CN111886524B

CN111886524B - 相位差膜和相位差膜的制造方法

Info

Publication number: CN111886524B
Application number: CN201980019560.2A
Authority: CN
Inventors: 浅田毅; 摺出寺浩成; 藤井健作; 安祐辅; 西冈宽哉
Original assignee: Zeon Corp
Current assignee: Zeon Corp
Priority date: 2018-03-19
Filing date: 2019-03-18
Publication date: 2022-07-12
Anticipated expiration: 2039-03-18
Also published as: WO2019181893A1; CN111886524A; KR20200131833A; TW201938620A; US20210032396A1; TWI787482B

Abstract

本发明提供了一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，上述相位差膜包含显现结构性双折射的层状相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A为主成分的相(A)和以上述聚合单元B为主成分的相(B)，满足式(1A)∶f(A)＞0.5和式(2)∶D(A)＞D(B)，或者满足式(1B)∶f(B)＞0.5和式(2)。f(A)表示上述共聚物P中的上述聚合单元A的总重量比率，f(B)表示上述共聚物P中的上述聚合单元B的总重量比率，D(A)＝ReA(450)/ReA(550)，D(B)＝ReB(450)/ReB(550)，ReA(450)、ReA(550)、ReB(450)及ReB(550)的定义如说明书所述。

Description

相位差膜和相位差膜的制造方法

技术领域

本发明涉及相位差膜和相位差膜的制造方法。

背景技术

在液晶显示装置等显示装置中，为了提高其显示品质，有时会设置各种相位差膜。作为相位差膜，开发了具有多层结构的膜(专利文献1、2)、使用了具有层状结构的嵌段共聚物的膜(专利文献3)。此外，已知有通过树脂形成的光学膜(专利文献4～9)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-013378号公报；

专利文献2：国际公开第2008/146924号；

专利文献3：日本特开平05-164920号公报；

专利文献4：日本特开2006-111650号公报；

专利文献5：日本特开2006-143799号公报；

专利文献6：日本特开2006-348096号公报；

专利文献7：日本特开2006-142561号公报；

专利文献8：国际公开第2000/026705号(对应公报：美国专利第6565974号说明书)；

专利文献9：国际公开第2015/005292号。

发明内容

发明要解决的问题

专利文献2的膜由于组合多个层使期望的光学特性显现，所以其结构复杂、相位差膜的制造成本高，并且生产率也降低。

此外，期望相位差膜的光学特性不会根据透过的光的波长而产生较大地变化，因此期望相位差膜具有反波长色散性。在此，反波长色散性是指Rth(450)/Rth(550)＜1或Re(450)/Re(550)＜1这样的膜的特性。在此，Rth(450)意为波长450nm处测定的膜厚度方向的延迟，Rth(550)意为波长550nm处测定的膜厚度方向的延迟，Re(450)意为波长450nm处测定的膜面内方向的延迟，Re(550)意为波长550nm处测定的膜面内方向的延迟。

因此，需要具有反波长色散性、能够以低成本容易地制造的相位差膜；以及制造该相位差膜的方法。

用于解决问题的方案

本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究。结果发现，通过使用包含特定的共聚物P的树脂来构成显现结构性双折射的层状(lamellae)相分离结构，能够解决上述问题，从而完成了本发明。

即，本发明提供以下内容。

[1]一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，

上述相位差膜包含显现结构性双折射的层状相分离结构，

上述相分离结构包含以上述聚合单元A为主成分的相(A)和以上述聚合单元B为主成分的相(B)，

上述相位差膜满足下述式(1A)和(2)，或者满足下述式(1B)和(2)，

f(A)＞0.5 (1A)

f(B)＞0.5 (1B)

D(A)＞D(B) (2)

在此，f(A)表示上述共聚物P中的上述聚合单元A的总重量比率，f(B)表示上述共聚物P中的上述聚合单元B的总重量比率，

D(A)＝ReA(450)/ReA(550)，

D(B)＝ReB(450)/ReB(550)，

ReA(450)表示由聚合物(A)形成的膜(A)在波长450nm处测定的面内方向的延迟(nm)，上述聚合物(A)是由上述聚合单元A形成的，

ReA(550)表示上述膜(A)在波长550nm处测定的面内方向的延迟(nm)，

ReB(450)表示由聚合物(B)形成的膜(B)在波长450nm处测定的面内方向的延迟(nm)，上述聚合物(B)是由上述聚合单元B形成的，

ReB(550)表示上述膜(B)在波长550nm处测定的面内方向的延迟(nm)。

[2]根据[1]所述的相位差膜，其中，还满足下述式(3)。

D(A)≥1.06 (3)

[3]根据[1]或[2]所述的相位差膜，其中，还满足下述式(4)。

(D(A)-D(B))≥0.04 (4)

[4]根据[1]～[3]中任1项所述的相位差膜，其中，在波长550nm处测定的面内方向的延迟Re(550)为0nm以上且10nm以下。

[5]根据[1]～[4]中任1项所述的相位差膜，其中，在波长450nm处测定的厚度方向的延迟Rth(450)与在波长550nm处测定的厚度方向的延迟Rth(550)的比率(Rth(450)/Rth(550))为0以上且小于1。

[6]根据[5]所述的相位差膜，其中，上述厚度方向的延迟Rth(450)与上述厚度方向的延迟Rth(550)的比率(Rth(450)/Rth(550))为0.75以上且0.95以下。

[7]根据[1]～[6]中任1项所述的相位差膜，其中，上述层状相分离结构中的上述相(A)和上述相(B)的厚度分别为50nm以下。

[8]根据[1]～[7]中任1项所述的相位差膜，其中，上述聚合物(A)的折射率n(a)与上述聚合物(B)的折射率n(b)的差的绝对值(|n(a)-n(b)|)为0.05以上。

[9]根据[1]～[8]中任1项所述的相位差膜，其中，上述相分离结构中的相间距离为200nm以下。

[10]根据[1]～[9]中任1项所述的相位差膜，其中，上述共聚物P为具有以上述聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以上述聚合单元B为主成分的嵌段(B)的嵌段聚合物。

[11]根据[1]～[10]中任1项所述的相位差膜，其中，上述共聚物P包含三嵌段共聚物P’，上述三嵌段共聚物P’为具有以上述聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以上述聚合单元B为主成分的嵌段(B)的(A)-(B)-(A)三嵌段聚合物。

[12]根据[1]～[11]中任1项所述的相位差膜，其中，上述共聚物P包含五嵌段共聚物P”，上述五嵌段共聚物P”为具有以上述聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以上述聚合单元B为主成分的嵌段(B)的(A)-(B)-(A)-(B)-(A)五嵌段聚合物。

[13]一种相位差膜的制造方法，是[1]～[12]中任1项所述的相位差膜的制造方法，包含以下工序：

第一工序，将包含上述共聚物P的上述树脂C熔融挤出到冷却辊而得到中间膜，上述共聚物P包含上述聚合单元A和上述聚合单元B；

第二工序，对上述中间膜实施拉伸处理，

上述共聚物P的热软化温度Td和上述冷却辊的温度Tc满足下述式(5)。

Tc＜Td-50℃(5)

[13-1]根据[13]所述的相位差膜的制造方法，其中，上述第一工序中的上述树脂C的挤出温度为Td+110℃以上且Td+170℃以下。

[13-2]根据[13]或[13-1]所述的相位差膜的制造方法，其中，上述第二工序中的上述拉伸处理的拉伸温度为Td以上且Td+20℃以下，

上述第二工序中的上述拉伸处理的拉伸倍率为1.1倍以上且5.0倍以下。

[13-3]根据[13]、[13-1]及[13-2]中任1项所述的相位差膜的制造方法，其中，测定波长450nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(450)、测定波长550nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(550)及测定波长650nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(650)满足下述式(6)和式(7)。

0.70≤Re(450)/Re(550)≤0.95 (6)

1.02≤Re(650)/Re(550)≤1.20 (7)

[14]根据[13]、[13-1]、[13-2]及[13-3]中任1项所述的相位差膜的制造方法，其中，满足上述式(1A)和(2)。

[15]根据[13]、[13-1]、[13-2]及[13-3]中任1项所述的相位差膜的制造方法，其中，满足上述式(1B)和(2)。

本公开也提供以下内容。

[1B]一种相位差膜的制造方法，包含以下工序：

第一工序，将包含共聚物P的树脂C熔融挤出到冷却辊上而得到中间膜，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B；

第二工序，对上述中间膜实施拉伸处理，

上述聚合单元A为芳香族乙烯基系单元，上述聚合单元B为加氢链状共轭二烯系单元，

上述共聚物P中的上述聚合单元A的总重量比率f(A)满足下述式(1C),

0.5＜f(A)≤0.85(1C)

Tc＜Td-50℃(5)

[2B]根据[1B]所述的相位差膜的制造方法，其中，上述第一工序中的上述树脂的挤出温度为Td+110℃以上且Td+170℃以下。

[3B]根据[1B]或[2B]所述的相位差膜的制造方法，其中，上述第二工序中的上述拉伸处理的拉伸温度为Td以上且Td+20℃以下，

[4B]根据[1B]～[3B]中任1项所述的相位差膜的制造方法，其中，测定波长450nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(450)、测定波长550nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(550)及测定波长650nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(650)满足下述式(6)和式(7)。

0.70≤Re(450)/Re(550)≤0.95 (6)

1.02≤Re(650)/Re(550)≤1.20 (7)

发明效果

根据本发明，能够提供具有反波长色散性、能够以低成本容易地制造的相位差膜；以及制造该相位差膜的方法。

附图说明

图1为示意性地示出根据本发明的一个实施方式的制造方法制造相位差膜的情况的概略图。

具体实施方式

以下，示出实施方式和例示物对本发明进行详细地说明。但是，本发明并不限定于以下示出的实施方式及例示物，在不脱离本发明的请求的范围及与其同等的范围的范围内能够任意地变更实施。

在以下的说明中，“长条”的膜是指相对于宽度具有5倍以上的长度的膜，优选具有10倍或其以上的长度，具体而言是指具有可卷绕成辊状而被保管或运送的程度的长度的膜。膜的长度的上限没有特别限制，例如能够相对于宽度为10万倍以下。

在以下的说明中，“波片”不仅为刚性的构件，也包含例如树脂制的膜这样的具有可挠性的构件。

在以下的说明中，只要没有另外说明，膜的面内方向的延迟Re为以Re＝(nx-ny)×d表示的值。此外，只要没有另外说明，膜的厚度方向的延迟Rth为以Rth＝[{(nx+ny)/2}-nz]×d表示的值。在此，nx表示在垂直于膜厚度方向的方向(面内方向)上给予最大折射率的方向的折射率。ny表示在膜的上述面内方向上与nx方向正交的方向的折射率。nz表示膜的厚度方向的折射率。d表示膜的厚度。只要没有另外说明，测定波长为550nm。

树脂的固有双折射值的正负通过对树脂的成型物进行拉伸时的该成型物的折射率变化来规定。即，具有正固有双折射值的树脂是指拉伸方向上的该成型物的折射率较拉伸前变大的树脂。此外，具有负固有双折射值的树脂是指拉伸方向上的该成型物的折射率较拉伸前变小的树脂。固有双折射值能够根据介电常数分布来计算。

进而，某特定的聚合单元具有正固有双折射值是指仅由该聚合单元形成的聚合物具有正固有双折射值，某特定的聚合单元具有负固有双折射值是指仅由该聚合单元形成的聚合物具有负固有双折射值。因此，聚合单元的固有双折射值的正负能够通过下述方法容易地进行判断：制备仅由该聚合单元形成的均聚物，将该聚合物制成任意形状的成型物，对该成型物进行拉伸，测定其光学特性。通常，已知多数烯烃、二烯等烃的聚合单元具有正固有双折射值，另一方面，已知多数苯乙烯、乙烯基萘等侧链具有芳香环的烃的聚合物具有负固有双折射值。

在以下的说明中，只要没有另外说明，某膜的正面方向是指该膜的主面的法线方向，具体而言是指上述主面的极角0°并且方位角0°的方向。

在以下的说明中，只要没有另外说明，某膜的倾斜方向是指既不平行也不垂直于该膜的主面的方向，具体而言指上述主面的极角大于0°且小于90°的范围的方向。

在以下的说明中，只要没有另外说明，要素的方向“平行”、“垂直”及“正交”只要在不损害本发明的效果的范围内，也可以包含例如在±3°、±2°或±1°的范围内的误差。

在以下的说明中，只要没有另外说明，膜的慢轴表示该膜的面内的慢轴。

在以下的说明中，有时将具有通过某单体的聚合而形成的结构的聚合单元使用该单体的名称来表示。例如，有时将具有通过2-乙烯基萘的聚合而形成的结构的聚合单元表示为“2-乙烯基萘单元”，将具有通过异戊二烯的聚合而形成的结构的聚合单元表示为“异戊二烯单元”。

[1.相位差膜]

本实施方式的相位差膜由树脂C形成。

[1.1.树脂C]

树脂C含有特定的共聚物P。共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B。共聚物P优选为具有以聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以聚合单元B为主成分的嵌段(B)的嵌段共聚物。通常，嵌段共聚物是指具有多种嵌段连结而成的分子结构的聚合物，各个嵌段为通过聚合单元连结而构成的链。本发明的一个实施方式的特定的嵌段共聚物具有特定的嵌段(A)和嵌段(B)。在以下的说明中，有时将该特定的嵌段共聚物仅称为“嵌段共聚物”。在此，在某嵌段中，作为主成分的聚合单元是指相对于构成该嵌段的聚合单元的总重量为50重量％以上的聚合单元。包含共聚物P的树脂C通常为热塑性树脂。

聚合单元A能够为具有负固有双折射值的聚合单元。另一方面，聚合单元B能够为具有正固有双折射值的聚合单元。

聚合单元A优选为芳香族乙烯基系单元。芳香族乙烯基系单元表示具有将芳香族乙烯基系化合物聚合而得到的结构的聚合单元。在芳香族乙烯基系化合物中，包含芳香族乙烯基化合物及其衍生物。芳香族乙烯基化合物表示具有在芳香环上键合了乙烯基的结构的烃化合物。此外，在芳香族乙烯基化合物的衍生物中，包含具有使用取代基取代了芳香族乙烯基化合物的1个或2个以上氢原子的结构的化合物。芳香族乙烯基系单元只要具有该结构，则包含使用任何制造方法得到的聚合单元。

作为聚合单元A的优选例子，可举出下述通式(A)所表示的单元。下述通式(A)所表示的单元为芳香族乙烯基系单元。

[化学式1]

R^C为选自苯基、联苯基(例如4-联苯基、2-联苯基、3-联苯基)、萘基(例如1-萘基、2-萘基)、蒽基(例如蒽-1-基、蒽-2-基、蒽-9-基)、菲基(例如菲-1-基、菲-2-基、菲-3-基、菲-4-基、菲-9-基)、并四苯基(例如并四苯-1-基、并四苯-2-基、并四苯-5-基)、并五苯基(例如并五苯-1-基、并五苯-2-基、并五苯-5-基、并五苯-6-基)及三联苯基中的基团。

R¹～R³各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～12的烷基中的基团。作为该烷基的例子，可举出甲基、乙基、丙基及己基。

在式(A)中，

优选R¹为氢原子。

优选R²和R³为氢原子。

优选R^C为萘基。

更优选：R²和R³为氢原子且R^C为萘基；或者R²和R³为氢原子且R¹为氢原子。进一步优选R²和R³为氢原子、R^C为萘基且R¹为氢原子。

聚合单元A能够通过将形成聚合单元A的单体(a)进行聚合而得到。作为单体(a)的例子，可举出芳香族乙烯基系化合物(例如乙烯基萘及其衍生物)。作为乙烯基萘的例子，可举出1-乙烯基萘和2-乙烯基萘。作为乙烯基萘的衍生物的例子，可举出α-甲基-1-乙烯基萘、α-乙基-1-乙烯基萘、α-丙基-1-乙烯基萘、α-己基-1-乙烯基萘、α-甲基-2-乙烯基萘、α-乙基-2-乙烯基萘、α-丙基-2-乙烯基萘及α-己基-2-乙烯基萘。从工业上易获得性的观点出发，作为乙烯基萘及其衍生物，优选2-乙烯基萘。

在共聚物P中，作为聚合单元A，可以仅单独具有1种，也可以以任意比例组合具有2种以上。因此，作为用于形成聚合单元A的单体(a)，可以仅单独使用1种，也可以以任意比例组合使用2种以上。

聚合单元B优选为加氢链状共轭二烯系单元。加氢链状共轭二烯系单元表示具有将链状共轭二烯系化合物进行聚合并氢化而得到的结构的聚合单元。在链状共轭二烯系化合物中，包含链状共轭二烯化合物及其衍生物。链状共轭二烯化合物表示具有共轭二烯结构的链状烃化合物。此外，在链状共轭二烯化合物的衍生物中，包含具有使用取代基取代了链状共轭二烯化合物的1个或2个以上氢原子的结构的化合物。加氢链状共轭二烯系单元只要具有该结构，则包含使用任何制造方法得到的聚合单元。

作为聚合单元B的优选例子，可举出下述通式(B-1)所表示的单元和(B-2)所表示的单元。下述通式(B-1)和(B-2)所表示的单元为加氢链状共轭二烯系单元。

[化学式2]

R⁴～R⁹各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～6的烷基中的基团。作为该烷基的例子，可举出甲基、乙基、丙基及己基。R⁴～R⁹各自独立地优选为氢原子或甲基。

作为聚合单元B的特别优选的例子，可举出下述式(b-1)～(b-5)中任一个所表示的聚合单元。式(b-1)～(b-3)中任一个所表示的聚合单元表示加氢异戊二烯单元。此外，式(b-4)或(b-5)所表示的聚合单元表示加氢丁二烯单元。

[化学式3]

聚合单元B可以通过将能够形成聚合单元B的单体(b)进行聚合而形成聚合单元、在该聚合单元中存在双键的情况下进一步将双键氢化而得到。作为单体(b)的例子，可举出下述通式(bm)所表示的化合物。

[化学式4]

作为单体(b)的优选例，可举出丁二烯(式(bm)的R⁴～R⁹均为氢原子)、异戊二烯(式(bm)的R⁴～R⁹中的R⁶或R⁷为甲基，其它为氢原子)、1,3-戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-己二烯、2-甲基-1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯及2,4-二甲基-1,3-戊二烯。在这些之中，从得到透明性、耐热性及加工性优异的树脂C的观点出发，更优选丁二烯和异戊二烯。作为聚合单元B的优选例子，可举出具有与单体(b)的优选例子中的R⁴～R⁹相同的基团作为R⁴～R⁹的聚合单元。

在聚合单元B为链状共轭二烯系单元的情况下，上述链状共轭二烯系单元的双键氢化的氢化率优选为90％以上，更优选为95％以上，特别优选为97％以上。在氢化率为上述那样地高的情况下，能够特别容易地进行具有期望的光学特性的相位差膜的制造。进而，通常能够使相位差膜的机械特性良好。氢化率能够通过¹H-NMR测定。

在共聚物P中，作为聚合单元B，可以仅单独具有1种，也可以以任意比例组合具有2种以上。因此，作为用于形成聚合单元B的单体(b)，可以仅单独使用1种，也可以以任意比例组合使用2种以上。

在共聚物P具有嵌段(A)的情况下，嵌段(A)能够具有除聚合单元A以外的任意的聚合单元。作为该任意的聚合单元的例子，可举出通过对能够与单体(a)共聚的任意单体进行聚合而形成的单元、以及通过对该单元进行氢化而形成的单元。

在共聚物P具有嵌段(B)的情况下，嵌段(B)能够具有除聚合单元B以外的任意的聚合单元。作为该任意的聚合单元的例子，可举出：单体(b)聚合而形成的聚合单元中残留有未氢化的双键的聚合单元、以及通过对能够与单体(b)共聚的任意单体进行聚合而形成的单元和通过对该单元进行氢化而形成的单元。

但是，从显现树脂C的光学特性及机械特性的观点出发，嵌段(A)中的聚合单元A的比例和嵌段(B)中的聚合单元B的比例均优选为高比例。嵌段(A)中的聚合单元A的比例优选为50重量％以上，更优选为75重量％以上，进一步优选为95重量％以上，优选为100重量％以下，特别优选嵌段(A)仅由聚合单元A形成。嵌段(B)中的聚合单元B的比例优选为50重量％以上，更优选为75重量％以上，进一步优选为95重量％以上，优选为100重量％以下，特别优选嵌段(B)仅由聚合单元B形成。

嵌段(A)和嵌段(B)优选为非相溶性的。通过使它们为非相溶性，能够在相位差膜中更容易地得到相分离结构。嵌段(A)和嵌段(B)是否为非相溶性能够基于具有与嵌段共聚物中的这些嵌段大小同等程度的分子量的、由聚合单元A形成的均聚物和由聚合单元B形成的均聚物有无相溶性来进行判定。该均聚物有无相溶性可以通过如下方法进行判定：将这些均聚物进行混合而制成混合物，在放置于它们熔融的温度的情况下，它们是否会相分离。

共聚物P的分子结构只要具有聚合单元A和聚合单元B，则没有特别限定，能够为具有任意结构的分子结构。例如，在共聚物P为嵌段共聚物的情况下，该嵌段共聚物可以为线型嵌段共聚物，也可以为接枝型嵌段共聚物。

作为线型嵌段共聚物的例子，可举出：具有嵌段(A)和嵌段(B)连结的(A)-(B)的嵌段结构的二嵌段共聚物；具有嵌段(A)、嵌段(B)及另一个嵌段(A)依次连结的(A)-(B)-(A)的嵌段结构的三嵌段共聚物(在本申请中，有时称为“三嵌段共聚物P’”)；具有3个嵌段(A)和2个嵌段(B)按照(A)-(B)-(A)-(B)-(A)的顺序连结的嵌段结构的五嵌段共聚物(在本申请中，有时称为“五嵌段共聚物P””)；以及具有更多嵌段连结的嵌段结构的线型嵌段共聚物。作为多个嵌段连结的嵌段结构的例子，可举出(A)-((B)-(A))n-(B)-(A)和(B)-((A)-(B))n-(A)-(B)(n为1以上的整数)的嵌段结构。

作为接枝型嵌段共聚物的例子，可举出具有在嵌段(A)上连结了嵌段(B)作为侧链的(A)-g-(B)的嵌段结构的嵌段共聚物。

从使树脂C显现期望的光学特性的观点出发，优选共聚物P为具有如下分子结构的嵌段共聚物，即每1分子具有2个以上的聚合物嵌段(A)和1个以上的聚合物嵌段(B)的分子结构。更优选嵌段共聚物为具有(A)-(B)-(A)的嵌段结构的三嵌段共聚物。

此外，在其它实施方式中，嵌段共聚物可以优选为具有(A)-(B)-(A)-(B)-(A)的嵌段结构的五嵌段共聚物。

在树脂C中，作为共聚物P可以仅单独包含1种，也可以以任意比例组合包含2种以上。

树脂C可以仅由共聚物P形成，也可以除包含共聚物P以外还包含任意成分。作为任意成分的例子，可举出染料、颜料、抗氧化剂等添加剂。该任意成分的比例能够为不损害本发明效果的范围的比例。具体而言，树脂C中的共聚物P的比例优选为98重量％以上，更优选为99重量％以上，优选为100重量％以下，更进一步优选为树脂C仅由共聚物P形成。

共聚物P的热软化温度Td优选为100℃以上，更优选为110℃以上，进一步优选为115℃以上，特别优选为120℃以上，优选为155℃以下，更优选为150℃以下，特别优选为145℃以下。在共聚物P的热软化温度Td为上述范围的下限值以上的情况下，能够得到耐热性优异的相位差膜。此外，在共聚物P的热软化温度Td为上述范围的上限值以下的情况下，能够使树脂的成型性良好，因此能够容易地制造相位差膜。进而，通常在共聚物P的热软化温度Td在上述范围内的情况下，能够特别容易地制造具有期望光学特性的相位差膜。

共聚物P的热软化温度Td能够通过热机械分析(TMA)进行测定。具体而言，热软化温度Td能够通过实施例所记载的方法进行测定。

共聚物P的分子量能够在得到具有优选的光学特性的相位差膜的范围内进行适当调节。共聚物P的重均分子量Mw可以为例如30000～400000的范围。重均分子量Mw能够通过以四氢呋喃为洗脱液的凝胶渗透色谱(GPC)法作为聚苯乙烯换算值来进行测定。

[1.2.相位差膜包含的结构和特性]

相位差膜包含显现结构性双折射的层状相分离结构。相分离结构在构成相位差膜的树脂C的层内形成。树脂C的相分离结构是指通过树脂C中的共聚物P的由聚合单元A构成的部分(例如嵌段(A))和由聚合单元B构成的部分(例如嵌段(B))的自组织化，在层内以聚合单元A为主成分的相(也称为相(A)。)与以聚合单元B为主成分的相(也称为相(B)。)分离为能够区分的不同的相。在以下的说明中，有时将这些相仅称为“聚合单元A的相”和“聚合单元B的相”。层状相分离结构是指层状的相(A)与层状的相(B)交替重叠的结构。在结构比光的波长充分小的情况下，呈现这样的相分离结构的取向层能够显现结构性双折射。

在此，在某相中，作为主成分的聚合单元是指相对于构成相的聚合单元的总重量，包含50重量％以上的聚合单元。

相对于构成相(A)的聚合单元的总重量，聚合单元A优选为80重量％以上，更优选为95重量％以上，进一步优选为99重量％以上，能够为100重量％以下。相对于构成相(B)的聚合单元的总重量，聚合单元B优选为80重量％以上，更优选为95重量％以上，进一步优选为99重量％以上，能够为100重量％以下。

在共聚物P为具有以聚合单元A为主成分的嵌段(A)和以聚合单元B为主成分的嵌段(B)的嵌段共聚物的情况下，相(A)通常由嵌段(A)构成，相(B)通常由嵌段(B)构成。

结构性双折射是指如该相分离结构那样在包含具有不同折射率的多种相的结构中产生的双折射。例如，在某结构中，在具有某折射率n1的相中存在具有与n1不同的折射率n2的相的情况下，该结构能够显现结构性双折射。从即使各相在各向同性的介质中形成也能够产生双折射这一点来看，结构性双折射与由基于拉伸的分子取向产生的取向性双折射明显不同。

实际产生的结构性双折射能够通过测定膜的光学特性来进行确认。通过挤出成型、压制加工、溶剂浇铸等常规方法制造的未拉伸膜通常分子取向是无规的，因此Re和Rth为几乎接近于0的值。另一方面，在显现了结构性双折射的未拉伸膜中，可以观察到比通过常规方法制造的通常的未拉伸膜中观察到的值大的值Re和值Rth。因此，通过测定上述值，能够确认结构性双折射的显现。不过，通过电子显微镜、小角X射线散射同时进行结构观察，能够更准确地确认结构性双折射的显现。

在一个实施方式中，相位差膜满足下述式(1A)和式(2)。

f(A)＞0.5 (1A)

D(A)＞D(B) (2)

此外，在另一个实施方式中，相位差膜满足下述式(1B)和上述式(2)。

f(B)＞0.5 (1B)

在此，f(A)表示共聚物P中的聚合单元A的总重量比率。f(B)表示共聚物P中的聚合单元B的总重量比率。共聚物P中的聚合单元A的总重量比率是指共聚物P中包含的聚合单元A的总重量相对于共聚物P的重量的比率。共聚物P中的聚合单元B的总重量比率是指共聚物P中包含的聚合单元B的总重量相对于共聚物P的重量的比率。

f(A)和f(B)能够通过测定共聚物P的NMR来进行确定。

在相位差膜满足式(1A)的情况下，f(A)通常大于0.50，优选为0.55以上，更优选为0.60以上，优选为0.90以下，更优选小于0.90，进一步优选为0.85以下，特别优选为0.82以下，最优选为0.80以下。

在相位差膜满足式(1B)的情况下，f(B)通常大于0.50，优选为0.55以上，更优选为0.60以上，优选为0.90以下，更优选为0.85以下，进一步优选为0.82以下，特别优选为0.80以下。

f(A)和f(B)分别能够通过适当地调节用于制造共聚物P的材料和制造时的操作来进行调节。

在式(2)中，D(A)＝ReA(450)/ReA(550)，D(B)＝ReB(450)/ReB(550)。

通过一个实施方式的相位差膜满足式(1A)和式(2)，相位差膜能够具有反波长色散性(优选为Re(450)/Re(550)＜1的特性)。

此外，通过另一个实施方式的相位差膜满足式(1B)和式(2)，相位差膜能够具有反波长色散性(优选为Rth(450)/Rth(550)＜1的特性)。

ReA(450)表示由聚合物(A)形成的膜(A)在波长450nm处测定的面内方向延迟(nm)，上述聚合物(A)是由聚合单元A形成的，

ReA(550)表示膜(A)在波长550nm处测定的面内方向延迟(nm)，

ReB(450)表示由聚合物(B)形成的膜(B)在波长450nm处测定的面内方向延迟(nm)，上述聚合物(B)是由聚合单元B形成的，

ReB(550)表示膜(B)在波长550nm处测定的面内方向延迟(nm)。

由聚合单元A形成的聚合物(A)能够通过将对应于聚合单元A的单体进行聚合，进一步根据需要进行加氢等反应来得到。由聚合单元B形成的聚合物(B)能够通过将对应于聚合单元B的单体进行聚合，进一步根据需要进行加氢等反应来得到。在共聚物P具有嵌段(A)和嵌段(B)的情况下，聚合物(A)和聚合物(B)分别能够通过与嵌段(A)和嵌段(B)的制造方法同样的方法来得到。

例如，膜(A)能够以如下方式来制造。首先，将聚合物(A)粉碎而制成粉体，将粉体夹在2张聚酰亚胺膜之间而制成层叠体，对层叠体进行加压后除去聚酰亚胺膜，制造厚度100um的压制膜(A)。加压条件为温度280℃、压力40MPa、时间2分钟。接着，将压制膜(A)单轴拉伸至1.5倍，由此得到膜(A)。

例如，膜(B)能够以如下方式来制造。首先，将聚合物(B)粉碎而制成粉体，将粉体夹在2张聚酰亚胺膜之间而制成层叠体，对层叠体进行加压后除去聚酰亚胺膜，制造厚度100um的压制膜(B)。加压条件为温度25℃、压力20MPa、时间2分钟。接着，将压制膜(B)单轴拉伸至3倍，由此得到膜(B)。

相位差膜优选满足下述式(3)。

D(A)≥1.06 (3)

D(A)优选为1.06以上，更优选为1.07以上，进一步优选为1.08以上，能够为1.20以下。通过D(A)的范围在上述范围内，能够更有效地对相位差膜赋予反波长色散性。

相位差膜优选满足下述式(4)。

(D(A)-D(B))≥0.04 (4)

(D(A)-D(B))优选为0.04以上，更优选为0.05以上，能够为0.10以下。通过(D(A)-D(B))的范围在上述范围内，能够更有效地对相位差膜赋予反波长色散性。

相(A)和相(B)的折射率差越大，则能够高效地显现越大的结构性双折射。因此，由聚合单元A形成的聚合物(A)的折射率n(a)和由聚合单元B形成的聚合物(B)的折射率n(b)的差的绝对值(|n(a)-n(b)|)优选为高值，优选为0.05以上，更优选为0.10以上，更进一步优选为0.14以上。

折射率n(a)能够通过由聚合物(A)如上所述地制造压制膜(A)，测定压制膜(A)的折射率而得到。折射率n(b)能够通过由聚合物(B)如上所述地制造压制膜(B)，测定压制膜(B)的折射率而得到。

相(A)和相(B)的厚度分别优选为50nm以下。通过像这样使层状相分离结构中的相(A)和相(B)的厚度较薄，能够使相分离结构充分地显现结构性双折射。相(A)和相(B)的厚度大于0nm，例如能够为10nm以上。

层状相分离结构中的相间距离优选为200nm以下，更优选为150nm以下，进一步优选为100nm以下，大于0nm，例如能够为10nm以上。相间距离是指层和层之间的间隔(即，层状的层的重复单元的间距)。作为相间距离，能够采用将通过小角X射线散射测定而得到的散射图案与理论曲线进行拟合所求得的值。

相间距离的调节能够通过调节共聚物P的分子结构来进行。例如能够通过采用嵌段共聚物作为共聚物P、适当地调节嵌段(A)和(B)的长度等要素来进行调节。

通过使相分离结构中的相间距离、及相(A)和相(B)的厚度像这样充分小于可见光，能够显现结构性双折射。此外，能够抑制膜的着色和光线透过率的降低。

相位差膜的面内方向的延迟Re能够根据相位差膜的用途任意地设定。例如，在想要使相位差膜作为λ/4波片发挥功能的情况下，该相位差膜的面内方向的延迟Re可以为120nm～160nm。此外，例如在想要使相位差膜作为λ/2波片发挥功能的情况下，该相位差膜的面内方向的延迟Re可以为250nm～290nm。

相位差膜的厚度方向的延迟Rth能够根据相位差膜的用途任意地设定。具体而言，相位差层的厚度方向的延迟Rth优选为-95nm以上，更优选为-90nm以上，特别优选为-85nm以上，优选为180nm以下，更优选为170nm以下，特别优选为160nm以下。

相位差膜的双折射Δn能够根据相位差膜的用途任意地设定。具体而言，相位差膜的双折射Δn优选为0.0001以上，更优选为0.0002以上，特别优选为0.0003以上，优选为0.0021以下，更优选为0.002以下，特别优选为0.0019以下。双折射Δn可以通过面内方向的延迟Re除以厚度d而求出。

相位差膜的NZ系数能够根据相位差膜的用途任意地设定。具体而言，相位差膜的NZ系数优选大于-0.5，更优选为-0.1以上，特别优选为0以上，优选小于2.0，更优选为1.8以下，特别优选为1.7以下。

相位差膜的厚度能够根据相位差膜的用途任意地设定。具体而言，相位差膜的厚度优选为5μm以上，更优选为10μm以上，特别优选为15μm以上，优选为270μm以下，更优选为260μm以下，特别优选为250μm以下。

在一个实施方式中，相位差膜在波长550nm处测定的面内方向延迟Re(550)优选为0nm以上且10nm以下。相位差膜在波长550nm处测定的厚度方向延迟Rth(550)优选为80nm以上，更优选为90nm以上，进一步优选为100nm以上，越大越优选，但为300nm以下。相位差膜优选具有接近于负C板(negative C-plate)的特性。由此，将相位差膜与例如负A板组合，能够抑制液晶显示装置的正面方向和倾斜方向的漏光，抑制从正面方向和倾斜方向观察液晶显示装置时的色偏移。在此，负C板是指膜的折射率nx、ny及nz满足nx＝ny＞nz的关系的膜。在此，负A板是指膜的折射率nx、ny及nz满足ny＜nx＝nz的关系的膜。

在波长450nm处测定的相位差膜的厚度方向延迟Rth(450)相对于在波长550nm处测定的相位差膜的厚度方向延迟Rth(550)的比率(Rth(450)/Rth(550))优选为0以上，更优选为0.75以上，优选小于1，更优选为0.95以下，优选为0以上且小于1，更优选为0.75以上且0.95以下。通过使比率(Rth(450)/Rth(550))处于上述范围内，能够抑制相位差膜的光学特性根据透过的光的波长产生较大地变化。

[1.3.相位差膜的制造方法]

相位差膜能够使用现有公知的方法由树脂C来制造。作为制造方法的例子，可举出挤出成型法、压制加工法及溶剂浇铸法。

[1.3.1.压制加工法]

其中，从容易显现层状相分离结构的观点出发，优选压制加工法。压制加工法特别优选用于制造满足f(B)＞0.5的相位差膜。

压制加工法的条件能够根据树脂C的热软化温度、分解温度、相转变温度等特性适当地设定。压制加工的温度优选为200℃以上，更优选为210℃以上，进一步优选为230℃以上，优选为300℃以下，更优选为290℃以下，进一步优选为280℃以下。压制加工的压力优选为10MPa以上，更优选为20MPa以上，进一步优选为30MPa以上，优选为100MPa以下，更优选为90MPa以下，进一步优选为80MPa以下。压制加工的加压时间优选为60秒以上，更优选为90秒以上，进一步优选为120秒以上，优选为300秒以下，更优选为240秒以下，进一步优选为180秒以下。

通过压制加工的树脂C的加工例如下所示。首先将树脂C的粉体夹在一对具有耐热性的膜(聚酰亚胺膜等)之间，制作层叠体。接着，将层叠体通过例如电热加压装置等加工装置进行加热并且进行加压。加压结束后，释放压力，冷却至室温，除去一对膜，得到相位差膜。

[1.3.2.挤出成型法]

此外，从容易显现层状相分离结构的观点出发，也优选通过下述的制造方法进行制造。下述制造方法特别优选用于制造满足f(A)＞0.5的相位差膜。

本发明的一个实施方式的相位差膜的制造方法使用上述树脂C来制造相位差膜。该制造方法包含：第一工序，将上述树脂C熔融挤出到冷却辊上，得到中间膜；第二工序，对中间膜实施拉伸处理。

图1为示意性地示出通过本发明的一个实施方式的制造方法制造相位差膜10的情况的概要图。图1示出了使用挤出成型装置100和拉伸装置200来制造长条的相位差膜10的例子，上述挤出成型装置100具有作为模具的模头110和设置为能够沿圆周方向旋转的冷却辊120。但是，本发明并不限定于图1示出的例子。

如图1示出的例子所示，在第一工序中，作为树脂C的树脂20通常以熔融状态从模头110挤出到冷却辊120上而成膜状。从模头110挤出的树脂20被沿圆周方向旋转的冷却辊120接收而被冷却。树脂20通过冷却而固化，得到中间膜30。

得到的中间膜30随着冷却辊120的旋转而被运送，被运送至拉伸装置200供给至第二工序。在第二工序中，对中间膜30实施拉伸处理。通过拉伸处理，使中间膜30包含的共聚物P取向，因此可得到具有期望的延迟的相位差膜10。这样的本实施方式的制造方法可以以满足下述条件1的方式进行。

条件1：共聚物P的热软化温度Td和冷却辊120的温度Tc满足下述式(5)。

Tc＜Td-50℃ (5)

本实施方式的制造方法除了满足条件1以外，还可以满足上述式(1A)(f(A)＞0.5)。

本实施方式的制造方法除了满足条件1以外，还可以满足下述式(1A-2)。

0.5＜f(A)≤0.85 (1A-2)

此外，在另一个实施方式的制造方法中，除了满足条件1以外，还可以满足上述式(1B)(f(B)＞0.5)。在另一个实施方式的制造方法中，除了满足条件1以外，还可以满足下述式(1B-2)。

0.5＜f(B)≤0.85 (1B-2)

下面将对上述第一工序和第二工序进一步详细地进行说明。

(第一工序(熔融挤出))

在第一工序中，将包含共聚物P的上述树脂C熔融挤出到冷却辊上，得到中间膜。

通常使用双螺杆挤出机等挤出机，将熔融的树脂C提供至T模头等模头进行挤出。熔融的树脂C通过从模头中挤出连续地成型为膜状。在以下的说明中，有时将像这样进行成型的熔融状态的树脂C着眼于其形状而称为“熔融树脂膜”。

第一工序中的树脂C的挤出温度Te优选为Td+110℃以上，更优选为Td+115℃以上，特别优选为Td+120℃以上，优选为Td+170℃以下，更优选为Td+165℃以下，特别优选为Td+160℃以下。上述Td表示共聚物P的热软化温度。在挤出温度Te在上述范围的情况下，能够特别容易地制造具有期望的光学特性的相位差膜。此外，通常在挤出温度Te为上述范围的下限值以上的情况下，能够顺利地进行树脂C的成型，在挤出温度Te为上述范围的上限值以下的情况下，能够抑制树脂的劣化。树脂C的挤出温度Te是指在从模具中挤出的时刻的树脂C的温度，通常与模头的模唇部的温度一致。

作为被成型的树脂C的熔融树脂膜被连续地导至冷却辊，接收在冷却辊的圆周面。通常，冷却辊以其旋转轴为中心，沿圆周方向进行旋转。因此，熔融树脂膜沿冷却辊的圆周面上的运送路径被运送，同时被冷却。树脂C的热量的一部分释放至周围的空气中，但大部分被传递至冷却辊，由此实现树脂C的冷却。然后，通过这样的冷却使树脂C固化，得到由树脂C形成的中间膜。

在本实施方式的第一工序中，冷却辊的温度Tc满足上述式(5)。在此，冷却辊的温度Tc表示冷却辊的圆周面的温度。更详细而言，冷却辊的温度Tc与共聚物P的热软化温度Td的温度差Td-Tc通常大于50℃，优选大于50.2℃，特别优选大于50.5℃。在温度差Td-Tc比上述的下限值大的情况下，能够容易地制造具有反波长色散特性的相位差膜。进而，通常在温度差Td-Tc比上述的下限值大的情况下，除了相位差膜的波长色散特性以外的光学特性也能够容易地调节至期望的值。温度差Td-Tc的上限没有特别限制，优选小于100℃，更优选小于95℃，特别优选小于90℃。在温度差Td-Tc小于上述上限的情况下，能够容易地控制冷却辊的温度，能够容易地制造具有反波长色散特性的相位差膜。

在一个实施方式中，将树脂C保持为熔融状态的时间优选为1分钟以上，更优选为3分钟以上，优选为30分钟以下，更优选为20分钟以下。

在一个实施方式中，冷却辊的温度Tc优选为Td-70℃以上，更优选为Td-50℃以上，优选为Td+5℃以下，更优选为Td以下。

可以认为在熔融挤出工序中，将树脂C保持为熔融状态的时间设为10分钟、将冷却辊的温度Tc设为120℃所制造的相位差膜显现了基于层状相分离结构引起的结构性双折射。

如上所述被冷却辊接收的熔融树脂膜的冷却辊侧的面可以与冷却辊的圆周面接触，也可以与其分离。例如，通过在熔融树脂膜的面与冷却辊的圆周面之间形成空气层，可以使熔融树脂膜的面与冷却辊的圆周面分离。在形成空气层的情况下，熔融树脂膜经由空气层被支撑在冷却辊上，但即使在这种情况下由于空气层小，所以也可以利用冷却辊进行熔融树脂膜的冷却。在形成空气层的情况下，通常熔融树脂膜的宽度方向的一部分(例如宽度方向的端部)被固定而与冷却辊的圆周面接触，其它部分与冷却辊的圆周面分离。上述固定能够通过例如静电固定、空气固定、利用辊的固定等方法进行。

第一工序所得到的中间膜的厚度能够根据想要制造的相位差膜的光学特性适当地设定。具体而言，中间膜的厚度优选为10μm以上，更优选为20μm以上，特别优选为30μm以上，优选为300μm以下，更优选为290μm以下，特别优选为280μm以下。

(第二工序(拉伸处理))

在第二工序中，对第一工序得到的中间膜实施拉伸处理。通过该拉伸处理，可得到显现延迟等光学特性的相位差膜。

拉伸处理通常通过将中间膜沿其面内方向进行拉伸的平面拉伸法进行。作为平面拉伸法的例子，可举出单轴拉伸法和双轴拉伸法。单轴拉伸是将中间膜沿其面内的一个方向进行拉伸的拉伸。作为单轴拉伸法的例子，可举出自由宽度单轴拉伸法和固定宽度单轴拉伸法。双轴拉伸是将中间膜沿其面内的两个方向进行拉伸的拉伸。作为双轴拉伸法的例子，可举出依次双轴拉伸法和同时双轴拉伸法。在双轴拉伸法中，向各自的方向的拉伸可以为自由宽度拉伸，也可以为固定宽度拉伸。作为依次双轴拉伸法的更具体的例子，可举出全扩幅机方式和辊扩幅机方式。

第二工序中的拉伸处理的拉伸温度T_E能够根据想要制造的相位差膜的光学特性适当地设定。具体的拉伸温度T_E优选为Td以上，更优选为Td+1℃以上，特别优选为Td+2℃以上，优选为Td+20℃以下，更优选为Td+19℃以下，特别优选为Td+18℃以下。上述Td表示共聚物P的热软化温度。在拉伸温度T_E为上述范围的下限值以上的情况下，能够顺利地进行拉伸处理。此外，在拉伸温度T_E为上述范围的上限值以下的情况下，能够通过拉伸处理使相位差膜容易地显现期望的光学特性。

第二工序中的拉伸处理的拉伸倍率能够根据想要制造的相位差膜的光学特性适当地设定。具体的拉伸倍率优选为1.1倍以上，更优选为1.2倍以上，特别优选为1.3倍以上，优选为5.0倍以下，更优选为4.9倍以下，特别优选为4.8倍以下。在拉伸倍率在上述范围的情况下，能够特别容易地制造具有期望的光学特性的相位差膜。此外，在为这样范围的拉伸倍率的情况下，能够得到能够应用于λ/4波片和λ/2波片等广泛用途的相位差膜。

在第二工序中的拉伸方向为2个方向以上的情况下，上述拉伸倍率表示将各方向的拉伸倍率相乘而得到的总拉伸倍率。

上述拉伸处理可以在与中间膜的制造生产线接连的生产线上进行。或者，也可以将中间膜暂时卷绕成膜辊、然后将中间膜从该膜辊中卷出而对其实施拉伸处理。

(任意的工序)

相位差膜的制造方法可以进一步进行任意的工序来与上述的第一工序和第二工序组合。作为任意的工序，可举出例如：将中间膜或者相位差膜的宽度方向的端部去除的裁边工序；卷绕相位差膜而进行回收的回收工序；在相位差膜上形成任意的层的工序等。

通过上述的制造方法，能够容易地得到具有反波长色散特性的相位差膜。在一个实施方式中，测定波长为450nm和550nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(450)和Re(550)优选满足Re(450)＜Re(550)，更优选满足下述式(6)。

0.70≤Re(450)/Re(550)≤0.95 (6)

更详细而言，Re(450)/Re(550)优选为0.70以上，更优选为0.71以上，特别优选为0.72以上，优选为0.95以下，更优选为0.94以下，特别优选为0.93以下。

进而，在一个实施方式中，测定波长为550nm和650nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(550)和Re(650)优选满足Re(550)＜Re(650)，更优选满足下述式(7)。

1.02≤Re(650)/Re(550)≤1.20 (7)

更详细而言，Re(650)/Re(550)优选为1.02以上，更优选为1.03以上，优选为1.20以下，更优选为1.19以下。

上述那样的具有反波长色散特性的相位差膜能够在宽波长范围内发挥其光学功能。例如，在某波长下能够作为λ/4波片发挥功能的相位差膜能够在包含该波长的宽波长范围内作为λ/4波片发挥功能。因此，在将相位差膜设置于图像显示装置的情况下，能够使该图像显示装置的显示特性良好。

[2.用途]

本实施方式的相位差膜能够用作液晶显示装置、有机电致发光显示装置等显示装置的构成要素。

实施例

以下，示出实施例对本发明进行具体地说明。但是，本发明并不限定于以下所示的实施例，在不脱离本发明的请求的范围及其同等的范围的范围内能够任意地变更实施。

在以下说明中，只要没有另外说明，表示量的“％”和“份”为重量基准。此外，只要没有另外说明，以下说明的操作在常温和常压的条件进行。

<实施例A1、比较例A1、参考例A2>

[评价方法]

(热软化温度的测定方法)

将作为测定对象的树脂成型为5mm×20mm×100μm的膜，制成试样。对该试样进行使用了热机械分析装置(SII Nano Technology公司制，“TMA/SS7100”)的TMA(热机械分析)测定，测定热软化温度。具体而言，在沿试样的长度方向施加了50mN的张力的状态，以5℃/分钟的速度使温度从20℃变化至180℃，求出试样长度变化了3％时的温度作为热软化温度。

(膜的延迟)

使用相位差测定装置(王子计测机器(株)制，“KOBRA-21-ADH”)，测定膜的延迟。

(相分离结构)

将膜切割成2mm×4mm的大小，将它们沿厚度方向重叠30片，固定在折叠器上，使用小角X射线散射测定设施(Aichi SR，Beamline 8S3)，在相机长度(Camera Length)4m、X射线能量8.2KeV、测定q范围：约0.06～3nm^-1、每1试样的曝光时间60秒的条件，得到散射图案。将得到的散射图案与理论曲线拟合，确定相分离结构，算出各相的厚度和相间距离。

X射线的照射面为膜的剖面，厚度方向和与厚度方向垂直的方向的积分范围分别为20°。根据由各自的积分得到的数据算出相间距离，将厚度方向和与厚度方向垂直的方向的相间距离的平均值和各相的厚度的平均值作为测定值。

(Re(450)/Re(550)的测定)

(D(A)的测定)

(聚合物(A)的制造)

在进行了干燥、用氮气置换了的耐压反应器中，加入500mL的作为溶剂的甲苯、0.29mmol的作为聚合催化剂的正丁基锂后，添加7.0g的作为单体(a)的2-乙烯基萘，在25℃使其反应1小时，进行聚合反应。将反应混合物注入到大量的2-丙醇中，使聚合物沉淀，分离得到聚合物。通过凝胶渗透色谱(GPC)对得到的聚合物进行测定，结果重均分子量(Mw)为100000。通过热机械分析装置(TMA)测定的聚合物的热软化温度为145℃。

(压制膜(A)的制造)

使用粉碎机将得到的聚合物进行粉碎制成粉体。将得到的粉体夹在一对聚酰亚胺膜(各膜的厚度为100μm)之间而制成层叠体，对层叠体进行加压。使用电热加压装置进行加压。加压条件为温度280℃、压力40MPa、加压时间2分钟。加压结束后，释放压力，在空气中冷却至室温，除去聚酰亚胺膜。通过该操作，制作厚度为100μm的未拉伸的压制膜(A)。

(膜(A)的制造)

使用加热式拉伸试验机，将制作的压制膜(A)以夹子间距80mm、拉伸速度100％/分钟、温度155℃的条件单轴拉伸至1.5倍，得到拉伸膜(膜(A))。在波长550nm处测定的膜(A)的面内方向的延迟Re(550)为140nm。此外，膜(A)的Re(450)/Re(550)的值(D(A))为1.08。

(1.丁二烯均聚物的D(B)的测定)

(聚合物(B1)的制造)

在进行了干燥、用氮气置换了的耐压反应器中，加入100mL的作为溶剂的甲苯、270μL(0.43mmol)的作为聚合催化剂的正丁基锂的1.6M己烷溶液。然后，添加64g的作为单体(b)的丁二烯的25wt％甲苯溶液，进一步在50℃使其反应1小时，得到聚合物。通过GPC测定，聚合物的数均分子量(Mn)为80000，重均分子量(Mw)为85000，分子量分布为1.06。通过¹H-NMR测定，根据烯烃部分的积分值的比例，确认聚合物由89％的聚(1,4-丁二烯)、11％的聚(1,2-丁二烯)构成。

浓缩得到的聚合物，除去甲苯后，使其溶解于700mL的对二甲苯。在该溶液中添加55g的对甲苯磺酰肼，反复多次减压和氮置换操作，由此除去溶液内的氧，然后在温度120℃使其反应6小时。通过该反应，对来自丁二烯的双键进行加氢。加氢结束后，在反应溶液中注入大量的丙酮和甲醇，得到40g的块状产物的加氢聚合物(聚合物(B1))。通过NMR对得到的加氢聚合物进行分析，结果加氢率大于99％。

(压制膜(B1)的制造)

将2g的所得到的作为聚合物(B1)的加氢聚合物的块夹在一对聚酰亚胺膜(各膜的厚度为100μm)之间而制成层叠体，对层叠体进行加压。加压使用电热加压装置进行。加压条件为温度25℃、压力20MPa、加压时间2分钟。加压结束后，释放压力，除去聚酰亚胺膜。通过该操作，制作厚度为100μm的未拉伸的压制膜(B1)。

(膜(B1)的制造)

使用加热式拉伸试验机，将制作的压制膜(B1)以夹子间距80mm、拉伸速度100％/分钟、温度25℃的条件单轴拉伸至3倍，得到拉伸膜(膜(B1))。在波长550nm处测定的膜(B1)的面内方向的延迟Re(550)为140nm。此外，膜(B1)的Re(450)/Re(550)的值(D(B1))为1.03。

(2.异戊二烯均聚物的D(B)的测定)

(聚合物(B2)的制造)

在进行了干燥、用氮气置换了的耐压反应器中，加入500mL的作为溶剂的甲苯、0.29mmol的作为聚合催化剂的正丁基锂。然后，添加21g的作为单体(b)的异戊二烯，进一步在25℃使其反应1小时，进行聚合。将反应混合物注入大量的2-丙醇中，使聚合物沉淀，分离得到聚合物。

将得到的聚合物溶解于700mL的对二甲苯，制成溶液。在该溶液中添加7.6g的对甲苯磺酰肼，在温度130℃使其反应8小时。通过该反应，对来自异戊二烯的双键进行加氢。加氢结束后，将反应溶液注入大量的2-丙醇中，得到20g的块状的加氢聚合物。通过凝胶渗透色谱(GPC)对得到的加氢聚合物进行测定，结果重均分子量为100000。

(压制膜(B2)的制造)

代替聚合物(B1)而使用所得到的作为聚合物(B2)的加氢聚合物，除此以外，与压制膜(B1)的制造同样地制作厚度为100μm的未拉伸的压制膜(B2)。

(膜(B2)的制造)

代替压制膜(B1)而使用制作的压制膜(B2)，除此以外，与膜(B1)的制造同样地进行，得到拉伸膜(膜(B2))。在波长550nm处测定的膜(B2)的面内方向的延迟Re(550)为140nm。此外，膜(B2)的Re(450)/Re(550)的值(D(B2))为1.03。

(折射率)

使用JA Woollam公司制的椭偏仪“M-2000U”，测定上述压制膜(A)和压制膜(B1)在波长550nm处的折射率。压制膜(A)的折射率(n(a))为1.67。压制膜(B1)的折射率(n(b1))为1.53，压制膜(B2)的折射率(n(b2))为1.52。

(液晶显示装置的显示性能)

(负A板的制作)

通过共挤出成型，得到依次具有[1]层(15μm)-[3]层(5μm)-[2]层(100μm)-[3]层(5μm)-[1]层(15μm)的长条的未拉伸层叠体膜。在此，[1]层由降冰片烯系聚合物(日本Zeon(株)、ZEONOR1020、玻璃化转变温度105℃)形成。[2]层由苯乙烯-马来酸酐共聚物(NovaChemical Japan(株)、DylarkD332、玻璃化转变温度130℃、低聚物含量3重量％)形成。[3]层由改性乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(三菱化学(株)、MODIC APA543、维卡软化点80℃)形成。

接着，使上述得到的长条的未拉伸层叠体膜历经30秒通过膜温度设定为140℃的加热区，然后，沿长度方向拉伸至1.50倍，得到厚度为114μm的拉伸膜。

使用上述方法测定得到的拉伸膜在波长550nm处的面内方向的延迟Re(550)和厚度方向的延迟Rth(550)，Re(550)为150nm，Rth(550)为-75nm，面内慢轴与长度方向垂直，其偏差为±0.05°，残留挥发成分含量为0.01重量％以下。即，得到的拉伸膜为面内慢轴与长度方向垂直的负A板。

(观看侧偏振片的制作)

使拉伸了的聚乙烯醇膜吸附碘而制作起偏器。接着，使用聚乙烯醇系粘接剂将作为评价对象的相位差膜贴附于起偏器的一侧的表面。接着，使用粘接剂，将上述制作的拉伸膜(负A板)贴附于作为评价对象的相位差膜的表面。此时，以上述起偏器的吸收轴与相位差膜的慢轴垂直的方式进行配置。准备厚度为80μm的三醋酸纤维素膜(富士Film(株)制，“TD-80UF”)，对单面进行皂化处理。接着，使用聚乙烯醇系粘接剂，将起偏器的背面(未贴合相位差膜侧的面)与上述三醋酸纤维素膜的进行了皂化处理的面贴合，制作观看侧偏振片(P1)。

(背照灯侧偏振片的制作)

使拉伸了聚乙烯醇膜吸附碘而制作起偏器。此外，准备市售的醋酸纤维素膜1(富士Film(株)制，“Z-TAC”)，进行了皂化处理。接着，使用聚乙烯醇系粘接剂将上述醋酸纤维素膜1贴附于起偏器的一侧的面。准备市售的三醋酸纤维素膜2(富士Film(株)制，“FujitacTD80UF”)，进行了皂化处理。然后，使用聚乙烯醇系粘接剂将进行了皂化处理的三醋酸纤维素膜2贴附于起偏器的另一侧的面，在70℃干燥10分钟以上，制作偏振片(P2)。

(IPS模式液晶显示装置的制作)

从IPS(平面转换)模式的液晶电视(松下电器产业(株)公司制，“TH-32LX500”)中取出液晶单元，剥离贴在观看侧和背照灯侧的偏振片和光学膜。该液晶单元在未施加电压状态和黑显示状态时，液晶化合物分子在玻璃基板间基本上平行取向，其慢轴方向相对于画面为水平方向。使用粘结剂，在上述平行取向单元的上下玻璃基板贴合作为观看侧偏振片制作的上述偏振片(P1)和作为背照灯侧偏振片制作的偏振片(P2)。关于偏振片(P1)，使作为评价对象的相位差膜与液晶单元玻璃基板接触而贴合，关于偏振片(P2)，使三醋酸纤维素膜1(Z-TAC膜)与液晶单元玻璃基板接触而贴合。此外，以偏振片(P1)的各吸收轴与液晶单元的慢轴垂直的方式、偏振片(P1)与偏振片(P2)的各吸收轴正交的方式进行配置。如上所述地将贴合了偏振片的液晶单元再次组装成液晶电视，制作显示性能评价用的液晶显示装置。

(显示性能的评价)

从正面方向和倾斜方向目视观察上述制作的液晶显示装置，评价漏光和色偏移。

[实施例A1]

(共聚物P的制造)

在进行了干燥、用氮气置换了的耐压反应器中，加入100mL的作为溶剂的甲苯、270μL(0.43mmol)的作为聚合催化剂的正丁基锂的1.6M己烷溶液。然后，在耐热反应器中添加10g的作为单体(a)的2-乙烯基萘(芳香族乙烯基系化合物)的25wt％甲苯溶液，在25℃使其反应1小时，进行第一阶段的聚合反应。第一阶段的聚合反应结束后，收集一部分聚合物，根据以四氢呋喃为溶剂的GPC的分子量的测定，由此确认数均分子量(Mn)为18300，重均分子量(Mw)为19700，分子量分布为1.08。

然后，在耐热反应器中的反应混合物中添加40g的作为单体(b)的丁二烯(链状共轭二烯系化合物)的25wt％甲苯溶液，进一步在50℃使其反应1小时，进行第二阶段的聚合反应。结果在反应混合物中，得到具有(2-乙烯基萘嵌段)-(丁二烯嵌段)的嵌段结构的二嵌段共聚物。通过GPC测定，二嵌段共聚物的数均分子量(Mn)为45200，重均分子量(Mw)为47900，分子量分布为1.06。此外，根据烯烃部分的积分值的比例，确认丁二烯嵌段由89％的聚(1,4-丁二烯)、11％的聚(1,2-丁二烯)构成。

然后，在反应混合物中进一步添加10g的作为单体(a)的2-乙烯基萘的25wt％甲苯溶液，在25℃使其反应17小时，进行第三阶段的聚合反应。聚合反应结束后，添加100μL的甲醇，得到包含具有(2-乙烯基萘嵌段)-(丁二烯嵌段)-(2-乙烯基萘嵌段)的嵌段结构的三嵌段共聚物的反应混合物。收集一部分三嵌段共聚物，通过GPC测定分子量。结果确认三嵌段共聚物的数均分子量(Mn)为45000，重均分子量(Mw)为55000，分子量分布为1.06。此外，通过¹H-NMR测定，确认在第三阶段加入的2-乙烯基萘被全部消耗。

浓缩得到的三嵌段共聚物，除去甲苯后，使其溶解于700mL的对二甲苯。在该溶液中添加55g的对甲苯磺酰肼，反复多次减压和氮置换操作，由此除去溶液内的氧，然后在温度120℃使其反应6小时。通过该反应，对丁二烯嵌段的双键进行加氢。加氢结束后，在反应溶液中注入大量的丙酮和甲醇，得到20g的块状产物的加氢嵌段共聚物。得到的加氢嵌段共聚物具有“聚合物嵌段[A]”-“聚合物嵌段[B]”-“聚合物嵌段[A]”这样的三嵌段结构。聚合物嵌段[A]含有2-乙烯基萘单元作为聚合单元A。聚合物嵌段[B]含有加氢丁二烯单元作为聚合单元B。

通过¹H-NMR对得到的加氢嵌段共聚物(共聚物P)进行分析。结果，加氢嵌段共聚物中的2-乙烯基萘单元与加氢丁二烯单元的重量比为33∶67。因此，聚合单元A的重量分率(weight fraction)wA为0.33，聚合单元B的重量分率wB为0.67。此外，加氢嵌段共聚物中的丁二烯单元的加氢率＞99％。此外，通过热机械分析装置(TMA)测定的加氢嵌段共聚物的热软化温度Td为103℃。

(相位差膜的制作)

将通过上述项目(共聚物P的制造)得到的三嵌段共聚物用作树脂C。使用粉碎机将树脂C粉碎成粉体。将得到的粉体夹在一对聚酰亚胺膜(各膜的厚度为100μm)之间而制成层叠体，对层叠体进行加压。使用电热加压装置进行加压。加压条件为温度290℃、压力40MPa、加压时间为5分钟。加压结束后，释放压力，在空气中冷却至室温，除去聚酰亚胺膜。通过该操作，制作厚度为75μm的相位差膜1。

对于得到的相位差膜1，通过上述方法，从剖面入射X射线，通过小角散射法进行观察，结果观察到相间距离为40nm、相的厚度为20nm的层结构。此外，制作与厚度方向平行的剖面的切片，使用TEM进行观察，结果确认到层状相分离结构。

对于得到的相位差膜1，测定在波长550nm处的面内方向延迟Re(550)和厚度方向延迟Rth(550)，结果Re(550)＝4nm，Rth(550)＝90nm，由于结构性双折射，得到接近于负C板的特性。此外，确认Rth(450)/Rth(550)＝0.80＜1，相位差膜1具有反波长色散性。

使用上述方法，将得到的相位差膜1组装成液晶显示装置，评价液晶显示装置的显示性能。结果与组装前相比，来自正面方向和倾斜方向中的任一方向的漏光减少，并且抑制了色偏移。

[比较例A1]

准备日本瑞翁制的环烯烃树脂“ZEONOR 1020”。使用挤出机，将该树脂在树脂温度260℃熔融，从宽度为400mm模头挤出至表面温度为90℃的冷却辊而成片状，得到厚度为100μm的未拉伸膜。使用浮法方式的纵拉伸机，将得到的未拉伸膜在110℃沿移动方向拉伸至1.5倍，进一步使用扩幅机在110℃沿宽度方向拉伸至1.4倍，得到厚度为58μm的相位差膜C1。

对于得到的相位差膜C1，通过上述方法，从剖面入射X射线，通过小角散射法进行观察，结果未得到清晰的峰，不能确认相分离结构。

对于得到的相位差膜C1，测定在波长550nm处的面内方向延迟Re(550)和厚度方向延迟Rth(550)，结果Re(550)＝3nm，Rth(550)＝90nm，具有接近于负C板的特性。相位差膜C1的Re(450)/Re(550)＝1.02＞1，相位差膜C1显示弱的正波长色散性。

使用上述方法，将得到的相位差膜C1组装成液晶显示装置，评价液晶显示装置的显示性能。结果在从正面方向和倾斜方向进行观察的情况下，色偏移与实施例A1比较变差。

[参考例A2]

在实施例A1中，调节在聚合的第2阶段中添加的丁二烯的量，得到2-乙烯基萘∶丁二烯的重量比为67∶33(即，重量分率wA＝0.67，重量分率wB＝0.33)的嵌段共聚物。得到的嵌段共聚物的玻璃化转变温度为123℃。代替树脂C而使用该嵌段聚合物，除此以外，与实施例A1的(相位差膜的制作)同样地进行，得到厚度为75μm的相位差膜C2。

通过上述方法从剖面入射X射线，通过小角散射法对相位差膜C2进行观察，结果观察到相间距离为40nm、厚度为20nm的层结构。此外，制作与厚度方向平行的剖面的切片，使用TEM进行观察，结果确认到层状相分离结构。

对于得到的相位差膜C2，测定在波长550nm处的面内方向延迟Re(550)和厚度方向延迟Rth(550)，结果确认Re(550)＝4nm，Rth(550)＝90nm，由于结构性双折射，得到接近于负C板的特性。此外，Rth(450)/Rth(550)＝1.20＞1，相位差膜C2显示正波长色散性。

使用上述方法，将得到的相位差膜C2组装成液晶显示装置，评价液晶显示装置的显示性能。结果在从正面方向和倾斜方向进行观察的情况下，色偏移与实施例A1比较变差。

根据以上结果，可知以下内容。

不包含共聚物的比较例A1的相位差膜C1不显示反波长色散性，在从正面方向和倾斜方向进行观察的情况下，色偏移的评价差。

此外，即使具有层状相分离结构，但不满足f(B)(在参考例A2中，聚合单元B在共聚物P中的重量分率wB)＞0.5的相位差膜C2也不显示反波长色散性，在从正面方向和倾斜方向进行观察的情况下，色偏移的评价差。

与此相对，实施例A1的满足f(B)(在实施例A1中，聚合单元B在共聚物P中的重量分率wB)＞0.5、具有层状相分离结构的相位差膜1显示反波长色散性，在从正面方向和倾斜方向进行观察的情况下，色偏移的评价良好。

<实施例B1～实施例B6>

[评价方法]

(热软化温度的测定方法)

(相位差膜的Re、Rth、Δn及NZ系数的测定方法)

相位差膜的面内方向的延迟Re、厚度方向的延迟Rth及NZ系数使用相位差计(Axometrics公司制，“AXOSCAN”)，在测定波长550nm进行测定。

此外，将相位差膜的面内方向的延迟Re除以厚度d，求出相位差膜的双折射Δn。

(波长色散特性的评价方法)

使用相位差计(Axometrics公司制，“AXOSCAN”)，测定在测定波长450nm、550nm及650nm处的相位差膜的面内方向的延迟Re(450)、Re(550)及Re(650)。根据测定的Re(450)、Re(550)及Re(650)，计算Re(450)/Re(550)及Re(650)/Re(550)。

(显示特性的评价方法：λ/4波片(实施例B1～B5))

作为依次具有保护膜、起偏器及保护膜的偏振片，准备透过轴在宽度方向的长条的偏振片(Sanritz Co.,Ltd.制，“HLC2-5618S”，厚度180μm)。除去偏振片一侧的面的保护膜，在该面贴合实施例B1～B5得到的相位差膜。贴合以相位差膜的慢轴方向与偏振片的透过轴方向成45°的角度的方式进行。通过该操作，得到具有实施例B1～B5的相位差膜作为两面的保护膜中的一个的圆偏振片样品。

准备从观看侧起依次具有圆偏振片和有机EL元件的市售的有机EL显示装置(LG电子制，“OLED55EG9600”)。将该有机EL显示装置的圆偏振片替换成上述的圆偏振片样品。在替换时，圆偏振片样品设置成从有机EL元件侧起依次配置有相位差膜、起偏器及保护膜。此外，圆偏振片样品的起偏器的透过轴与有机EL显示装置中原本具有的圆偏振片中的起偏器的透过轴为相同方向。由此得到显示特性评价用的有机EL显示装置。

将得到的有机EL显示装置的显示的状态从相对于显示面为斜方向(与法线方向成45°)起在各个方位进行观察。在此，“方位”是指上述斜方向的与显示面平行的方位。

与替换前的市售的有机EL显示装置相比，在整个全方位都抑制了显示面的反射率的情况下，评价为“良”。

此外，与替换前的市售的有机EL显示装置相比，在一个以上方位反射率为相同以下的情况下，评价为“不良”。

(显示特性的评价方法：λ/2波片(实施例B6))

作为依次具有保护膜、起偏器及保护膜的偏振片，准备透过轴在宽度方向的长条的偏振片(Sanritz Co.,Ltd.制，“HLC2-5618S”，厚度180μm)。除去偏振片一侧的面的保护膜，在该面贴合实施例B6得到的相位差膜。贴合以相位差膜的慢轴方向与偏振片的透过轴方向一致的方式进行。通过该操作，得到具有实施例B6的相位差膜作为两面的保护膜中的一个的偏振片样品。

准备依次具有光源侧偏振片、液晶单元和观看侧偏振片的市售的IPS液晶显示装置(LG电子制，“23MP47HQ”)。将该IPS液晶显示装置的观看侧偏振片替换成上述的偏振片样品。在进行替换时，偏振片样品设置成从液晶单元侧起依次配置有相位差膜、起偏器及保护膜。此外，偏振片样品的起偏器的透过轴与IPS液晶显示装置中原本具有的观看侧偏振片中的起偏器的透过轴为相同方向。由此得到显示特性评价用的液晶显示装置。

将得到的液晶显示装置的显示的状态从相对于显示面为斜方向(与法线方向成45°)起在各个方位进行观察。

与替换前的市售的IPS液晶显示装置相比，在整个全方位对比度均高的评价为“良”。

此外，与替换前的IPS液晶显示装置相比，在一个以上方位对比度为相同以下的评价为“不良”。

[实施例B1]

(1-1.作为共聚物P的加氢嵌段共聚物的制造)

在氮环境下，在进行了干燥、用氮置换了的耐压反应器中，加入100ml的作为溶剂的甲苯、127μl(0.20mmol)的作为聚合催化剂的正丁基锂的1.6M己烷溶液。然后，在耐热反应器中添加40g的作为芳香族乙烯基系化合物的2-乙烯基萘的25wt％甲苯溶液，在25℃使其反应1小时，进行第一阶段的聚合反应。第一阶段的聚合反应结束后，收集一部分聚合物，根据以四氢呋喃为溶剂的GPC的分子量的测定，确认数均分子量(Mn)为33000，重均分子量(Mw)为34600，分子量分布为1.05。此外，通过以氘代氯仿为溶剂的¹H-NMR测定，确认2-乙烯基萘的转化率为95％。

然后，在耐热反应器中的反应混合物中添加5g的作为链状共轭二烯系化合物的异戊二烯，进而在50℃使其反应0.5小时，进行第二阶段的聚合反应。结果在反应混合物中，得到了具有(2-乙烯基萘嵌段)-(异戊二烯嵌段)的嵌段结构的二嵌段共聚物。通过GPC测定，确认二嵌段共聚物的数均分子量(Mn)为68000，重均分子量(Mw)为72000，分子量分布为1.06。通过¹H-NMR测定，确认在第一阶段中残留的2-乙烯基萘被全部消耗，异戊二烯的转化率为96％。此外，根据烯烃部分的积分值的比例，确认异戊二烯嵌段的微观结构为：聚(1,4-异戊二烯)为94％，聚(1,2-异戊二烯)和聚(3,4-异戊二烯)为6％。

然后，在反应混合物中进一步添加40g的作为芳香族乙烯基系化合物的2-乙烯基萘的25wt％甲苯溶液，在25℃使其反应17小时，进行第三阶段的聚合反应。聚合反应结束后，添加100μL的甲醇，在反应混合物中，得到具有(2-乙烯基萘嵌段)-(异戊二烯嵌段)-(2-乙烯基萘嵌段)的嵌段结构的三嵌段共聚物。收集一部分的三嵌段共聚物，通过基于GPC的分子量的测定，由此确认数均分子量(Mn)为106000，重均分子量(Mw)为117600，分子量分布为1.11。此外，通过¹H-NMR测定，确认在第二阶段的聚合中残留的异戊二烯和在第三阶段中加入的2-乙烯基萘被全部消耗。

浓缩得到的三嵌段共聚物，除去甲苯后，使其溶解于700ml的对二甲苯。在该溶液中添加55g的对甲苯磺酰肼，反复多次减压和氮置换操作，由此除去溶液内的氧，然后在温度120℃使其反应6小时。通过该反应，对异戊二烯嵌段的双键进行加氢。加氢结束后，在反应溶液中注入大量的丙酮和甲醇，得到20g的块状产物的加氢嵌段共聚物。得到的加氢嵌段共聚物具有“聚合物嵌段[A]”-“聚合物嵌段[B]”-“聚合物嵌段[A]”这样的三嵌段结构。聚合物嵌段[A]含有2-乙烯基萘单元。聚合物嵌段[B]含有加氢异戊二烯单元。

通过NMR对得到的作为共聚物P的加氢嵌段共聚物进行分析。结果加氢嵌段共聚物中的2-乙烯基萘单元与加氢异戊二烯单元的重量比(wA∶wB)为80∶20。因此，聚合物嵌段[A]的重量分率wA为80％(0.80)，聚合物嵌段[B]的重量分率wB为20％(0.20)。此外，加氢嵌段共聚物中的加氢异戊二烯单元的加氢率＞99％。进而，通过GPC测定的三嵌段共聚物的数均分子量为106000。此外，通过TMA测定的加氢嵌段共聚物的热软化温度Td为133℃。

(1-2.熔融挤出工序)

将上述的加氢嵌段共聚物用作热塑性的树脂C，通过熔融挤出法，进行中间膜的制造。具体而言，进行了如下的操作。

准备如下的挤出成型装置：具有冷却辊和设置成能够将熔融树脂挤出到该冷却辊上的模头。使用挤出机使热塑性树脂C熔融，提供至模头，从模头向冷却辊上挤出成膜状。挤出的树脂C被冷却辊接收，随着冷却辊的旋转而被运送，并且被冷却而固化。由此得到由作为热塑性树脂C的加氢嵌段共聚物形成的厚度为200μm的中间膜。热塑性树脂C的挤出温度Te为261℃。此外，冷却辊的温度Tc为78℃。

(1-3.拉伸处理工序)

将得到的中间膜切断，制成80mm×80mm的大小的矩形膜。使用分批式拉伸装置(东洋精机公司制)，对该矩形膜实施自由宽度单轴拉伸。拉伸的条件为拉伸温度T_E为150℃，拉伸倍率为4.0倍，拉伸速度为100％每分钟。结果得到作为λ/4波片的相位差膜。对得到的相位差膜，按照上述方法进行评价。

[实施例B2和B3]

在工序(1-2)中，如表1所示那样变更中间膜的厚度。通过调节冷却辊的转速而调节利用冷却辊接收熔融树脂的速度，由此来变更中间膜的厚度。中间膜的厚度的变更方法在以下的实施例中也相同。

在工序(1-3)中，如表1所示那样变更中间膜的拉伸条件。

除以上事项以外，通过与实施例B1同样的操作，进行作为λ/4波片的相位差膜的制造及评价。

[实施例B4]

在工序(1-1)中，将用于第一阶段的聚合反应的2-乙烯基萘、用于第二价段的聚合反应的异戊二烯及用于第三阶段的聚合反应的2-乙烯基萘的量分别变更为8g、8g及8g。与实施例B1同样地进行GPC测定，结果确认氢化前的三嵌段共聚物的数均分子量(Mn)为120000，重均分子量(Mw)为133000，分子量分布为1.11。此外，根据第二阶段的聚合后的二嵌段共聚物的¹H-NMR测定，确认异戊二烯嵌段的微观结构为：聚(1,4-异戊二烯)为92％，聚(1,2-异戊二烯)和聚(3,4-异戊二烯)为8％。根据氢化后的加氢嵌段共聚物的GPC测定，确认数均分子量(Mn)为129000，重均分子量(Mw)为144000，分子量分布为1.12。

在工序(1-2)中，如表1所示那样变更热塑性树脂C的挤出条件。

在工序(1-3)中，如表1所示那样变更中间膜的拉伸条件。

[实施例B5]

在工序(1-1)中，将用于第一阶段的聚合反应的2-乙烯基萘、用于第二价段的聚合反应的异戊二烯及用于第三阶段的聚合反应的2-乙烯基萘的量分别变更为9g、6g及9g。与实施例B1同样地进行GPC测定，结果确认得到的氢化前的三嵌段共聚物的数均分子量(Mn)为95000，重均分子量(Mw)为106000，分子量分布为1.12。此外，根据第二阶段的聚合后的二嵌段共聚物的¹H-NMR测定，确认异戊二烯嵌段的微观结构为：聚(1,4-异戊二烯)为92％，聚(1,2-异戊二烯)和聚(3,4-异戊二烯)为8％。根据氢化后的加氢嵌段共聚物的GPC测定，确认数均分子量(Mn)为103000，重均分子量(Mw)为116000，分子量分布为1.13。

在工序(1-2)中，如表1所示那样变更热塑性树脂的挤出条件。

在工序(1-3)中，如表1所示那样变更中间膜的拉伸条件。

[实施例B6]

在工序(1-2)中，如表1所示那样变更热塑性树脂的挤出条件。

在工序(1-3)中，如表1所示那样变更中间膜的拉伸条件。

除以上事项以外，通过与实施例B1同样的操作，进行作为λ/2波片的相位差膜的制造。对得到的相位差膜，按照上述方法进行评价。

[实施例B1～B6的结果]

实施例B1～B6的结果如下述表所示。在下述的表中，简称的意思如下所示。

VN：2-乙烯基萘。

IP：异戊二烯。

ABA：[A]-[B]-[A]三嵌段结构。

[表1]嵌段结构

[表1.实施例B1～B6的结果]

以上的结果示出，本发明的相位差膜具有反波长色散性，能够容易地以低成本进行制造。

附图标记说明

10：相位差膜

20：树脂

30：中间膜

100：挤出成型装置

110：模头

120：冷却辊

200：拉伸装置

Claims

1.一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，所述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，

所述相位差膜包含显现结构性双折射的层状相分离结构，

所述相分离结构包含以所述聚合单元A为主成分的相A和以所述聚合单元B为主成分的相B，

所述相位差膜满足下述式(1A)和(2)，或者满足下述式(1B)和(2)，

所述相位差膜在波长550nm处测定的面内方向延迟Re(550)为0nm以上且10nm以下，在波长550nm处测定的厚度方向延迟Rth(550)为80nm以上且300nm以下，

f(A)＞0.5 (1A)

f(B)＞0.5 (1B)

D(A)＞D(B) (2)

在此，f(A)表示所述共聚物P中的所述聚合单元A的总重量比率，f(B)表示所述共聚物P中的所述聚合单元B的总重量比率，

D(A)＝ReA(450)/ReA(550)，

D(B)＝ReB(450)/ReB(550)，

ReA(450)表示由聚合物A形成的膜A在波长450nm处测定的面内方向延迟(nm)，所述聚合物A是由所述聚合物单元A形成的，

ReA(550)表示所述膜A在波长550nm处测定的面内方向延迟(nm)，

ReB(450)表示由聚合物B形成的膜B在波长450nm处测定的面内方向延迟(nm)，所述聚合物B是由所述聚合单元B形成的，

ReB(550)表示所述膜B在波长550nm处测定的面内方向延迟(nm)。

2.根据权利要求1所述的相位差膜，其还满足下述式(3)：

D(A)≥1.06 (3)。

3.根据权利要求1或2所述的相位差膜，其还满足下述式(4)：

(D(A)-D(B))≥0.04 (4)。

4.根据权利要求1～3中任1项所述的相位差膜，其中，在波长450nm处测定的厚度方向延迟Rth(450)与在波长550nm处测定的厚度方向延迟Rth(550)的比率Rth(450)/Rth(550)为0以上且小于1。

5.根据权利要求4所述的相位差膜，其中，所述厚度方向延迟Rth(450)与所述厚度方向延迟Rth(550)的比率Rth(450)/Rth(550)为0.75以上且0.95以下。

6.根据权利要求1～5中任1项所述的相位差膜，其中，所述层状相分离结构中的所述相A和所述相B的厚度分别为50nm以下。

7.根据权利要求1～6中任1项所述的相位差膜，其中，所述聚合物A的折射率n(a)与所述聚合物B的折射率n(b)的差的绝对值|n(a)-n(b)|为0.05以上。

8.根据权利要求1～7中任1项所述的相位差膜，其中，所述相分离结构中的相间距离为200nm以下。

9.根据权利要求1～8中任1项所述的相位差膜，其中，所述共聚物P为具有以所述聚合单元A为主成分的嵌段A和以所述聚合单元B为主成分的嵌段B的嵌段聚合物。

10.根据权利要求1～9中任1项所述的相位差膜，其中，所述共聚物P包含三嵌段共聚物P’，所述三嵌段共聚物P’为具有以所述聚合单元A为主成分的嵌段A和以所述聚合单元B为主成分的嵌段B的A-B-A三嵌段共聚物。

11.根据权利要求1～10中任1项所述的相位差膜，其中，所述共聚物P包含五嵌段共聚物P”，所述五嵌段共聚物P”为具有以所述聚合单元A为主成分的嵌段A和以所述聚合单元B为主成分的嵌段B的A-B-A-B-A五嵌段共聚物。

12.根据权利要求1～11中任1项所述的相位差膜，其中，所述相位差膜是通过压制加工法制造的。

13.一种相位差膜的制造方法，是权利要求1～11中任1项所述的相位差膜的制造方法，包含以下工序：

第一工序，将包含所述共聚物P的所述树脂C熔融挤出到冷却辊上而得到中间膜，所述共聚物P包含所述聚合单元A和所述聚合单元B；

第二工序，对所述中间膜实施拉伸处理，

所述共聚物P的热软化温度Td和所述冷却辊的温度Tc满足下述式(5)：

Tc＜Td-50℃ (5)。

14.根据权利要求13所述的相位差膜的制造方法，满足所述式(1A)和(2)。

15.根据权利要求13所述的相位差膜的制造方法，满足所述式(1B)和(2)。