CN112020481A - 用于干化材料片的设备和方法 - Google Patents

用于干化材料片的设备和方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112020481A
CN112020481A CN201980021059.XA CN201980021059A CN112020481A CN 112020481 A CN112020481 A CN 112020481A CN 201980021059 A CN201980021059 A CN 201980021059A CN 112020481 A CN112020481 A CN 112020481A
Authority
CN
China
Prior art keywords
plenum
outlet
gas
channel
fluid communication
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201980021059.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN112020481B (zh
Inventor
福山弘典
亀井博元
林希达
罗伟炜
伊莱亚斯·帕尼德斯
张静茹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of CN112020481A publication Critical patent/CN112020481A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112020481B publication Critical patent/CN112020481B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00—Severing cooled glass
    • C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
    • C03B33/023—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor the sheet or ribbon being in a horizontal position
    • C03B33/03—Glass cutting tables; Apparatus for transporting or handling sheet glass during the cutting or breaking operations
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B15/00—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00—Severing cooled glass
    • C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
    • C03B33/023—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor the sheet or ribbon being in a horizontal position
    • C03B33/0235—Ribbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075—Cleaning of glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0085—Drying; Dehydroxylation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
    • F26B21/004—Nozzle assemblies; Air knives; Air distributors; Blow boxes
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B15/00—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form
    • F26B2015/003—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form the load carrying elements having provisions for defining drying gas ducts, e.g. panels

Abstract

提供一种将气流排出到材料片上的气刀。所述气刀包括：主体，包括入口部分和出口部分；和多个入口端口。所述入口部分限定气室。所述出口部分限定与所述气室流体连通的出口孔。所述入口端口从所述入口部分突出，并且每个入口端口包括与所述气室流体连通的通路。在一些实施例中，所述入口端口从所述主体的背壁或后壁突出。在其他实施例中，所述出口部分终止在出口面，在出口面中形成有所述出口孔，其中所述出口部分的尖端区域形成延伸到所述出口面的不大于90度的锥角。

Description

用于干化材料片的设备和方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2018年2月27日所提出的第62/635,593号美国临时专利申请的优先权的权益，该申请的内容如同在下文完全地阐述的那样是本申请的基础并且全文以引用的方式并入本文。
技术领域
本公开大体上涉及用于处理材料片的设备和方法，并且更具体地涉及用于处理基板片(诸如干化玻璃片作为精加工操作的一部分)的气刀结构和干化设备。
背景技术
处理需要高质量表面光洁度玻璃片(像是用在平板显示器中的玻璃片)一般涉及将玻璃片切割成预定形状并接着研磨和/或抛光切割的玻璃片的边缘以除去尖锐的边缘和/或转角。可以例如通过包括至少一个精加工构件(例如磨轮，例如研磨轮、抛光轮等等)的精加工设备，来实现研磨和/或抛光步骤。这样的精加工一般在玻璃的主要面上留下碎屑，这些碎屑应通过用清洁液(例如水)冲洗玻璃片来除去。留在玻璃片的表面上的碎屑(特别是玻璃碎屑)可以粘合到表面并变得难以除去。然而，若不快点除去的话，清洁液可能留下斑点(例如残留物)。因此，采用了干化设备来除去清洁液。此类干化设备应该能够在玻璃片通过运输设备前行的同时跨玻璃片的整个表面快速地消除清洁液。
随着玻璃片(特别是用于电子显示设备的玻璃片)的尺寸变得越来越大，提供在短时间内跨片材的整个尺寸实质均匀地除去清洁液的操作的能力变得越来越难。
发明内容
在精加工过程(例如边缘研磨过程)之后，可以执行清洁操作以从玻璃片表面除去污染物。例如，可以将玻璃片运输通过湿式清洁站，在该湿式清洁站处，去离子水与洗涤剂的溶液(或其他液体溶液)被施用于玻璃片以除去表面颗粒和污斑。在湿式清洁步骤之后，可以接着干化玻璃片表面，例如以准备玻璃片用于检验。可以直列地执行精加工(例如切割、研磨、抛光等等)、清洁、和干化步骤，其中玻璃片被连续运输通过统称为精加工线的各种站。后续的处理步骤可以包括：包装玻璃片和向客户运送玻璃片或将玻璃片移动到仓库中储存。
干化步骤一般通过将玻璃片输送通过干化站来完成，在该干化站处，一个或多个“气刀”将加压气体(例如空气)引导到玻璃片的相对的平坦主要面中的一者或两者上。如本文中所使用的，气刀应指一种设备，该设备用来在压力下(例如用预定速度)排出一定体积的气体，该气体一般(然而不一定)被排出成细长的气幕。尽管在指涉该设备时一般使用用语“空气”，但该设备不限于使用空气作为排气气体，并且可以取决于需要使用其他的气体或气体混合物。
可以相对于玻璃片的行进路径倾斜地布置气刀的出口(例如细长的狭槽、一系列孔等等)。由气刀所递送的造成的气幕将容易将液体引导到玻璃片的边缘并接着引导离开该边缘。目前与玻璃片精加工线一起采用了常规的气刀，并且常规的气刀可以包括细长外壳，该外壳形成通向气刀出口的腔室。从供应器(例如吹风机或泵)经由定位在细长外壳的末端处的入口端口向腔室提供强制气流。然而，目前的气刀设计的干化效能可能不足以满足玻璃片大量生产的不断增加的需求，特别是考虑到市售玻璃片的尺寸一直增加。
作为参考，玻璃片干化过程(例如作为玻璃片精加工线的一部分)的时间窗一般小于一分钟。平面干化时间取决于从气刀排出的气体的体积和流速以及沿着气刀出口的气流分布的均匀性。考虑到这一点，随着玻璃片的尺寸和线速增加(例如为了减少制造成本)，也可以增加气刀的长度以涵盖整个玻璃片表面面积和在非常短的时段内干化表面。进一步地，为了适应提高的输送速度，需要来自气刀的较高的气体体积来在相同的时间内干化玻璃片表面。尽管可能简单地增加来自气体供应源的气流速率，在许多情况下，现有的气体供应源限制了可以递送的气体体积。然而，气体供应源可能不能产生实现所需气刀出口流速所必须的递送系统压力。即使气体供应源可以递送高压，所递送的气体体积将仍受限，其中一旦环境大气压力与气体供应压力的比率达到0.528，流量就会被压抑。并且，增加来自供应器的气流速率将增加离开气刀的气体速度。此高速气体转而可以在玻璃片被运输经过气刀时导致玻璃片不合需要的不稳定性。最后，随着常规气刀出口的长度增加，沿着出口的气流分布变得越来越不均匀，并且因此越来越不能够跨玻璃片表面实现一致的干化效能。
因此，需要可以在不显著增加气体供应源(例如吹风机或泵)处的压力的情况下在干化基板表面(例如被运输通过精加工线的玻璃片的表面)时递送较高气流速率的替代气刀构造。
因此，揭露了干化移动材料片的方法，这些方法包括：在运输方向上在气刀附近运输材料片；将干化气体供应给气刀，干化气体在朝向材料片的方向上离开气刀的排气狭槽；和其中通往气刀的入口与气刀的排气狭槽之间的压降小于90.6kPa，并且干化气体在排气狭槽的长度上离开气刀的速度在排气狭槽的长度上相对于离开狭槽的气体的平均速度的变化不超过1％。
在实施例中，干化气体在排气狭槽的长度上离开气刀的速度在排气狭槽的长度上相对于气体离开排气狭槽的平均速度的变化不超过0.4％。在某些实施例中，气刀的纵轴(或平面)与运输方向之间的角度α是在从约65°到约75°的范围中。
气刀可以包括尖端部分，尖端部分包括出口面，出口面包括排气狭槽，尖端部分包括与出口面相交的会聚外侧表面，并且此类会聚外侧表面之间的角度小于90度。在一些实施例中，出口面的在与气刀的纵轴正交的方向上的宽度可以小于排气狭槽的宽度的10倍。在一些实施例中，出口面与材料片的表面之间的距离可以是在从约1mm到约10mm的范围中。在某些实施例中，排气狭槽的长度可以等于或大于3.5米。玻璃片的运输速度可以为至少8m/分钟。
在其他实施例中，描述了一种气刀，气刀包括：主体，包括：入口部分，包括气室；出口部分，包括与气室流体连通的出口孔；和多个入口端口，从入口部分突出，多个入口端口中的每个入口端口包括与气室流体连通的通路。
在一些实施例中，入口部分包括后壁，并且多个入口端口中的每个入口端口从后壁突出。
在实施例中，气室可以包括与下游侧相对的上游侧，并且后壁邻接上游侧。多个入口端口可以例如从后壁的平坦面突出。
在一些实施例中，后壁可以限定等于出口孔的长度的长度，并且另外其中多个入口端口可以沿着后壁的长度彼此对准并间隔开。
在各种实施例中，出口部分可以包括：通道区域，包括通道，该通道与气室流体连通并在气室下游延伸；和尖端区域，从通道区域延伸到出口面，出口孔被限定在出口面中；和其中尖端区域的外表面包括分别与出口面的相对边缘相交的第一侧面和第二侧面，第一侧面与第二侧面在其间限定小于90度的锥角。
出口孔可以是细长狭槽，并且第一侧面和第二侧面中的每个的长度可以大于细长狭槽的长度。
在一些实施例中，出口部分可以包括：通道区域，包括通道，通道从气室和出口孔向下游延伸且与气室和出口孔流体连通，并且通道的小尺寸小于气室的小尺寸。通道的小尺寸可以是通道的直径，并且气室的小尺寸可以是气室的深度。
在一些实施例中，出口孔可以是细长狭槽，细长狭槽包括宽度和大于宽度的长度，并且通道的小尺寸大于细长狭槽的宽度。通道的中心线可以与出口面的平面垂直，并且气室的中心线可以与通道的中心线垂直。
在某些实施例中，出口部分可以进一步限定：辅助腔室，与气室和通道流体连通，辅助腔室的小尺寸可以小于气室的小尺寸，并且辅助腔室的小尺寸可以大于通道的小尺寸。
在又另一个实施例中，揭露了一种用于干化材料片的设备，该设备包括：运输装置，建立材料片的行进路径；气体供应器；和气刀，包括：主体，包括：入口部分，限定气室；出口部分，限定与气室流体连通的出口孔；和多个入口端口，每个入口端口从入口部分突出且限定与气室流体连通的通路；其中多个入口端口与气体供应器流体连通；并且另外其中出口孔布置在行进路径附近以将从气体供应器接收的气流排出到由运输装置运输的玻璃片的表面上。
在一些实施例中，入口部分包括：后壁，限定气室的上游侧，上游侧与下游侧相对，和另外其中多个入口端口中的每个从后壁突出。
在一些实施例中，出口部分可以包括：通道区域，限定通道，通道与气室流体连通并在气室下游延伸；和尖端区域，从通道区域延伸到出口面，出口孔被限定在出口面中。尖端区域的外表面可以包括分别与出口面的相对边缘相交的第一侧面和第二侧面，并且第一侧面与第二侧面限定小于90度的锥角。
在一些实施例中，出口部分可以包括：辅助腔室，与气室流体连通，其中辅助腔室的小尺寸可以小于气室的小尺寸；和通道，与腔室和出口孔流体连通，通道从辅助腔室向下游延伸，其中通道的小尺寸小于气室的小尺寸。
在又其他实施例中，揭露了一种用于处理材料片的系统，该系统包括：运输装置，建立材料片的行进路径；清洁设备，包括：喷射装置，被布置为将清洁溶液分布到由运输装置运输的材料片的表面上；和干化设备，包括：气体供应器；和气刀，被布置在喷射装置下游，气刀包括：主体，包括：入口部分，限定气室；出口部分，限定与气室流体连通的出口部分；和多个入口端口，从入口部分突出，每个入口端口限定与气室流体连通的通路；其中多个入口端口与气体供应器流体连通；并且另外其中出口孔被布置在行进路径附近以将从气体供应器接收的气流排出到由运输装置运输的玻璃片的表面上。
入口部分包括：后壁，限定气室的上游侧，上游侧与下游侧相对，和另外其中至少三个入口端口中的每个从后壁突出。
出口部分可以包括：通道区域，限定通道，通道与气室流体连通并在气室下游延伸；和尖端区域，从通道区域延伸到出口面，出口孔被限定在出口面中；其中尖端区域的外表面包括分别与出口面的相对边缘相交的第一侧面和第二侧面，并且另外其中第一侧面与第二侧面限定小于90度的锥角。
在一些实施例中，出口部分可以包括：辅助腔室，与气室流体连通，其中辅助腔室的小尺寸小于气室的小尺寸；和通道，与腔室和出口孔流体连通，通道在腔室下游延伸，其中通道的小尺寸小于气室的小尺寸。
将在随后的详细说明中阐述额外的特征和优点，并且本领域中的技术人员将通过该说明理解这些特征和优点的一部分，或通过实行如本文中所述的实施例来认识这些特征和优点，这些实施例包括了随后的详细说明、权利要求以及附图。
要了解到，以上的一般说明和以下的详细说明两者描述了各种实施例，并且旨在提供概观或架构以供了解所要求保护的目标的本质和特性。包括附图以提供对各种实施例的进一步了解，并且将这些附图并入本说明书且构成此说明书的一部分。这些附图绘示了本文中所述的各种实施例，并且与说明书一起用来解释所要求保护的目标的原理和操作。
附图说明
图1A是根据本公开的原理的干化设备的一部分的简化俯视图；
图1B是图1A的干化设备的简化侧视图；
图2是根据本公开的原理且可以与图1A的干化设备一起使用的气刀的简化侧视图；
图3是图2的气刀的简化端视图；
图4是图2的气刀的横截面图；
图5是图2的气刀的一部分的放大横截面图；
图6示意性地绘示根据本公开的原理的玻璃片处理系统；和
图7是“示例”部分的测试结果图。
具体实施方式
现将详细参照气刀、干化设备、用于处理玻璃片(例如玻璃片的表面)的系统和方法的各种实施例。将尽可能使用相同的参考标号来在绘图各处指称相同或类似的零件。
在本文中可以将范围表示为从“约”一个特定值和/或到“约”另一个特定值。当表达此类范围时，另一个实施例包括从该一个特定值和/或到该另一个特定值。类似地，在通过使用先行词“约”将值表示为近似值时，将了解到，该特定值形成了另一个实施例。将进一步了解到，范围中的各者的端点不论是与另一个端点相关还是独立于另一个端点，都是有意义的。
如本文中可以使用的方向性用语(例如上、下、右、左、前、后、顶、底)是仅参照如所绘制的图式而作出的，并且不旨在暗示绝对的定向。
除非另有明确表明，绝不要将本文中所阐述的任何方法解释为需要其步骤以特定顺序执行，亦不需要任何的设备特定的定向。因此，若一个方法权利要求实际上并未记载要由其步骤依循的顺序，或任何设备权利要求实际上并未记载个别部件的顺序或定向，或在权利要求或说明书中未另有具体表明步骤要受限于特定的顺序，或未记载设备的部件的特定顺序或定向，则绝不要在任何方面推断顺序或定向。这对于用于解译的任何可能的非明示基础都是如此，包括：针对步骤、操作流程、部件顺序、或部件定向的布置的逻辑事项；推导自文法组织或标点符号的一般意义，并且；说明书中所述的实施例的数量或类型。
如本文中所使用的，单数形式“一个”和“该”包括了复数指示物，除非上下文另有清楚指示。因此，例如对“一个”部件的指称包括了具有两个或更多个此类部件的方面，除非上下文另有清楚指示。
用字“示例性”、“示例”、或其各种形式在本文中用来意指充当一个示例、实例、或说明。本文中描述为是“示例性的”或描述为“示例”的任何方面或设计不一定被认为相对于其他的方面或设计是优选的或有利的。并且，仅为了明确和了解的目的而提供示例，并且这些示例并不是要用任何方式限制或约束此公开所揭露的目标或相关的部分。要理解到，范围变化的无数额外的或替代的示例可能已被呈现，也可能已为了简明起见而忽略。
图1A和1B绘示了根据本公开的原理的示例性干化设备10，该示例性干化设备用于处理(例如干化)材料片(例如玻璃片12)的一个或多个表面。作为参考，并且如图1B中所标识，玻璃片12分别限定了相对的第一主要面14和第二主要面16，并且可以将干化设备10配置为干化第一主要面14和第二主要面16中的一者或两者。尽管干化设备10在本文中被描述为用来干化玻璃片，但应了解到，也可以使用干化设备10(以及本公开的其他设备和系统)来处理其他类型的材料，例如聚合物(例如plexi-glassTM)、金属、或其他的基板片。因此，不应用限制的方式解释干化设备10。
干化设备10可以包括根据本公开的原理的一个或多个气刀，例如分别是第一气刀20a和第二气刀20b，以及气体供应源22和运输装置24。下文更详细描述了第一气刀20a和第二气刀20b。一般而言，运输装置24在运输方向T上输送玻璃片12。第一气刀20a和第二气刀20b被布置为在玻璃片12被运输装置24输送经过第一气刀20a和/或第二气刀20b时，分别将排气气流(例如气幕)引导到第一主要面14和/或第二主要面16中的一者或两者上，用以从对应的第一主要面14和/或第二主要面16除去污染物质(例如液体、颗粒等等)。
对于本公开的具有两个或更多个气刀的干化设备(例如图1A和1B中所描绘的干化设备10)而言，气刀可以是相同的。因此，第一气刀20a的以下说明可以同等适用于第二气刀20b。因此，并且参照图2-4，第一气刀20a包括主体30和一个或多个入口端口32。例如，第一气刀20a可以包括两个入口端口、三个入口端口、四个入口端口、五个入口端口、六个入口端口等等。主体30可以呈现各种外部形状，并且可以视为形成或提供了入口部分40和出口部分42。该一个或多个入口端口32如下文所述地从入口部分40延伸，并且与主体30的内部通路流体连通。出口部分42从入口部分40延伸且终止于出口面44。分别沿着入口部分40和出口部分42限定的内部通路共同用来从由出口面44所限定的出口孔排出加压气体，该加压气体是在该一个或多个入口端口32处接收的。基于下文阐明的理由，主体30包括细长形状，由此(且参照视图中所标识的X、Y、Z坐标系统)主体30的长度(Y方向上的尺寸)大于主体30的宽度(X方向上的尺寸)，例如大至少10倍。
主体30的内部通路示于图4中，并且包括限定于入口部分40内的气室50和定位在出口部分42内的通道46。例如，通道46可以包括第一通道部52和第二通道部54。主体30可以可选地包括辅助腔室56。出口孔58被限定在出口面44中且开向第二通道部54(与该第二通道部流体连通)。出口孔58可以呈现各种形式，并且在一些实施例中可以是细长狭槽(例如相对于图2-4中所标识的X、Y、Z坐标系统)，其中出口孔58的长度(Y方向上的尺寸)大于出口孔的宽度(X方向上的尺寸，例如狭槽宽度)，例如大至少10倍。例如，出口孔58的长度可以等于或大于2米，例如等于或大于2.5米、等于或大于3米，例如等于或大于3.5米。在其他实施例中，出口孔58可以包括多个孔、孔、狭槽等等。无论如何，气室50、第一通道部52、和第二通道部54彼此流体连通，使得经由该一个或多个入口端口32(图4中示出了其中之一)供应到气室50的气体通过气室50和第一通道部52流动到第二通道部54，并且通过出口孔58排出。入口端口32的数量取决于例如气室50和出口孔58在Y方向上的长度。
第一气刀20a的一个或多个几何特征促进将从该一个或多个入口端口32在气室50处接收的低压气体转变成从出口孔58排出的气流，该气流在出口孔58的整个长度(Y方向)上展现了大的、实质均匀的流速(例如在出口孔58的整个长度上的平均流速的1％以内)。例如，可以将气室50的形状视为具有长度(Y方向)、宽度(X方向)、和深度(Z方向)。与如上所述的主体30的细长形状相当，气室50的长度大于气室的宽度和深度。可以将气室50在长度、宽度、或深度方向上的最小尺寸称为气室50的小尺寸DP，并且标识于图4中。如上所述，该一个或多个入口端口32被布置为经由通路60向气室50递送供应的气体。入口端口通路60中的每个的尺寸(例如直径DI)接近气室50的小尺寸DP，并且因此与常规的气刀构造相比是大的。在一些实施例中，例如入口端口通路直径DI等于或大于气室小尺寸DP的约50％，例如等于或大于约60％、等于或大于约70％，并且在一些实施例中等于或大于气室小尺寸DP的80％。在其他实施例中，入口端口通路直径DI等于或大于约15mm，或者等于或大于约18mm，或者等于或大于约20mm，并且在一些实施例中等于或大于约23mm。较大的入口端口32(相对于气室50的小尺寸DP)促进了递送到气室50的气流的均匀性。
此外，一个或多个入口端口32可选地定位在主体30的后部处，如图2和3中所示。通过另外的解释，可以部分地通过相对于通过主体30的气流的上游侧70限定气室50，该上游侧与下游侧72相对。上游侧70与入口端口通路60直接流体连通，而下游侧72则与第一通道部52流体连通(直接地或经由可选的辅助腔室56流体连通)。上游侧70由主体30的入口部分40的后壁74所限定。详细而言，并且如图4中所标示，后壁74限定了与外表面78相对的内表面76。内表面76产生气室50的上游侧70，而该一个或多个入口端口32从外表面78突出。换言之，后壁74(该一个或多个入口端口32从该后壁突出)与出口孔58相对地定位(例如相对于由主体30所提供的气流路径，后壁74的内表面76是主体30离出口孔58最远的内表面)。在一些实施例中，至少外表面78的该一个或多个入口端口32从以突出的区域可以是实质平坦的表面。或者，可以参照由气室50的形状沿着流动路径(即从上游侧70向下游侧72)所产生的中心线CLP描述主体30的“后部”(例如后壁74)处的该一个或多个入口端口32的布置。例如，在一些实施例中，由入口端口32中的每个的入口端口通路60所限定的中心线CLI可以与气室50的中心线CLP平行。由后壁74的外表面78(即主体30的该一个或多个入口端口32从以突出的表面)所限定的主要平面MP1可以与气室50的中心线CLP正交。然而，应注意，在另外的实施例中，中心线CLI可以不与气室50的中心线CLP平行。
考虑到以上惯例，并且参照图3，在一些实施例中，该一个或多个入口端口32从后壁74突出且可以在长度方向(Y方向)上彼此对准。在这方面，后壁74的形状可以与主体30的可选细长形状对应，包括长度尺寸(Y方向)大于深度尺寸(Z方向)和宽度尺寸(X方向)(据了解，相对于图2-4的视图的定向，宽度尺寸(X方向)与后壁74的厚度对应)。后壁74的长度可以等于出口孔58(在图3中被隐藏，但大体上与出口面44对应)的长度(Y方向)。该一个或多个入口端口32沿着后壁74的长度彼此对准，并且在一些实施例中可以彼此类距隔开。
利用以上构造，通过将该一个或多个入口端口32定位在主体30的后部处，向气室50递送了实质均匀的气流(图4)(例如，经由该一个或多个入口端口32共同递送到气室50的气流至少相对于气室50的长度尺寸(Y方向)是实质均匀的)。在主体30的整个流动路径上维持气室50处的此实质均匀的气流，使得从出口孔58(在图3中被隐藏)排出的气流也是实质均匀的(沿着或相对于出口孔58的长度(Y方向))。在其他实施例中，入口端口32中的一或更多者可以定位在主体30的其他表面或从这些其他表面突出。
参照图4，气室50例如经由可选的辅助腔室56与第一通道部52流体连通。若有提供辅助腔室56，则该辅助腔室的形状可以呈现各种形式，并且由长度尺寸(Y方向)、宽度尺寸(X方向)、和深度尺寸(Z方向)所限定。与上述的主体30的细长形状相当，辅助腔室56的长度大于辅助腔室56的宽度和深度。可以将辅助腔室56在长度、宽度、或深度方向上的最小尺寸称为辅助腔室56的小尺寸DS，并且标识于图4中(例如与辅助腔室56的宽度或X方向尺寸相当)。辅助腔室56的容积可以小于气室50的容积。例如，从气室50向辅助腔室56的转变的特征可以是在深度尺寸(Z方向)上的减少或变尖。
第一通道部52的形状也可以呈现各种形式，并且由长度尺寸(Y方向)、宽度尺寸(X方向)、和深度尺寸(Z方向)所限定。与如上所述的主体30的细长形状相当，第一通道52的长度可以大于通道的宽度和深度。可以将第一通道部52在长度、宽度、或深度方向上的最小尺寸称为第一通道部52的小尺寸DC，并且标识于图4中(例如与第一通道部52的宽度或X方向尺寸相当)。第一通道部52的小尺寸DC可以小于气室50的小尺寸DP，使得气流速度沿着第一通道部52增加(与气室50中的气流速度相比)。然而，第一通道部52的容积与常规的气刀构造相比可以是大的，以经由处于相对低供应压下的该一个或多个入口端口32最小化气室50处的气流阻力。例如，在一些非限制性的实施例中，第一通道部52的小尺寸DC可以等于或大于入口端口直径DI的约15％。替代性或附加性地，在一些实施例中，第一通道部52的小尺寸DC可以等于或大于气室50的小尺寸DP的约10％。在又其他实施例中，第一通道部52的小尺寸DC(例如宽度或X方向尺寸)可以等于或大于约2mm，或者等于或大于约3mm，并且在一些实施例中等于或大于约4mm。也设想了其他的尺寸。例如，第一通道部52的小尺寸DC可以等于或大于约16mm。
若有提供辅助腔室56，则该辅助腔室相对于气室50和第一通道部52中的一者或两者的几何形状也可以是有益的。辅助腔室56充当从气室50转变到第一通道部52的过渡区。在一些实施例中，辅助腔室56的小尺寸DS小于气室50的小尺寸DP，并且大于第一通道部52的小尺寸DC。利用此构造，可以提供从气室50到第一通道部52的更平缓的转变和减少的气流阻力。在其他实施例中，辅助腔室56的小尺寸DS(例如宽度或X方向尺寸)等于或大于约10mm，或者等于或大于约11mm，并且在一些实施例中等于或大于约12mm，然而在另外的实施例中也设想了其他的尺寸。
第二通道部54表示进一步流动路径的尺寸减少，使得从第一通道部52到出口孔58和来自该出口孔的流速增加。第二通道部54和与出口面44相关联的可选特征示于图5中且在下文更详细地描述。一般而言，第二通道部54的小尺寸小于第一通道部52的小尺寸DC。
在一些实施例中，可以将主体30配置为在从气室50流到出口孔58时造成气流转向。例如，可以调整主体30的尺寸和形状，使得相对于从该一个或多个入口端口32到出口孔58的流向，第一通道部52的形状建立与出口孔58的中心线CLO(图5)平行的中心线CLC。在一些实施例中，CLC和CLO可以是重合的。如下文所述，第一通道部52的中心线CLC可以与出口面44的主要平面MP2正交。在一些实施例中，第一通道部52的中心线CLC和/或出口孔58的中心线CLO可以与气室50的中心线CLP和/或该一个或多个入口端口32的中心线CI正交。其他的几何形状也是可接受的。
可以调整出口部分42的形状以限定通道区域80和尖端区域82。可以将第一通道部52形成于通道区域80内。尖端区域82从通道区域80延伸到出口面44，并且可以限定第二通道区域54的至少一部分。考虑到这些说明，图5更详细地绘示了尖端区域82的可选特征。如所示，尖端区域82从通道区域80向出口面44在深度方向(Z方向)上变尖。例如，出口面44可以是实质平坦的(即在真正平坦的表面的10度内)，终止在相对的第一边缘90和第二边缘92处。尖端区域82的外部与第一边缘90和第二边缘92相交且包括相对的第一侧面94和第二侧面96。第一侧面94与第一边缘90相交，而第二侧面96与第二边缘92相交。可以参照由相对的第一侧面94和第二侧面96所限定的锥角98来描述尖端区域82的锥度(即锥角98是由第一侧面94和第二侧面96的平面所形成的夹角)。在一些实施例中，基于下文阐明的理由，锥角98等于或小于约90度，或者等于或小于约85度，或者等于或小于约80度，并且在一些实施例中等于或小于约75度。
可以将出口孔58形成于出口面44中。在一些实施例中，出口面44在第一边缘90与第二边缘92之间在宽度或X方向上的直线距离S(小尺寸)是小的。例如，基于下文阐明的理由，S可以等于或小于约3mm，或者等于或小于约2.5mm，或者等于或小于约2.4mm，并且在一些实施例中等于或小于约2.3mm。也设想了其他的尺寸。在各种实施例中，出口孔58可以具有等于或小于约150μm的小尺寸(例如宽度或X方向尺寸)。
已经发现，通过可选地将尖端区域82形成为具有上述的锥角98和/或将出口面44形成为具有上述的小尺寸S，在预期的流速和相隔距离下的玻璃片稳定性扰动的机会被最小化。作为参考，在利用可用来干化玻璃片的常规气刀构造作为玻璃片精加工线的一部分的情况下，可能在出口凸缘的平面与玻璃片表面之间产生负压。若此负压的数值或面积太大，则净吸力施加在玻璃片表面上，这转而可以导致玻璃片的不稳定、损伤等等。若流速增加或相隔距离减少，则此吸力将增加。通过如上所述地将锥角98形成为等于或小于约90度，在短的相隔距离(例如2.5mm或更小)或高的流速下在玻璃片表面上产生吸力的可能性被最小化。类似地，通过形成如上所述的出口面44小尺寸S，吸力(若有的话)的数值被最小化。
参照图1A和1B，气体供应源22与第一气刀20a和第二气刀20b中的一者或两者流体连通。例如，图1A绘示与第一气刀20a的入口端口32中的每个流体连通的气体供应源22。相同的气体供应源22也可以与第二气刀20b的入口端口32流体连通(图1B)。在其他实施例中，可以提供两个或更多个气体供应源22，每个气体供应源22与跟干化设备一起提供的气刀中的一或更多者的入口端口32中的一或更多者流体连通。无论如何，气体供应源22依需要并入了适于产生强制气流的一个或多个机构或装置(例如吹风机、风扇、泵等等)以及气体供应器和各种控制装置(例如阀门)。气体可以是例如空气，然而可以采用任何合适的气体，包括但不限于惰性气体，例如氮气、氩气、氪气、氦气、氖气、和上述项目的组合。若因为任何理由而不能使用空气，则氮气是空气的高性价比替代方案。
运输装置24可以呈现如本领域中习知的适于输送基板片(例如玻璃片12)的各种形式。例如，运输装置24可以包括一个或多个从动辊，环形的带或皮带，空气轴承等等，以及对应的驱动和控制装置。无论精确的构造如何，运输装置24都建立了玻璃片所沿以运输的运输平面C。可以将运输装置24配置为依需要提供玻璃片的行进或运输速度。在一些实施例中，例如，可以将运输装置24配置为用至少约8每分钟米(m/分钟)的速度(可选地至少约12.6m/分钟，并且在一些实施例中至少约15m/分钟)运输玻璃片12。
第一气刀20a和第二气刀20b相对于运输装置24的最终布置包括第一气刀20a的出口孔58定位在运输平面C附近和上方，并且第二气刀20b的出口孔58定位在运输平面C附近和下方。各别出口孔58与玻璃片12的相邻主要面之间的距离(且因此出口孔58与玻璃片12的相邻主要面之间的相隔距离)可以变化，并且在一些实施例中可以等于或小于约2.5mm。
可以将干化设备10配置为处置或处理各式各样不同尺寸的玻璃片12。在这方面，玻璃片12限定了相对的第一侧边100和第二侧边102(据了解，第一侧边100和第二侧边102延伸于相对的第一主要面14与第二主要面16之间)，其中玻璃片12的宽度包括相对的第一侧边100与第二侧边102之间的直线距离。在一些情况下(例如在利用图1A的布置的情况下)，玻璃片12沿着运输装置24布置，使得玻璃片12的宽度与行进方向T正交。无论如何，干化设备10被配置为处理大宽度的玻璃片，例如具有至少约2m(可选地至少约2.5m)的宽度的玻璃片。与干化系统一起采用的气刀(或多个气刀)且特别是气刀的出口孔58的长度被选定为在相对于运输装置24的最终布置之后适应(例如接近或超过)要由干化设备10所处理的玻璃片12的预期宽度。在这方面，并且如图1B所反映的，在一些实施例中，可以将气刀中的一或更多者(例如第一气刀20a)布置为使得气刀的轴104(例如沿着中心线CLc)相对于玻璃片与气刀相邻的主要面的行进方向T呈现在从约65°到75°的范围中的角度α(其中此角度有时称为气刀倾角)。此外，如图2中所指示，可以相对于行进方向T用倾斜角β(斜角)布置大体上在气刀的Y或长度方向上延伸的气刀的轴106，如图1A中所示。斜角β的范围相对于行进方向T可以从约45°到约80°，例如在从约60°到约75°的范围中，然而其他的斜角是被考虑的。可以将第二气刀20b类似地布置在玻璃片的相对侧上。利用此配置，在相对于第一气刀20a运输玻璃片12时，从第一气刀20a排出到玻璃片12的第一主要面14上的气流将朝向第二侧边102(或第一侧边100，取决于倾斜角的方向)扫掠或推动位在第一主要面14上的液滴或其他物质。第一气刀20a和第二气刀20b相对于行进方向T的其他布置也是可接受的。第一气刀20a和第二气刀20b的尺寸且特别是出口孔58的长度被选定为使得在相对于运输装置24的最终布置之后，出口孔58将包围待处理的玻璃片12的整个预期宽度。
在一些实施例中，可以将本公开的气刀和干化设备提供为直列式玻璃片处理系统(例如图6的处理系统120)的一部分。处理系统120包括如上所述(且包括本公开的气刀中的一或更多者，例如第一气刀20a)的干化设备10以及清洁设备122。清洁设备122可以呈现如本领域中习知的适于执行清洁或洗涤操作的各种形式，并且可以包括例如一个或多个喷射装置124和清洁溶液供应源126。清洁设备122和干化设备10直列式地布置，包括喷射装置124和定位在喷射装置124下游的第一气刀20a，该(这些)喷射装置被定位为将清洁溶液(例如水、洗涤剂等等)施用到由运输装置24在行进方向T上运输的玻璃片上。处理系统120可以包括在清洁设备122上游或在干化设备10下游的额外的部件或站(例如清洁设备122上游的切割、研磨、或抛光站；干化设备10下游的检验或包装站等等)。无论如何，处理系统120操作以在行进方向T上运输玻璃片12，其中清洁设备122操作以洗涤或清洁玻璃片12的主要面中的一者或两者，接着干化设备10操作以如上所述地干化如此洗涤的主要面。
示例
通过以下的非限制性示例和比较性示例进一步说明了本公开的一些目的和优点。不应将特定的尺寸、条件、和细节解读为不适当地限制本公开。
为了评估流量均匀性，确定离开根据本公开的原理的气刀的气流的流速的变化。详细而言，考虑了具有与图2-4类似的构造的第一示例气刀，包括约3.2米(m)的出口孔(细长狭槽)长度。第一示例气刀的平坦出口面包括2.3毫米(mm)的宽度(即图5中的小尺寸S)。入口端口通路直径(DI)为33mm。辅助通道的小尺寸(DS)为16mm。通道的小尺寸(DC)为16mm。在两种供应气体体积速率(7每分钟公升(l/分钟)和10l/分钟)下，在出口孔长度的中心与出口孔长度的末端之间的各种位置处确定离开第一示例气刀的气流的速度的改变。为了比较的目的，在用于干化玻璃片的现有气刀上执行了类似的评估。现有的气刀包括两个入口端口，细长气刀主体的每一端处有一个入口端口(例如使得与气刀的长度方向实质平行地递送供应的气体)。现有气刀的出口孔(细长狭槽)长度为约2.8mm。图7中报告了流量均匀性评估的结果，特别是记录了相对于气刀出口孔的中心处的速度的气流速变化。曲线200表示用7公升/分钟的供应流速针对第一示例气刀确定的速度差，曲线202表示用10公升/分钟的供应流速针对第一示例气刀确定的速度差，曲线204表示用7公升/分钟的供应流速针对现有的气刀确定的速度差，而曲线206表示用10公升/分钟的供应流速针对现有的气刀确定的速度差。流量均匀性评估显示，利用第一示例气刀，均匀性是在0.5每秒公尺(m/s)内、或在高和低供应流速两者的0.4％内。相比之下，现有的气刀展现了约3.5m/s或1.8％的变化。进一步地，第一示例气刀的流量均匀性的变化在整个长度上始终是低的。相比之下，现有气刀的末端处发生了显著的变化，这可以导致靠近侧边的玻璃片表面的干化不充分。
根据本公开的原理的第二示例气刀是根据图2-5来建造的。第二示例气刀将出口孔形成为细长狭槽。第二示例气刀的平坦出口面包括2.3mm的宽度(即图5中的小尺寸S)。入口端口直径(DI)为23mm。辅助通道的小尺寸(DS)为12mm。通道的小尺寸(DC)为4mm。
执行了测试以确定针对第一示例气刀和第二示例气刀递送每单元长度相同流速所必须的所需入口端口压力(总流速为8.7m3/分钟)。第一示例气刀所需的入口端口压力对于第一示例气刀来说被确定是27,195帕(Pa)，而对于第二示例气刀来说被确定是26,461Pa。因此，本公开的气刀的一些实施例并不折衷空气体积递送能力，同时维持了优异的流速。
上述的第二示例气刀中的两者被安装在现有的玻璃片处理系统的干化设备上，该系统更包括洗涤站(例如图6的布置)。详细而言，第二示例气刀中的一者(称为“顶部AK”)用3.5mm的相隔距离安装在运输装置上方。另一个示例气刀(称为“底部AK”)用3mm的相隔距离安装在运输装置下方。顶部和底部气刀相对于行进方向T都是用67度的倾角布置的。接着通过处理系统通过将玻璃片运输通过洗涤站来处理玻璃片。将清洁溶液施用于玻璃片的主要面，接着干化。详细而言，使用不同的供应系统压力和体积(表格中的Mpa/m3)且用不同的运输速度运行了测试。在每个循环之后，目视检查测试玻璃片的主要面是否存在液体。以下的表格中报告了测试参数和结果。
Figure BDA0002694017360000161
表格
可以在不脱离所要求保护的目标的范围的情况下对本文中所述的实施例作出各种更改和变化。因此，所要的是，本说明书涵盖本文中所述的各种实施例的变体和变化，若是此类变体和变化落于随附权利要求和它们等效物的范围内的话。

Claims (28)

1.一种干化移动玻璃片的方法，所述方法包括：
在运输方向上在气刀附近运输所述玻璃片；
将干化气体供应给所述气刀，所述干化气体在朝向所述玻璃片的方向上离开所述气刀的排气狭槽，所述排气狭槽包括长度；并且
其中通往所述气刀的入口与所述气刀的所述排气狭槽之间的压降小于90.6kPa，并且所述干化气体在所述排气狭槽的所述长度上离开所述气刀的速度在所述排气狭槽的所述长度上相对于所述干化气体离开所述狭槽的平均速度的变化不超过1％。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述干化气体在所述排气狭槽的所述长度上离开所述气刀的所述速度在所述排气狭槽的所述长度上相对于所述干化气体的所述平均速度的变化不超过0.4％。
3.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，所述气刀的纵轴与所述运输方向之间的角度是在从约65°到约75°的范围中。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述气刀包括尖端部分，所述尖端部分包括出口面，所述出口面包括所述排气狭槽，所述尖端部分包括与所述出口面相交的会聚外侧表面，并且所述会聚外侧表面之间的角度小于90度。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述出口面的在与所述气刀的所述纵轴正交的方向上的宽度小于所述排气狭槽的一宽度的10倍。
6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述出口面与所述材料片的近侧表面之间的距离在约1毫米至约10毫米的范围内。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，所述玻璃片的运输速度为至少8m/分钟。
8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，其特征在于，所述排气狭槽的长度等于或大于3.5米。
9.一种气刀，包括：
主体，所述主体包括：
入口部分，所述入口部分包括气室；
出口部分，所述出口部分包括与所述气室流体连通的出口孔；和
其中多个入口端口从所述入口部分突出，所述多个入口端口中的每个入口端口包括与所述气室流体连通的通道。
10.如权利要求9所述的气刀，其特征在于，所述入口部分包括后壁，并且所述多个入口端口中的每个入口端口从所述后壁突出。
11.如权利要求10所述的气刀，其特征在于，所述气室包括与下游侧相对的上游侧，并且所述后壁邻接所述上游侧。
12.如权利要求10或11所述的气刀，其特征在于，所述多个入口端口从所述后壁的表面突出，并且另外其中所述表面是平坦的。
13.如权利要求10至12中任一项所述的气刀，其特征在于，所述后壁限定等于所述出口孔的长度的长度，并且另外其中所述多个入口端口沿着所述后壁的所述长度彼此对准并间隔开。
14.如权利要求9至13中任一项所述的气刀，其特征在于，所述出口部分包括：
通道区域，所述通道区域包括与所述气室流体连通并在所述气室下游延伸的通道；和
尖端区域，所述尖端区域从所述通道区域延伸到出口面，所述出口孔限定在所述出口面中，
其中所述尖端区域的外表面包括第一侧面和第二侧面，所述第一侧面和所述第二侧面之间限定小于90度的锥角。
15.如权利要求14所述的气刀，其特征在于，所述出口孔是细长狭槽，并且所述第一侧面和第二侧面中的每个的长度大于所述细长狭槽的长度。
16.如权利要求9至13中任一项所述的气刀，其特征在于，所述出口部分包括：
通道区域，所述通道区域包括通道，所述通道在所述气室和所述出口孔下游延伸并与所述气室和所述出口孔流体连通，并且其中所述通道的小尺寸小于所述气室的小尺寸。
17.如权利要求16所述的气刀，其特征在于，所述通道的所述小尺寸是所述通道的直径，并且所述气室的所述小尺寸是所述气室的深度。
18.如权利要求16所述的气刀，其特征在于，所述出口孔是细长狭槽，所述细长狭槽包括宽度和大于所述宽度的长度，并且所述通道的所述小尺寸大于所述细长狭槽的所述宽度。
19.如权利要求18所述的气刀，其特征在于，所述出口部分进一步包括从所述通道区域延伸到出口面的尖端区域，所述出口孔限定在所述出口面中，并且所述通道的中心线垂直于所述出口面的平面，并且所述气室的中心线垂直于所述通道的所述中心线。
20.如权利要求16所述的气刀，其特征在于，所述出口部分进一步限定与所述气室和所述通道流体连通的辅助腔室，所述辅助腔室的小尺寸小于所述气室的所述小尺寸，并且所述辅助腔室的所述小尺寸大于所述通道的所述小尺寸。
21.一种用于干化玻璃片的设备，所述设备包括：
运输装置，所述运输装置建立玻璃片的行进路径；
气体供应器；和
气刀，所述气刀包括：
主体，所述主体包括：
入口部分，所述入口部分限定气室；
出口部分，所述出口部分限定与所述气室流体连通的出口孔；和
多个入口端口，所述多个入口端口从所述入口部分突出，所述多个入口端口中的每个入口端口限定与所述气室流体连通的通路；
其中所述多个入口端口与所述气体供应器流体连通；并且
其中所述出口孔被布置在所述行进路径附近以将从所述气体供应器接收的气流排出到由所述运输装置运输的所述玻璃片的表面上。
22.如权利要求21所述的设备，其特征在于，所述入口部分包括限定所述气室的上游侧的后壁，所述上游侧与下游侧相对，并且另外其中所述多个入口端口中的每个入口端口从所述后壁突出。
23.如权利要求21或权利要求22所述的设备，其特征在于，所述出口部分包括：
通道区域，所述通道区域限定与所述气室流体连通并在所述气室下游延伸的通道；和
尖端区域，所述尖端区域从所述通道区域延伸到出口面，所述出口孔限定在所述出口面中；
其中所述尖端区域的外表面包括分别与所述出口面的相对边缘相交的第一侧面和第二侧面；并且
其中所述第一侧面和所述第二侧面组合以限定延伸到所述出口面的小于90度的锥角。
24.如权利要求21至23中任一项所述的设备，其特征在于，所述出口部分包括：
辅助腔室，所述辅助腔室与所述气室流体连通，其中所述辅助腔室的小尺寸小于所述气室的小尺寸；和
通道，所述通道与所述气室和所述出口孔流体连通，所述通道在所述辅助腔室下游延伸，其中所述通道的小尺寸小于所述气室的所述小尺寸。
25.一种用于处理材料片的系统，所述系统包括：
运输装置，所述运输装置建立所述材料片的行进路径；
清洁设备，所述清洁设备包括喷涂装置，所述喷涂装置被布置成将清洁溶液分配到由所述运输装置运输的所述材料片的表面上；以及
干化设备，所述干化设备包括：
气体供应器，和
气刀，所述气刀布置在所述喷涂装置下游，所述气刀包括：
主体，所述主体包括：
入口部分，所述入口部分限定气室，
出口部分，所述出口部分限定与所述气室流体连通的出口孔，以及
多个入口端口，所述多个入口端口从所述入口部分突出，每个入口端口限定与所述气室流体连通的通道，
其中所述多个入口端口与所述气体供应器流体连通，并且
其中所述出口孔布置在所述行进路径附近以将从所述气体供应器接收的气流排放到由所述运输装置运输的所述材料片的所述表面上。
26.如权利要求25所述的系统，其特征在于，所述入口部分包括限定所述气室的上游侧的后壁，所述上游侧与下游侧相对，并且所述多个入口端口中的每个入口端口从所述后壁突出。
27.如权利要求25或权利要求26所述的系统，其特征在于，所述出口部分包括：
通道区域，所述通道区域限定与所述气室流体连通并在所述气室下游延伸的通道；和
尖端区域，所述尖端区域从所述通道区域延伸到出口面，所述出口孔限定在所述出口面中；
其中所述尖端区域的外表面包括分别与所述出口面的相对边缘相交的第一侧面和第二侧面；并且
其中所述第一侧面和所述第二侧面组合以限定延伸到所述出口面的小于90度的锥角。
28.如权利要求25至27中任一项所述的系统，其特征在于，所述出口部分包括：
辅助腔室，所述辅助腔室与所述气室流体连通，其中所述辅助腔室的小尺寸小于所述气室的小尺寸；和
通道，所述通道与所述气室和所述出口孔流体连通，所述通道在所述辅助腔室下游延伸，并且其中所述通道的小尺寸小于所述气室的所述小尺寸。
CN201980021059.XA 2018-02-27 2019-02-26 用于干化材料片的设备和方法 Active CN112020481B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862635593P 2018-02-27 2018-02-27
US62/635,593 2018-02-27
PCT/US2019/019527 WO2019168822A1 (en) 2018-02-27 2019-02-26 Apparatus and methods for drying a sheet of material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112020481A true CN112020481A (zh) 2020-12-01
CN112020481B CN112020481B (zh) 2023-02-03

Family

ID=67805470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980021059.XA Active CN112020481B (zh) 2018-02-27 2019-02-26 用于干化材料片的设备和方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20200408464A1 (zh)
JP (1) JP2021519908A (zh)
CN (1) CN112020481B (zh)
TW (1) TWI799520B (zh)
WO (1) WO2019168822A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114659352A (zh) * 2022-03-16 2022-06-24 德州市立尊焊丝有限公司 一种焊丝气吹装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107144120B (zh) * 2017-05-19 2019-06-28 惠科股份有限公司 一种显示面板干燥装置
CN114643255A (zh) * 2022-03-24 2022-06-21 深圳市华卓实业有限公司 一种自动化程度高的玻璃清洗设备

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0766100A (ja) * 1993-06-30 1995-03-10 Shibaura Eng Works Co Ltd エア−ナイフおよびエア−ナイフを用いた処理装置
JP2001099569A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Shibaura Mechatronics Corp 基板の乾燥処理装置
JP2001227868A (ja) * 2000-02-14 2001-08-24 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 基板乾燥装置及び乾燥方法
JP2003031546A (ja) * 2001-07-18 2003-01-31 Toppan Printing Co Ltd スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置
WO2005048336A1 (ja) * 2003-11-14 2005-05-26 Sumitomo Precision Products Co., Ltd 液切り装置
TW200527497A (en) * 2003-12-03 2005-08-16 Tokyo Electron Ltd Nozzle and substrate processing apparatus and substrate processing method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6742285B2 (en) * 2002-03-18 2004-06-01 Glass Equipment Development, Inc. Air knife and conveyor system
KR100527789B1 (ko) * 2003-07-08 2005-11-09 태화일렉트론(주) 엘씨디 패널 건조장치의 에어나이프 구조
US20120255585A1 (en) * 2011-04-07 2012-10-11 Mark Kowalczyk Portable System for Directing Pressurized Air Upon a Surface
KR20120124514A (ko) * 2011-05-03 2012-11-14 (주)유니티엔씨 판유리 처리장치
KR101768655B1 (ko) * 2011-06-20 2017-08-17 주식회사 엘지화학 플로트 유리 세정 시스템용 건조 장치
US20140047735A1 (en) * 2012-08-14 2014-02-20 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Cleaning Apparatus for Glass Substrate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0766100A (ja) * 1993-06-30 1995-03-10 Shibaura Eng Works Co Ltd エア−ナイフおよびエア−ナイフを用いた処理装置
JP2001099569A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Shibaura Mechatronics Corp 基板の乾燥処理装置
JP2001227868A (ja) * 2000-02-14 2001-08-24 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 基板乾燥装置及び乾燥方法
JP2003031546A (ja) * 2001-07-18 2003-01-31 Toppan Printing Co Ltd スリット状の噴射口を複数有する基板の液切り装置
WO2005048336A1 (ja) * 2003-11-14 2005-05-26 Sumitomo Precision Products Co., Ltd 液切り装置
TW200527497A (en) * 2003-12-03 2005-08-16 Tokyo Electron Ltd Nozzle and substrate processing apparatus and substrate processing method

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
WOOTAE JEONG: "Flow control of air blowing and vacuuming module using Coanda effect", 《JOURNAL OF THE KOREA ACADEMIA-INDUSTRIAL COOPERATION SOCIETY》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114659352A (zh) * 2022-03-16 2022-06-24 德州市立尊焊丝有限公司 一种焊丝气吹装置
CN114659352B (zh) * 2022-03-16 2023-08-29 德州市立尊焊丝有限公司 一种焊丝气吹装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW202332661A (zh) 2023-08-16
WO2019168822A1 (en) 2019-09-06
CN112020481B (zh) 2023-02-03
US20200408464A1 (en) 2020-12-31
JP2021519908A (ja) 2021-08-12
TW201940451A (zh) 2019-10-16
KR20200118499A (ko) 2020-10-15
TWI799520B (zh) 2023-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112020481B (zh) 用于干化材料片的设备和方法
TWI538779B (zh) 噴砂方法及具有研磨料回收系統的噴砂設備、薄膜太陽能電池板的加工處理方法及以此方法加工處理的薄膜太陽能電池板
TWI428969B (zh) Substrate cleaning treatment device
KR101577850B1 (ko) 유리의 수직형 처리를 위한 장치
KR101350022B1 (ko) 취성 재료 시트의 모서리 프로세싱 방법과 장치
JP2002172369A (ja) 平板ディスプレイ製造装置の多機能洗浄モジュール及びこれを利用した洗浄装置
CN106340473B (zh) 基板处理装置及基板处理方法
JP4948787B2 (ja) 除塵装置
US10421622B2 (en) Floating conveyor and substrate processing apparatus
KR20110095157A (ko) 유체 도포기와 유리 세정 공정
TWI441716B (zh) Spray nozzles for jetting
KR20190073464A (ko) 웹(web)을 제조하기 위한 방법들 및 장치
TWI832741B (zh) 用於乾化材料片的設備及方法
KR102655395B1 (ko) 물질 시트 건조 장치 및 방법
KR20190011890A (ko) 에어 나이프 및 이를 포함하는 분진 제거 장치
KR100486127B1 (ko) 약액도포방법 및 그 도포장치
KR20190012584A (ko) 에어 나이프 및 이를 포함하는 분진 제거 장치
JP3180385U (ja) 基板のエッチング装置
KR101990219B1 (ko) 부상 반송 장치 및 기판 처리 장치
JP4057993B2 (ja) 液切り装置
TW200410887A (en) Method and device for conveying large-sized sheet material
CN113412535A (zh) 悬浮输送装置
TWI603421B (zh) 溼式製程設備
JP2002026490A (ja) 基板処理装置と該装置で得られた処理基板
JP7470689B2 (ja) ガラス処理装置および方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant