露出降阻走线202的开口；而位于子像素区域内的层间介质层203覆盖栅极层210、栅绝缘层209、有源层208和衬底201，且在子像素区域内，具有贯穿层间介质层203的第一过孔以及贯穿层间介质层203和缓冲层2012的第二过孔。
具体的，先形成层间介质层薄膜，在层间介质层薄膜上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光，曝光后进行显影，得到光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，采用刻蚀工艺对光刻胶去除区域处的层间介质层薄膜进行刻蚀，得到层间介质层203，该刻蚀工艺为干法刻蚀工艺。在刻蚀层间介质层薄膜时，在子像素区域内形成贯穿层间介质层203的第一过孔和过渡孔，并在像素间隔区域内形成贯穿层间介质层203的开口；接着，再采用一次构图工艺对过渡孔位置处的缓冲层2012进行处理，以形成贯穿层间介质层203和缓冲层2012的第二过孔。
步骤504，在所述开口内形成信号线；所述信号线与所述降阻走线连接，且所述信号线沿着所述显示面板的列方向分布，在沿着所述显示面板的行方向，所述开口的宽度大于或等于所述信号线的宽度。
在本发明实施例中，在形成层间介质层203之后，在层间介质层203上沉积金属薄膜，则金属薄膜会通过第一过孔与有源层208连接，金属薄膜通过第二过孔与遮光层2013连接，并通过开口与降阻走线202连接；然后，在金属薄膜上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光，曝光后进行显影，得到光刻胶去除区域和光刻胶保留区域，对光刻胶去除区域处的金属薄膜进行刻蚀，得到源漏电极层211和信号线204，则源漏电极层211通过贯穿层间介质层203的第一过孔与有源层208连接，该源漏电极层211通过贯穿层间介质层203和缓冲层2012的第二过孔与遮光层2013连接，且信号线204与降阻走线202连接；此时，信号线204和源漏电极层211采用同一构图工艺形成。
需要说明的是，在对金属薄膜进行刻蚀时，位于像素间隔区域处的层间介质层203上的金属薄膜全部被刻蚀掉，只有开口内的金属薄膜保留，使得信号线204形成仅形成在开口内。
可选的，在步骤504之后，还包括步骤S51、步骤S52和步骤S53：
步骤S51，形成覆盖所述层间介质层和所述信号线的钝化层；
步骤S52，在所述钝化层上形成彩膜层；
步骤S53，形成覆盖所述彩膜层的平坦层。
在形成源漏电极层211和信号线204之后，形成钝化层205。位于像素间隔区域的钝化层205覆盖层间介质层203和信号线204，位于子像素区域的钝化层205覆盖源漏电极层211和层间介质层203。
在形成钝化层205之后，在钝化层205上形成彩膜层206，彩膜层206位于像素间隔区域和子像素区域。彩膜层206包括多个阵列分布的彩膜单元，每个彩膜单元包括多个色阻单元，像素间隔区域也就是位于相邻两列色阻单元交叠的区域。
在形成彩膜层206之后，形成平坦层207。位于像素间隔区域的平坦层207覆盖彩膜层206，位于子像素区域内的平坦层207覆盖彩膜层206和钝化层205。
在本发明实施例中，通过在层间介质层的开口内形成信号线，并且开口的宽度大于或等于信号线的宽度，即仅位于开口内，而信号线不会超出层间介质层的表面设置，则降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，使得后续形成的各个区域处的平坦层的厚度较为均匀，平坦化效果较好，因此，降低了因像素间隔区域存在段差导致平坦层剥落的风险，提高产品的信赖性。
实施例三
本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
关于显示面板的具体描述可以参照实施例一和实施例二的描述，本发明实施例对此不再赘述。
当然，显示装置还包括设置在显示面板出光面上的触控面板等，此外，显示装置还包括驱动芯片以及TCON(Timer Control Register，时序控制器)等器件。
在实际应用中，显示装置可以为：手机、平板电脑、显示器、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本发明实施例中，通过在层间介质层的开口内形成信号线，并且开口的宽度大于或等于信号线的宽度，即信号线仅位于开口内，而不会超出层间介质层的表面设置，则降低了位于像素间隔区域的显示面板的段差，使得后续形成的各个区域处的平坦层的厚度较为均匀，平坦化效果较好，因此，降低了因像素间隔区域存在段差导致平坦层剥落的风险，提高产品的信赖性。
对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (8)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底；所述衬底被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列所述子像素区域之间的像素间隔区域；
设置在所述像素间隔区域的所述衬底上的降阻走线；
设置在所述衬底上的层间介质层；所述层间介质层具有暴露出所述降阻走线的开口；
设置在所述开口内的信号线；所述信号线与所述降阻走线连接，且所述信号线沿着所述显示面板的列方向分布，在沿着所述显示面板的行方向，所述开口的宽度大于或等于所述信号线的宽度；所述显示面板的列方向指的是所述显示面板中的数据线的延伸方向；所述显示面板的行方向指的是所述显示面板中的栅线的延伸方向；
位于所述像素间隔区域的所述衬底包括基板以及设置在所述基板上的缓冲层，所述基板设置在所述缓冲层远离所述层间介质层的一侧；
设置在所述基板上的遮光层，所述缓冲层还覆盖所述遮光层，所述缓冲层上设置有源层，所述有源层上设置有栅绝缘层，所述栅绝缘层上设置有栅极层，所述栅极层包括所述栅线，且所述层间介质层覆盖所述栅极层、所述栅绝缘层、所述有源层和所述衬底；
位于所述子像素区域内的显示面板还包括设置在所述层间介质层上的源漏电极层，所述源漏电极层包括所述数据线；所述源漏电极层通过贯穿所述层间介质层的第一过孔与所述有源层连接，且所述源漏电极层通过贯穿所述层间介质层和所述缓冲层的第二过孔与所述遮光层连接；
所述显示面板还包括：覆盖所述层间介质层、所述源漏电极层和所述信号线的钝化层；设置在所述钝化层上的彩膜层，所述彩膜层用于对发光器件发光的光线进行滤色；覆盖所述彩膜层的平坦层，所述平坦层用于实现所述显示面板的平坦化；所述发光器件设置在所述平坦层上，所述发光器件发出的光线是经过所述彩膜层向所述衬底的方向出射的，所述发光器件包括层叠设置的阳极层、有机功能层和阴极层，所述阳极层设置在所述平坦层上，且通过贯穿所述平坦层和所述钝化层的第三过孔与所述源漏电极层连接；所述有机功能层至少包括发光层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述显示面板的方向上，所述层间介质层的厚度与所述降阻走线和所述信号线的厚度之和的差值为0至
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述降阻走线也沿着所述显示面板的列方向分布；
在沿着所述显示面板的行方向，所述信号线的宽度与所述降阻走线的宽度相等。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述信号线包括VDD信号线和/或感应信号线。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置在所述子像素区域内的栅极层和源漏电极层；
所述降阻走线和所述栅极层采用同一构图工艺形成，所述信号线和所述源漏电极层采用同一构图工艺形成。
6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底；所述衬底被划分为多个子像素区域以及位于相邻两列所述子像素区域之间的像素间隔区域；
在所述像素间隔区域的所述衬底上形成降阻走线；
在所述衬底上形成层间介质层；所述层间介质层具有暴露出所述降阻走线的开口；
在所述开口内形成信号线；所述信号线与所述降阻走线连接，且所述信号线沿着所述显示面板的列方向分布，在沿着所述显示面板的行方向，所述开口的宽度大于或等于所述信号线的宽度；所述显示面板的列方向指的是所述显示面板中的数据线的延伸方向；所述显示面板的行方向指的是所述显示面板中的栅线的延伸方向；
其中，位于所述像素间隔区域的所述衬底包括基板以及设置在所述基板上的缓冲层，所述基板设置在所述缓冲层远离所述层间介质层的一侧；
设置在所述基板上的遮光层，所述缓冲层还覆盖所述遮光层，所述缓冲层上设置有源层，所述有源层上设置有栅绝缘层，所述栅绝缘层上设置有栅极层，所述栅极层包括所述栅线，且所述层间介质层覆盖所述栅极层、所述栅绝缘层、所述有源层和所述衬底；
位于所述子像素区域内的显示面板还包括设置在所述层间介质层上的源漏电极层，所述源漏电极层包括所述数据线；所述源漏电极层通过贯穿所述层间介质层的第一过孔与所述有源层连接，且所述源漏电极层通过贯穿所述层间介质层和所述缓冲层的第二过孔与所述遮光层连接；
覆盖所述层间介质层、所述源漏电极层和所述信号线的钝化层；设置在所述钝化层上的彩膜层，所述彩膜层用于对发光器件发光的光线进行滤色；覆盖所述彩膜层的平坦层，所述平坦层用于实现所述显示面板的平坦化；所述发光器件设置在所述平坦层上，所述发光器件发出的光线是经过所述彩膜层向所述衬底的方向出射的，所述发光器件包括层叠设置的阳极层、有机功能层和阴极层，所述阳极层设置在所述平坦层上，且通过贯穿所述平坦层和所述钝化层的第三过孔与所述源漏电极层连接；所述有机功能层至少包括发光层。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，在所述开口内形成信号线的步骤之后，还包括：
形成覆盖所述层间介质层和所述信号线的钝化层；
在所述钝化层上形成彩膜层；
形成覆盖所述彩膜层的平坦层。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至5中任一项所述的显示面板。
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