CN112029494B - 钙钛矿纳米材料、含有其的复合发光材料及其制备方法和应用 - Google Patents
钙钛矿纳米材料、含有其的复合发光材料及其制备方法和应用 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112029494B CN112029494B CN201910665251.4A CN201910665251A CN112029494B CN 112029494 B CN112029494 B CN 112029494B CN 201910665251 A CN201910665251 A CN 201910665251A CN 112029494 B CN112029494 B CN 112029494B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- solution
- cspbi
- gamma
- composite
- perovskite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 34
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims abstract description 167
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 66
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 55
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 84
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 70
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 50
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 50
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 48
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 44
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 32
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 32
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 31
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 25
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 19
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 19
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 19
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 claims description 14
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 12
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 claims description 11
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- KPWJBEFBFLRCLH-UHFFFAOYSA-L cadmium bromide Chemical compound Br[Cd]Br KPWJBEFBFLRCLH-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- OKIIEJOIXGHUKX-UHFFFAOYSA-L cadmium iodide Chemical compound [Cd+2].[I-].[I-] OKIIEJOIXGHUKX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- -1 cyanocellulose Polymers 0.000 claims description 10
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- JTDNNCYXCFHBGG-UHFFFAOYSA-L tin(ii) iodide Chemical compound I[Sn]I JTDNNCYXCFHBGG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L zinc bromide Chemical compound Br[Zn]Br VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L zinc iodide Chemical compound I[Zn]I UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 6
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 claims description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 6
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims description 6
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims description 6
- 229940075417 cadmium iodide Drugs 0.000 claims description 5
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 5
- 229940108184 stannous iodide Drugs 0.000 claims description 5
- 229940102001 zinc bromide Drugs 0.000 claims description 5
- 239000004760 aramid Substances 0.000 claims description 4
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 239000002064 nanoplatelet Substances 0.000 claims description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 claims description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 claims 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 abstract description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 199
- 239000010408 film Substances 0.000 description 99
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 33
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 27
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- MKARNSWMMBGSHX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylaniline Chemical compound CC1=CC(C)=CC(N)=C1 MKARNSWMMBGSHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 5
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical class CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002189 fluorescence spectrum Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 3
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001523 electrospinning Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- VMGAPWLDMVPYIA-HIDZBRGKSA-N n'-amino-n-iminomethanimidamide Chemical compound N\N=C\N=N VMGAPWLDMVPYIA-HIDZBRGKSA-N 0.000 description 2
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- HBZSVMFYMAOGRS-UHFFFAOYSA-N octylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCC[NH3+] HBZSVMFYMAOGRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 2
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000196 poly(lauryl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- BOLDJAUMGUJJKM-LSDHHAIUSA-N renifolin D Natural products CC(=C)[C@@H]1Cc2c(O)c(O)ccc2[C@H]1CC(=O)c3ccc(O)cc3O BOLDJAUMGUJJKM-LSDHHAIUSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 2
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010041 electrostatic spinning Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001506 fluorescence spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIDDQKKGAYONOU-UHFFFAOYSA-N octylazanium;bromide Chemical compound Br.CCCCCCCCN GIDDQKKGAYONOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229920001935 styrene-ethylene-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002235 transmission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
- C09K11/025—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/61—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing fluorine, chlorine, bromine, iodine or unspecified halogen elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/66—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing germanium, tin or lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/66—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing germanium, tin or lead
- C09K11/664—Halogenides
- C09K11/665—Halogenides with alkali or alkaline earth metals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/1336—Illuminating devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
- H10K50/115—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
本申请公开了一种钙钛矿纳米材料,其特征在于,所述钙钛矿纳米材料包括γ‑CsPbI3;所述钙钛矿纳米材料在至少一个维度上的尺寸为2~50nm。以及一种复合发光材料,包括基质和所述钙钛矿纳米材料。解决了钙钛矿量子点/聚合物复合发光材料中红光发射的薄膜稳定性差、量子产率低的问题。
Description
技术领域
本申请涉及一种钙钛矿纳米材料、含有其的复合发光材料及其制备方法和应用,属于材料领域。
背景技术
钙钛矿材料的结构式一般为ABX3,其中A可以是K+、Na+、Rb+、Cs+以及小分子有机阳离子等,B可以是Pb2+、Sn2+、Ti4+、Cr3+、Bi3+等多种元素,X可以由O2-、Cl-、Br-、I-、S2-等阴离子组成。钙钛矿结构的材料具备了很多独特的理化性质,比如吸光性、电催化性等等,在化学、物理领域有着广泛的应用。卤素钙钛矿是一类X为卤素(Cl、Br、I)阴离子的钙钛矿结构化合物,其中A可以是小分子有机阳离子,也可以是无机金属阳离子,分别称为有机-无机杂化卤素钙钛矿和全无机卤素钙钛矿。卤素钙钛矿的晶体结构由1个B金属原子和6个X原子构成1个八面体结构,A原子镶嵌在8个八面体两两共用1个X原子形成的立方体结构的中心。卤素钙钛矿材料具有独特的光电半导体特性,其具有合适的带隙、较高的载流子迁移率、很强的缺陷容忍性、较低的浅点缺陷率、较低的晶界复合率和表面复合率,以及由于s-p反键耦合产生的较大的光吸收系数。这些独特的光学和半导体特性使得卤素钙钛矿材料成为太阳能电池中光电转换材料的理想选择。上世纪九十年代,Mitzi的研究组首次对有机-无机杂化钙钛矿材料的光电性能进行了探究,发现其具有良好的电子迁移能力,在太阳能电池上具有潜在的应用价值。2009年,Kojima课题组首次制备出以CH3HN3PbX3(X=Cl,Br,I)作为光敏材料的染料敏华太阳能电池,其光电转换效率达到了3.8%。将钙钛矿材料在光电领域的研究引入了快车道。目前,被美国国家可再生能源室(NREL)认证的钙钛矿光伏器件效率已经稳步增长到22.1%。
钙钛矿太阳能电池的研究热潮也带动了基于ABX3铅卤钙钛矿量子点(后文写做钙钛矿量子点)发光材料的迅速发展。与正在产业化过程中的II-VI族量子点相比,钙钛矿量子点具有成本低廉、制备工艺简单、材料毒性低等特点。同时,钙钛矿量子点的发光性能与II-VI族量子点相当甚至更好:发射光谱覆盖整个可见光波长(410-700nm),荧光量子产率高(>90%),窄发射峰(半峰宽20-50nm)。但是由于钙钛矿材料晶体结构的离子性、配体间的质子交换反应、卤素离子较强的离子迁移能力以及较低的晶体形成能,导致钙钛矿量子点的稳定性较差。能够降低钙钛矿量子点光学性能的外界因素主要有H2O、O2、光和热。晶体结构的离子性使得钙钛矿量子点容易被极性溶剂特别是环境中的H2O降解失去光学性能。O2与H2O配合,加速钙钛矿量子点的分解,同时作为光淬灭剂,降低钙钛矿量子点的光学性能。紫外光则使钙钛矿量子点产生受激辐射,激子非辐射复合过程产生的热效应加速了H2O和O2与钙钛矿量子点的反应过程,同时产生激子热淬灭,降低钙钛矿量子点的光学性能。
针对钙钛矿量子点稳定性差的问题,制备聚合物包覆的钙钛矿量子点复合材料是实现高稳定性钙钛矿量子点的有效方法。Yuhua Wang课题组将预先合成的CsPbX3量子点与聚合物Ergo混合,制备出了CsPbX3/Ergo复合薄膜。该薄膜可以将CsPbI3量子点在空气和水中的稳定性从5h延长到25h以上。A.Paul Alivisatos课题组合成了不同形貌的钙钛矿纳米晶,并将它们分别包入聚月桂基甲基丙烯酸酯(PLMA),聚苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯(SEBS)以及聚苯乙烯(PS)中,使得钙钛矿量子点的稳定性得到了巨大的提升,并且钙钛矿纳米线的复合薄膜保持了其偏振发光性能。Dwight S.Seferos课题组将钙钛矿量子点包覆进甲基丙烯酸甲酯(MMA),该钙钛矿量子点/MMA复合薄膜的稳定性可达到30天以上。然而,基于预先合成的钙钛矿量子点的聚合物复合薄膜普遍存在荧光量子产率不高的问题。CsPbX3/Ergo复合薄膜的荧光产率只有43%,钙钛矿量子点/MMA复合薄膜的荧光量子产率更是从钙钛矿量子点溶液的100%降到了复合材料的56%。这是由于钙钛矿量子点的合成需要繁琐的提纯步骤,如除去反应过程中的大量有机溶剂及长链配体,这个过程会对钙钛矿纳米材料的发光性能造成不利的影响。此外,经过分离提纯的钙钛矿量子点也会影响其在包覆基质中的分散,团聚会使量子点的荧光量子产率急剧下降,并且使得到的复合材料光透过率低,影响器件的性能。为了提高钙钛矿量子点的稳定性同时兼顾其优异的发光性能,研究者开发了原位制备钙钛矿量子点/聚合物复合发光薄膜的方法。Yajie Dong课题组使用溶胀-去溶胀的方法原位制备了五种不同聚合物基质的钙钛矿量子点/聚合物复合薄膜,其中MAPbBr3/PS复合薄膜的荧光量子产率最高达到48%,且能够在水中放置60天而不发生分解。Jiuyang Zhang课题组在沉淀法制备CsPbBr3量子点的过程中加入聚合物,原位制备了CsPbBr3/聚甲基丙烯酸甲酯,CsPbBr3/聚甲基丙烯酸丁酯和CsPbBr3/聚苯乙烯复合材料,CsPbBr3/聚甲基丙烯酸甲酯的荧光量子效率为62.4%。目前钙钛矿量子点/聚合物复合发光薄膜的原位制备研究主要集中在绿色发光薄膜,红光发射的钙钛矿量子点复合发光薄膜的荧光量子产率和稳定性都比较低,如目前基于钙钛矿量子点的红光发光材料主要是CH3NH3PbI3(MAPbI3),NH2CHNH2PbI3(FAPbI3)和CsPbI3。MAPbI3和FAPbI3钙钛矿材料中由于有机离子的存在,其结构稳定性低,不能满足应用要求。
现有技术中,CsPbI3拥有四种晶体结构,分别是立方相α-CsPbI3,四方相β-CsPbI3,正交相γ-CsPbI3和正交相δ-CsPbI3。其中,α-CsPbI3具有合适的带隙,被认为是一种极具前景的高效光电转换材料,是目前CsPbI3四个物相中被研究最多的。然而α-CsPbI3属于高温相,其生成温度为300℃以上。随着温度的降低,在260℃时α-CsPbI3转变为β-CsPbI3。β-CsPbI3进一步在175℃转变为γ-CsPbI3。最终,γ-CsPbI3在25℃转变为低温稳定结构的δ-CsPbI3。由于α-CsPbI3在室温不能稳定存在的问题,阻碍了它的实际应用。相似地,β-CsPbI3也不能在室温稳定存在。而非钙钛矿结构的δ-CsPbI3不具备光电性能。在原位制备CsPbI3/聚合物复合薄膜时,常用聚合物材料的熔点通常低于250℃,要得到α-CsPbI3和β-CsPbI3的生成条件需要在聚合物材料的融点以上制备,如此会使得聚合物基质失去对原位生成的钙钛矿纳米颗粒的尺寸限制作用,生成大颗粒的钙钛矿颗粒,造成其发光性能的下降。在聚合物材料的融点以下制备,又不能满足α-CsPbI3和β-CsPbI3的生成条件。
发明内容
根据本申请的一个方面,提供了一种钙钛矿纳米材料γ-CsPbI3,具有优异的发光性能。
本申请中的钙钛矿纳米材料与有机无机杂化钙钛矿相比,全无机钙钛矿由于无机Cs+取代挥发性有机离子,显著提高了结构的稳定性。
所述钙钛矿纳米材料,其特征在于,所述钙钛矿纳米材料包括γ-CsPbI3;
所述钙钛矿纳米材料在至少一个维度上的尺寸为2~50nm。
可选地,所述γ-CsPbI3为γ-CsPbI3量子点、γ-CsPbI3纳米片、γ-CsPbI3纳米线中的至少一种。
可选地,所述γ-CsPbI3量子点为γ-CsPbI3量子点颗粒;
所述γ-CsPbI3量子点颗粒的平均粒径为14nm。
可选地,所述钙钛矿纳米材料的发光峰在600~700nm。
可选地,所述钙钛矿纳米材料的发光峰在650~680nm。
本申请的目的之一是提出γ-CsPbI3/聚合物复合发光材料及其制备方法,对已有的钙钛矿量子点合成方法进行改进,实现γ-CsPbI3量子点在聚合物基质中的原位制备,所得复合材料为柔性薄膜,荧光量子产率高、稳定性好,解决以往红光CsPbI3钙钛矿量子点难于在背光显示等光电子器件中应用的问题。
根据本申请的另一方面,提供一种复合发光材料,尤其是γ-CsPbI3钙钛矿纳米材料/聚合物发光材料,该复合材料具有荧光量子产率高、稳定性高、透明度高以及生产成本低等优点。
所述复合发光材料,其特征在于,包括
基质和钙钛矿纳米材料;
所述钙钛矿纳米材料选自上述的钙钛矿纳米材料中的至少一种。
可选地,所述钙钛矿纳米材料与所述基质的质量比为1:1~100。
可选地,所述基质为聚合物。
可选地,所述聚合物选自聚偏氟乙烯、聚偏氟乙烯和三氟乙烯共聚物、聚丙烯腈、聚醋酸乙烯酯、醋酸纤维素、氰基纤维素、聚砜、芳香聚酰胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。
可选地,所述复合发光材料还包括添加剂,所述添加剂分散在所述基质中;
所述添加剂选自溴化锌、碘化锌、溴化亚锡、碘化亚锡、溴化镉、碘化镉中的至少一种。
可选地,所述基质与添加剂的质量比为1:0.001~0.5。
可选地,所述复合发光材料还包括表面配体,所述表面配体形成在所述γ-CsPbI3钙钛矿纳米材料的表面;
所述表面配体含有有机酸、有机酸卤代物、C4~C24有机胺、C4~C24有机胺的卤代物中的至少一种中的至少一种。
可选地,所述有机酸包括碳原子数至少为3的饱和烷基酸或不饱和烷基酸;所述长链有机胺为4-24个碳原子的烷基胺胺或芳香胺;
所述有机酸或者有机胺的卤化物为所述有机酸或者有机胺对应的卤化物。
可选地,所述钙钛矿纳米材料与所述表面配体的质量比为1:0.001~1。
可选地,所述复合发光材料为复合发光薄膜;
所述复合发光薄膜的厚度为0.001-5mm。
具体地,γ-CsPbI3钙钛矿纳米材料为γ-CsPbI3钙钛矿量子点;所述γ-CsPbI3量子点在至少一个维度上的尺寸不大于20nm。
所述γ-CsPbI3量子点具有内核,所述内核的结构式为γ-CsPbI3,其中Pb和I构成配位八面体结构,Cs填充在所述八面体结构的间隙中形成的正交结构相。γ-CsPbI3的晶体结构示于图1,其键角α=β=γ=90°,键长 γ-CsPbI3的晶体结构如图1所示。由此,可以获得具有较好发光性能的γ-CsPbI3量子点。
本申请所述基质由聚合物构成,所述聚合物含有聚偏氟乙烯(PVDF)、聚偏氟乙烯和三氟乙烯共聚物(P(VDF-TrFE))、聚丙烯腈(PAN)、聚醋酸乙烯酯(PVAc)、醋酸纤维素(CA)、氰基纤维素(CNA)、聚砜(PSF)、芳香聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的至少之一。
为了得到本申请所述γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料中γ-CsPbI3物相,在合成的过程中使用添加剂。所述添加剂分散在所述基质中;所述添加剂含有溴化锌、碘化锌、溴化亚锡、碘化亚锡、溴化镉、碘化镉的至少之一。由此,可以利用上述添加剂调控所生成CsPbI3量子点的表面能,使生成的CsPbI3由α相转变为γ相。γ-CsPbI3为低温发光相,因此为该复合材料提供更高的室温稳定性,且上述添加剂能够进一步提高该复合发光材料的电学、力学等物化性能。
为了提高本发明所述γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料的发光性能,该复合发光材料进一步包括:表面配体,所述表面配体形成在所述γ-CsPbI3量子点内核的表面,所述表面配体含有有机酸、长链有机胺以及它们的卤化物中的至少之一。由此,可以为该复合材料中的γ-CsPbI3量子点提供有机杂化基团,进而消除γ-CsPbI3量子的表面缺陷,从而提高该复合材料的性能。
本申请所述有机酸包括碳原子数至少为3的饱和烷基酸、不饱和烷基酸以及它们的卤化物;所述长链有机胺为4-24个碳原子的烷基胺、芳香胺以及它们的卤化物。有机配体的加入能够消除生成的γ-CsPbI3量子点表面的缺陷,使非辐射复合减少,增强γ-CsPbI3量子点的荧光量子产率。此外,有机配体与γ-CsPbI3量子点不同晶面的结合能不同,由此可以控制γ-CsPbI3的生长方向,进而达到调控所生成γ-CsPbI3形貌(量子点、纳米片、纳米线)的目的。
本申请提出的制备方法非常简单,可大批量制备,适用于工业生产,制备的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料不仅具有CsPbI3量子点的高荧光量子产率,发光纯度高,波长可随颗粒尺寸调节等优点,还具有聚合物组分的易加工、力学强度高、柔性好等特点。同时由于聚合物基质包裹住了CsPbI3量子点颗粒,隔绝了外界环境如氧气、水汽等的影响,使得该复合材料荧光稳定性显著增强,在宽色域LED背光源显示、柔性显示中有广阔的市场应用前景。
根据本申请的又一方面,提供一种上述的复合发光材料的制备方法。
所述的复合发光材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)获得含有基质、钙钛矿前驱体的前驱体溶液;
(2)将所述前驱体溶液成型,得到所述复合发光材料。
可选地,步骤(1)中所述前驱体溶液中还含有有机溶剂;
所述溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、三甲基磷酸酯、磷酸三乙酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺中的至少一种。
可选地,步骤(1)包括:
(s11)获得含有基质的甲溶液;
(s12)获得含有CsI、PbI2的乙溶液;
(s13)将甲溶液和乙溶液混合,得到所述前驱体溶液。
可选地,所述甲溶液中包括甲溶剂;
所述乙溶液中包括乙溶剂;
所述甲溶剂和乙溶剂独立地选自N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、三甲基磷酸酯、磷酸三乙酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺中的至少一种。
可选地,所述甲溶液中,基质与溶剂的质量比为1:1~100;
乙溶液中,PbI2和CsI的摩尔比为1:0.1~3;乙溶剂和(PbI2+CsI)的质量比可以为1:0.001~1;
步骤(s13)中,甲溶液和乙溶液的质量比为1:0.02~5。
可选地,所述甲溶液中,基质与溶剂的质量比为1:1、1:3、1:4、1:5、1:6、1:7、1:8、1:9、1:10、1:12、1:15、1:20、1:30、1:40、1:50、1:60、1:70、1:80、1:90、1:100及任意两个比值之间的范围值。
可选地,乙溶液中,PbI2和CsI的摩尔比为1:0.1、1:0.4、1:0.5、1:0.6、1:0.75、1:0.9、1:1、1:1.1、1:1.5、1:2、1:3及任意两个比值之间的范围值。
可选地,乙溶剂和(PbI2+CsI)的质量比为1:0.001、1:0.01、1:0.03、1:0.05、1:0.1、1:0.2、1:0.8、1:0.9、1:1及任意两个比值之间的范围值。
可选地,步骤(s13)中,甲溶液和乙溶液的质量比为1:0.02、1:0.1、1:0.5、1:0.6、1:0.8、1:1、1:2、1:3、1:5及任意两个比值之间的范围值。
可选地,
所述甲溶液中还含有添加剂、所述添加剂选自溴化锌、碘化锌、溴化亚锡、碘化亚锡、溴化镉、碘化镉中的至少一种。
可选地,所述甲溶液中,基质与添加剂的质量比为1:0.001~0.5。
可选地,所述甲溶液中,基质与添加剂的质量比为1:0.001、1:0.003、1:0.01、1:0.015、1:0.4、1:0.5及任意两个比值之间的范围值。
可选地,所述乙溶液中还含有表面配体;
所述表面配体含有有机酸、有机酸卤代物、C4~C24有机胺、C4~C24有机胺的卤代物中的至少一种中的至少一种。
可选地,所述乙溶液中,PbI2与CsI的质量之和与表面配体的质量比为1:0.001~1。
可选地,所述乙溶液中,PbI2与CsI的质量之和与表面配体的质量比为1:0.001、1:0.02、1:0.1、1:1及任意两个比值之间的范围值。
可选地,步骤(1)包括:
(s11)获得含有基质、添加剂的甲溶液;
(s12)获得含有CsI、PbI2、表面配体、包覆剂的乙溶液;
(s13)将甲溶液和乙溶液混合,得到所述前驱体溶液。
可选地,步骤(2)中所述成型包括:
将所述前驱体溶液转移至模板上,成型,得到所述复合发光材料。
可选地,所述转移包括旋涂法、浸渍提拉法、静电纺丝法、溶液下沉法、喷涂法、刮膜法、浇铸法中的至少一种。
可选地,
步骤(2)中所述成型包括干燥;
所述干燥的条件包括:压力0.01~0.l MPa,温度80~180℃,时间0.1~48h。
可选地,所述干燥的条件还包括:压力0.01~0.1Mpa。
可选地,所述干燥的压力的上限选自0.02Mpa、0.03Mpa、0.04Mpa、0.05Mpa、0.06Mpa、0.07Mpa、0.08Mpa、0.09Mpa或0.1Mpa;下限选自0.01Mpa、0.02Mpa、0.03Mpa、0.04Mpa、0.05Mpa、0.06Mpa、0.07Mpa、0.08Mpa或0.09Mpa。
可选地,所述干燥的温度的上限选自90℃、100℃、110℃、120℃、130℃、140℃、150℃、160℃、170℃或180℃;下限选自80℃、90℃、100℃、110℃、120℃、130℃、140℃、150℃、160℃或170℃。
可选地,所述干燥的时间的上限选自1h、2h、3h、4h、5h、6h、8h、10h、15h、24h、28h、32h、35h、40h或48h;下限选自0.1h、0.5h、1h、2h、3h、4h、5h、6h、8h、10h、15h、24h、28h、32h、35h或40h。
作为一种实施方式,所述方法包括以下步骤:
(1)配制甲溶液
将聚合物基质溶解在有机溶剂中,以便获得甲溶液。有机溶剂包括N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜(DMSO)、三甲基磷酸酯(TMP)、磷酸三乙酯(TEP)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、二甲基乙酰胺(DMAc)中的至少之一。基质是由有机聚合物构成的,聚合物可以为聚偏氟乙烯(PVDF)、聚偏氟乙烯和三氟乙烯共聚物(P(VDF-TrFE))、聚丙烯腈(PAN)、聚醋酸乙烯酯(PVAc)、醋酸纤维素(CA)、氰基纤维素(CNA)、聚砜(PSF)、芳香聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的至少之一。基质与有机溶剂的质量比为1:(1-50)。
聚合物基质在γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料中主要起三个方面的作用:第一,聚合物基质在γ-CsPbI3量子点原位生成的过程中对γ-CsPbI3量子点的尺寸起到限制的作用。由于聚合物基质的存在,生成的γ-CsPbI3量子点之间被隔离开,不能继续生长成为大的颗粒。最终将γ-CsPbI3量子点的颗粒尺寸限制在20nm以下。第二,聚合物基质对γ-CsPbI3量子点的相变起到限制作用。当γ-CsPbI3量子点/聚合物复合薄膜由制备温度降至室温时,CsPbI3量子点有由γ相自发转变为δ相的趋势。但是在γ相转变为δ相的过程中,CsPbI3的晶胞体积会增大。此时,聚合物给予γ-CsPbI3量子点的空间并没有增加,限制了γ-CsPbI3量子点转变为δ-CsPbI3,使得室温时聚合物复合薄膜中的CsPbI3仍为γ相。第三,聚合物基质能够隔绝CsPbI3量子点与H2O、O2的接触,使CsPbI3量子点不容易分解进而失去光学活性,增强了γ-CsPbI3量子点/聚合物复合薄膜的稳定性。图1为聚合物包覆γ-CsPbI3量子点的示意图。
为了进一步提高利用该方法获得的复合发光材料的性能,甲溶液中还可以加入添加剂。添加剂包括溴化锌、碘化锌、溴化亚锡、碘化亚锡、溴化镉、碘化镉的至少之一,基质与添加剂的质量比可以为1:(0.001-0.5)。
加入添加剂,能够改变所生成CsPbI3纳米颗粒的表面能,使得CsPbI3由α相转变为γ相。γ-CsPbI3为低温发光相,因此为该复合材料提供更高的室温稳定性。其次,添加剂能够降低γ-CsPbI3量子点的成核速率,使生成的γ-CsPbI3量子点尺寸更加均匀,进而得到半峰宽更窄的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合薄膜。最后,添加剂在γ-CsPbI3的生成过程中起到助熔剂的作用,使γ-CsPbI3的生成温度由175℃降低至80℃,减少了聚合物薄膜的加工难度。
甲溶液的制备过程采用高速搅拌器进行分散。由此,可以进一步提高甲溶液的均匀性和分散性,进而可以提高复合材料的效果。甲溶液可以是通过下列步骤制备的:将基质和添加剂溶解于有机溶剂中,基质与有机溶剂的质量比为1:(1~100),基质与添加剂的质量比为1:(0.0001~0.5),机械搅拌混合12h,使基质和添加剂完全溶解在有机溶剂中,得到澄清透明的溶液,获得甲溶液。
(2)获得乙溶液
在该步骤中,将PbI2和CsI溶解在有机溶剂中,获得乙溶液。乙有机溶剂包括选自DMF、DMSO、TMP、TEP、NMP、DMAc中的个少之一,且乙有机溶剂与甲有机溶剂混溶。需要说明的是,术语“混溶”特指当将甲有机溶剂与乙有机溶剂混合时,混合溶液不出现分层现象。由此,可以将使甲溶液以及乙溶液混合形成统一的有机溶剂体系,也即是说,甲溶液以及乙溶液中溶解的PbI2和CsI、表面配体、聚合物基质、添加剂等原料组分在甲有机溶剂以及乙有机溶剂中的溶解度无显著差异,在宏观和微观结构上均没有出现相分离。其中,PbI2和CsI的摩尔比可以为1:(0.1~3),乙有机溶剂与PbI2和CsI质量和的质量比可以为1:(0.001~1)。
为了进一步提高利用该方法获得的复合发光材料的性能,乙溶液中加入了有机配体。表面配体为有机酸、长链有机胺或者它们的卤化物。具体的,有机酸可以包括碳原子数为至少为3的饱和烷基酸或不饱和烷基酸;长链有机胺可以为4~24个碳原子的烷基胺胺或芳香胺;所述有机酸或者有机胺的卤化物为所述有机酸或者有机胺对应的卤化物。前驱体溶液中,乙溶液中PbI2与CsI的质量之和与有机表面配体的质量比为1:(0.001~1)。
有机配体的加入能够消除生成的γ-CsPbI3量子点表面的缺陷,使非辐射复合减少,增强γ-CsPbI3量子点的荧光量子产率。此外,有机配体与γ-CsPbI3量子点不同晶面的结合能不同,由此可以控制γ-CsPbI3的生长方向,进而达到调控所生成γ-CsPbI3形貌(量子点、纳米片、纳米线)的目的。
乙溶液的制备过程采用高速搅拌器进行分散。由此,可以进一步提高乙溶液的均匀性和分散性,进而可以提高复合材料的效果。乙溶液可以是通过下列步骤制备的:将PbI2、CsI和有机配体混合,控制PbI2和CsI的摩尔比为1:(0.1~3),PbI2与CsI的质量之和与有机配体的质量比为1:(0.0001~1)。再加入乙有机溶剂,控制乙有机溶剂与PbI2和CsI质量和的质量比为1:(0.001~1),混合后进行超声处理,超声处理15分钟后,得到透明混合液,对经过超声处理的透明混合液进行过滤,取过滤得到的滤液作为乙溶液。
(3)形成前驱体溶液
根据本发明的实施例,在该步骤中,将甲溶液与乙溶液混合,获得前驱体溶液。具体的,甲溶液与乙溶液的质量比为1:(0.02~5),机械搅拌2h,获得前驱体溶液。
(4)转移
在该步骤中,将混合均匀的前驱体溶液通过合适的方法转移到模板上,以便形成不同形状的复合材料。其中,模板可以为具有特定形状的模具或者基底。关于模板的具体情况,本领域技术人员可以根据实际应用中对复合发光材料形状的具体要求进行设计。具体的,前驱体溶液转移到基底或模具上的方法可以包括旋涂法、浸渍提拉法、静电纺丝法、溶液下沉法、喷涂法、刮膜法或浇铸法。由此,可以简便地获得具有薄膜等形状的复合发光材料。
(5)干燥
在该步骤中,干燥具有前驱体溶液的所述模板,以便获得所述复合发光材料。具体的,可以将附着有前驱体溶液的模板放置在真空干燥箱中,在一定条件下脱去前驱体溶液中的有机溶剂,由此,可以控制该有机溶剂体系的挥发条件来控制所述基质的结晶、添加剂的排布、γ-CsPbI3量子点颗粒的形核与生长,从而提高复合材料的性能。例如,根据本发明的具体实施例,真空干燥箱中的气压可以在0.01~0.l MPa之间,温度可以在80~180℃之间,干燥处理0.1~48h,得到基于γ-CsPbI3量子点颗粒的复合材料厚度可以为0.001~5mm。在不同的干燥温度下,可以得到不同粒径分布的γ-CsPbI3量子点,由此,可以控制所得γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光薄膜的发光波长覆盖600~700nm。
根据本申请的又一方面,提供一种半导体器件。
所述半导体器件,其特征在于,含有上述的钙钛矿纳米材料、上述的复合发光材料、根据上述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
可选地,所述半导体器件包括电致发光器件、光致发光器件、太阳能电池、显示器件、传感器件、压电器件、非线性光学器件。
根据本申请的又一方面,提供一种柔性器件。
所述柔性器件,其特征在于,含有上述的钙钛矿纳米材料、上述的复合发光材料、根据上述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
可选地,所述柔性器件包括基底、金属阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和金属阴极;
所述基底含有上述的钙钛矿纳米材料、上述的复合发光材料、根据上述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
根据本申请的又一方面,提供一种双色复合发光材料。
所述双色复合发光材料,其特征在于,包括层叠的绿色发光薄膜和红色发光薄膜;
所述红色发光薄膜含有上述的钙钛矿纳米材料、上述的复合发光材料、根据上述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
可选地,所述红色发光薄膜为聚甲基丙烯酸甲酯/γ-CsPbI3量子点复合薄膜。
可选地,所述绿色发光薄膜为聚偏氟乙烯/CH3NH3PbBr3量子点复合薄膜。
根据本申请的又一方面,提供一种背光模组。
所述背光模组,其特征在于,含有上述的双色复合发光材料中的至少一种。
根据本申请的又一方面,提供一种LCD显示器。
所述LCD显示器,其特征在于,含有上述的双色复合发光材料中的至少一种。
根据本申请的又一方面,提供一种光致发光器件。
所述光致发光器件,其特征在于,包括蓝光芯片驱动模组、蓝光芯片散热模组和双色复合发光材料;
所述双色复合发光材料选自上述的双色复合发光材料中的至少一种。
本申请能产生的有益效果包括:
1)本申请中钙钛矿纳米材料,与有机无机杂化钙钛矿相比,全无机钙钛矿由于无机Cs+取代挥发性有机离子,显著提高了结构的稳定性。
2)本申请中所制备的γ-CsPbI3量子点为低温发光稳定相,在日常使用中不会发生相变而影响发光性能,具有更高的使用稳定性。
3)本申请提供的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料制备方法,操作简便,成本低廉,可批量制备,适用于工业生产,可以获得大面积的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光薄膜。
4)本申请提供的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料的制备方法,利用聚合物分子间的空隙限制γ-CsPbI3量子点的生长维度,节省原料,且聚合物分子间的空隙大小容易调节。
5)本申请提供的方法可以制备出不同粒径的γ-CsPbI3量子点颗粒填充在聚合物基质中的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料,发光强度高,荧光量子产率可达80-100%,发光波长可以在600nm-700nm之间调节。
6)本申请提供的制备的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料,由于聚合物基质包裹着γ-CsPbI3量子点颗粒,隔绝了氧气、水汽等的影响,γ-CsPbI3量子点对外界环境不敏感,稳定性显著增强,并且耐化学腐蚀。
7)本申请提供的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料,具有力学强度高、柔韧性好的特点,在柔性显示器中有潜在的应用价值。
8)本申请提供的的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光材料半峰宽窄,发光色纯度高,荧光量子产率高,透光率高等特点,可以满足实际应用的需求,在宽色域LED显示、激光、非线性光学等领域有广泛的应用前景。
附图说明
图1是γ-CsPbI3晶体结构图;
图2是本申请制备的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光薄膜的结构示意图;
图3是对比例1、2、3无添加剂前驱体在不同制备温度下得到样品的XRD图;
图4是实施例4含添加剂制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜的X射线衍射谱图;
图5实施例5含添加剂制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜的荧光发射光谱图;
图6实施例6含添加剂制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜的荧光发射光谱图;
图7实施例14含添加剂制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜的荧光发射光谱图;
图8实施例15含添加剂所制备的γ-CsPbI3量子点/聚合物复合发光薄膜的透过光谱;
图9是根据本实施例的柔性电致发光器件结构示意图
图10是根据本申请实施的双色发光复合薄膜结构示意图;
图11根据本申请实施的LCD显示器件背光模组的结构示意图;
图12是根据本申请实施的光致发光器件结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例详述本申请,但本申请并不局限于这些实施例。
如无特别说明,本申请的实施例中的原料均通过商业途径购买。
本申请的实施例中分析方法如下:
利用PANalytical X’Pert3粉末衍射仪进行XRD分析。
利用Varian Cary 5分光光度计进行透过光谱分析。
利用FLSP920荧光光谱仪进行荧光发射光谱分析。
对比例1
(1)将聚合物溶解于有机溶剂中,控制聚合物:有机溶剂=1:3,机械搅拌不小于6h,使聚合物完全溶解于有机溶剂中得到澄清透明的溶液,此溶液为甲溶液。所述聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA);所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。
(2)将PbI2粉末与CsI粉末混合,控制摩尔比为:PbI2:CsI=1:1.5,再加入有机溶剂,控制质量比为:有机溶剂:(PbI2+CsI)=1:0.05,再加入有机配体溴化辛胺,(PbI2+CsI)与溴化辛胺的质量比为1:0.02。混合后机械搅拌6h,得到澄清透明的溶液,此溶液为乙溶液。该步骤中所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。
(3)将步骤(1)中所述的甲溶液与步骤(2)中所述的乙溶液混合,控制质量比为:甲溶液:乙溶液=1:0.5,机械搅拌24h,得到均匀混合的前驱体溶液。
(4)将上述步骤(3)中所述的前驱体溶液通过旋涂法转移到透明玻璃片上,使前驱体溶液分布均匀。通过控制旋涂装置的转速为1500转/分钟旋涂30秒,使前驱体溶液再透明玻璃片上的厚度约为0.05mm。然后把涂覆有前驱体溶液的透明玻璃片置于真空干燥箱中,真空干燥箱的气压为0.1MPa,温度为30℃,放置10min,除去有机溶剂。再将去除溶剂的玻璃片从真空干燥箱中取出,放置在80℃的加热板上30min,CsPbI3量子点在PMMA基质中原位生成,得到CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜。图3中名称为“无添加剂80℃制备”的XRD图为该样品测试结果,XRD图显示该样品含有很多杂质。
对比例2
其余步骤同实施例1。所不同的是,在甲溶液中,控制聚合物与有机溶剂的质量比为1:30。在乙溶液中,控制有机溶剂:(PbI2+CsI)的质量比=1:1。机械搅拌将溶液混合均匀,真空干燥箱去除溶剂后放置在110℃的加热板上30min,获得CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜。图3中名称为“无添加剂110℃制备”的XRD图为该样品测试结果,XRD图显示该样品为α相。
对比例3
其余步骤同实施例2。所不同的是,真空干燥箱去除溶剂后放置在170℃的加热板上30min,获得CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜。图3中名称为“无添加剂170℃制备”的XRD图为该样品测试结果,XRD图显示该样品为α相。
实施例1
其余步骤同对比例1,所不同的是,在甲溶液中,聚合物为聚丙烯氰(PAN),有机溶剂为二甲基亚砜(DMSO),聚合物:有机溶剂质量比为1:6,加入添加剂ZnI2,控制质量比为聚合物:ZnI2=1:0.5,机械搅拌不小于6h得到澄清透明的溶液。在乙溶液中,有机溶剂为二甲基亚砜(DMSO),控制PbI2:CsI的摩尔比为1:0.75,控制有机溶剂:(PbI2+CsI)的质量比为1:0.001。在前驱体溶液中,控制甲溶液:乙溶液的质量比为1:1。将前驱体溶液通过浸渍提拉法转移到透明玻璃片上,控制前驱体溶液再透明玻璃片上的厚度为0.2mm,真空干燥箱中的气压在0.01MPa,温度为30℃,真空干燥1h。再将去除溶剂的玻璃片从真空干燥箱中取出,放置在130℃的加热板上20min,CsPbI3量子点在PAN基质中原位生成,得到CsPbI3量子点/PAN复合薄膜。图4为该样品XRD测试结果,XRD图显示该样品为γ相。
实施例2
其余步骤同实施例1,所不同的是,控制有机溶剂:(PbI2+CsI)的质量比为1:0.1。机械搅拌将溶液混合均匀,真空干燥箱去除溶剂后放置在150℃的加热板上10min,获得γ-CsPbI3量子点/PAN复合薄膜。图5为该样品的发射光谱图,发光峰位于606nm。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例3
其余步骤同对比例1,所不同的是,在甲溶液中,聚合物为聚偏氯乙烯(PVDF),有机溶剂为三甲基磷酸酯(TMP),控制聚合物:有机溶剂的质量比为1:15。在乙溶液中,有机溶剂为三甲基磷酸酯(TMP),控制有机溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:0.2,PbI2与CsI的摩尔比为1:0.1。将甲溶液与乙溶液以质量比1:0.02。将前驱体溶液通过溶液下沉法转移到玻璃培养皿中,控制前驱体溶液再玻璃培养皿中的厚度为5mm,真空干燥箱中气压为0.05MPa,温度为110℃,干燥10h得到γ-CsPbI3量子点/PVDF复合薄膜。图6为该样品的发射光谱图,发光峰位于655nm。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例4
其余步骤同对比例1,所不同的是,在甲溶液中,聚合物聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)与N,N-二甲基甲酰胺的质量比为1:10,再加入添加剂CdBr2,控制聚合物基质与添加剂的质量比为1:0.01,机械搅拌混合不小于6h,得到澄清透明的溶液。在乙溶液中,有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF),控制有机溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:0.9,PbI2与CsI的摩尔比为1:3。在前驱体溶液中,控制甲溶液:乙溶液的质量比为1:3,机械搅拌18h,得到澄清透明的前驱体溶液。将前驱体溶液下沉转移到玻璃培养皿中,控制前驱体溶液在玻璃培养皿中的厚度为3mm,真空干燥箱中的气压为0.05MPa,温度在150℃,干燥8h,得到γ-CsPbI3量子点/PVDF复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例5
其余步骤同实施例4,所不同的是,在甲溶液中,控制聚合物与有机溶剂的质量比为1:4,加入添加剂CdI2,控制聚合物与添加剂CdI2的质量比为1:0.01。机械搅拌不小于6h,得到澄清透明的溶液。在乙溶液中,控制PbI2与CsI的摩尔比为1:0.5,溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:0.01,机械搅拌不小于6h,得到澄清透明的溶液。在前驱体溶液中,控制甲溶液与乙溶液的质量比为1:0.1,机械搅拌12h。将前驱体溶液通过静电纺丝法转移到透明的PET片上,控制前驱体溶液在透明PET片上的厚度为2mm,真空干燥箱的气压在0.07MPa,温度在40℃,干燥15min去除有机溶剂。再将去除溶剂的玻璃片从真空干燥箱中取出,放置在80℃的加热板上1h,CsPbI3量子点在PMMA基质中原位生成,得到γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例6
其余步骤同实施例5,所不同的是在甲溶液中聚合物为聚砜(PSF),添加剂为ZnBr2,聚合物与添加剂的质量比为1:0.003。在乙溶液中,有机溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:0.03。转移前驱体溶液时,控制前驱体溶液在透明PET片上的厚度为0.5mm。获得附在透明PET片上的γ-CsPbI3量子点/PSF复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例7
其余步骤同对比例1,所不同的是,在甲溶剂中,聚合物为聚偏氯乙烯(PVDF),有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。控制聚合物:有机溶剂的质量比为1:15。乙溶剂中有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF),有机溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:0.1,PbI2:CsI的摩尔比为1:0.6。在前驱体溶液中,控制甲溶液与乙溶液的质量比为1:0.1。将前驱体溶液通过喷涂法转移到透明聚碳酸酯(PC)片上,控制前驱体溶液在透明聚碳酸酯(PC)片上的厚度为1mm,真空干燥箱的气压为0.02MPa,温度20℃,干燥30min去除溶剂。再将去除溶剂的玻璃片从真空干燥箱中取出,放置在100℃的加热板上1h,得到附着在透明聚碳酸酯(PC)片上的γ-CsPbI3量子点/PVDF复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例8
其余步骤同对比例1,所不同的是,在甲溶液中聚合物与有机溶剂的质量比为1:7,所述聚合物为质量比为1:1的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)与聚丙烯腈(PAN)的混合物。再加入添加剂SnI2,基质与添加剂的质量比为1:0.4,机械搅拌不小于6h,得到澄清透明的溶液。乙溶液中,溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:0.8,再加入碘化辛胺作为配体,(PbI2+CsI)与碘化辛胺的质量比为1:0.1,机械搅拌不小于6h,得到澄清透明的溶液。控制甲溶液与乙溶液的质量比为1:2,机械搅拌18h,得到混合均匀的前驱体溶液。将前驱体溶液通过喷涂法转移到透明聚碳酸酯(PC)片上,实现均匀分布,控制前驱体溶液在透明聚碳酸酯(PC)片上的厚度为0.004mm,然后把涂覆有前驱体溶液的透明聚碳酸酯(PC)片置于真空干燥箱中,真空干燥箱中的气压在0.1MPa,温度为80℃,干燥20min去除有机溶剂,得到附着在透明聚碳酸酯(PC)片上的γ-CsPbI3量子点/PMMA/PAN复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例9
其余步骤同对比例1,所不同的是在甲溶液中使用的添加剂是SnBr2,聚合物基质与SnBr2的质量比为1:0.01。在乙溶液中,控制PbI2:CsI的摩尔比为1:0.4,表面配体为戊酸,(PbI2+CsI)与戊酸的质量比为1:0.001。在前驱体溶液中,控制甲溶液与乙溶液的质量比为1:2,机械搅拌不小于24h。将前驱体溶液通过浇筑法转移到透明硅胶片上,控制前驱体溶液在透明硅胶片上的厚度为1mm,真空干燥箱中的气压为0.03MPa,温度为100℃,干燥48h,得到附着在透明硅胶片上的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例10
其余步骤同实施例9,所不同的是在甲溶液中聚合物为聚偏氯乙烯(PVDF),有机溶剂与聚偏氯乙烯(PVDF)的质量比为1:7,添加剂为ZnI2,基质与ZnI2的质量比为1:0.015。乙溶液中PbI2与CsI的摩尔比为1:1.1,添加的表面配体为3,5-二甲基苯胺,(PbI2+CsI)与3,5-二甲基苯胺的质量比为1:0.1。控制甲溶液与乙溶液的质量比为1:1。得到附着在透明硅胶片上的γ-CsPbI3量子点/PVDF复合薄膜。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例11
其余步骤同对比例1,所不同的是在甲溶液中加入添加剂SnI2,基质PMMA与SnI2的质量比为1:0.4。乙溶液中PbI2与CsI的摩尔量比为1:0.9,再加入表面配体碘化十二胺,(PbI2+CsI)与碘化十二胺的质量比为1:1。涂覆后所放置热台的温度为180℃,加热时间40min,得到γ-CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜。图7为该样品的发射光谱图,发光峰位于677nm。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例12
其余步骤同对比例1,所不同的是甲溶液中聚合物基质与有机溶剂的质量比为1:10,聚合物为聚碳酸酯(PC),有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。乙溶剂中添加的表面配体为乙酸和十二胺,乙酸与十二胺的质量比为1:3,(PbI2+CsI)与表面配体的质量比为1:0.02,。前驱体溶液中甲溶液与乙溶液的质量比为1:0.8。控制加热板的加热温度为170℃,烘干30min,得到γ-CsPbI3量子点/PC复合薄膜。图8为该方法制备的两个样品的光透过图。从图中可以看出样品在非吸收区域的透过率大于90%,并且重现性好。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例13
其余步骤同对比例1,所不同的是甲溶液中的聚合物基质为聚苯乙烯(PS),基质与有机溶剂的质量比为1:20,有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。乙溶液中加入的表面配体为溴化辛胺,(PbI2+CsI)与表面配体溴化辛胺的质量比为1:0.6。前驱体溶液中甲溶液与乙溶液的质量比为1:0.6。将前驱体溶液通过旋涂法转移到透明石英玻璃片上,控制前驱体溶液在透明石英玻璃片上的厚度为1mm,真空干燥箱中的气压为0.1MPa,温度为130℃,干燥72h,得到γ-CsPbI3量子点/PS复合材料。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例14
其余步骤同对比例1,所不同的是甲溶液中控制聚合物与有机溶剂的质量比为1:10,聚合物为聚偏氯乙烯(PVDF),有机溶剂为二甲基乙酰胺(DMAc)。在乙溶液中,控制PbI2:CsI的摩尔量比为1:2,有机溶剂为二甲基乙酰胺(DMAc),有机溶剂与(PbI2+CsI)的质量比为1:1.5,有机配体为辛酸、溴化3,5-二甲基苯胺和3-乙烯基乙胺,辛酸、溴化3,5-二甲基苯胺与3-乙烯基乙胺的质量比为1:2:5,(PbI2+CsI)与有机配体的质量比为1:0.01。将前驱体溶液通过旋涂法转移到ITO玻璃上,控制前驱体溶液在ITO玻璃上的厚度为0.1mm,真空干燥箱中的气压在0.02MPa,温度为40℃,干燥15min,去除有机溶剂。将去除有机溶剂的ITO玻璃片放置在130℃的加热板上烘烤45min,得到纳米片γ-CsPbI3量子点/PVDF复合材料。该样品XRD测试结果与图4相似,XRD图显示该样品为γ相。
实施例15
本申请中的半导体器件可以为柔性器件,结构示意图如图9所示,上述复合发光材料可以为薄膜,并直接用于形成电致发光器件中的柔性透明基底;该柔性器件中还可以进一步具有电致发光材料构成的发光层,将γ-CsPbI3量子点颗粒的光致发光性质和电致发光的发光结合在一起,从而可以进一步提高该柔性器件的发光性能。本领域技术人员能够理解的是,上述柔性器件中还可以进一步包括用以实现其器件性能的结构,如图9中所示出的金属阴极、金属阳极、电子传输层、空穴传输层等,在此不再赘述。
实施例16
以实施例2所制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料为基础,制备高色域的白光LED发光材料,具体步骤为:
(1)CH3NH3PbBr3量子点/PVDF绿光发射复合薄膜材料的制备
第一溶液中聚合物:有机溶剂的质量比=1:5,聚合物为聚偏氟乙烯(PVDF),有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。机械搅拌12h,得到澄清透明的溶液。第二溶液中PbBr2与CH3NH3Br的摩尔比为1:1,有机溶剂:PbBr2的质量比为1:0.01,有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)。机械搅拌12h,得到澄清透明的溶液。控制第一溶液与第二溶液的质量比为1:0.2,机械搅拌24h,得到混合均匀的前驱体溶液。
(2)将上述步骤(1)中所述的前驱体溶液通过旋涂的方法转移到透明的PET薄膜上,控制前驱体溶液在透明PET薄膜上的厚度为0.5mm,然后把附着有前驱体溶液的PET透明薄膜置于真空干燥箱中,真空干燥箱气压为0.1MPa,温度为30℃,干燥48h,得到CH3NH3PbBr3量子点/PVDF绿光发射复合薄膜。
(3)将制备好的CH3NH3PbBr3量子点/PVDF绿光发射复合薄膜与实施例3中所制备的CsPbI3量子点/PMMA复合薄膜进行组合,应用到白光LED器件结构中,得到高色域的白光LED器件。
本实施例中使用的CH3NH3PbBr3量子点/PVDF绿光发射复合薄膜材料,根据公开号为WO2016180364A1,发明名称为“钙钛矿/聚合物复合发光材料、制备方法及用途”的发明专利公开的方法合成得到,也可以由北京理工大学提供。
实施例17
以实施例3所制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料为基础,制备高色域的白光LED发光材料,具体步骤为:
在制备好的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料CsPbI3量子点薄膜一侧涂覆有机胶水,与实施例16中步骤(2)中制备好的CH3NH3PbBr3量子点/PVDF复合薄膜CH3NH3PbBr3量子点薄膜一侧贴合,在50℃烘干1h,使胶水固化,得到红光和绿光双光色发射的复合材料。
实施例18
其余步骤同实施例16,所不同的是CH3NH3PbBr3量子点/PVDF复合薄膜的PET基体一侧与胶水粘贴,烘干后得到红光和绿光双光色发射的复合材料。
实施例19
以实施例3所制备的CsPbI3量子点/PMMA复合材料为基础,制备高色域的白光LED发光材料,具体步骤为:
将实施例16步骤(1)中制备的前驱体溶液通过旋涂的方法涂覆在制备好的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料量子点膜一侧,然后把附着有CH3NH3PbBr3量子点/PVDF复合薄膜前驱体溶液的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料薄膜置于真空干燥箱中,真空干燥箱气压为0.1MPa,温度为30℃,干燥48h,得到红光和绿光双光色发射的复合材料。
实施例20
其余步骤同实施例19,所不同的是在CsPbI3量子点/PMMA复合材料量子点膜一侧涂覆聚碳酸酯(PC)有机溶液,所述溶液的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF),有机溶剂与聚碳酸酯(PC)的质量比为1:0.8。将涂覆聚碳酸酯(PC)有机溶液的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料置于真空干燥箱中,真空干燥箱气压为0.1MPa,温度为30℃,干燥48h,得到具有聚碳酸酯(PC)薄膜阻隔的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料量子点膜。再将实施例18步骤(1)中制备的前驱体溶液通过旋涂的方法涂覆在制备好的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料聚碳酸酯(PC)阻隔膜一侧,然后把附着有CH3NH3PbBr3量子点/PVDF复合薄膜前驱体溶液的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料薄膜置于真空干燥箱中,真空干燥箱气压为0.1MPa,温度为30℃,干燥48h,得到红光和绿光双光色发射的复合材料。
实施例21
上述复合发光材料还可以应用于LCD显示器件。具体的,参考图11和12。首先,将γ-CsPbI3量子点/聚合物复合红光薄膜与钙钛矿量子点/聚合物复合绿光薄膜结合,制备出双色(红光和绿光)发光薄膜。再将该双色发光薄膜插入到LCD背光模组的多层膜结构之间,也可以直接将上述复合发光材料涂膜到LCD背光模组中的导光板、扩散膜或棱镜膜的上表面或下表面上,从而可以实现蓝光LED作为光源的高色域LCD背光模组。
实施例22
以实施例3所制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料为基础,制备液晶显示器(LCD)用高色域的背光源,以42英寸的LCD为例,具体步骤为:
(1)42英寸CsPbI3量子点/PMMA复合发光薄膜的制备
按照实施例3的实验方案配制所需质量的前驱体溶液,用刮膜机将所述的前驱体溶液均匀转移到对应尺寸的玻璃基板上,控制前驱体溶液的厚度为0.2mm,然后将韩有前驱体溶液的玻璃板置于真空干燥箱中,在0.05MPa、150℃下烘干6h,取出待用。然后利用膜转移技术将制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合发光薄膜转移到LCD背光模组中的导光板、扩散膜或者棱镜膜上,为了缩减工艺,也可以直接将上述前驱体溶液通过刮膜机转移到LCD背光模组的导光板、扩散膜或者棱镜膜上,再通过相同的条件进行干燥,形成一体的发光层。
(2)42英寸CsPbI3量子点/PMMA发光层的制备
按照实施例3的实验方案配制前驱体溶液,用刮膜机将所述的前驱体溶液均匀转移到基底上,此处使用的基底包括玻璃板或LCD背光模组的导光板、扩散膜、棱镜膜上,控制前驱体溶液的厚度为0.1mm,置于真空干燥箱中,在0.05MPa、150℃下烘干6h,取出得到高发光效率的γ-CsPbI3量子点/PMMA红光发射复合薄膜。
(3)LCD背光模组的组装
将步骤(1)和(2)中得到的发光膜插入到LCD背光模组中,可以将LCD背光模组的光源替换为蓝光光源。蓝光光源经过导光板后再通过红色发光层和绿色发光层,最后形成红绿蓝三基色复合的白光。
实施例23
本实施例以钙钛矿/聚合物复合发光材料为基础,制备压电器件,具体步骤为:
(1)按照实施例5的实验方案配制前驱体溶液,然后将所述的前驱体溶液均匀涂覆到基底上,此处使用的基底包括ITO导电玻璃或者表面镀金/银的PET、PC柔性聚合物基底。控制前驱体溶液的厚度为0.5mm,置于真空干燥箱中,在0.05MPa、150℃下烘干6h,取出得到高发光效率的γ-CsPbI3量子点/PMMA红光发射复合薄膜。
(2)在制备的CsPbI3量子点/PMMA红光发射复合薄膜表面上镀金电极或者银电极,然后在电极上方涂覆一层保护层,得到简易压电器件原型,通过导线将基于复合薄膜的压电器件的两极接到示波器上。
(3)在制备的基于复合薄膜的压电器件上施加周期性的作用力,可以在示波器上看到周期性的脉冲压电信号。
实施例24
以实施例3所制备的γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料为基础,制备太阳能聚光器,以400平方厘米的聚光器为例,具体步骤为:
(1)400平方厘米γ-CsPbI3量子点/PMMA复合发光薄膜的制备
按照实施例5的实验方案配制所需质量的前驱体溶液,用刮膜机将所述的前驱体溶液均匀转移到对应尺寸的玻璃基板上,玻璃基板的厚度为2mm,长、宽均为20cm。控制前驱体溶液的厚度为0.2mm,然后将含有前驱体溶液的玻璃板置于真空干燥箱中,在0.05MPa、150℃下烘干6h,取出待用。
(2)聚光器的制备
将步骤(1)中涂覆有γ-CsPbI3量子点/PMMA复合材料的玻璃板放置于镀膜机中,给玻璃板的三个侧面镀铝,所镀铝膜的厚度为2μm。取出镀完铝的玻璃板,将条状多晶硅太阳能电池板组装到玻璃板未镀铝的侧面。接通太阳能电池板线路,制备出太阳能聚光器。
以上所述,仅是本申请的几个实施例,并非对本申请做任何形式的限制,虽然本申请以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限制本申请,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本申请技术方案的范围内,利用上述揭示的技术内容做出些许的变动或修饰均等同于等效实施案例,均属于技术方案范围内。
Claims (28)
1.一种复合发光材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)获得含有基质、钙钛矿前驱体的前驱体溶液;
(2)将所述前驱体溶液成型,得到所述复合发光材料;
步骤(1)包括:
(s11)获得含有基质的甲溶液;
(s12)获得含有CsI、PbI2的乙溶液;
(s13)将甲溶液和乙溶液混合,得到所述前驱体溶液;
所述复合发光材料包括基质和钙钛矿纳米材料;
所述甲溶液中还含有添加剂;
所述甲溶液中,所述基质与所述添加剂的质量比为1:0.001~0.5;
所述添加剂选自溴化锌、碘化锌、溴化亚锡、碘化亚锡、溴化镉、碘化镉中的至少一种;
所述基质为聚合物;
所述钙钛矿纳米材料包括γ-CsPbI3;
所述钙钛矿纳米材料在至少一个维度上的尺寸为2~50nm。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述γ-CsPbI3为γ-CsPbI3量子点、γ-CsPbI3纳米片、γ-CsPbI3纳米线中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述γ-CsPbI3量子点为γ-CsPbI3量子点颗粒;
所述γ-CsPbI3量子点颗粒的平均粒径为14nm。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述钙钛矿纳米材料的发光峰在600~700nm。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述钙钛矿纳米材料与所述基质的质量比为1:1~100。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述聚合物选自聚偏氟乙烯、聚偏氟乙烯和三氟乙烯共聚物、聚丙烯腈、聚醋酸乙烯酯、醋酸纤维素、氰基纤维素、聚砜、芳香聚酰胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述复合发光材料还包括添加剂,所述添加剂分散在所述基质中。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述复合发光材料还包括表面配体,所述表面配体形成在γ-CsPbI3的表面;
所述表面配体含有有机酸、有机酸的卤代物、C4~C24有机胺、C4~C24有机胺的卤代物中的至少一种。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述钙钛矿纳米材料与所述表面配体的质量比为1:0.001~1。
10.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述复合发光材料为复合发光薄膜;
所述复合发光薄膜的厚度为0.001-5mm。
11.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述前驱体溶液中还含有有机溶剂;
所述有机溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、三甲基磷酸酯、磷酸三乙酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺中的至少一种。
12.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述甲溶液中包括甲溶剂;
所述乙溶液中包括乙溶剂;
所述甲溶剂和所述乙溶剂独立地选自N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、三甲基磷酸酯、磷酸三乙酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺中的至少一种。
13.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述甲溶液中,所述基质与所述甲溶剂的质量比为1:1~30;
乙溶液中,PbI2和CsI的摩尔比为1:0.1~3;乙溶剂和钙钛矿前驱体的质量比为1:0.001~1;
所述钙钛矿前驱体的质量以PbI2和CsI的质量和计算;
步骤(s13)中,所述甲溶液和所述乙溶液的质量比为1:0.02~5。
14.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述乙溶液中还含有表面配体;
所述表面配体含有有机酸、有机酸的卤代物、C4~C24有机胺、C4~C24有机胺的卤代物中的至少一种。
15.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,所述乙溶液中,PbI2与CsI的质量之和与表面配体的质量比为1:0.001~1。
16.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述成型包括:
将所述前驱体溶液转移至模板上,成型,得到所述复合发光材料。
17.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述成型包括干燥;
所述干燥的条件包括:温度80~180℃,时间0.1~48h。
18.根据权利要求17所述的制备方法,其特征在于,所述干燥的条件还包括:压力0.01~0.1Mpa。
19.一种半导体器件,其特征在于,含有根据权利要求1至18任一项所述制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
20.根据权利要求19所述的半导体器件,其特征在于,所述半导体器件包括电致发光器件、光致发光器件、太阳能电池、显示器件、传感器件、压电器件、非线性光学器件。
21.一种柔性器件,其特征在于,含有根据权利要求1至18任一项所述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
22.根据权利要求21所述的柔性器件,其特征在于,所述柔性器件包括基底、金属阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和金属阴极;
所述基底含根据权利要求1至18任一项所述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
23.一种双色复合发光材料,其特征在于,包括层叠的绿色发光薄膜和红色发光薄膜;
所述红色发光薄膜含有根据权利要求1至18任一项所述的复合发光材料的制备方法制备的复合发光材料中的至少一种。
24.根据权利要求23所述的双色复合发光材料,其特征在于,所述红色发光薄膜为聚甲基丙烯酸甲酯/γ-CsPbI3量子点复合薄膜。
25.根据权利要求23所述的双色复合发光材料,其特征在于,所述绿色发光薄膜为聚偏氟乙烯/CH3NH3PbBr3量子点复合薄膜。
26.一种背光模组,其特征在于,含有权利要求23至25任一项所述的双色复合发光材料中的至少一种。
27.一种LCD显示器,其特征在于,含有权利要求23至25任一项所述的双色复合发光材料中的至少一种。
28.一种光致发光器件,其特征在于,包括蓝光芯片驱动模组、蓝光芯片散热模组和双色复合发光材料;
所述双色复合发光材料选自利要求23至25任一项所述的双色复合发光材料中的至少一种。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910480982 | 2019-06-04 | ||
CN2019104809821 | 2019-06-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112029494A CN112029494A (zh) | 2020-12-04 |
CN112029494B true CN112029494B (zh) | 2023-08-08 |
Family
ID=73576247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910665251.4A Active CN112029494B (zh) | 2019-06-04 | 2019-07-23 | 钙钛矿纳米材料、含有其的复合发光材料及其制备方法和应用 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112029494B (zh) |
WO (1) | WO2020244047A1 (zh) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113061313A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-07-02 | 华中科技大学 | 一种柔性钙钛矿闪烁体厚膜及其制备方法 |
CN113683808B (zh) * | 2021-07-29 | 2022-05-24 | 华南理工大学 | 金属卤化物钙钛矿-聚碳酸酯复合荧光薄膜及其制法和用途 |
CN115991887A (zh) * | 2021-10-19 | 2023-04-21 | 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院) | 一种光转换薄膜及其制备方法和显示器件 |
CN116004226B (zh) * | 2021-10-21 | 2023-12-15 | 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院) | 复合钙钛矿量子点材料、钙钛矿量子点组合物及其制备方法和应用 |
TWI803049B (zh) * | 2021-11-11 | 2023-05-21 | 國立雲林科技大學 | 奈米結構修飾之有機元件製造方法及其結構 |
CN114437720B (zh) * | 2022-01-10 | 2023-10-31 | 西安建筑科技大学 | 一种无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法 |
CN114530754B (zh) * | 2022-01-17 | 2023-11-03 | 太原理工大学 | 一种高散热钙钛矿纳米片激光器及其制备方法 |
CN114561206B (zh) * | 2022-02-17 | 2023-10-13 | 南方科技大学 | 一种荧光复合材料及其制备方法与应用 |
CN114702949B (zh) * | 2022-04-06 | 2024-02-27 | 中国矿业大学 | 一种钙钛矿量子点-高分子复合薄膜及其制备方法 |
CN114736679A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-12 | 中国石油大学(华东) | 一种基于球磨法制备的具有蓝绿光双峰的双相CsPbBr3–CsPb2Br5纳米晶体 |
CN114891504A (zh) * | 2022-05-12 | 2022-08-12 | 兰州大学 | 锶掺杂钙钛矿量子点/介孔二氧化硅复合材料及其制备 |
CN115181300B (zh) * | 2022-07-11 | 2024-03-22 | 陕西师范大学 | 一种金属基分子钙钛矿/聚合物复合薄膜及其制备方法和应用 |
CN115850980B (zh) * | 2022-11-22 | 2024-04-05 | 厦门华厦学院 | 一种温度传感材料及其制备方法和应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108987613A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-12-11 | 致晶科技(北京)有限公司 | 钙钛矿量子点阵列的制备方法 |
CN108977199A (zh) * | 2018-08-06 | 2018-12-11 | 东北师范大学 | 钙钛矿量子点-聚合物复合膜及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11130910B2 (en) * | 2016-04-22 | 2021-09-28 | The Trustees Of Princeton University | Organic-inorganic hybrid perovskite nanocrystals and methods of making the same |
-
2019
- 2019-07-23 CN CN201910665251.4A patent/CN112029494B/zh active Active
- 2019-08-02 WO PCT/CN2019/098998 patent/WO2020244047A1/zh active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108987613A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-12-11 | 致晶科技(北京)有限公司 | 钙钛矿量子点阵列的制备方法 |
CN108977199A (zh) * | 2018-08-06 | 2018-12-11 | 东北师范大学 | 钙钛矿量子点-聚合物复合膜及其制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Zhao boya等."Thermodynamically Stable Orthorhombic γ-CsPbI3 Thin Films for High-Performance Photovoltaics".Journal of the American Chemical Society.2018,140(37),第11716-11725页. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020244047A1 (zh) | 2020-12-10 |
CN112029494A (zh) | 2020-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112029494B (zh) | 钙钛矿纳米材料、含有其的复合发光材料及其制备方法和应用 | |
CN112029493B (zh) | 一种复合发光材料、其制备方法及其应用 | |
JP6919915B2 (ja) | ペロブスカイト/ポリマー複合発光材料、製造方法及び用途 | |
Sun et al. | 0D perovskites: unique properties, synthesis, and their applications | |
Ma et al. | Crystallization kinetics modulation and defect suppression of all-inorganic CsPbX 3 perovskite films | |
CN112080276B (zh) | 一种高发光效率的铯铅卤族钙钛矿纳米晶薄膜的制备方法 | |
CN108336233B (zh) | 一种蓝黑色钙钛矿薄膜的制备方法及其应用 | |
JP2011508439A (ja) | 銅・インジウム・ガリウム・硫黄・セレン薄膜太陽電池の光吸収層の製造方法 | |
Peng et al. | Regulation of quantum wells width distribution in 2D perovskite films for photovoltaic application | |
CN110194718B (zh) | 一种高度稳定铅基有机-无机杂化钙钛矿纳米片制备方法 | |
Shi et al. | Zn-derived ligand engineering towards stable and bright CsPbI 3 nanocrystals for white emitting | |
Dang et al. | Layered hybrid perovskite solar cells based on single-crystalline precursor solutions with superior reproducibility | |
CN110564416A (zh) | 高稳定的钙钛矿量子点复合材料及其制备方法 | |
CN110707219A (zh) | 一种有机-无机钙钛矿量子点膜及其制备方法 | |
Li et al. | Hexamethyldisilazane-triggered room temperature synthesis of hydrophobic perovskite nanocrystals with enhanced stability for light-emitting diodes | |
CN111270310A (zh) | 一种纯无机发窄谱蓝紫光二维钙钛矿单晶材料及生长方法 | |
Fang et al. | Controllable growth of two-dimensional perovskite microstructures | |
Lv et al. | Two-dimensional halide perovskites: A review on their orientations | |
CN114703539A (zh) | 一种大尺寸氯溴化铯铜晶体的制备方法 | |
CN115637426A (zh) | 一种化学浴沉积介孔二氧化锡薄膜的方法 | |
CN112680212B (zh) | 一种低铅、高荧光效率的卤族钙钛矿薄膜的合成方法 | |
CN114988462B (zh) | 一种基于化学气相沉积法制备多波长发射的钙钛矿微米片的方法 | |
CN116623271A (zh) | 一种mPhDMADPbI4二维钙钛矿单晶及其制备方法 | |
CN117684274A (zh) | 一种低维钙钛矿单晶材料及其制备方法和应用 | |
NAGAKUBO et al. | Crystal growth of quantum dot phosphors and their application to photoelectric conversion device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |