CN111958462A - 一种光胶上盘方法 - Google Patents

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迟玉洲
谢振
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    • B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
    • B24B29/02—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents designed for particular workpieces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
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    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations

Abstract

本发明涉及光学基片冷加工技术领域，特别涉及一种光胶上盘方法。步骤如下：1、光胶板抛光制作；2、光胶板、定位盘、单面抛光基片超声清洗；3、定位摆盘；4、恒温低高压光胶；5、涂敷保护漆。本发明光胶上盘方法克服了传统光胶上盘对抛光工人经验的依赖。通过光胶板环抛和边角火抛的结合，提高了抛光盘面型精度。同时，所有面的抛光便于清洗和防止引入污染物。通过超声波清洗和恒温低高压光胶上盘效率提高了1倍以上，产品成品率由50％提升到75％。

Description

一种光胶上盘方法
技术领域
本发明涉及光学基片冷加工技术领域，特别涉及一种光胶上盘方法。
背景技术
二十一世纪是光的世纪，光学基底的加工一直在光学领域默默地扮演者重要角色。无论是在传统光学、激光光学、还是在光线通信技术中，高精度的光学加工都发挥着不可替代的作用。由于光学技术的飞速发展，对光学冷加工也提出了越来越高的要求。无论是高成像质量和高损伤阈值要求都对光学器件的面型、平行、粗糙度提出了越来越高的要求，而光胶上盘作为保证达到以上高要求必不可少的步骤，也越来越受到关注。
光学冷加工制作高面型高粗糙度基底产品，光胶是必须工艺步骤。现有技术通过有经验的技术工人师傅用乙醇和乙醚混合溶液擦拭光胶板、单面抛光基底，然后通过手工光胶上盘。这就对工人提出了更高的要求，而且由于人工光胶过程会造成基片相对光胶板滑动，造成基底划伤。
因此，现在急需研发一种能够降低对工人经验依赖，同时又能够提高工作效率和产品成品率，有效的提高了产品竞争力的光胶上盘方法。
发明内容
为解决现有技术存在的不足，本发明提供一种能够降低对工人经验依赖，同时又能够提高工作效率和产品成品率，有效的提高了产品竞争力的光胶上盘方法。
本发明的技术方案为：
一种光胶上盘方法，包括如下步骤：
1)光胶板抛光制作
通过火焰抛光将石英光胶板毛坯的倒角和周边抛亮，石英光胶板毛坯的两通光大面采用环抛抛光，达到整面面型小于λ/4。
2)超声波清洗
将定位盘、单面抛光基片以及步骤1)中制作好的光胶板置于超声波清洗机中清洗，清洗完后，烘烤脱水备用。
3)定位摆盘
将清洗后的光胶板置于净化台下的上盘架上，然后将清洗后的定位盘套放到光胶板上，再将清洗后的单面抛光基片放入定位孔内。
4)恒温低高压光胶
将摆好盘置于上盘架上的光胶板、定位盘、单面抛光基片一起放入恒温低高压设备中进行光胶。
5)涂敷保护漆
取出光胶完成产品，检查无误后在表面及其边缝涂敷保护漆，烘干。
进一步的，中所述步骤1)中光胶板的侧面采用火焰抛光，具体的，先将光胶板烤箱中预热到200-300℃，再手持氢氧火焰抛光枪控制火焰温度为1600-1650℃，对光胶板侧面匀速进行火焰抛光。
进一步的，所述步骤2)中超声波清洗机为十一槽超声波清洗机，具体的，超声波清洗机的第1、第2槽采用3％Win15清洗液清洗，第3槽采用喷淋清洗，第4-10槽采用超纯水漂洗，第11槽采用慢拉脱水后烘干。
进一步的，所述定位盘的材质为硬质聚四氟乙烯材料，所述定位孔均匀分布在定位盘上。
进一步的，所述步骤4)中，在进行光胶时，恒温低高压设备设置温度25℃，温度达到稳定后开始抽启动抽真空系统，抽到低于0.5Pa，设备开始计时等待10min；10min后充入5Mpa的压缩空气，压力达到后计时等待10min，放气达到标准大气压，完成光胶。
7、进一步的，所述恒温低高压设备为新鸿利325恒温高低压脱泡机。
本发明所达到的有益效果为：
本发明光胶上盘方法克服了传统光胶上盘对抛光工人经验的依赖。通过光胶板环抛和边角火抛的结合，提高了抛光盘面型精度。同时，所有面的抛光便于清洗和防止引入污染物。通过超声波清洗和恒温低高压光胶上盘提高了效率和产品成品率。具体的，产品平均上盘效率提高1倍以上，而产品的成品率有原来的低于50％提高到了75％以上。
附图说明
图1是本发明上盘后的俯视和刨面图。
图2是本发明上盘后的刨面图。
其中，1、定位盘；2、定位孔；3、光胶板；4、单面抛光基片。
具体实施方式
为便于本领域的技术人员理解本发明，下面结合附图说明本发明的具体实施方式。
如图1、2，一种自动光胶上盘方式，步骤如下：1、光胶板抛光制作。2、定位盘制作。3、光胶板、定位盘、单面抛光基片超声清洗。4、定位摆盘；5、恒温低高压光胶。6、涂敷保护漆。
1、光胶板3抛光制作：首先购买Dia280*21mm的石英光胶板毛坯，径向比小于15：1，要求边缘倒角1mm@45°。选择火焰抛光将倒角和周边抛亮，然后选用环抛将两个通光面抛光，达到整面面型为λ/4。具体的，先将光胶板烤箱中预热到250℃，再手持氢氧火焰抛光枪控制火焰温度为1600℃，对光胶板侧面匀速进行火焰抛光。
2、定位盘1制作：材料选择硬质聚四氟乙烯材料，定位孔2分布如图1所示，加工完成后首先用石油醚清洗干净。
3、光胶板3、定位盘1、单面抛光基片4超声清洗：Dia280*20光胶板3、Dia280定位盘1、Dia25.4*6.75单面抛光基片4上超声波清洗夹具，经过11槽超声波清洗干净，烘干等待上盘。具体的，超声波清洗机的第1、第2槽采用3％Win15清洗液清洗，第3槽采用喷淋清洗，第4-10槽采用超纯水漂洗，第11槽采用慢拉脱水后烘干。
4、定位摆盘：将Dia280*20的光胶板3置于净化台下的上盘支架上，再将Dia280定位盘1套放到光胶板3上，然后挑选干净合格的Dia25.4*6.75的单面抛光基片4放入定位孔内。
5、恒温低高压光胶：将摆好盘的光胶板3、定位盘1、单面抛光基片4一起放入恒温低高压设备，所述恒温低高压设备为新鸿利325恒温高低压脱泡机。设置温度25℃，温度达到稳定后开始抽启动抽真空系统(抽真空系统包括分子泵和罗茨泵)，抽到低于0.5Pa设备开始计时等待10分钟。10分钟后冲入5Mpa的压缩空气，压力达到后计时等待10分钟，放气达到大气压开门，完成光胶。
6、涂敷保护漆取出光胶完成产品，检查无误后在表面及其边缝涂敷保护漆，烘干。
通过光胶板环抛和边角火抛的结合，提高了抛光盘面型精度，整体面型精度优于λ/4。同时所有面的抛光便于清洗和防止引入污染物。通过超声波清洗和恒温低高压光胶上盘提高了效率和产品成品率，产品平均上盘效率提高1倍以上，而产品的成品率有原来的低于50％提高到了75％以上。
以上所述的本发明实施方式，并不构成对本发明保护范围的限定。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的权利要求保护范围之内。

Claims (6)

1.一种光胶上盘方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)光胶板抛光制作
通过火焰抛光将石英光胶板毛坯的倒角和周边抛亮，石英光胶板毛坯的两通光大面采用环抛抛光，达到整面面型小于λ/4；
2)超声波清洗
将定位盘、单面抛光基片以及步骤1)中制作好的光胶板置于超声波清洗机中清洗，清洗完后，烘烤脱水备用；
3)定位摆盘
将清洗后的光胶板置于净化台下的上盘架上，然后将清洗后的定位盘套放到光胶板上，再将清洗后的单面抛光基片放入定位孔内；
4)恒温低高压光胶
将摆好盘置于上盘架上的光胶板、定位盘、单面抛光基片一起放入恒温低高压设备中进行光胶；
5)涂敷保护漆
取出光胶完成产品，检查无误后在表面及其边缝涂敷保护漆，烘干。
2.根据权利要求1所述的一种光胶上盘方法，其特征在于：所述步骤1)中光胶板的侧面采用火焰抛光，具体的，先将光胶板烤箱中预热到200-300℃，再手持氢氧火焰抛光枪控制火焰温度为1600-1650℃，对光胶板侧面匀速进行火焰抛光。
3.根据权利要求1所述的一种光胶上盘方法，其特征在于：所述步骤2)中超声波清洗机为十一槽超声波清洗机，具体的，超声波清洗机的第1、第2槽采用3％Win 15清洗液清洗，第3槽采用喷淋清洗，第4-10槽采用超纯水漂洗，第11槽采用慢拉脱水后烘干。
4.根据权利要求1所述的一种光胶上盘方法，其特征在于：所述定位盘的材质为硬质聚四氟乙烯材料，所述定位孔均匀分布在定位盘上。
5.根据权利要求1所述的一种光胶上盘方法，其特征在于：所述步骤4)中，在进行光胶时，恒温低高压设备设置温度25℃，温度达到稳定后开始抽启动抽真空系统，抽到低于0.5Pa，设备开始计时等待10min；10min后充入5Mpa的压缩空气，压力达到后计时等待10min，放气达到标准大气压，完成光胶。
6.根据权利要求1或4所述的一种光胶上盘方法，其特征在于：所述恒温低高压设备为新鸿利325恒温高低压脱泡机。
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