CN103235481A - 一种匀胶铬版制造工艺 - Google Patents

Abstract

本发明匀胶铬版制造工艺包括以下步骤：镀膜，提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版；切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版；清洗，清洁切割后的小尺寸的铬膜基版，去除表面的灰尘、污渍；涂胶，在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶，由于采用先镀膜后切割的方式，玻璃板数量远小于相对切割后数量，可以利用现有镀膜机快速高效地进行镀膜，而且可利用现有镀膜设备，无需额外改进，成本更低。

Description

一种匀胶铬版制造工艺

技术领域

本发明涉及匀胶铬版的制造，特别是涉及小尺寸匀胶铬版的制造工艺。

背景技术

匀胶铬版是一种硬面光掩模基版，具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。

由于不同产品具有不同的尺寸规格，因而所需掩膜版的尺寸也就不尽相同，如此就需要制作不同尺寸规格的匀胶铬版来满足不同的应用需求。通常在制作匀胶铬版时，首先根据产品的尺寸规格，将玻璃板基本切割成相应大小的玻璃基板，然后经过打磨、清洗、镀膜、涂胶等步骤，即形成相应大小的匀胶铬版。然而，由于是先对玻璃板进行切割形成多个相应尺寸的玻璃基板，在进行镀膜时，每一玻璃基板均需要一一固定，不仅耗时耗力，影响生产效率，而且需要在镀膜机内设计制作多个车架以一一固定切割后的多个玻璃基版，额外增加生产成本。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种高效的小尺寸匀胶铬版制造工艺。

本发明匀胶铬版制造工艺包括以下步骤：镀膜，提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版；切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版；清洗，清洁切割后的小尺寸的铬膜基版，去除表面的灰尘、污渍；涂胶，在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶。

本发明匀胶铬版制造工艺采用先镀膜后切割的方式，玻璃板数量远小于相对切割后数量，可以利用现有镀膜机快速高效地进行镀膜，而且可利用现有镀膜设备，无需额外改进，成本更低。

附图说明

图1为本发明匀胶铬版制造工艺的流程图。

图2为图1所述工艺中清洗步骤的流程图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参阅图1，本发明匀胶铬版制造工艺可用于制作各种特定尺寸规格的匀胶铬版，特别是可以快速高效地制作小尺寸（如3~9英寸）的匀胶铬版，其主要包括：镀膜、切割、清洗、以及涂胶等步骤，下面对本发明匀胶铬版制造工艺的各步骤做详细说明。

首先是镀膜，在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层。

该步骤中，首先提供玻璃板，所述玻璃板可以是钠钙玻璃板、硼硅玻璃板、石英玻璃板等，其可以为任意常规尺寸，如406mm X 508mm等，通常是所要形成的小尺寸的匀胶铬版的几十倍甚至上百倍，也就是说所述玻璃板可以用于形成几十个甚至上百个匀胶铬版。在进行镀膜之前，所述玻璃板通过抛光、清洗等步骤达到一定的平整度与光洁度。镀膜时，将所述玻璃板置于镀膜机内，通过蒸镀、溅镀等方式在玻璃板的外表面上形成氮化铬/氮氧化铬膜层，形成大尺寸的铬膜基版。

然后是切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，将大尺寸的铬膜基版切割成多个小尺寸的铬膜基版。

进行切割前，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，预定要切割的尺寸并形成切割文件，然后将大尺寸的镀膜基版放置于异形切割机台面上，在放置时注意维持大尺寸的镀膜基版上形成有氮化铬/氮氧化铬膜层的侧面朝下，启动切割机调入切割文件，在所述大尺寸的铬膜基版上切出相应的小尺寸图形，然后掰片，即形成相应的小尺寸镀膜基版。在进行掰片时，通常是人工掰片，将切割后的铬膜基版取下，戴上手套，沿切割图形掰开，即形成分离的多个小尺寸的铬膜基版。

之后是清洗，对切割后形成的小尺寸的铬膜基版进行清洁，去除表面的碎屑、灰尘、污渍等。

请同时参阅图2，所述清洗包括多个环节，首先将切割后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3%~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液，如NaOH溶液中，使用无尘布，如海绵等，对小尺寸的铬膜基版的表面擦洗约10分钟。在进行擦洗之前，可以用无尘气枪吹静小尺寸的铬膜基版表面，以防止切割时所产生的玻璃屑等异物在擦洗的过程中划伤小尺寸的铬膜基版的表面。在擦洗后，需用流动DI水(去离子水)彻底冲洗不小于10分钟，然后使用含有经高效过滤净化气或无尘箱烘干留存在小尺寸的铬膜基版表面的DI水。

随后即可对擦洗完毕的小尺寸的铬膜基版进行倒角磨边处理，从而将切割后形成的锋利的边角打磨钝化、边缘打磨平直，使之达到较高的平整度与光洁度，具有良好的光学透射性，也可避免对操作人员造成不必要的伤害。

在进行倒角磨边处理之后，会产生碎屑、粉尘等，因此需要将倒角磨边之后的小尺寸的铬膜基版先放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液中，浸泡约10分钟；然后进行超声波清洗，去除杂质及污物；再然后置于清洗机中进行进一步清洗，在清洗机中放入有浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液。

随后，将小尺寸的铬膜基版置于浓度小于1%的NaOH溶液中约10分钟，进行脱膜，除去油污等，最后再次将脱模后的小尺寸的铬膜基版放入清洗机内，置于浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液，清洗约10分钟，至此完成整个清洗步骤。

清洗完成后，即进行涂胶操作，也就是在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶，完成预定尺寸的匀胶铬版的制作。

在涂覆光刻胶时，要求光刻胶的均匀性要好，厚度不能太厚，一般采用自动滴胶的方式，当然也不限于自动滴胶的方式进行涂胶。本实施例中，采用涂胶机自定滴胶，为达到光刻胶厚度与均匀性的要求，对光刻胶本身及涂胶机的参数设定做了改进，如对于光刻胶，本实施例中通过天那水对光刻胶进行稀释，将光刻胶与天那水的质量比值设定为1.78±5%，从而增强光刻胶的流动性，另外适当增加涂胶机的转速，如将涂胶机的转速设定在1200~1500转/分，让更多的光刻胶被甩走，由此所生成的光刻胶层凝干后，厚度为9600A±2%，均匀性达到±1.5%。

本发明匀胶铬版制造工艺采用先镀膜后切割的方式，在镀膜时玻璃板为常规尺寸，因此可以利用现有镀膜机进行镀膜，无需对镀膜机进行额外的设计或改进，如制作多个车架等；同时玻璃板数量远小于相对切割后数量，因此可以将玻璃板快速地固定于镀膜机内进行镀膜，因此相对于传统的匀胶铬版的生产工艺，本发明不仅省时省力、简单高效，而且利用现有镀膜设备，无需额外改进，成本更低。

以上内容是结合具体按例的实施方式对本发明所作的一种说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明由所提交的权利要求书确定的专利保护范围。

Claims (8)

1.一种匀胶铬版制造工艺，包括以下步骤：

镀膜，提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版；

切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版；

清洗，清洁切割后的小尺寸的铬膜基版，去除表面的灰尘、污渍；

涂胶，在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶。

2.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述清洗步骤包括：

无尘布擦洗，将切割后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3%~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液，擦洗表面10分钟；

倒角磨边处理，将擦洗后的小尺寸的铬膜基版的边角打磨钝化、边缘打磨平直；

浸泡，将倒角磨边处理之后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液中，浸泡10分钟；

超声波清洗；

清洗机清洗，在清洗机中放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液对小尺寸的铬膜基版进行清洗。

3.根据权利要求2所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述清洗步骤还包括：

脱模，在清洗机清洗之后，将小尺寸的铬膜基版置于浓度小于1%的NaOH溶液中10分钟进行脱膜；

再次清洗机清洗，在脱模之后，将小尺寸的铬膜基版再次置于清洗机中，放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液对小尺寸的铬膜基版进行清洗。

4.根据权利要求2所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述清洗步骤还包括：在进行无尘布擦洗之前，用无尘气枪吹静小尺寸的铬膜基版表面。

5.根据权利要求2所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：在无尘布擦洗后，倒角磨边之前，还包括用流动DI水彻底冲洗不小于10分钟，以及吹干或烘干留存在小尺寸的铬膜基版表面的DI水。

6.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述涂胶为涂胶机自动滴胶，涂胶机的转速为1200~1500转/分。

7.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述光刻胶通过天那水进行稀释，光刻胶与天那水的质量比值为1.78±5%。

8.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：在所述镀膜步骤中，通过蒸镀、溅镀在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层。

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