CN113167954A - 光学膜、相位差膜、及它们的制造方法 - Google Patents

光学膜、相位差膜、及它们的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种光学膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，上述光学膜包含显现结构性双折射的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A作为主成分的相(A)和以上述聚合单元B作为主成分的相(B)，|n(A)‑n(B)|为0.12以上。

Description

光学膜、相位差膜、及它们的制造方法
技术领域
本发明涉及光学膜、相位差膜、及它们的制造方法。
背景技术
在液晶显示装置等显示装置中，为了提高其显示品质，有时会设置具有各种特性的光学膜，这促进了各种光学膜的开发。例如，正在开发具有光学各向异性的光学膜(专利文献1、3～5)、具有光学各向同性的光学膜(专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-111650号公报；
专利文献2：日本特开2006-142561号公报；
专利文献3：日本特开2006-143799号公报；
专利文献4：国际公开第2008/146924号(对应外国公报：美国专利申请公开第2010/283949号说明书)；
专利文献5：日本特开平05-164920号公报。
发明内容
发明要解决的问题
显示装置也被用于车内等高温的地方，因此可用于显示装置的构件需要具有耐热性。
作为可用于显示装置的构件，可举出用于提高可视角特性例如可视角补偿、抑制反射等而设置的相位差膜。相位差膜除要求耐热性以外，还要求NZ系数大于0且小于1。进而，NZ系数优选为0.5或与其接近的值。
作为制造具有这样的NZ系数的相位差膜的方法，可举出将多个层进行组合的方法(专利文献4)。然而，通过该方法得到的相位差膜的结构复杂，因此膜的制造成本高且生产率低。
此外，还有通过将Rth/d值大(例如0.5×10-3以上)的膜进行拉伸从而制造具有这样的NZ系数的相位差膜的方法。在此，Rth表示膜的厚度方向的延迟(nm)、d(nm)表示膜的厚度。
然而，在现有的光学膜中，难以满足大的Rth/d值和耐热性这二者，结果是，从现有的光学膜中难以得到满足提高可视角特性的效果和耐热性这二者的相位差膜。
因此，需要一种可以以低成本制造可充分得到提高可视角特性的效果、具有耐热性的相位差膜的光学膜、以及制造该光学膜的方法。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述问题进行了深入研究。结果发现，一种光学膜，由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，在该光学膜中，通过其包含显现结构性双折射的相分离结构，且由聚合单元A形成的聚合物(A)的特性和由聚合单元B形成的聚合物(B)的特性满足规定的关系，可解决上述问题，以至完成了本发明。
即，本发明提供以下内容。
[1]一种光学膜，由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，
上述光学膜包含显现结构性双折射的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A作为主成分的相(A)和以上述聚合单元B作为主成分的相(B)，
由上述聚合单元A形成的聚合物(A)的折射率n(A)与由上述聚合单元B形成的聚合物(B)的折射率n(B)的差的绝对值|n(A)-n(B)|为0.12以上。
[2]根据[1]所述的光学膜，其中，上述聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)与上述聚合物(B)的玻璃化转变温度Tg(B)(℃)的差的绝对值|Tg(A)-Tg(B)|为180℃以上。
[3]根据[1]或[2]所述的光学膜，其中，上述玻璃化转变温度Tg(A)(℃)为120℃以上。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的光学膜，其中，上述相分离结构具有层状、柱状和球状中的任一种形态。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的光学膜，其中，上述相分离结构中的相间距离为200nm以下。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的光学膜，其中，上述共聚物P为具有以上述聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以上述聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的嵌段共聚物。
[7]根据[1]～[6]中任一项所述的光学膜，其中，上述聚合单元A为通式(A)所表示的单元。
[化学式1]
Figure BDA0003075321960000031
式中，RC为选自苯基、联苯基、萘基、蒽基、菲基、并四苯基、并五苯基和三联苯基中的基团，
R1～R3各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～12的烷基中的一个。
[8]根据[7]所述的光学膜，其中，在上述共聚物P中，将上述聚合单元A氢化得到的聚合单元HA相对于上述聚合单元A的摩尔比率为0/100以上且10/90以下。
[9]根据[1]～[8]中任一项所述的光学膜，其中，上述聚合单元B为通式(B-1)所表示的单元或通式(B-2)所表示的单元，
[化学式2]
Figure BDA0003075321960000041
式中，R4～R9各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～6的烷基中的一个。
[10]根据[9]所述的光学膜，其中，在上述共聚物P中，下述通式(B'-1)所表示的单元和下述通式(B'-2)所表示的单元相对于上述聚合单元B的合计摩尔比率为0/100以上且10/90以下。
[化学式3]
Figure BDA0003075321960000042
式中，R4～R9与上述同义。
[11]根据[1]～[10]中任一项所述的光学膜，其中，上述聚合单元A为乙烯基萘单元、乙烯基萘衍生物单元、苯乙烯单元或苯乙烯衍生物单元，
上述聚合单元B为将异戊二烯单元氢化得到的单元、将丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将2,3-二甲基-1,3-丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-己二烯单元氢化得到的单元、将2-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将3-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元或将2,4-二甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元。
[12]根据[1]～[11]中任一项所述的光学膜，其中，上述共聚物P包含三嵌段共聚物P'，
上述三嵌段共聚物P'为具有以上述聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以上述聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的(A)-(B)-(A)三嵌段共聚物。
[13]根据[1]～[12]中任一项所述的光学膜，其中，上述共聚物P具有负的固有双折射值。
[14]根据[1]～[13]中任一项所述的光学膜，其中，上述聚合单元A具有负的固有双折射值，上述聚合单元B具有正的固有双折射值。
[15]根据[1]～[14]中任一项所述的光学膜，其中，上述共聚物P中的上述聚合单元A的重量百分比为50重量％以上且小于70重量％。
[16]一种光学膜的制造方法，是制造[1]～[15]中任一项所述的光学膜的方法，包括：
将上述树脂C加热到150℃以上，形成由上述树脂C形成的单层的膜的工序，以及
在上述膜中，使上述树脂C相分离的工序。
[17]根据[16]所述的光学膜的制造方法，其中，形成上述膜的工序包括将上述树脂C以单层进行熔融挤出的步骤。
[18]一种相位差膜的制造方法，包括将[1]～[15]中任一项所述的光学膜进行拉伸而得到相位差膜的工序。
[19]根据[18]所述的相位差膜的制造方法，其中，上述光学膜通过[16]或[17]所述的制造方法制造。
发明效果
根据本发明，能够提供一种光学膜、以及制造该光学膜的方法，该光学膜可以以低成本制造可充分得到提高可视角特性的效果、具有耐热性的相位差膜。
具体实施方式
以下，对本发明示出实施方式和示例物进行详细说明。但是，本发明并不限定于以下所示的实施方式和示例物，在不脱离本发明的请求保护的范围及与其同等的范围的范围内可以任意地变更来进行实施。
在以下的说明中，“长条”的膜是指相对于宽具有5倍以上的长度的膜，优选具有10倍或其以上的长度，具体而言是指具有可卷成卷状而保存或搬运的程度的长度的膜。膜的长度的上限没有特别限制，例如相对于宽度可以为10万倍以下。
在以下的说明中，“片”不仅包含刚直的构件，而且也包含例如树脂制的膜这样具有可挠性的构件。
在以下的说明中，只要没有特别说明，膜或层的慢轴表示该膜或层的面内的慢轴。
在以下的说明中，只要没有特别说明，具有多个层的构件中的各层的光学轴(慢轴、透射轴、吸收轴等)所成的角度表示从厚度方向观察上述层时的角度。
在以下的说明中，只要没有特别说明，某膜的正面方向是指该膜的主面的法线方向，具体而言是指上述主面的极角为0°且方位角为0°的方向。
在以下的说明中，只要没有特别说明，某膜的倾斜方向是指与该膜的主面既不平行也不垂直的的方向，具体是指上述主面的极角大于0°且小于90°的范围的方向。
在以下的说明中，只要没有特别说明，层的面内方向的延迟Re为Re＝(nx-ny)×d所表示的值。此外，只要没有特别说明，层的厚度方向的延迟Rth为Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×d所表示的值。进而，只要没有特别说明，层的NZ系数为(nx-nz)/(nx-ny)所表示的值。在此，nx表示与层的厚度方向垂直的方向(面内方向)中赋予最大的折射率的方向的折射率。ny表示在层的上述面内方向中与nx的方向正交的方向的折射率。nz表示层的厚度方向的折射率。d表示层的厚度。只要没有特别说明，测定波长为590nm。
在以下的说明中，只要没有特别说明，要素的方向“平行”、“垂直”和“正交”在不损害本发明的效果的范围内可包含例如±3°、±2°或±1°的范围内的误差。
聚合物的固有双折射值的正负是由拉伸聚合物的成型体时的该成型体的折射率的变动来规定的。即，具有正的固有双折射值的聚合物是指拉伸方向的该成型体的折射率相比于拉伸前变大的聚合物。此外，具有负的固有双折射值的聚合物是指拉伸方向的该成型体的折射率相比于拉伸前变小的聚合物。固有双折射值可以根据介电常数分布进行计算。
进而，某特定的聚合单元具有正的固有双折射值是指，仅由该聚合单元形成的聚合物具有正的固有双折射值，某特定的聚合单元具有负的固有双折射值是指，仅由该聚合单元形成的聚合物具有负的固有双折射值。因此，聚合单元的固有双折射值的正负可以通过如下方法容易地进行判定：制备仅由该聚合单元形成的均聚物，将该聚合物制成任意形状的成型体，拉伸该成型体，测定其光学特性，由此进行判定。通常，已知烯、二烯等烃的聚合单元大多具有正的固有双折射值，另一方面，已知苯乙烯、乙烯基萘等侧链具有芳香环的烃的聚合物大多具有负的固有双折射值。
在以下的说明中，有时会使用某单体的名称表述利用该单体的聚合生成的聚合单元所构成的聚合物中的嵌段。例如，有时将利用2-乙烯基萘的聚合生成的聚合单元所构成的嵌段表述为“2-乙烯基萘嵌段”、将利用异戊二烯的聚合生成的聚合单元所构成的嵌段表述为“异戊二烯嵌段”。
[1.相位差膜]
本实施方式的相位差膜由树脂C形成。
[1.1.树脂C]
树脂C含有特定的共聚物P。共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B。共聚物P优选为具有以聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的嵌段共聚物。通常，嵌段共聚物是指具有多种嵌段连接而成的分子结构的聚合物，各个嵌段是通过连接聚合单元而构成的链。本发明的一个实施方式中的特定的嵌段共聚物具有特定的嵌段(A)和嵌段(B)。在以下的说明中，有时将该特定的嵌段共聚物简称为“嵌段共聚物”。在此，某嵌段中作为主成分的聚合单元是指，相对于构成该嵌段的聚合单元的总重量为50重量％以上的聚合单元。
聚合单元A可以具有负的固有双折射值。另一方面，聚合单元B可以具有正的固有双折射值。
作为聚合单元A的例子，可举出下述通式(A)所表示的单元。
[化学式4]
Figure BDA0003075321960000081
RC为选自苯基、联苯基(例如，4-联苯基、2-联苯基、3-联苯基)、萘基(例如，1-萘基、2-萘基)、蒽基(例如，蒽-1-基、蒽-2-基、蒽-9-基)、菲基(例如，菲-1-基、菲-2-基、菲-3-基、菲-4-基、菲-9-基)、并四苯基(例如，并四苯-1-基、并四苯-2-基、并四苯-5-基)、并五苯基(例如，并五苯-1-基、并五苯-2-基、并五苯-5-基、并五苯-6-基)以及三联苯基中的基团。
R1～R3各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～12的烷基中的一个。作为该烷基的例子，可举出甲基、乙基、丙基和己基。
在式(A)中，
优选R1为氢原子或甲基，更优选为氢原子。
优选R2和R3为氢原子。
优选RC为萘基或苯基，更优选为萘基。
更优选R2和R3为氢原子且RC为萘基或苯基、或者R2和R3为氢原子且R1为氢原子。进一步优选R2和R3为氢原子、RC为萘基且R1为氢原子(乙烯基萘单元)，或者R1、R2和R3为氢原子、RC为苯基(苯乙烯单元)，最优选R2和R3为氢原子、RC为萘基且R1为氢原子。
聚合单元A可以通过使形成聚合单元A的单体(a)聚合来得到。作为单体(a)的例子，可举出乙烯基萘及其衍生物、以及苯乙烯及其衍生物。作为形成聚合单元A的单体(a)，优选乙烯基萘、乙烯基萘衍生物、苯乙烯和苯乙烯衍生物。因此，在一个实施方式中，聚合单元A优选为乙烯基萘单元、乙烯基萘衍生物单元、苯乙烯单元或苯乙烯衍生物单元。
作为乙烯基萘的例子，可举出1-乙烯基萘和2-乙烯基萘。作为乙烯基萘的衍生物的例子，可举出α-烷基乙烯基萘(例如，α-甲基-1-乙烯基萘、α-乙基-1-乙烯基萘、α-丙基-1-乙烯基萘、α-己基-1-乙烯基萘、α-甲基-2-乙烯基萘、α-乙基-2-乙烯基萘、α-丙基-2-乙烯基萘和α-己基-2-乙烯基萘)。作为乙烯基萘及其衍生物，从工业上易于获得的观点出发，优选2-乙烯基萘。
作为苯乙烯的衍生物，可举出α-烷基苯乙烯(例如，α-甲基苯乙烯、α-乙基苯乙烯)。作为苯乙烯及其衍生物，从工业上易于获得的观点出发，优选苯乙烯。
在共聚物P中，作为聚合单元A，可以仅单独具有一种，也可以以任意比例组合具有两种以上。因此，作为用于形成聚合单元A的单体(a)，可以仅单独使用一种，也可以以任意比例组合使用两种以上。
共聚物P可以包含将聚合单元A氢化得到的聚合单元。将聚合单元A氢化得到的聚合单元为具有聚合单元A被氢化的结构的聚合单元。以下，也将聚合单元A氢化得到的聚合单元称为聚合单元HA。聚合单元HA可以是通过任意的方法制造的单元。
作为聚合单元HA的例子，可举出在通式(A)所表示的单元中，对RC所表示的基团所具有的不饱和键的一部分或者全部加成氢原子而得到的单元。
在共聚物P中，聚合单元HA相对于聚合单元A的摩尔比率(HA/A)优选为10/90以下，更优选为5/95以下，进一步优选为2/98以下，最优选为1/99以下，为0/100以上，但是，理想为0/100。共聚物P中的摩尔比率(HA/A)可以通过测定共聚物P的1H-NMR来确定。
在共聚物P包含多种聚合单元HA的情况下，摩尔比率(HA/A)的含义是多种聚合单元HA各自的摩尔比率的合计。在共聚物P包含多种聚合单元A的情况下，摩尔比率(HA/A)的含义是聚合单元HA相对于多种聚合单元A的合计摩尔数的摩尔比率。
作为聚合单元B的例子，可举出下述通式(B-1)所表示的单元和(B-2)所表示的单元。
[化学式5]
Figure BDA0003075321960000101
R4～R9各自独立地为选自氢原子或碳原子数为1～6的烷基中的一个。作为该烷基的例子，可举出甲基、乙基、丙基和己基。R4～R9各自独立地优选为氢原子或甲基。
聚合单元B可以通过使可以形成聚合单元B的单体(b)聚合而形成聚合单元，进而在该聚合单元中存在双键的情况下将其氢化，从而得到。作为单体(b)的例子，可举出下述通式(bm)所表示的化合物。
[化学式6]
Figure BDA0003075321960000102
在上述通式(bm)中，R4～R9的定义与通式(B-1)和通式(B-2)中的定义相同。
作为单体(b)的优选的例子，可举出丁二烯(式(bm)中的R4～R9全部为氢原子)、异戊二烯(式(bm)中的R4～R9中，R6或R7为甲基、其他的为氢原子)、1,3-戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-己二烯、2-甲基-1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯和2,4-二甲基-1,3-戊二烯。其中，从得到透明性、耐热性和加工性优异的树脂C的观点出发，更优选丁二烯和异戊二烯。作为聚合单元B的优选的例子，可举出具有与单体(b)的优选的例子中的R4～R9相同的基团作为R4～R9的例子，聚合单元B更优选将异戊二烯单元氢化得到的单元、将丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将2,3-二甲基-1,3-丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-己二烯单元氢化得到的单元、将2-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将3-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元和将2,4-二甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元。
在此，将某单元氢化得到的单元为具有该某单元被氢化的结构的单元。将某单元氢化得到的单元可以是通过任意的方法制造的单元。
在共聚物P中，作为聚合单元B，可以仅单独具有一种，也可以以任意比例组合具有两种以上。因此，作为用于形成聚合单元B的单体(b)，可以仅单独使用一种，也可以以任意比例组合使用两种以上。
共聚物P可以包含当氢化时可得到聚合单元B的聚合单元。当氢化时可得到聚合单元B的聚合单元为具有聚合单元B被脱氢化的结构的聚合单元。以下，也将当氢化时可得到聚合单元B的聚合单元称为聚合单元B'。聚合单元B'可以是通过任意的方法制造的单元。
作为聚合单元B'的例子，可举出下述通式(B'-1)所表示的单元和下述通式(B'-2)所表示的单元。
[化学式7]
Figure BDA0003075321960000111
在上述通式(B'-1)和通式(B'-2)中，R4～R9的定义与通式(B-1)和通式(B-2)中的定义相同。
在共聚物P中，聚合单元B'相对于聚合单元B的摩尔比率(B'/B)优选为10/90以下，更优选为5/95以下，进一步优选为2/98以下，，最优选为1/99以下，为0/100以上，但是，理想为0/100。共聚物P中的摩尔比率(B'/B)可以通过测定共聚物P的NMR来确定。
在共聚物P包含多种聚合单元B'的情况下，摩尔比率(B'/B)的含义是多种聚合单元B'各自的摩尔比率的合计。在共聚物P包含多种聚合单元B的情况下，摩尔比率(B'/B)的含义是聚合单元B'相对于多种聚合单元B的合计摩尔数的摩尔比率。
因此，在聚合单元B为通式(B-1)所表示的单元或通式(B-2)所表示的单元、聚合单元B'为通式(B'-1)所表示的单元或通式(B'-2)所表示的单元的情况下，共聚物P中的摩尔比率(B'/B)为通式(B'-1)所表示的单元和下述通式(B'-2)所表示的单元相对于通式(B-1)所表示的单元和通式(B-2)所表示的单元的合计摩尔数的合计摩尔比率，即，含义是通式(B'-1)所表示的单元的摩尔比率和下述通式(B'-2)所表示的单元的摩尔比率的合计。
在共聚物P具有嵌段(A)的情况下，嵌段(A)可以具有除聚合单元A以外的任意的聚合单元。作为该任意的聚合单元的例子，可举出由能够与单体(a)共聚的任意的单体的聚合所形成的单元、和由该单元的氢化所形成的单元。
在共聚物P具有嵌段(B)的情况下，嵌段(B)可以具有除聚合单元B以外的任意的聚合单元。作为该任意的聚合单元的例子，可举出在单体(b)聚合而成的聚合单元中的残存有未被氢化的双键的聚合单元、以及由能够与单体(b)共聚的任意的单体的聚合所形成的单元和由该单元的氢化所形成的单元。
但是，从显现树脂C的光学特性和机械特性的观点出发，优选嵌段(A)中的聚合单元A的比例和嵌段(B)中的聚合单元B的比例均高。嵌段(A)中的聚合单元A的比例优选为50重量％以上，更优选为75重量％以上，进一步优选为95重量％以上，特别优选嵌段(A)仅由聚合单元A形成。嵌段(B)中的聚合单元B的比例优选为50重量％以上，更优选为75重量％以上，进一步优选为95重量％以上，特别优选嵌段(B)仅由聚合单元B形成。
嵌段(A)和嵌段(B)优选为非相溶性。通过它们之间为非相溶性，能够更容易在相位差膜中得到相分离结构。嵌段(A)和嵌段(B)之间是否为非相溶性可以基于具有与嵌段共聚物中的这些嵌段的大小同等程度的分子量的、由聚合单元A形成的均聚物和由聚合单元B形成的均聚物有无相溶性来进行判定。该均聚物有无相溶性可以通过将这些均聚物混合形成混合物，在它们处于熔融的温度的情况下是否发生相分离来进行判定。
共聚物P的分子结构只要具有聚合单元A和聚合单元B则没有特别限定，可以为具有任意构成的分子结构。例如，在共聚物P为嵌段共聚物的情况下，该嵌段共聚物可以是直线型嵌段共聚物、也可以是接枝型嵌段共聚物。
作为直线型嵌段共聚物的例子，可举出：具有嵌段(A)和嵌段(B)连接的(A)-(B)的嵌段构成的二嵌段共聚物；具有嵌段(A)、嵌段(B)和另一个嵌段(A)依次连接的(A)-(B)-(A)的嵌段构成的三嵌段共聚物(在本申请中，有时称为“三嵌段共聚物P'”)；具有三个嵌段(A)和两个嵌段(B)以(A)-(B)-(A)-(B)-(A)依次连接的嵌段构成的五嵌段共聚物；以及比这些嵌段多的嵌段连接的嵌段构成的直线型嵌段共聚物。作为多个嵌段连接的嵌段构成的例子，可举出(A)-((B)-(A))n-(B)-(A)和(B)-((A)-(B))n-(A)-(B)(n为1以上的整数)的嵌段构成。
作为接枝型嵌段共聚物的例子，可举出具有在嵌段(A)上连接嵌段(B)作为侧链的(A)-g-(B)的嵌段构成的嵌段共聚物。
从使树脂C显现期望的光学特性的观点出发，优选共聚物P可以是具有每一分子中具有2个以上的聚合物嵌段(A)和1个以上的聚合物嵌段(B)的分子结构的嵌段共聚物。更优选嵌段共聚物可以是具有(A)-(B)-(A)的嵌段构成的三嵌段共聚物。
在共聚物P中，可以调节聚合单元A的重量百分比以显现期望的光学特性。聚合单元A的重量百分比是指相对于构成共聚物P的聚合单元的合计的重量的聚合单元A的重量。在树脂C含有多种共聚物P的情况下，此处所说的聚合单元A的重量百分比是相对于所包含的多种共聚物P总体的聚合单元的合计的重量的聚合单元A的重量。共聚物P中的聚合单元A的重量百分比优选为50重量％以上，更优选为53重量％以上，进一步优选为55重量％以上，优选为小于70重量％，更优选为小于69重量％，进一步优选为68重量％以下，特别优选为小于68重量％，优选为50重量％以上且小于70重量％，更优选为55重量％以上且小于68重量％。通过使共聚物P中的聚合单元A的重量百分比为上述下限值以上，可以使由光学膜制造的相位差膜具有更优异的耐热性。通过使共聚物P中的聚合单元A的重量百分比为上述上限值以下，可以使由光学膜制造的相位差膜具有更优异的可视角特性。
共聚物P的分子量没有特别限定，可以在能够得到优选的光学特性和机械特性的范围内适当调节。共聚物P的分子量可以为例如50000～400000的范围。此外，共聚物P的玻璃化转变温度Tg可以为例如110℃～150℃的范围。共聚物P的玻璃化转变温度Tg可以通过热机械分析(TMA)进行测定。
共聚物P优选具有负的固有双折射值。这样的负的固有双折射值可以通过调节共聚物P中的聚合单元的比例来得到。具体而言，使聚合单元A为具有负的固有双折射值的单元、且将聚合单元A的重量百分比调节为上述的下限以上的范围内，由此可以形成具有负的固有双折射值的共聚物。通过使共聚物P具有负的固有双折射值，能够对相位差膜赋予期望的光学特性。
树脂C可以仅由共聚物P形成，也可以除共聚物P以外还包含任意的成分。作为任意的成分的例子，可举出染料、颜料、抗氧化剂等添加剂。该任意的成分的比例可以为不损害本发明的效果的范围内的比例。具体而言，树脂C中的共聚物P的比例优选为98重量％以上，更优选为99重量％以上，通常为100重量％以下，进一步优选树脂C仅由共聚物P形成。
[1.2.光学膜所包含的结构、光学膜的特性等]
本实施方式的光学膜包含显现结构性双折射的相分离结构。相分离结构形成于构成光学膜的树脂C的层内。树脂C的相分离结构是指通过树脂C中的共聚物P的由聚合单元A构成的部分(例如嵌段(A))和由聚合单元B构成的部分(例如嵌段(B))的自组织化，在层内以聚合单元A作为主成分的相(也称为相(A)。)和以聚合单元B作为主成分的相(也称为相(B)。)分离为可区分的不同的相。在以下的说明中，有时候会将这些相简称为“聚合单元A的相”和“聚合单元B的相”。在结构充分小于光的波长的情况下，呈现这样的相分离结构的取向层可以显现结构性双折射。
结构性双折射是指像该相分离结构那样在包含具有不同的折射率的多种相的结构中产生的双折射。例如，在某结构中，在某具有折射率n1的相中存在具有与n1不同的折射率n2的相，在此情况下该结构可以显现结构性双折射。结构性双折射与拉伸带来的分子取向所产生的取向性双折射明显不同，其即使在各相由各向同性介质形成也产生双折射。
结构性双折射实际产生这一情况可以通过测定膜的光学特性来进行确认。用挤出成型、压制加工、溶剂浇铸等常规方法制造的未拉伸膜通常分子取向是无规的，因此Re和Rth取几乎接近于零的值。另一方面，在显现结构性双折射的未拉伸膜中，可以观察到相比于在用常规方法制造的通常的未拉伸膜中观察的值更大值的Re和Rth。因此，通过该值的测定，可以确认结构性双折射的显现。具体而言，在未拉伸膜的Rth/d为0.5×10-3以上的情况下，可以判定该未拉伸膜显现结构性双折射。但是，通过并用电子显微镜、小角X射线散射进行结构观察，可以进行更可靠的结构性双折射的显现的确认。
作为相分离结构的具体例子，可举出层状结构、球状结构和柱状结构等。在这些相分离结构中显现哪一种受各种因素的影响。作为影响结构的显现的主要的因素，可举出以聚合单元A作为主成分的相和以聚合单元B作为主成分的相的体积比。这些相的体积比能够通过使嵌段共聚物中的嵌段(A)和嵌段(B)的比例发生变化来进行调节。相分离结构优选为柱状结构或层状结构。
在相分离结构中，结构的大小可以在光学膜能够赋予所期望的光学特性的范围内进行适当调节。例如，相间的距离优选为200nm以下，更优选为150nm以下，进一步优选为100nm以下，发生了相分离的各相的大小优选为100nm以下，更优选为80nm以下，进一步优选为60nm以下。对于相间的距离，例如，在层状的相分离的情况下，相间的距离是指层与层之间的间隔(即层状的层的重复单元的间距)，在柱状的相分离结构的情况下，相间的距离是指柱与柱之间的间隔，在球状的相分离结构的情况下，相间的距离是指球体与球体之间的间隔。对于发生相分离的相的大小，在层状的相分离的情况下，发生相分离的相的大小是指层的厚度，在柱状的相分离的情况下，发生相分离的相的大小是指柱半径，在球状的相分离结构的情况下，发生相分离的相的大小是指球体半径。作为相间的距离，可以采用将通过小角X射线散射的测定得到的散射图案与理论曲线进行拟合所求得的值。
像这样，相间的距离、以及发生相分离的相的大小充分小于可见光，由此结构性双折射显现，且能够抑制膜的着色和透光率的降低。相间距离的下限没有特别限定，可以为例如10nm以上。发生相分离的相的大小的下限没有特别限定，可以为例如10nm以上。相间距离的调节可以通过调节共聚物P的分子结构来进行。例如可通过采用嵌段共聚物作为共聚物P，适当调节嵌段(A)和嵌段(B)的长度等要素进行。
由聚合单元A形成的聚合物(A)的折射率n(A)与由聚合单元B形成的聚合物(B)的折射率n(B)的差的绝对值|n(A)-n(B)|越大，越能够有效地显现结构性双折射，由得到的光学膜制造的相位差膜的可视角特性越良好。
|n(A)-n(B)|优选为0.12以上，更优选为0.14以上，进一步优选为0.16以上，越大越优选，但是，可以设为0.25以下。折射率可以通过例如棱镜耦合法进行测定。
由聚合单元A形成的聚合物(A)可通过将对应于聚合单元A的单体聚合、进而根据需要进行加氢等反应来得到。由聚合单元B形成的聚合物(B)可通过将对应于聚合单元B的单体聚合、进而根据需要进行加氢等反应来得到。在共聚物P具有嵌段(A)和嵌段(B)的情况下，聚合物(A)和聚合物(B)分别与嵌段(A)和嵌段(B)的制造方法同样地进行来得到。
聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)与聚合物(B)的玻璃化转变温度Tg(B)(℃)的差的绝对值|Tg(A)-Tg(B)|(℃)越大，由得到的光学膜制造的相位差膜的可视角特性和耐热性越平衡。
|Tg(A)-Tg(B)|优选为180℃以上，更优选为190℃以上，进一步优选为200℃以上，越大越优选，但是，可以设为275℃以下。聚合物(A)和聚合物(B)的玻璃化转变温度可以通过例如差示扫描量热分析法进行测定。作为测定条件，可以基于JIS K 6911、升温速度为10℃/分钟。
以聚合单元A作为主成分的相中的聚合单元A的含有比例和以聚合单元B作为主成分的相中的聚合单元B的含有比例可以通过适当调节用于制造共聚物P的材料和制造的操作来进行调节。从效果显现的方面出发，该含有比例优选为高的值。以聚合单元A作为主成分的相中的聚合单元A的含有比例优选为50重量％以上，更优选为75重量％以上，通常为100重量％以下，进一步优选为100重量％。以聚合单元B作为主成分的相中的聚合单元B的含有比例优选为50重量％以上，更优选为75重量％以上，通常为100重量％以下，进一步优选为100重量％。
聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)优选为120℃以上，更优选为130℃以上，进一步优选为140℃以上，可以设为180℃以下。通过选择聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)控制在上述范围的聚合单元A，可以有效地提高相位差膜的耐热性。
光学膜的根据膜的厚度方向延迟Rth(nm)和膜厚度(nm)算出的Rth/d的值优选为0.5×10-3以上，更优选为1.0×10-3以上，进一步优选为1.5×10-3以上，优选为8.0×10-3以下，更优选为7.0×10-3以下，进一步优选为6.5×10-3以下，优选为1.0×10-3以上且8.0×10-3以下。通过将Rth/d的值控制在上述范围，可以形成能够制造可视角特性优异的相位差膜的光学膜。
光学膜的厚度能够根据后续的拉伸工序中的拉伸条件、使用目的等适当设定，优选为150μm以下，更优选为100μm以下，可以大于0μm，设为10μm以上。
光学膜的Rth/d能够通过调节上述|n(A)-n(B)|的值进行调节。具体而言，通过增大|n(A)-n(B)|的值，可以增大Rth/d。此外，光学膜的Rth/d可以通过减小共聚物P中的聚合单元A的重量百分比来增大。
[2.光学膜的制造方法]
上述的光学膜可以通过包括形成树脂C的单层的膜的工序和在该膜中使树脂C相分离的工序的制造方法进行制造。
作为用于形成树脂C的膜的工序的具体的制膜方法的例子，可举出溶液流延法、熔融挤出法、压延法和压缩成型法(压制成型法)。在有效地制造大量的光学膜的情况下，特别优选熔融挤出法。
在用熔融挤出法形成膜的情况下，通常会进行用挤出机将熔融的树脂从模头挤出后、将挤出的树脂浇铸到冷却辊上的工序。
从模头挤出的树脂的挤出速度可以通过调节挤出机的螺杆转速来进行调节。挤出机的螺杆转速优选为10rpm以上，更优选为20rpm以上，优选为80rpm以下，更优选为60rpm以下。通过将挤出机的螺杆转速控制在上述范围，可以容易地形成树脂C的相分离结构。
冷却辊的温度优选为120℃以上，更优选为130℃以上，优选为150℃以下，进一步优选为145℃以下。
在任一方法中，形成树脂C的膜的工序通常均一边加热树脂C一边进行。在形成树脂C的膜的工序中，加热树脂C的温度通常为100℃以上，优选为150℃以上，更优选为180℃以上，进一步优选为200℃以上，优选为320℃以下，更优选为300℃以下，进一步优选为290℃以下。
在膜中使树脂C发生相分离的工序可以在形成膜的工序之后进行，也可以与形成膜的工序同时进行。
相分离的工序例如可以通过将熔融的树脂C缓慢冷却来进行。具体而言，作为形成膜的工序，在采用熔融挤出法及其他方法的情况下，可以将熔融状态的树脂成型，然后在缓慢的冷却条件下进行冷却的操作。具体的作用机理尚不明确，通过进行该缓慢冷却能够容易地形成显现结构性双折射的树脂C的相分离结构，能够容易地得到具有期望的光学特性的光学膜。
作为相分离的工序，可以在除了上述的缓慢冷却以外或者取代上述的缓慢冷却，进行对膜进行加压的工序。通过对树脂C的膜施加压力，能够容易地形成显现结构性双折射的相分离结构，能够容易地得到具有期望的光学特性的光学膜。
加压的工序具体而言可以通过对单张状的树脂C沿其厚度方向施加压力来进行。在这样的操作中，可以使用模具等对膜的表面施加压力的加压器具。在通过压制成型法对树脂C的膜进行成型的情况下，加压的工序可以作为成型工序的一部分与成型同时进行，也可以在成型后进行。
也可以通过连续地进行对长条的树脂C施加压力的操作的装置来进行加压的工序。在这样的操作中，可以使用加压辊等加压器具。在通过熔融挤出法对树脂C的膜进行成型的情况下，加压的工序可以如下进行：使从模头挤出的树脂C通过2根加压辊之间，由此对树脂C施加压力。通过适当调节加压时的条件，例如加压的线压、加压的温度等条件，能够得到厚度和相分离结构均匀的膜。
[3.光学膜的用途]
[3.1.由光学膜制造的相位差膜的特性]
上述光学膜能够直接用于各种光学用途，通过对光学膜进行拉伸可以制造可视角特性优异的相位差膜。
[3.2.相位差膜的制造方法]
通过拉伸上述光学膜，可制造耐热性优异、可视角特性提高的相位差膜。拉伸的工序可以在与进行树脂C的膜的成型的生产线接续的生产线上进行。此外，还可以暂时将制造的树脂C的膜卷绕成卷，然后从该膜卷中放出膜，将其供给到拉伸的工序中。拉伸的工序通常通过将膜沿其面内方向进行拉伸的平面法拉伸进行。作为平面法拉伸的例子，可举出单轴拉伸法和双轴拉伸法。单轴拉伸法是将膜沿其面内的一个方向进行拉伸的拉伸，作为其例子，可举出自由宽度单轴拉伸法和固定宽度单轴拉伸法。双轴拉伸法是将膜沿其面内的两个方向进行拉伸的拉伸。作为双轴拉伸法的例子，可举出逐次双轴拉伸法和同时双轴拉伸法。向各个方向的拉伸可以是自由宽度拉伸，也可以是固定宽度拉伸。作为逐次双轴拉伸法的更具体的例子，可举出全扩幅方式和辊扩幅方式。在本实施方式的制造方法中，用于拉伸工序的拉伸方法可以是这些方法中的任一种，可以选择适于得到期望的相位差膜的方法。
实施例
以下，示出实施例对本发明进行具体说明。但是，本发明并不限于以下所示的实施例，在不脱离本发明的请求保护的范围及与其同等的范围的范围内可以任意地变更来进行实施。
在以下的说明中，只要没有特别说明，表示量的“％”和“份”为重量基准。此外，只要没有特别说明，以下说明的操作均是在常温常压的条件下进行的。
[评价方法]
(膜的延迟、Rth/d)
使用AXOMETRICS公司制造的AxoScan，求出波长590nm处的膜的厚度方向的延迟Rth。
根据得到的Rth(nm)和膜的厚度d(nm)求出Rth/d。
(相分离结构)
将膜切成2mm×4mm的大小，得到多个膜片。将其沿厚度方向重叠30张固定在夹具上，用小角X射线散射测定设施(Aichi SR、Beamline 8S3)进行小角X射线散射测定，得到散射图案。测定条件为镜头长度4m、X射线能量8.2KeV、测定q范围：约0.06～3nm-1、每份试样的曝光时间为60秒。将得到的散射图案与理论曲线进行拟合，算出相分离结构和相间距离。
X射线的照射面为膜的剖面，积分范围在厚度方向和垂直于厚度方向的方向分别为20°。根据通过各积分得到的数据算出相间距离，将厚度方向和垂直于厚度方向的方向的相间距离的平均值作为测定值。
(结构性双折射的有无)
在用上述的方法在膜中观察到相分离结构、且膜的Rth/d为0.5×10-3以上的情况下，结构性双折射评价为“有”，在没有观察到相分离的情况下以及虽然观察到相分离、但膜的Rth/d小于0.5×10-3的情况下，结构性双折射评价为“无”。
(折射率)
以使用折射率膜厚测定装置(Metricon Co.,Ltd.制“棱镜耦合器”)在波长407nm、波长532nm和波长633nm的3个波长处测定的值为基础进行柯西拟合，求出试样在波长532nm处的折射率。
(基于差示扫描量热分析(DSC)的玻璃化转变温度的测定)
使用差示扫描量热分析仪(SII Nanotechnology Co.,Ltd.制，产品名：DSC6220)，基于JIS K6911在升温速度为10℃/分钟的条件下测定试样的玻璃化转变温度(Tg)。
(基于热机械分析(TMA)的玻璃化转变温度的测定)
从测定对象的膜中切出5mm×20mm的矩形的试样。将试样设置在热机械分析装置(SII Nanotechnology Co.,Ltd.制“TMA/SS7100”)上，沿试样的长度方向施加50mN的张力，在该状态下使温度变化，将线膨胀的拐点的温度作为Tg(℃)。
(共聚物的固有双折射值的正负)
对于共聚物，通过在由共聚物制造膜、将该膜进行拉伸的情况下的折射率的变动来规定固有双折射值的正负。在拉伸方向的拉伸后膜的折射率与拉伸前相比变大的情况下，共聚物的固有双折射值规定为正。在拉伸方向的拉伸后膜的折射率与拉伸前相比变小的情况下，共聚物的固有双折射值规定为负。
(可视角特性的评价)
(显示特性(λ/4波片))
作为偏振片，准备透射轴在宽度方向的长条的偏振片(Sanritz公司制，商品名“HLC2-5618S”，厚度180μm)。除去偏振片一侧的保护膜，在该面贴合作为λ/4波片的相位差膜，将该相位差膜作为评价对象。贴合以相位差膜的慢轴方向与偏振片的透射轴方向成45°的角度的方式进行。通过该操作，得到如下偏振片：在两面的保护膜中，一者为评价对象的相位差膜。将得到的偏振片与市售的有机电致发光(EL)显示装置(LG电子制，OLED55EG9600)的视认侧原本具有的偏振片进行置换，得到具有评价对象的相位差膜的有机EL显示装置。在置换时，偏振片的配置为具有评价对象的相位差膜的一侧成为有机EL元件侧的配置。此外，偏振片的透射轴与有机EL显示装置原本具有的偏振片的起偏器为相同的方向。
从相对于显示面的倾斜方向(相对于法线方向为45°)在各种方位角观察得到的有机EL显示装置的显示状态，通过下述基准评价显示状态。
最良好：与置换前比较，在全部方位反射率得以抑制。
良好：与置换前比较，在一个以上的方位反射率得以抑制。
不良：与置换前比较，在一个以上的方位反射率上升。
(耐热性的评价)
评价对象的膜的耐热性通过热软化温度Ts进行评价。按照下述顺序通过热机械分析(TMA)测定来对Ts进行测定。将测定对象的膜切出5mm×20mm的形状来作为试样，使用热机械分析装置“TMA/SS7100”(SII Nanotechnology Co.,Ltd.制造)沿试样的长度方向施加50mN的张力，在该状态下使温度变化，将线膨胀变化3％时的温度(℃)作为热软化温度Ts进行测量。根据测量的热软化温度Ts，以下述基准对评价对象的膜的耐热性进行评价。
良好：Ts为120℃以上。
不良：Ts小于120℃。
[参考例1]
(R1-1.异戊二烯均聚物(PI))
在充分经氮气置换的具有搅拌装置的反应容器中，加入395份的脱水环己烷、120份的脱水异戊二烯和0.77份的正丁醚，一边在50℃进行搅拌一边加入1.25份的正丁基锂(15％正己烷溶液)，引发聚合，进行60分钟的聚合反应。在该时刻的聚合转化率为几乎100％。此时添加0.2份的甲醇，终止反应。取出得到的聚合物溶液的一部分进行干燥，得到异戊二烯的均聚物(PI)。得到的异戊二烯的均聚物(PI)的分子量分布(Mw/Mn)为1.07、重均分子量(Mw)为76000。对于聚合物(PI)，通过上述方法测定折射率和基于DSC的玻璃化转变温度。测定结果如表1所示。
(R1-2.异戊二烯均聚物的氢化物(HPI))
将得到的聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，添加1.5份的作为氢化催化剂的二氧化硅氧化铝负载型镍催化剂(产品名“T-8400RL”，Clariant CatalystsCo.,Ltd.制，镍含量33％)、以及100份的脱水环己烷，进行混合。在常温状态将反应内部用氢气置换，在以表压计加压2MPa的状态升温到170℃。在耐压反应容器的内部温度变为170℃时，将氢压加压到4.5MPa，进行12小时的氢化反应(氢化率：99.9％)。将得到的氢化后的溶液干燥，得到异戊二烯的均聚物的氢化物(HPI)。对于聚合物(HPI)，通过上述的方法测定折射率和基于DSC的玻璃化转变温度。测定结果如表1所示。
[参考例2]
(R2-1.丁二烯均聚物(PB))
在充分经氮气置换的具有搅拌装置的反应容器中，加入395份的脱水环己烷、120份的丁二烯和0.77份的正丁醚，一边在20℃进行搅拌一边加入1.25份的正丁基锂(15％正己烷溶液)，引发聚合，进行60分钟的聚合反应。在该时刻的聚合转化率为几乎100％。此时添加0.2份的甲醇，终止反应。取出得到的聚合物溶液的一部分进行干燥，得到丁二烯的均聚物(PB)。得到的丁二烯的均聚物(PB)的分子量分布(Mw/Mn)为1.27、重均分子量(Mw)为96000。
(R2-2.丁二烯均聚物的氢化物(HPB)
将得到的聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，添加1.5份的作为氢化催化剂的二氧化硅氧化铝负载型镍催化剂(产品名“T-8400RL”，Clariant CatalystsCo.,Ltd.制，镍含量33％)、以及100份的脱水环己烷，进行混合。在常温状态将反应内部用氢气置换，在以表压计加压2MPa的状态升温到170℃。在耐压反应容器的内部温度变为170℃时，将氢压加压到4.5MPa，进行12小时的氢化反应(氢化率：99.9％)。将得到的氢化后的溶液干燥，得到丁二烯的均聚物的氢化物(HPB)。对于氢化物(HPB)，通过上述的方法测定折射率和基于DSC的玻璃化转变温度。测定结果如表1所示。
[参考例3]
(2-乙烯基萘均聚物(PVN))
在干燥、经氮气置换的耐压反应器中加入500份的甲苯作为溶剂、0.03份的正丁基锂作为聚合催化剂，然后添加36份的2-乙烯基萘，在25℃使其反应2小时，进行聚合反应。结果是，在反应混合物中得到聚合物(PVN)。将反应混合物注入到大量的2-丙醇中，使聚合物(PVN)沉淀分离。
将得到的聚合物(PVN)用1H-NMR进行分析。结果是，聚合物(PVN)仅由2-乙烯基萘单元形成，因此聚合物(PVN)为2-乙烯基萘的均聚物。对于聚合物(PVN)，通过上述的方法测定折射率和基于DSC的玻璃化转变温度。测定结果如表1所示。
[参考例4]
(R4-1.苯乙烯均聚物(PS))
在充分经氮气置换的具有搅拌装置的反应容器中，加入395份的脱水环己烷、120份的脱水苯乙烯和0.57份的正丁醚，一边在60℃进行搅拌一边加入0.75份的正丁基锂(15％正己烷溶液)，引发聚合，进行60分钟的聚合反应。在该时刻的聚合转化率为几乎100％。此时添加0.2份的甲醇，终止反应。取出得到的聚合物溶液的一部分进行干燥，得到苯乙烯的均聚物(PS)。得到的苯乙烯的均聚物(PS)的分子量分布(Mw/Mn)为1.20、重均分子量(Mw)为109000。对于聚合物(PS)，通过上述的方法测定折射率和基于DSC的玻璃化转变温度。测定结果如表1所示。
(R4-2.苯乙烯均聚物的氢化物(HPS))
将得到的聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，添加1.5份的作为氢化催化剂的二氧化硅氧化铝负载型镍催化剂(产品名“T-8400RL”，Clariant CatalystsCo.,Ltd.制，镍含量33％)、以及100份的脱水环己烷，进行混合。在常温状态将反应内部用氢气置换，在以表压计加压2MPa的状态升温到170℃。在耐压反应容器的内部温度变为170℃时，将氢压加压到4.5MPa，进行12小时的氢化反应(氢化率：99.9％)。将得到的氢化后的溶液干燥，得到苯乙烯均聚物的氢化物(HPS)。对于氢化物(HPS)，通过上述的方法测定折射率和基于DSC的玻璃化转变温度。测定结果如表1所示。
将参考例1～4中得到的聚合物的折射率和玻璃化转变温度的值示于表1。表1中的简写的含义如下。
PI：异戊二烯均聚物(PI)
氢化PI：异戊二烯均聚物的氢化物(HPI)
氢化PB：丁二烯均聚物的氢化物(HPB)
PVN：2-乙烯基萘均聚物(PVN)
PS：苯乙烯均聚物(PS)
氢化PS：苯乙烯均聚物的氢化物(HPS)
[表1]
表1
Figure BDA0003075321960000241
[实施例1]
(1-1.三嵌段共聚物)
(第一阶段)
在干燥、经氮气置换的耐压反应器中加入500份的甲苯作为溶剂、0.03份的正丁基锂作为聚合催化剂，然后，添加12.1份的2-乙烯基萘作为单体(a)，在25℃使其反应1小时，进行第一阶段的聚合反应。
(第二阶段)
在第一阶段的聚合反应结束后，添加11.9份的丁二烯作为单体(b)，进而在25℃使其反应1小时，进行第二阶段的聚合反应。结果是，在反应混合物中得到具有(2-乙烯基萘嵌段)-(丁二烯嵌段)的嵌段构成的二嵌段共聚物。
(第三阶段)
然后，在反应混合物中进一步添加12.1份的2-乙烯基萘作为单体(a)，在25℃使其反应1小时，进行第三阶段的聚合反应。结果是，在反应混合物中得到具有(2-乙烯基萘嵌段)-(丁二烯嵌段)-(2-乙烯基萘嵌段)的嵌段构成的三嵌段共聚物。将反应混合物注入到大量的2-丙醇中，使三嵌段共聚物沉淀分离。
将得到的三嵌段共聚物溶于700份的对二甲苯中，制成溶液。在溶液中添加7.6份的对甲苯磺酰肼，在温度130℃使其反应8小时。通过该反应，对丁二烯单元的双键加氢。加氢结束后，将反应溶液注入到大量的2-丙醇中，以块状的生成物的形式得到具有(嵌段(A))-(嵌段(B))-(嵌段(A))的嵌段构成的三嵌段共聚物P1。在三嵌段共聚物P1中，嵌段(A)为2-乙烯基萘嵌段、嵌段(B)为加氢丁二烯嵌段。
将得到的三嵌段共聚物P1用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的2-乙烯基萘单元与作为聚合单元B的加氢丁二烯单元的重量比为67∶33，因此，聚合单元A的重量百分比为67％。此外，对2-乙烯基萘单元的加氢率为0％，对丁二烯单元的加氢率为99％。即，聚合单元HA(加氢2-乙烯基萘单元)相对于聚合单元A(2-乙烯基萘单元)的摩尔比率为0，聚合单元B'(B'-1和B'-2)(丁二烯单元)相对于聚合单元B(加氢丁二烯单元)的摩尔比率为1/99。根据凝胶渗透色谱法(GPC)测定的三嵌段共聚物P1的重均分子量为110000。通过TMA测定的三嵌段共聚物P1的玻璃化转变温度为137℃。三嵌段共聚物P1的固有双折射值为负。
(1-2.拉伸前膜)
将(1-1)中得到的三嵌段共聚物P1用作树脂C。将树脂C通过粉碎机进行粉碎，制成粉体。将得到的粉体供给到挤出机中，使树脂温度为270℃，在挤出机内使其熔融，使其通过聚合物管道和聚合物过滤器，从T模头向浇铸鼓(冷却辊)上挤出为片状，进行冷却，得到厚度为90μm的拉伸前膜1。冷却辊温度设定为138℃。此外，挤出机的螺杆转速设定为20～40rpm。制造的拉伸前膜1卷成卷状回收。
对于得到的拉伸前膜1，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果观察到柱状结构。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果确认到柱状的相分离结构。此外，相间距离为40nm。
测定得到的拉伸前膜1的Rth/d，结果Rth/d＝5.5×10-3。
(1-3.相位差膜(λ/4波片))
将在上述(1-2)中得到的拉伸前膜1裁断，制成80mm×80mm大小的矩形的膜。对矩形的膜实施自由宽度单轴拉伸。拉伸使用东洋精机(株)制造的分批式拉伸装置进行。拉伸的条件为：拉伸温度147℃、拉伸倍率2.0倍、拉伸速度33％每分钟。结果是，得到厚度65μm的相位差膜1Q。使用得到的作为λ/4波片发挥功能的相位差膜1Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[实施例2]
(2-1.三嵌段共聚物)
除下述事项以外，与实施例1(1-1.三嵌段共聚物)同样地进行，以块状的生成物的形式得到三嵌段共聚物P2。
·在(第一阶段)的反应中，添加10.3份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
·将正丁基锂的量从0.03份变更为0.04份。
·在(第二阶段)的反应中，添加15.4份的丁二烯作为单体(b)。
·在(第三阶段)的反应中，添加10.3份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
三嵌段共聚物P2具有(嵌段(A))-(嵌段(B))-(嵌段(A))的嵌段构成。在三嵌段共聚物P2中，嵌段(A)为2-乙烯基萘嵌段，嵌段(B)为加氢丁二烯嵌段。
将得到的三嵌段共聚物P2用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的2-乙烯基萘单元与作为聚合单元B的加氢丁二烯单元的重量比为57∶43，因此，聚合单元A的重量百分比为57％。此外，对2-乙烯基萘单元的加氢率为0％，对丁二烯单元的加氢率为99％。即，聚合单元HA(加氢2-乙烯基萘单元)相对于聚合单元A(2-乙烯基萘单元)的摩尔比率为0，聚合单元B'(B'-1和B'-2)(丁二烯单元)相对于聚合单元B(加氢丁二烯单元)的摩尔比率为1/99。通过GPC测定的三嵌段共聚物P2的重均分子量为85000。通过TMA测定的三嵌段共聚物P2的玻璃化转变温度为125℃。三嵌段共聚物P2的固有双折射值为负。
(2-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，得到拉伸前膜2。
·将三嵌段共聚物P2用作树脂C。
对于得到的拉伸前膜2，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果观察到层状结构。此外，相间距离为50nm。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果确认到了层状的相分离结构。
测定得到的拉伸前膜2的Rth/d，结果Rth/d＝6.5×10-3。
(2-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为65μm的相位差膜2Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜2。
·变更拉伸温度为140℃。
使用得到的相位差膜2Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[实施例3]
(3-1.三嵌段共聚物)
除下述事项以外，与实施例1(1-1.三嵌段共聚物)同样地进行，以块状的生成物的形式得到三嵌段共聚物P3。
·在(第一阶段)的反应中，添加12.1份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
·在(第二阶段)的反应中，代替11.9份的丁二烯而添加11.9份的异戊二烯作为单体(b)。
·在(第三阶段)的反应中，添加12.1份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
三嵌段共聚物P3具有(嵌段(A))-(嵌段(B))-(嵌段(A))的嵌段构成。在三嵌段共聚物P3中，嵌段(A)为2-乙烯基萘嵌段，嵌段(B)为加氢异戊二烯嵌段。
将得到的三嵌段共聚物P3用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的2-乙烯基萘单元与作为聚合单元B的加氢异戊二烯单元的重量比为67∶33，因此，聚合单元A的重量百分比为67％。此外，对2-乙烯基萘单元的加氢率为0％，对异戊二烯单元的加氢率为99％。即，聚合单元HA(加氢2-乙烯基萘单元)相对于聚合单元A(2-乙烯基萘单元)的摩尔比率为0，聚合单元B'(B'-1和B'-2)(异戊二烯单元)相对于聚合单元B(加氢异戊二烯单元)的摩尔比率为1/99。通过GPC测定的三嵌段共聚物P3的重均分子量为100000。通过TMA测定的三嵌段共聚物P3的玻璃化转变温度为138℃。三嵌段共聚物P3的固有双折射值为负。
(3-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，制作拉伸前膜3。
·代替三嵌段共聚物P1，使用三嵌段共聚物P3作为树脂C。
对于得到的拉伸前膜3，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果观察到柱状结构。此外，相间距离为40nm。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果确认到了柱状的相分离结构。
测定得到的拉伸前膜3的Rth/d，结果Rth/d＝4.0×10-3。
(3-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为60μm的相位差膜3Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜3。
·变更拉伸温度为148℃。
使用得到的相位差膜3Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[实施例4]
(4-1.三嵌段共聚物)
准备实施例3(3-1.三嵌段共聚物)中制造的三嵌段共聚物P3。
(4-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，制作拉伸前膜4。
·代替三嵌段共聚物P1，使用三嵌段共聚物P4作为树脂C。
·冷却辊温度设定为110℃。
·挤出机的螺杆转速设定为150～200rpm。
对于得到的拉伸前膜4，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果观察到柱状结构。此外，相间距离为35nm。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果确认到了柱状的相分离结构。
测定得到的拉伸前膜4的Rth/d，结果Rth/d＝3.0×10-3。
(4-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为70μm的相位差膜4Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜4。
·变更拉伸温度为148℃。
使用得到的相位差膜4Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[比较例1]
(C1-1.三嵌段共聚物)
除下述事项以外，与实施例1(1-1.三嵌段共聚物)同样地进行，以块状的生成物的形式得到三嵌段共聚物CP1。
·在(第一阶段)的反应中，添加13.0份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
·在(第二阶段)的反应中，代替11.9份的丁二烯而添加10.1份的异戊二烯作为单体(b)。
·在(第三阶段)的反应中，添加13.0份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
三嵌段共聚物CP1具有(嵌段(A))-(嵌段(B))-(嵌段(A))的嵌段构成。在三嵌段共聚物CP1中，嵌段(A)为2-乙烯基萘嵌段，嵌段(B)为加氢异戊二烯嵌段。
将得到的三嵌段共聚物CP1用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的2-乙烯基萘单元与作为聚合单元B的加氢异戊二烯单元的重量比为72∶28，因此，聚合单元A的重量百分比为72％。此外，对2-乙烯基萘单元的加氢率为0％，对异戊二烯单元的加氢率为99％。即，聚合单元HA(加氢2-乙烯基萘单元)相对于聚合单元A(2-乙烯基萘单元)的摩尔比率为0，聚合单元B'(B'-1和B'-2)(异戊二烯单元)相对于聚合单元B(加氢异戊二烯单元)的摩尔比率为1/99。通过GPC测定的三嵌段共聚物CP1的重均分子量为120000。通过TMA测定的三嵌段共聚物CP1的玻璃化转变温度为140℃。三嵌段共聚物CP1的固有双折射值为负。
(C1-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，得到拉伸前膜C1。
·将三嵌段共聚物CP1用作树脂C。
·冷却辊的温度设定为110℃。
·挤出机的螺杆转速设定为150～200rpm。
对于得到的拉伸前膜C1，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果得到的散射图案不清晰、无法与理论曲线进行拟合。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果观察到尺寸、大小稀疏的柱状结构。
测定得到的拉伸前膜C1的Rth/d，结果Rth/d＝0.4×10-3。
(C1-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为65μm的相位差膜C1Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜C1。
·变更拉伸温度为150℃。
使用得到的相位差膜C1Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[比较例2]
(C2-1.三嵌段共聚物)
除下述事项以外，与实施例1(1-1.三嵌段共聚物)同样地进行，以块状的生成物的形式得到三嵌段共聚物CP2。
·在(第一阶段)的反应中，添加14.4份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
·将正丁基锂的量从0.03份变更为0.05份。
·在(第二阶段)的反应中，代替11.9份的丁二烯而添加7.2份的异戊二烯作为单体(b)。
·在(第三阶段)的反应中，添加14.4份的2-乙烯基萘作为单体(a)。
三嵌段共聚物CP2具有(嵌段(A))-(嵌段(B))-(嵌段(A))的嵌段构成。在三嵌段共聚物CP2中，嵌段(A)为2-乙烯基萘嵌段，嵌段(B)为加氢异戊二烯嵌段。
将得到的三嵌段共聚物CP2用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的2-乙烯基萘单元与作为聚合单元B的加氢异戊二烯单元的重量比为80∶20，因此，聚合单元A的重量百分比为80％。此外，对2-乙烯基萘单元的加氢率为0％，对异戊二烯单元的加氢率为99％。即，聚合单元HA(加氢2-乙烯基萘单元)相对于聚合单元A(2-乙烯基萘单元)的摩尔比率为0，聚合单元B'(B'-1和B'-2)(异戊二烯单元)相对于聚合单元B(加氢异戊二烯单元)的摩尔比率为1/99。通过GPC测定的三嵌段共聚物CP2的重均分子量为70000。通过TMA测定的三嵌段共聚物CP2的玻璃化转变温度为143℃。三嵌段共聚物CP2的固有双折射值为负。
(C2-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，得到拉伸前膜C2。
·代替三嵌段共聚物P1，将三嵌段共聚物CP2用作树脂C。
对于得到的拉伸前膜C2，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果得到的散射图案不清晰、无法与理论曲线进行拟合。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果观察到尺寸、大小稀疏的柱状结构。
测定得到的拉伸前膜C2的Rth/d，结果Rth/d＝0.2×10-3。
(C2-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为65μm的相位差膜C2Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜C2。
·变更拉伸温度为153℃。
使用得到的相位差膜C2Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[比较例3]
(C3-1.三嵌段共聚物)
(第一阶段)
在充分经氮气置换的具有搅拌装置的反应容器中，加入395份的脱水环己烷、37.1份的脱水苯乙烯和0.65份的正丁醚，一边在60℃进行搅拌一边加入0.87份的正丁基锂(15％正己烷溶液)，引发聚合，进行60分钟的聚合反应。
(第二阶段)
接着，加入55.9份的脱水异戊二烯，直接继续搅拌40分钟。
(第三阶段)
然后，一边在60℃进行搅拌一边加入37.1份的脱水苯乙烯，使其反应60分钟。在该时刻的聚合转化率为几乎100％。此时添加0.2份的甲醇，终止反应。结果是，在反应混合物中，得到具有(苯乙烯嵌段)-(异戊二烯嵌段)-(苯乙烯嵌段)的嵌段构成的三嵌段共聚物。将反应混合物注入到大量的2-丙醇中，使三嵌段共聚物沉淀分离。
将得到的三嵌段共聚物溶于700份的对二甲苯中，制成溶液。在溶液中添加7.6份的对甲苯磺酰肼，在温度130℃使其反应8小时。通过该反应，对异戊二烯单元的双键加氢。加氢结束后，将反应溶液注入到大量的2-丙醇中，以块状的生成物的形式得到具有(苯乙烯嵌段)-(加氢异戊二烯嵌段)-(苯乙烯嵌段)的嵌段构成的(A)-(B)-(A)三嵌段共聚物CP3。
将得到的三嵌段共聚物CP3用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的苯乙烯单元与作为聚合单元B的加氢异戊二烯单元的重量比为57∶43，因此，聚合单元A的重量百分比为57％。此外，对苯乙烯单元的加氢率为0％，对异戊二烯单元的加氢率为99％。通过GPC测定的三嵌段共聚物CP3的重均分子量为80000。通过TMA测定的三嵌段共聚物CP3的玻璃化转变温度为80℃。三嵌段共聚物CP3的固有双折射值为正。
(C3-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，制作拉伸前膜C3。
·代替三嵌段共聚物P1，将三嵌段共聚物CP3用作树脂C。
对于得到的拉伸前膜C3，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果得到的散射图案不清晰、无法与理论曲线进行拟合。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果观察到层状结构。
测定得到的拉伸前膜C3的Rth/d，结果Rth/d＝0.3×10-3。
(C3-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为65μm的相位差膜C3Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜C3。
·变更拉伸温度为90℃。
使用得到的相位差膜C3Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
[比较例4]
(C4-1.三嵌段共聚物)
(第一阶段)
在充分经氮气置换的具有搅拌装置的反应容器中，加入395份的脱水环己烷、43.6份的脱水苯乙烯和0.65份的正丁醚，一边在60℃进行搅拌一边加入0.87份的正丁基锂(15％正己烷溶液)，引发聚合，进行60分钟的聚合反应。
(第二阶段)
接着，加入42.9份的脱水异戊二烯，直接继续搅拌40分钟。
(第三阶段)
然后，一边在60℃进行搅拌一边加入43.6份的脱水苯乙烯，反应60分钟。在该时刻的聚合转化率为几乎100％。此时添加0.2份的甲醇，终止反应。结果是，在反应混合物中，得到具有(苯乙烯嵌段)-(异戊二烯嵌段)-(苯乙烯嵌段)的嵌段构成的三嵌段共聚物CP4。
将得到的三嵌段共聚物CP4用1H-NMR进行分析。结果是，三嵌段共聚物中的作为聚合单元A的苯乙烯单元与作为聚合单元B'的异戊二烯单元的重量比为67∶33，因此，聚合单元A的重量百分比为67％。通过GPC测定的三嵌段共聚物CP4的重均分子量为90000。通过TMA测定的三嵌段共聚物CP4的玻璃化转变温度为87℃。三嵌段共聚物CP4的固有双折射值为正。
(C4-2.拉伸前膜)
除下述事项以外，与实施例1(1-2.拉伸前膜)同样地进行，制作拉伸前膜C4。
·代替三嵌段共聚物P1，使用三嵌段共聚物CP4作为树脂C。
对于得到的拉伸前膜C4，通过上述的条件的小角X射线散射法从剖面入射X射线，观察相结构，结果得到的散射图案不清晰、无法与理论曲线进行拟合。此外，制成与厚度方向平行的剖面的切片，用TEM进行观察，结果观察到层状结构。
测定得到的拉伸前膜C4的Rth/d，结果Rth/d＝0.2×10-3。
(C4-3.相位差膜(λ/4波片))
除下述事项以外，与实施例1(1-3.相位差膜(λ/4波片))同样地进行，得到厚度为70μm的相位差膜C4Q。
·代替拉伸前膜1，使用拉伸前膜C4。
·变更拉伸温度为140℃。
使用得到的相位差膜C4Q，通过上述的方法评价可视角特性和耐热性。
实施例和比较例的结果示于下表。
下表中的简称的含义如下所述。
VN：2-乙烯基萘嵌段
HB：加氢丁二烯嵌段
HIp：加氢异戊二烯嵌段
St：苯乙烯嵌段
重量百分比(A)：2-乙烯基萘单元或苯乙烯单元的重量百分比(％)
n(A)：聚合物(A)的折射率
Tg(A)：聚合物(A)的玻璃化转变温度(℃)
n(B)：聚合物(B)的折射率
Tg(B)：聚合物(B)的玻璃化转变温度(℃)
PI：异戊二烯均聚物(PI)
HPI：异戊二烯均聚物的氢化物(HPI)
HPB：丁二烯均聚物的氢化物(HPB)
PVN：2-乙烯基萘均聚物(PVN)
PS：苯乙烯均聚物(PS)
对于挤出速度的项目，“慢”的含义是挤出机的螺杆转速为20～40rpm、“快”的含义是挤出机的螺杆转速为150～200rpm。
[表2]
表2
实施例1 实施例2 实施例3 实施例4
树脂 VN-HB-VN VN-HB-VN VN-HIp-VN VN-HIp-VN
结构性双折射 有 有 有 有
重量百分比(A)(％) 67 57 67 67
成型温度(树脂温度)(℃) 270 270 270 270
冷却辊温度(℃) 138 138 138 110
挤出速度 慢 慢 慢 快
聚合物(A) PVN PVN PVN PVN
n(A) 1.67 1.67 1.67 1.67
Tg(A)(℃) 150 150 150 150
聚合物(B) HPB HPB HPI HPI
n(B) 1.51 1.51 1.48 1.48
Tg(B)(℃) -50 -50 -60 -60
折射率差|n(A)-n(B)| 0.16 0.16 0.19 0.19
Tg差|Tg(A)-Tg(B)|(℃) 200 200 210 210
可视角特性 最良好 最良好 最良好 良好
耐热性 良好 良好 良好 良好
[表3]
表3
比较例1 比较例2 比较例3 比较例4
树脂 VN-HIp-VN VN-HIp-VN St-HIp-St St-Ip-St
结构性双折射 无 无 无 无
重量百分比(A)(％) 72 80 57 67
成型温度(树脂温度)(℃) 270 270 270 270
冷却辊温度(℃) 110 138 138 138
挤出速度 快 慢 慢 慢
聚合物(A) PVN PVN PS PS
n(A) 1.67 1.67 1.59 1.59
Tg(A)(℃) 150 150 100 100
聚合物(B) HPI HPI HPI PI
n(B) 1.48 1.48 1.48 1.52
Tg(B)(℃) -60 -60 -60 -70
折射率差|n(A)-n(B)| 0.19 0.19 0.11 0.07
Tg差|Tg(A)-Tg(B)|(℃) 210 210 160 170
可视角特性 不良 不良 不良 不良
耐热性 良好 良好 不良 不良
根据以上的结果，可知下述事项。
具有相分离结构但不显现结构性双折射的比较例1～4中的相位差膜的可视角特性不良。
玻璃化转变温度差的绝对值|Tg(A)-Tg(B)|(℃)小于180℃的比较例3和4的相位差膜的耐热性不良。
包含相分离结构、显现结构性双折射、且折射率差的绝对值|n(A)-n(B)|为0.12以上的实施例的相位差膜的耐热性和可视角特性良好，兼顾优异的耐热性和优异的可视角特性。
玻璃化转变温度差的绝对值|Tg(A)-Tg(B)|(℃)为180℃以上的实施例的相位差膜的耐热性和可视角特性良好，兼顾优异的耐热性和优异的可视角特性。
以上的结果显示，能够以低成本由本发明的光学膜制造同时具有优异的耐热性和优异的可视角特性提高效果的相位差膜。

Claims (19)

1.一种光学膜，由包含共聚物P的树脂C形成，所述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，
所述光学膜包含显现结构性双折射的相分离结构，所述相分离结构包含以所述聚合单元A作为主成分的相(A)和以所述聚合单元B作为主成分的相(B)，
由所述聚合单元A形成的聚合物(A)的折射率n(A)与由所述聚合单元B形成的聚合物(B)的折射率n(B)的差的绝对值|n(A)-n(B)|为0.12以上。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)与所述聚合物(B)的玻璃化转变温度Tg(B)(℃)的差的绝对值|Tg(A)-Tg(B)|为180℃以上。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，所述玻璃化转变温度Tg(A)(℃)为120℃以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜，其中，所述相分离结构具有层状、柱状和球状中的任一种形态。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，所述相分离结构中的相间距离为200nm以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学膜，其中，所述共聚物P为具有以所述聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以所述聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的嵌段共聚物。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学膜，其中，所述聚合单元A为通式(A)所表示的单元，
Figure FDA0003075321950000011
式中，RC为选自苯基、联苯基、萘基、蒽基、菲基、并四苯基、并五苯基和三联苯基中的基团，
R1～R3各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～12的烷基中的一个。
8.根据权利要求7所述的光学膜，其中，在所述共聚物P中，将所述聚合单元A氢化得到的聚合单元HA与所述聚合单元A的摩尔比率为0/100以上且10/90以下。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学膜，其中，所述聚合单元B为通式(B-1)所表示的单元或通式(B-2)所表示的单元，
Figure FDA0003075321950000021
式中，R4～R9各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1～6的烷基中的一个。
10.根据权利要求9所述的光学膜，其中，在所述共聚物P中，下述通式(B'-1)所表示的单元和下述通式(B'-2)所表示的单元相对于所述聚合单元B的合计摩尔比率为0/100以上且10/90以下，
Figure FDA0003075321950000022
式中，R4～R9与上述同义。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的光学膜，其中，所述聚合单元A为乙烯基萘单元、乙烯基萘衍生物单元、苯乙烯单元或苯乙烯衍生物单元，
所述聚合单元B为将异戊二烯单元氢化得到的单元、将丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将2,3-二甲基-1,3-丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-己二烯单元氢化得到的单元、将2-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将3-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元或将2,4-二甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的光学膜，其中，所述共聚物P包含三嵌段共聚物P'，
所述三嵌段共聚物P'为具有以所述聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以所述聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的(A)-(B)-(A)三嵌段共聚物。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的光学膜，其中，所述共聚物P具有负的固有双折射值。
14.根据权利要求1～13中任一项所述的光学膜，其中，所述聚合单元A具有负的固有双折射值，所述聚合单元B具有正的固有双折射值。
15.根据权利要求1～14中任一项所述的光学膜，其中，所述共聚物P中的所述聚合单元A的重量百分比为50重量％以上且小于70重量％。
16.一种光学膜的制造方法，是制造权利要求1～15中任一项所述的光学膜的方法，包括：
将所述树脂C加热到150℃以上，形成由所述树脂C形成的单层的膜的工序，以及
在所述膜中，使所述树脂C相分离的工序。
17.根据权利要求16所述的光学膜的制造方法，其中，形成所述膜的工序包括将所述树脂C以单层进行熔融挤出的步骤。
18.一种相位差膜的制造方法，包括将权利要求1～15中任一项所述的光学膜进行拉伸而得到相位差膜的工序。
19.根据权利要求18所述的相位差膜的制造方法，其中，所述光学膜通过权利要求16或17所述的制造方法制造。
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