CN111804664B - 玻璃元件的清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种玻璃元件的清洗方法，该制备方法包括以下步骤：将抛光后的玻璃元件先置于酸性清洗液中依次进行第一次超声处理和第二次超声处理，然后置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理，最后进行水洗、干燥，得到清洗后的玻璃元件；其中，第一次超声处理的频率为10KHz～30KHz，第二次超声处理的频率为40KHz～70KHz。该清洗方法能有效提高玻璃元件的清洗效率，且对玻璃元件无损伤性。

Description

玻璃元件的清洗方法
技术领域
本发明涉及玻璃清洗领域，特别是涉及一种玻璃元件的清洗方法。
背景技术
在玻璃元件的生产过程中，为了使玻璃表面的粗糙度降低，需要对玻璃的表面进行抛光处理。在抛光过程中通常会利用抛光粉对玻璃的表面进行抛光加工，在抛光之后会有一部分抛光粉残留在玻璃表面。一方面，残留在玻璃元件表面的抛光粉微粒会对玻璃元件表面产生腐蚀，例如，精密抛光后的光学玻璃元件上残留的抛光粉微粒是影响元件抗激光辐照损伤能力的关键因素之一；另一方面，当将玻璃元件组装到电子产品上之后，玻璃元件表面残留的抛光粉会严重影响电子产品的稳定性和可靠性，甚至导致电子产品失效。
而传统的清洗玻璃元件表面抛光粉的方法大都采用碱性清洗剂对玻璃元件表面进行清洗，然而使用碱性清洗剂对玻璃表面抛光粉的去除效果欠佳；还有些技术通过人工刷洗配合各类环保清洗剂的方式清洗玻璃元件，但需要反复多次清洗，排污大、耗材多；加之人工刷洗在操作上具有不确定性，不可避免地会导致玻璃元件表面产生细微的划伤，进而影响玻璃元件的性能。
因此，如何提供一种高效且对玻璃无损伤的玻璃元件清洗方法具有重大意义。
发明内容
基于此，本发明提供了一种高效且对玻璃无损伤的玻璃元件的清洗方法。
本发明的技术方案如下。
本发明一方面提供了一种玻璃元件的清洗方法，包括如下步骤：
提供抛光后的玻璃元件；
将上述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；
其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；
将经上述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；
将经上述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗、干燥。
在其中一些实施例中，以所述酸性清洗液的总质量为基准，上述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：
Figure BDA0002596442630000021
进一步地，上述有机酸为有机羧酸；上述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；上述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠中的至少一种。
在其中一些实施例中，上述第一次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；和/或
上述第二次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min。
在其中一些实施例中，在上述将玻璃元件置于酸性清洗液中的步骤之前，还包括如下步骤：
将上述玻璃元件置于酸中浸泡。
进一步地，上述酸为柠檬酸；上述浸泡的条件为：于20℃～60℃下浸泡5min～60min。
在其中一些实施例中，以所述碱性清洗液的总质量为基准，上述碱性清洗剂包含以下重量百分数的组分：
Figure BDA0002596442630000022
Figure BDA0002596442630000031
进一步地，上述强碱为无机强碱；上述碱式盐选自碱式硅酸盐、碱式碳酸盐和碱式磷酸盐中的至少一种。
在其中一些实施例中，上述第三次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；上述第三次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声时间5min～60min。
在其中一些实施例中，上述将经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗的步骤中，所述水洗的方式如下：
将上述经第三次超声处理后的玻璃元件置于水中，进行漂洗；
上述漂洗的条件为：于40℃～80℃下漂洗5min～60min。
有益效果
本发明的玻璃元件的清洗方法中，首先将玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；残留在玻璃元件表面的抛光粉能溶解在酸性清洗液中，在10KHz～30KHz的超声频率下进行第一次超声处理，可以有效除去大颗粒的抛光粉；进一步在40KHz～70KHz的超声频率下进行第二次超声处理，可以除去微细颗粒的抛光粉；通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，且不对玻璃元件产生损伤。然后将经第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理，以溶解玻璃元件表面的残留的人体的体液、油污或因外界物质腐蚀产生的破坏层；进而将经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗、干燥，得到清洗后的玻璃元件。
本发明的玻璃元件的清洗方法中，先通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，将玻璃元件上残留的抛光粉清除得干净彻底，避免了在后续采用碱性清洗液对玻璃元件表面进行超声处理过程中残留的抛光粉微粒对玻璃表面产生碎划伤，从而影响玻璃元件的性能导致出现玻璃元件报废的问题，如此该清洗方法高效且对玻璃无损伤。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将对本发明进行更全面的描述，并给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本发明一实施方式提供了一种玻璃元件的清洗方法，包括如下步骤S100～400。
步骤S100、提供抛光后的玻璃元件。
步骤S100中，上述玻璃元件可以是普通的玻璃镜片；也可以是光学玻璃元件，如光学玻璃镜片等。
进一步地，步骤S100中，抛光所用的抛光粉包括，但不限于：氧化铈、氧化镧、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆和氧化铬等。
步骤S200、将步骤S100所得玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；
其中，第一次超声处理的频率为10KHz～30KHz；第二次超声处理的频率为40KHz～70KHz。
将抛光后的玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；残留在玻璃元件表面的抛光粉能溶解在酸性清洗液中，在10KHz～30KHz的超声频率下进行第一次超声处理，可以有效除去大颗粒的抛光粉；进一步在40KHz～70KHz的超声频率下进行第二次超声处理，可以除去微细颗粒的抛光粉；通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，且不对玻璃元件产生损伤。
在其中一些实施例中，以酸性清洗液的总质量为基准，上述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：
Figure BDA0002596442630000051
上述酸性清洗液中，具有特定质量百分数的各组分之间有明显的协同作用；其中，非离子型表面活性剂和阳离子表面活性剂配合可以进一步降低酸性清洗液的表面张力，从而增加了酸性清洗液与玻璃表面的残留的抛光粉的接触面积，进一步提高酸性清洗液的清洗效率。
阴离子表面活性剂按其亲水基团的结构主要包括：磺酸盐和硫酸酯盐，此处对阴离子表面活性剂举例，但不限于如下范围：
磺化的脂肪酸甘油酯，其中脂肪酸甘油酯为一、二或三酯及其混合物，如己酸、辛酸、癸酸、肉豆蔻酸、月桂酸、棕榈酸、硬脂酸或二十二烷基酸的磺化产物，或C9-C13的烷基苯磺酸盐，或烯属磺酸盐，或一元醇的硫酸单酯，或链烷(烯)基硫酸盐，例如选自椰子脂肪醇、硬脂醇、月桂醇、肉豆蔻醇、鲸蜡醇或十八烷醇的硫酸半酯及其相应的碱金属盐，特别是钠盐，或烷基磺基丁二酸的盐类，或皂类，如饱和脂肪酸皂，例如月桂酸、肉豆蔻酸、棕榈酸、硬脂酸、氢化芥酸和二十二烷酸的盐类以及特别是由天然脂肪酸例如椰子酸、棕榈仁酸或硬脂酸得到的皂类混合物。
其中，皂类的阴离子表面活性剂可以是钠盐、钾盐以及以有机碱的可溶性盐。
在其中一些实施例中，阴离子表面活性剂选自肥皂、烷基苯磺酸盐、烷基磺酸酯盐、烷基磺酸盐、烷基硫酸盐、含氟脂肪酸盐、聚硅氧烷、脂肪醇硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯、α-烯基磺酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯、烷基醇酰胺、烷基磺酸基乙酰胺、烷基琥珀酸酯磺酸盐、醇胺烷基苯磺酸盐、环烷酸盐、烷基酚磺酸酯和聚氧乙烯单月桂酸酯中的至少一种。
在其中一些实施例中，上述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠中的至少一种。进一步的，十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠。进一步地，十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠的质量比为(50～60):(30～35):(5-20)。
非离子表面活性剂是指在水溶液中不电离的表面活性剂，其亲水基主要是由具有一定数量的含氧基团，一般为醚基和羟基构成。非离子表面活性剂的稳定性高，不易受强电解质无机盐类存在的影响，也不易受pH值的影响，与其他类型表面活性剂相容性好。
非离子表面活性剂按亲水基团分类，主要有聚氧乙烯型和多元醇型两类。包括但不限于：辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙氧基化物、聚丙二醇的环氧乙烷加成物、乙二醇、甘油季戊四醇、失水山梨醇和蔗糖等
在其中一些实施例中，上述有机酸为有机羧酸；上述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；
有机酸包括羧基(-COOH)、磺酸(-SO3H)和亚磺酸等，包括但不限于：乙酸、丙酸、丁酸给、丁二酸、苯甲酸、草酸、酒石酸和柠檬酸。
在其中一些实施例中，上述有机酸为柠檬酸。
在其中一些实施例中，步骤S200中，上述第一次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；和/或
上述第二次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min。
在其中一些实施例中，步骤S200中，在上述将玻璃元件置于酸性清洗液中的步骤之前，该包括如下步骤：
将上述玻璃元件置于酸中浸泡。
采用酸浸泡玻璃元件可以软化玻璃元件表面残留的抛光粉，从而进一步促进抛光粉在酸性清洗液中的溶解。进一步地，酸为柠檬酸；进一步地，柠檬酸以质量浓度为5％～20％的水溶液的形式加入；浸泡的条件为：于20℃～60℃下浸泡5min～60min。
现需要说明的是，该浸泡的步骤可以直接在步骤S200中的酸性清洗液中进行，具体地，在步骤S200中，将玻璃元件置于酸性清洗液中浸泡，再依次进行第一次超声处理和第二次超声处理。
步骤S300、将步骤S200中经第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理。
将经第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理，以溶解玻璃元件表面的残留的人体的体液、油污或因外界物质腐蚀产生的破坏层。
且，先通过在特定的酸性清洗液中经过特定的两次超声处理，能有效去除残留在玻璃元件上的抛光粉，将玻璃元件上残留的抛光粉清除得干净彻底，避免了在后续采用碱性清洗液对玻璃元件表面进行超声处理过程中残留的抛光粉微粒对玻璃表面产生碎划伤，从而影响玻璃元件的性能导致出现玻璃元件报废的问题，如此该清洗方法高效且对玻璃无损伤。
在其中一些实施例中，以碱性清洗液的总质量为基准，步骤S300中的碱性清洗剂包含以下重量百分数的组分：
Figure BDA0002596442630000071
其中，阴离子表面活性剂和非离子性表面活性剂的选择范围同上所述；阳离子表面活性剂根据氮原子在分子中的位置不同分为胺盐、季铵盐和杂环型三类。此处对阳离子表面活性剂举例，但不限于如下范围：
硬脂酰氨基丙基二甲基胺、硬脂酰氨基丙基二乙基胺、硬脂酰氨基乙基二乙基胺、硬脂酰氨基乙基二甲基胺、棕榈酰氨基丙基二甲基胺、棕榈酰氨基丙基二乙基胺、棕榈酰氨基乙基二乙基胺、棕榈酰氨基乙基二甲基胺、二十二烷酰氨基丙基二甲基胺、二十二烷酰氨基丙基二乙基胺、二十二烷酰氨基乙基二乙基胺、二十二烷酰氨基乙基二甲基胺、二十烷酰氨基丙基二甲基胺、二十烷酰氨基丙基二乙基胺、二十烷酰氨基乙基二乙基胺、二十烷酰氨基乙基二甲基胺、二乙基氨基乙基硬脂酰胺、咪唑啉及其衍生物、吗啉胍及其衍生物、三嗪及其衍生物等。
两性离子表面活性剂是指同时具有两种离子性质的表面活性剂，通常指由阴离子和阳离子所组成的表面活性剂，即在疏水基一端既能有阳离子有阴离子，是二者结合在一起的表面活性剂。此处对两性表面活性剂举例，但不限于如下范围：磷酸脂甜菜碱、磺基甜菜碱、羧酸基甜菜碱和十二烷基氨基丙酸盐等。
在其中一些实施例中，上述碱性清洗液中，阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠；阳离子表面活性剂为一乙醇胺；两性离子表面活性剂为十二烷基氨基丙酸盐；非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚。
在其中一些实施例中，上述强碱为无机强碱；上述碱式盐选自碱式硅酸盐、碱式碳酸盐和碱式磷酸盐中的至少一种。
在其中一些实施例中，上述强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种。
进一步地，碱式盐选自碳酸钾、碳酸钠、磷酸二氢钠、磷酸二氢钾中的至少一种。
在其中一些实施例中，步骤S300中，第三次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；上述第三次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声时间5min～60min。
步骤S400、将步骤S300中经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗、干燥。
在其中一些实施例中，步骤S400中将经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗步骤中，水洗的方式如下：
将上述经第三次超声处理后的玻璃元件置于水中，进行漂洗；
上述漂洗的条件为：于40℃～80℃下漂洗5min～60min。
进一步地，具体操作为：将经第三次超声处理后的玻璃元件置于水中，进行上下运动。
通过上下运动的方式，可以将残留在玻璃表面的碱性清洗液及其他杂质彻底清洗干净。进一步地，水洗步骤中所用的水为电导率不小于15MΩ的纯水。
在其中一些实施例中，步骤S400中的干燥步骤如下：先以5℃/min～20℃/min升温至60℃～90℃预热、然后升温至100℃保温干燥，再自然冷却至室温。
在其中一些实施例中，步骤S400中，还包括对干燥后的玻璃元件进行检验的步骤S410。
在其中一些实施例中，步骤S410的具体步骤如下：
将干燥后的玻璃元件置于在灯下观察。
下面将结合具体的实施例对本发明进行了说明，但本发明并不局限于下述实施例，应当理解，所附权利要求概括了本发明的范围，在本发明构思的引导下本领域的技术人员应意识到，对本发明的各实施例所进行的一定的改变，都将被本发明的权利要求书的精神和范围所覆盖。
具体实施例
这里按照本发明的玻璃元件的清洗方法举例，但本发明并不局限于下述实施例。
实施例1
具体步骤如下：
1)提供抛光后的玻璃元件，所用抛光粉为：氧化铈。
2)将步骤1)所得的玻璃元件置于质量浓度为8％的柠檬酸的水溶液中浸泡30min后取出，其中，浸泡温度为25℃。
3)将步骤2)所得的玻璃元件置于酸性清洗液中，先后进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，第一次超声处理的频率为28KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；第二次超声处理的频率为40KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；酸性清洗液的组成如下：
Figure BDA0002596442630000091
Figure BDA0002596442630000101
其中，非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚；阴离子表面活性剂由十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠混合而成，且十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠的质量比为50:35:15。
4)将步骤3)第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；第三次超声处理的频率为28KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；碱性清洗液包括以下重量组分：
Figure BDA0002596442630000102
5)将步骤4)第三次超声处理后的玻璃元件于40℃的纯水中反复上下运动漂洗30min后取出，放入烘箱内，升温至90℃预热后，升温至100℃保温干燥后冷却，得到清洗后的玻璃元件。
6)将步骤5)所得清洗后的玻璃元件置于灯下观察是否残留颗粒以及玻璃元件表面是否有划伤。
实施例2
具体步骤如下：
1)提供抛光后的玻璃元件，所用抛光粉为：氧化铈。
2)将步骤1)所得的玻璃元件置于质量浓度为8％的柠檬酸的水溶液中浸泡30min后取出，其中，浸泡温度为25℃。
3)将步骤2)所得的玻璃元件置于酸性清洗液中，先后进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，第一次超声处理的频率为20KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；第二次超声处理的频率为70KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；酸性清洗液的组成如下：
Figure BDA0002596442630000111
其中，非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚；阴离子表面活性剂由十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠混合而成，且十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠的质量比为50:35:15。
4)将步骤3)第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；第三次超声处理的频率为28KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；碱性清洗液包括以下重量组分：
Figure BDA0002596442630000112
5)将步骤4)第三次超声处理后的玻璃元件于40℃的纯水中反复上下运动漂洗30min后取出，放入烘箱内，升温至90℃预热后，升温至100℃保温干燥后冷却，得到清洗后的玻璃元件。
6)将步骤5)所得清洗后的玻璃元件置于灯下观察是否残留颗粒以及玻璃元件表面是否有划伤。
实施例3
具体步骤如下：
1)提供抛光后的玻璃元件，所用抛光粉为：氧化铈。
2)将步骤1)所得的玻璃元件置于质量浓度为8％的柠檬酸的水溶液中浸泡30min后取出，其中，浸泡温度为25℃。
3)将步骤2)所得的玻璃元件置于酸性清洗液中，先后进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，第一次超声处理的频率为10KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；第二次超声处理的频率为50KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；酸性清洗液的组成如下：
Figure BDA0002596442630000121
其中，非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚；阴离子表面活性剂由十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠混合而成，且十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠的质量比为40:35:15。
4)将步骤3)第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；第三次超声处理的频率为28KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；碱碱性清洗液包括以下重量组分：
Figure BDA0002596442630000122
5)将步骤4)第三次超声处理后的玻璃元件于40℃的纯水中反复上下运动漂洗30min后取出，放入烘箱内，升温至90℃预热后，升温至100℃保温干燥后冷却，得到清洗后的玻璃元件。
6)将步骤5)所得清洗后的玻璃元件置于在台灯下观察是否残留颗粒以及玻璃元件表面是否有划伤。
对比例1
对比例与实施例1基本相同，不同之处在于，对比例1的步骤3)中，第一次超声处理的频率为40KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；第二次超声处理的频率也为40KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃，其余工艺与实施例1相同。
对比例2
具体步骤如下：
1)提供抛光后的玻璃元件，所用抛光粉为：氧化铈。
2)将步骤1)所得的玻璃元件置于质量浓度为8％的柠檬酸的水溶液中浸泡30min后取出，其中，浸泡温度为25℃。
3)将步骤2)所得的玻璃元件置于酸性清洗液中，进行超声处理其中，超声处理的频率为28KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；酸性清洗液的组成如下：
Figure BDA0002596442630000131
其中，非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚；阴离子表面活性剂由十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠混合而成，且十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠的质量比为50:35:15。
4)将步骤3)第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，依次进行第二次和第三次超声处理；第二次超声处理的频率为28KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；第三次超声处理的频率为70KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃；碱性清洗液包括以下重量组分：
Figure BDA0002596442630000132
Figure BDA0002596442630000141
5)将步骤4)第三次超声处理后的玻璃元件于40℃的纯水中反复上下运动漂洗30min后取出，放入烘箱内，升温至90℃预热后，升温至100℃保温干燥后冷却，得到清洗后的玻璃元件。
6)将步骤5)所得清洗后的玻璃元件置于在台灯下观察是否残留颗粒以及玻璃元件表面是否有划伤。
对比例3
对比例3与实施例1基本相同，不同之处在于，对比例1的步骤3)中，第二次超声处理的频率为100KHz；超声时间为30min，超声温度为45℃，其余工艺与实施例1相同。
实施例4
对实施例1～3和对比例1～3干燥后的玻璃元件置于灯下观察是否残留颗粒以及玻璃元件表面是否有划伤。具体操作如下：
将干燥后的玻璃元件置于灯正下方35cm处，观察是否残留颗粒以及玻璃元件表面是否有划伤；所用灯为功率为4W的白炽灯，观察者的视线高度与灯的高度相平，以45℃俯视角观察玻璃元件表面；其中，是否有划伤以玻璃元件表面是否存在划痕或麻点为判定标准，划痕和麻点的判定标准具体参考MIL-PRF-13830B。
结果如表1所示。
表1
Figure BDA0002596442630000142
Figure BDA0002596442630000151
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种玻璃元件的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供抛光后的玻璃元件；
将所述玻璃元件置于酸性清洗液中，依次进行第一次超声处理和第二次超声处理；其中，所述第一次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第二次超声处理的超声频率为40KHz～70KHz；
将经所述第二次超声处理后的玻璃元件置于碱性清洗液中，进行第三次超声处理；
将经所述第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗，干燥；
所述第一次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；
所述第二次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声处理5min～60min；
所述第三次超声处理的超声频率为10KHz～30KHz；所述第三次超声处理的条件为：于40℃～80℃下超声时间5min～60min；
以所述酸性清洗液的总质量为基准，所述酸性清洗液包含以下质量百分数的组分：
Figure FDA0003611731510000011
以所述碱性清洗液的总质量为基准，所述碱性清洗液包含以下重量百分数的组分：
Figure FDA0003611731510000012
2.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述酸性清洗液中，所述有机酸为有机羧酸；所述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠中的至少一种。
3.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述酸性清洗液中，所述阴离子表面活性剂由十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和十二烷基硫酸钠组成，所述十二烷基苯磺酸钠、所述脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和所述十二烷基硫酸钠的质量比为(50～60):(30～35):(5-20)。
4.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述有机酸为柠檬酸，所述无机酸选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种。
5.如权利要求1所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，在所述将玻璃元件置于酸性清洗液中的步骤之前，还包括如下步骤：
将所述玻璃元件置于酸中浸泡。
6.如权利要求5所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述酸为柠檬酸；所述浸泡的条件为：于20℃～60℃下浸泡5min～60min。
7.如权利要求1～6任一项所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述强碱为无机强碱；所述碱式盐选自碱式硅酸盐、碱式碳酸盐和碱式磷酸盐中的至少一种。
8.如权利要求1～6任一项所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种，所述碱式盐选自碳酸钾、碳酸钠、磷酸二氢钠和磷酸二氢钾中的至少一种。
9.如权利要求1～6任一项所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述碱性清洗液中，所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠，所述阳离子表面活性剂为一乙醇胺，所述两性离子表面活性剂为十二烷基氨基丙酸盐，所述非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚。
10.如权利要求1～6任一项所述的玻璃元件的清洗方法，其特征在于，所述将经第三次超声处理后的玻璃元件进行水洗的步骤中，所述水洗的方式如下：
将经所述第三次超声处理后的玻璃元件置于水中，进行漂洗；
所述漂洗的条件为：于40℃～80℃下漂洗5min～60min。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113231387B (zh) * 2021-05-11 2022-10-14 云南北方驰宏光电有限公司 一种无损回收纤维光学元件的化学方法
CN113717799A (zh) * 2021-10-08 2021-11-30 台州星星光电科技有限公司 一种蓝宝石玻璃抛光后的清洗方法
CN114181788B (zh) * 2021-11-25 2024-07-19 万津实业(赤壁)有限公司 玻璃清洗剂及其制备方法和应用
CN114653665B (zh) * 2022-02-14 2024-09-03 浙江富芯微电子科技有限公司 一种在碳化硅衬底化学抛光后清洗的方法
CN114749421A (zh) * 2022-03-17 2022-07-15 安徽光智科技有限公司 镜片的超声波清洗工艺
CN115090641A (zh) * 2022-06-21 2022-09-23 同创(丽水)特种材料有限公司 一种清洗玻璃上钽镀层的方法及其应用
CN115625148A (zh) * 2022-10-13 2023-01-20 齐鲁中科光物理与工程技术研究院 一种超声清洗氧化铈的方法与装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5376182A (en) * 1993-03-17 1994-12-27 Remsol (U.S.A.) Corporation Surfactant soil remediation
CN1197113A (zh) * 1997-01-09 1998-10-28 花王株式会社 除去树脂污斑的洗涤剂
BE1011321A6 (nl) * 1997-08-12 1999-07-06 Xaton Luxembourg Societe Anony Werkwijze voor het verwijderen van onzuiverheden van metalen voorwerpen door afbreken in een bad.
CN107096782A (zh) * 2017-05-20 2017-08-29 合肥市惠科精密模具有限公司 一种MicroLED玻璃基板超声波清洗方法
CN109648450A (zh) * 2018-12-28 2019-04-19 临安宇杰精密制品有限公司 一种精密元件的抛光、清洗工艺
CN110846147A (zh) * 2019-11-28 2020-02-28 维达力实业(深圳)有限公司 用于去除玻璃表面抛光粉的清洗剂及其制备方法和应用
CN111073767A (zh) * 2019-12-25 2020-04-28 东莞市晶博光电有限公司 一种玻璃盖板清洗剂及其清洗方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6526995B1 (en) * 1999-06-29 2003-03-04 Intersil Americas Inc. Brushless multipass silicon wafer cleaning process for post chemical mechanical polishing using immersion
CN101062503A (zh) * 2006-04-24 2007-10-31 联华电子股份有限公司 化学机械研磨后的晶片清洗方法
CN100539005C (zh) * 2006-09-30 2009-09-09 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 化学机械抛光后晶圆表面的清洗方法
CN105728391A (zh) * 2014-12-07 2016-07-06 重庆山朕科技发展有限公司 一种新型超声波清洗机
CN106391571A (zh) * 2016-12-09 2017-02-15 曾周 一种ito玻璃的清洗工艺
CN109047160B (zh) * 2018-08-07 2021-03-09 湖南普照信息材料有限公司 一种掩膜版玻璃基板的清洗方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5376182A (en) * 1993-03-17 1994-12-27 Remsol (U.S.A.) Corporation Surfactant soil remediation
CN1197113A (zh) * 1997-01-09 1998-10-28 花王株式会社 除去树脂污斑的洗涤剂
BE1011321A6 (nl) * 1997-08-12 1999-07-06 Xaton Luxembourg Societe Anony Werkwijze voor het verwijderen van onzuiverheden van metalen voorwerpen door afbreken in een bad.
CN107096782A (zh) * 2017-05-20 2017-08-29 合肥市惠科精密模具有限公司 一种MicroLED玻璃基板超声波清洗方法
CN109648450A (zh) * 2018-12-28 2019-04-19 临安宇杰精密制品有限公司 一种精密元件的抛光、清洗工艺
CN110846147A (zh) * 2019-11-28 2020-02-28 维达力实业(深圳)有限公司 用于去除玻璃表面抛光粉的清洗剂及其制备方法和应用
CN111073767A (zh) * 2019-12-25 2020-04-28 东莞市晶博光电有限公司 一种玻璃盖板清洗剂及其清洗方法

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