CN111694234B - 调色剂 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及调色剂。一种调色剂，其包括：包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在调色剂基础颗粒表面上的有机硅聚合物的调色剂颗粒，以及外部添加剂A，有机硅聚合物具有T3单元结构；有机硅聚合物在调色剂基础颗粒表面上形成凸部；凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm；外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm；并且在通过用SEM观察调色剂表面而获得的图像中，图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。

Description

调色剂
技术领域
本公开涉及在例如电子照相法等图像形成方法中使用的调色剂。
背景技术
要求电子照相图像形成设备小型化和更长的寿命，并且响应于这些，也要求调色剂的各种性能的进一步的改善。
关于小型化，已经研究减小由单个单元所占的空间。特别地，可以通过调色剂转印性的改善来减小回收感光鼓上未转印的调色剂的废调色剂容器的尺寸，结果进行各种研究来改善转印性。
在转印步骤中，将感光鼓上的调色剂转印至例如纸等介质。为了改善转印性，必须降低感光鼓和调色剂之间的附着力，以便于调色剂与感光鼓的分离。作为用于完成该目的的技术，已知外部添加粒径的范围为约100nm至300nm的大粒径外部添加剂的技术。
然而，尽管这作为用于改善转印效率的方法是有效的技术，但是在长期图像输出期间，大粒径外部添加剂由于移动、脱离和埋没而导致用作间隔物的能力降低。结果，难以稳定地获得预期的关于改善转印效率的效果。
因此，在日本专利申请特开No.2009-036980中提出其中通过使大粒径外部添加剂半埋没来抑制外部添加剂的移动和脱离的方法。
发明内容
日本专利申请特开No.2009-036980中记载的方法能够抑制移动和脱离；然而，该方法的问题在于埋没最终被加速。
为了通过除外部添加以外的方法实现转印性的改善，对于其中用有机硅化合物涂覆调色剂颗粒表面的方法也进行了研究。
例如，日本专利申请特开No.2016-021041公开了在其表面层包含具有由R-Si(O1/2)3表示的部分结构的有机硅聚合物的调色剂。
对于该调色剂，认为涂覆调色剂颗粒表面的有机硅化合物的效果是提供优异的对外部添加剂的埋没的耐久性。
然而，已经确定为了实现甚至更长的调色剂使用寿命，仍然存在改进的空间。
作为在日本专利申请特开No.2009-036980的情况下引起的半埋没的结果，促进了耐久性试验的后半段的埋没的加速。
另一方面，在日本专利申请特开No.2016-021041的情况下，以高的涂覆率涂覆调色剂颗粒表面的有机硅聚合物，阻碍了内包的用作脱模剂的蜡在调色剂颗粒表面的析出。结果，促进了低温定影性的降低。
相反，以低的涂覆率涂覆调色剂颗粒表面的有机硅聚合物，阻碍了初期使用期间间隔物效果的令人满意的表现。也阻碍了间隔物效果的长期维持，并且在维持高的转印效率方面存在改进的空间。
另外，对于有机硅聚合物的涂覆率低的调色剂，当使用大粒径外部添加剂时，在清洁中间转印构件上的未转印的调色剂时，容易发生漏擦。
因此，本公开提供显示优异的低温定影性、并且在初期使用和长期使用两者期间维持高的转印效率的调色剂。
作为深入研究的结果，本发明人发现，通过在调色剂颗粒表面上形成凸部，并且控制这些凸部的形状和外部添加剂A的直径，来获得解决该问题的调色剂。
即，本公开的调色剂为如下调色剂，其包括：
调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，和
外部添加剂A，
其中
有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构，其中R表示碳原子数为1至6的烷基或者表示苯基；
有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；
在用扫描透射型电子显微镜获得的调色剂截面图像的展开图像中，其中，通过将沿着调色剂基础颗粒的表面的圆周的线展开成直线来提供该截面图像的展开图像，并且
参照该展开图像，使用
凸部宽度w作为对于其中凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿圆周的线的长度；
凸部直径D作为沿凸部宽度w的法线方向的凸部的最大长度；和
凸部高度H作为在形成凸部直径D的线段中，从凸部的顶点至沿着圆周的线的长度，
凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm；
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm；和
在通过用扫描电子显微镜观察调色剂的表面而获得的图像中，获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像，并且二值化处理，由此使背散射电子图像中的有机硅聚合物部分变为亮部，
图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。
根据本公开，可以提供显示优异的低温定影性，并且在初期使用和长期使用两者期间维持高的转印效率的调色剂。
参照附图从以下示例性实施方案的描述，本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1是用STEM观察的调色剂截面的示意图；
图2是示出用于测量调色剂上的凸部形状的方法的示意图；
图3是示出用于测量调色剂上的凸部形状的方法的示意图；和
图4是示出用于测量调色剂上的凸部形状的方法的示意图；
具体实施方式
除非另有具体说明，否则本发明中的表示数值范围的表述“XX以上且YY以下”和“XX至YY”是指包括作为端点的下限和上限的数值范围。
尽管以下描述实施方案，但是本公开不限于以下实施方案或不受其限制。
调色剂包括外部添加剂A和调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物。
有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构，其中R表示碳原子数为1至6的烷基或者表示苯基。
有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；
在用扫描透射型电子显微镜获得的调色剂截面图像的展开图像中，其中，通过将沿着调色剂基础颗粒的表面的圆周的线展开成直线来提供该截面图像的展开图像，并且
参照该展开图像，使用
凸部宽度w作为对于其中凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿着圆周的线的长度；
凸部直径D作为沿凸部宽度w的法线方向的凸部的最大长度；和
凸部高度H作为在形成凸部直径D的线段中，从凸部的顶点至沿着圆周的线的长度，
凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm。
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；和
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm。
在通过用扫描电子显微镜观察调色剂的表面而获得的图像中，获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像，并且二值化处理，由此使背散射电子图像中的有机硅聚合物部分变为亮部，
图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。
上述凸部的特征在于：它们与调色剂基础颗粒的表面进行面接触；可以预期该面接触对凸部的移动、脱离和埋没提供显著的抑制效果。
使用扫描透射型电子显微镜(以下也简称为STEM)进行调色剂截面的观察以显示面接触的程度。图1至图4提供这些凸部的示意图。
图1中给出的1是STEM图像。该图像示出调色剂颗粒的约四分之一的截面，其中2是调色剂颗粒，3是调色剂基础颗粒的表面，和4是凸部。在图2至图4中，5是凸部宽度w，6是凸部直径D，和7是凸部高度H。
观察调色剂的截面图像，并且沿着调色剂基础颗粒的表面的圆周画线。将沿着圆周的该线展开成直线以提供展开图像。凸部宽度w是对于其中凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿着圆周的线的长度。
此外，凸部直径D是沿凸部宽度w的法线方向的凸部的最大长度，和凸部高度H是在形成凸部直径D的线段中，从凸部的顶点至沿着圆周的线的长度。
在图2和图4中，凸部直径D和凸部高度H相同，而在图3中，凸部直径D大于凸部高度H。
图4示意性地示出通过将中空颗粒挤压和切割而获得的其中半球颗粒的中心部凹陷的类似于碗状颗粒的颗粒的固着状态的图。
在图4中，凸部宽度w是与调色剂基础颗粒的表面接触的有机硅聚合物的长度的总和。因此，图4中的凸部宽度w是w1和w2之和。
凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm，并且优选为30nm至200nm，更优选为30nm至100nm，并且还更优选为30nm至80nm。
当凸部高度H的个数平均值为30nm以上时，则在调色剂基础颗粒的表面与转印构件之间产生间隔物效果，并且显著地提高转印性。
另一方面，当凸部高度H的个数平均值为300nm以下时，则产生对移动、脱离和埋没的显著抑制效果，并且即使在长期使用期间也维持高的转印性。
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm。
使该R为30nm以上，导致与转印构件之间产生间隔物效果，并且发挥高的转印性。另外，随着R越大，转印性能呈现提高的趋势。
另一方面，R超过1,200nm导致调色剂流动性的降低并且促进图像不均匀的产生。这也促进感光鼓上的未转印调色剂的擦除不良的发生。
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R优选为30nm至1,000nm，更优选为30nm至500nm，并且还更优选为30nm至300nm。
外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00。当该比[(外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R)/(凸部高度H的个数平均值)]在所述范围内时，则低温定影性可以与对于更长的使用寿命显示优异的耐受性的转印性以良好的平衡共存。
该比优选为1.00至3.80，更优选为1.00至3.70，并且还更优选为1.00至3.00。
当凸部高度H的个数平均值为30nm的最小值时，当R为30nm以上时，显示与转印构件之间的间隔物效果，并且可以提高转印性。关于这一点认为，在由于例如脱离的影响而不存在凸部的那些部位，外部添加剂A起到替代物的功能，并且表现出间隔物效果。因此，当R小于30nm时，阻碍间隔物效果的发挥。
外部添加剂A在调色剂颗粒表面上的固着率(fixing percentage)优选为0％至20％，并且更优选为0％至10％。
通过使该固着率在所述范围内，则外部添加剂A可以容易地在调色剂颗粒表面上移动，并且可以通过凸部替代作用而进一步提高转印性。
可以通过调整当将外部添加剂A添加至调色剂颗粒并且与其混合时使用的混合机的转速和处理温度，来将该固着率控制在所述范围内。
在当对于凸部高度H为30nm至300nm的凸部构建凸部高度H的累积分布时，凸部高度H的从小侧起累积达到80个数％的凸部高度设为H80的情况下，H80优选为65nm至120nm，并且更优选为75nm至100nm。
通过使H80在上述范围内，可以进一步改善转印性。
可以例如通过后述控制凸部的特性的方法来将该H80调整至上述范围内。
在通过定影构件使调色剂定影的定影步骤中，通过从调色剂基础颗粒中渗出适量的脱模剂，来改善纸和定影构件之间的分离性能。
在通过用扫描电子显微镜观察调色剂表面而获得的图像中，获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像，并且二值化处理，由此使背散射电子图像中的有机硅聚合物部分变为亮部，图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例(以下也简称为亮部面积的面积比例)为30.0％至75.0％。对于该图像中亮部面积的面积比例，35.0％至70.0％是优选的。
亮部面积的面积比例越高，表示有机硅聚合物在调色剂基础颗粒表面的存在比例越高。
当亮部面积的面积比例高于75.0％时，源自调色剂基础颗粒的组分在调色剂基础颗粒表面的存在比例则小，并且阻碍了脱模剂从调色剂基础颗粒的渗出，结果促进在低温定影期间在定影单元处薄纸卷绕的发生。
另一方面，当该图像中的亮部面积的面积比例小于30.0％时，源自调色剂基础颗粒的组分在调色剂基础颗粒表面的存在比例则大。因此，源自调色剂基础颗粒的组分在调色剂基础颗粒表面的露出面积大，并且在初期使用期间的转印性降低。
该图像中的亮部面积的面积比例在下文中也称为有机硅聚合物对调色剂基础颗粒表面的覆盖率。
可以例如通过后述控制凸部的特性的方法来将该图像中的亮部面积的面积比例调整至上述范围内。
外部添加剂A应当具有30nm至1,200nm的一次颗粒的数均粒径R，但是没有其它特别限制，并且可以使用各种有机细颗粒和无机细颗粒。
从容易提供流动性并且促进与调色剂基础颗粒同样地带负电的观点，外部添加剂A优选包含二氧化硅细颗粒。外部添加剂A中的二氧化硅细颗粒的含量优选为50质量％以上，并且外部添加剂A更优选由二氧化硅细颗粒构成。
调色剂中的外部添加剂A的含量优选为0.02质量％至5.00质量％，并且更优选为0.05质量％至3.00质量％。
以下是除二氧化硅细颗粒以外的有机细颗粒和无机细颗粒的实例。
(1)流动性赋予剂：氧化铝细颗粒、氧化钛细颗粒、炭黑和氟化碳。
(2)研磨剂：金属氧化物细颗粒(例如钛酸锶、氧化铈、氧化铝、氧化镁和氧化铬的细颗粒)，氮化物细颗粒(例如，氮化硅的细颗粒)，碳化物细颗粒(例如，碳化硅的细颗粒)和金属盐的细颗粒(例如，硫酸钙、硫酸钡和碳酸钙的细颗粒)。
(3)润滑剂：氟系树脂细颗粒(例如偏二氟乙烯和聚四氟乙烯的细颗粒)和脂肪酸金属盐的细颗粒(例如硬脂酸锌和硬脂酸钙的细颗粒)。
(4)电荷控制性细颗粒：金属氧化物细颗粒(例如，氧化锡、氧化钛、氧化锌和氧化铝的细颗粒)和炭黑。
为了改善调色剂的流动性并且提供均匀的调色剂颗粒带电，可以在对其进行疏水化处理之后分别使用二氧化硅细颗粒、有机细颗粒和无机细颗粒。
用于该疏水化处理的处理剂可以示例为未改性的硅酮清漆、各种改性的硅酮清漆、未改性的硅油、各种改性的硅油、硅烷化合物、硅烷偶联剂、其它有机硅化合物和有机钛化合物。可以使用这些处理剂中的一种或组合。
对于考虑中的二氧化硅细颗粒，可以使用公知的二氧化硅细颗粒，并且可以使用干式二氧化硅细颗粒或湿式二氧化硅细颗粒。通过溶胶-凝胶法获得的湿式二氧化硅细颗粒(以下也称为溶胶-凝胶二氧化硅)是优选的。
溶胶-凝胶二氧化硅以球形和单分散形式存在，但是在一定程度上也会发生聚结。
当基于体积的粒度分布图中的一次颗粒的峰的半值宽度为25nm以下时，这些聚结的颗粒是稀少的，于是增强二氧化硅细颗粒在调色剂颗粒表面的均匀附着性，并且获得更高的流动性。
另外，二氧化硅细颗粒在32.5℃和80.0％的相对湿度下的饱和水分吸附量优选为0.4质量％至3.0质量％。控制在上述范围内，能抑制细孔溶胶-凝胶二氧化硅的即使在高温高湿环境下的水分吸附，并且促进高带电性的维持。结果，在耐久打印输出期间可以获得显示更高的图像品质的低起雾图像。
以下描述溶胶-凝胶二氧化硅的生产方法。
首先，在含水有机溶剂中在催化下对烷氧基硅烷进行水解和缩合反应，以获得二氧化硅溶胶悬浮液。从二氧化硅溶胶悬浮液中除去溶剂，并且进行干燥以产生二氧化硅细颗粒。
在水解和缩合反应步骤中可以使用以下来控制通过溶胶-凝胶法得到的二氧化硅细颗粒的一次颗粒的数均粒径：反应温度；烷氧基硅烷的滴加速度；水、有机溶剂和催化剂之间的质量比；以及搅拌速度。
如此获得的二氧化硅细颗粒通常是亲水性的并且具有许多表面硅烷醇基团。结果，在用作调色剂的外部添加剂的情况下，优选对二氧化硅细颗粒的表面进行疏水化处理。
进行疏水化处理的方法可以示例为其中在从二氧化硅溶胶悬浮液中除去溶剂并且干燥后，用疏水化处理剂进行处理的方法，和其中将疏水化处理剂直接添加至二氧化硅溶胶悬浮液并且在干燥的同时进行处理的方法。从控制基于体积的粒度分布图中的一次颗粒的峰的半值宽度的观点，以及从控制饱和水分吸附量的观点，其中将疏水化处理剂直接添加至二氧化硅溶胶悬浮液的方法是优选的。
疏水化处理剂可以示例为以下：
γ-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(N-乙烯基苄基氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、六甲基二硅氮烷、甲基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、邻甲基苯基三甲氧基硅烷、对甲基苯基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、邻甲基苯基三乙氧基硅烷和对甲基苯基三乙氧基硅烷。
另外，可以对二氧化硅细颗粒进行破碎处理，以便于引起二氧化硅细颗粒在调色剂颗粒表面上的单分散和/或引起稳定的间隔物效果的发挥。
二氧化硅细颗粒的表观密度优选为150g/L至300g/L。当二氧化硅细颗粒的表观密度在上述范围内时，这表示表观密度非常低，其中抑制紧密的堆积，并且二氧化硅细颗粒在细颗粒之间存在大量的空气。结果，在外部添加步骤期间改善调色剂颗粒和二氧化硅细颗粒之间的混合性，并且促进均匀的覆盖状态的产生。另外，当调色剂颗粒具有高的平均圆形度时，这些现象更显著，并且二氧化硅细颗粒的覆盖率出现增加的趋势。结果，对于已经经历外部添加的调色剂，抑制调色剂与调色剂之间的紧密堆积，并且因此，促进调色剂与调色剂之间的附着力的降低。
用于将二氧化硅细颗粒的表观密度控制在上述范围内的手段可以示例为：二氧化硅溶胶悬浮液中的疏水化处理的调节，或者疏水化处理后破碎处理的强度的调节，和例如疏水化处理量的调整。可以通过实施均匀的疏水化处理来减少相对较大的聚集体本身。或者，通过调节破碎处理的强度，可以将干燥后的二氧化硅细颗粒中存在的较大的聚集体分解为相对较小的颗粒，从而能降低表观密度。
有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构。
R表示碳原子数为1至6的烷基或苯基。
在具有T3单元结构的有机硅聚合物中，Si原子的四个化合价之一键合至R，并且剩余三个键合至O原子。O原子以其两个化合价各自键合至Si的状态存在，因而提供硅氧烷键(Si-O-Si)。考虑到有机硅聚合物水平的Si原子和O原子，它们由-Si(O1/2)3表示，因为对于两个Si原子存在三个O原子。认为该有机硅聚合物的-Si(O1/2)3结构具有与由大量硅氧烷键构成的二氧化硅(SiO2)相似的性质。
R优选为碳原子数为1至6的烷基，并且更优选为碳原子数为1至3的烷基。碳原子数为1至3的烷基的优选实例为甲基、乙基和丙基。R更优选为甲基。有机硅聚合物优选为具有由下式(Z)给出的结构的有机硅化合物的缩聚物。
在式(Z)中，R1表示碳原子数为1至6的烃基(优选烷基)，并且R2、R3和R4各自独立地表示卤素原子、羟基、乙酰氧基或烷氧基。
R1优选为碳原子数为1至3的脂肪族烃基，并且更优选为甲基。
R2、R3和R4各自独立地表示卤素原子、羟基、乙酰氧基或烷氧基(以下也称为反应性基团)。这些反应性基团经历水解、加成聚合和缩聚，由此形成交联结构。
水解在室温下缓慢地进行，并且从在调色剂基础颗粒的表面上的析出性的观点，碳原子数为1至3的烷氧基是优选的，并且甲氧基和乙氧基是更优选的。
可以使用反应温度、反应时间、反应溶剂和pH来控制R2、R3和R4的水解、加成聚合和缩聚。可以使用除以上给出的式(Z)中的R1以外，在单个分子中具有三个反应性基团(R2、R3和R4)的一种有机硅化合物(以下也称为三官能硅烷)，或多种此类有机硅化合物的组合，以获得有机硅聚合物。
以下是用式(Z)表示的化合物的实例：
三官能甲基硅烷，例如甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基二乙氧基甲氧基硅烷、甲基乙氧基二甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷、甲基甲氧基二氯硅烷、甲基乙氧基二氯硅烷、甲基二甲氧基氯硅烷、甲基甲氧基乙氧基氯硅烷、甲基二乙氧基氯硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、甲基二乙酰氧基甲氧基硅烷、甲基二乙酰氧基乙氧基硅烷、甲基乙酰氧基二甲氧基硅烷、甲基乙酰氧基甲氧基乙氧基硅烷、甲基乙酰氧基二乙氧基硅烷、甲基三羟基硅烷、甲基甲氧基二羟基硅烷、甲基乙氧基二羟基硅烷、甲基二甲氧基羟基硅烷、甲基乙氧基甲氧基羟基硅烷、和甲基二乙氧基羟基硅烷；
三官能硅烷，例如乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三氯硅烷、乙基三乙酰氧基硅烷、乙基三羟基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丙基三氯硅烷、丙基三乙酰氧基硅烷、丙基三羟基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、丁基三氯硅烷、丁基三乙酰氧基硅烷、丁基三羟基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、己基三氯硅烷、己基三乙酰氧基硅烷、和己基三羟基硅烷；以及
三官能苯基硅烷，例如苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三氯硅烷、苯基三乙酰氧基硅烷、和苯基三羟基硅烷。
在不损害本公开的效果的程度上，可以使用将以下与具有由式(Z)给出的结构的有机硅化合物组合使用而获得的有机硅聚合物：在每个分子中具有4个反应性基团的有机硅化合物(四官能硅烷)、在每个分子中具有2个反应性基团的有机硅化合物(双官能硅烷)或者具有1个反应性基团的有机硅化合物(单官能硅烷)。其实例为如下：
二甲基二乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、和3-(2-氨基乙基)氨基丙基三乙氧基硅烷，以及三官能乙烯基硅烷，例如乙烯基三异氰酸基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基二乙氧基甲氧基硅烷、乙烯基乙氧基二甲氧基硅烷、乙烯基乙氧基二羟基硅烷、乙烯基二甲氧基羟基硅烷、乙烯基乙氧基甲氧基羟基硅烷、和乙烯基二乙氧基羟基硅烷。
调色剂中有机硅聚合物的含量优选为1.0质量％至10.0质量％。
从减小对构件的附着力和改善与其相关的转印效率的观点，有机硅聚合物对调色剂基础颗粒表面的固着率优选为80％至100％，更优选为90％至100％，并且还更优选为95％至100％。
可以通过例如调整在有机硅化合物的加成和聚合期间的有机硅化合物的添加速度、反应温度、反应时间、反应期间的pH和pH调整的时机来将该固着率控制在上述范围内。
在用于在调色剂基础颗粒表面上形成上述特定的凸部的优选方法中，将调色剂基础颗粒分散在水系介质中以获得调色剂基础颗粒分散液，然后向其添加有机硅化合物，并且形成凸部以产生调色剂颗粒分散液。
优选将调色剂基础颗粒分散液中的固成分浓度调整为25质量％至50质量％。优选预先将调色剂基础颗粒分散液的温度调整为35℃以上。另外，优选将调色剂基础颗粒分散液的pH调整为阻碍有机硅化合物的缩合的进行的pH。由于阻碍有机硅化合物的缩合的进行的pH随特定物质而变化，因此在以最阻碍反应的pH为中心的±0.5以内是优选的。
优选使用已经进行水解处理的有机硅化合物。例如，作为有机硅化合物的预处理，可以预先在单独的容器中进行水解。用于水解的装料浓度，对于有机硅化合物的量使用100质量份时，优选为40质量份至500质量份、并且更优选为100质量份至400质量份的从例如去离子水或RO水等已经除去离子成分的水。水解期间的条件优选pH为2至7，温度为15℃至80℃，和时间为30分钟至600分钟。
将所得水解液与调色剂基础颗粒分散液混合，并且进行调整至适于缩合的pH(优选5至12或1至3，并且更优选8至12)。通过将水解液的量调整为相对于100质量份的调色剂基础颗粒为5.0质量份至30.0质量份的有机硅化合物，来促进凸部的形成。
另外，优选通过将pH分为两个阶段来进行缩合。例如，第一阶段中的缩合pH可以为4.0至6.0，并且第二阶段中的缩合pH可以为8.0至11.0。
用于形成凸部和缩合的温度和时间优选为在35℃至99℃的温度下保持60分钟至72小时。
为了控制调色剂基础颗粒的表面上的凸部的特性，可以适当地调整在调整第一阶段的缩合pH之前的保持时间，和在调整第二阶段的缩合pH之前的保持时间。通过调整这些保持时间，来容易地控制调色剂基础颗粒表面上的凸部的特性。例如，在调整第一阶段的缩合pH之前的保持时间可以为0.10小时至1.50小时，并且在调整第二阶段的缩合pH之前的保持时间可以为3.0小时至5.0小时。
也可以通过将有机硅化合物的缩合温度调整在35℃至80℃的范围内来控制凸部的特性。
例如，可以使用例如有机硅化合物的添加量、反应温度、第一阶段中的缩合pH和反应时间来控制凸部宽度w。例如，随着第一阶段中的缩合时间延长，凸部宽度倾向于增加。
可以通过例如有机硅聚合物的添加量、反应温度和第二阶段中的缩合pH来控制凸部直径D和凸部高度H。例如，随着第二阶段中的缩合pH增加，凸部直径D和凸部高度H倾向于增大。
以下描述调色剂生产方法，但是并不旨在限于这些或受其限制。
关于调色剂颗粒，可以在水系介质中生产调色剂基础颗粒，并且可以在该调色剂基础颗粒的表面上形成含有机硅聚合物的凸部。可以通过使用公知方法(使用例如，亨舍尔混合机，来自Nippon Coke&Engineering Co.,Ltd.FM10C型等)将外部添加剂A添加至调色剂颗粒或者与其混合来生产调色剂。
调色剂基础颗粒的生产方法可以示例为在水系介质中生产树脂颗粒的方法，例如，悬浮聚合法、溶解悬浮法和乳液聚集法。其中，悬浮聚合法是优选的。
当使用悬浮聚合法时，促进有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上的均匀析出，获得有机硅聚合物的优异粘接性，并且提供优异的环境稳定性，带电量反转组分的优异的抑制效果，和优异的耐久持续性。以下进一步描述悬浮聚合法。
悬浮聚合法为如下方法：其中通过将包含生成树脂的聚合性单体、脱模剂和其它任选的添加剂的聚合性单体组合物在水系介质中造粒，并且使存在于聚合性单体组合物中的聚合性单体聚合而获得调色剂基础颗粒。
在聚合步骤结束后，可以使用公知的方法将生产的颗粒洗涤，通过过滤回收，并且干燥，以获得调色剂基础颗粒。
在聚合步骤的后半段可以升高温度。另外，为了除去未反应的聚合性单体和副产物，可以在聚合步骤的后半段或者在聚合步骤结束之后，从反应体系中蒸馏除去一部分分散介质。
优选地，使用由此获得的调色剂基础颗粒和上述方法形成有机硅聚合物的凸部。
对脱模剂没有特别限制，并且可以使用以下公知的脱模剂：
例如石蜡、微晶蜡和凡士林等石油系蜡，及其衍生物；褐煤蜡及其衍生物；通过费-托法生产的烃蜡，及其衍生物；例如聚乙烯和聚丙烯等聚烯烃蜡，及其衍生物；例如巴西棕榈蜡和小烛树蜡等天然蜡，及其衍生物；高级脂肪醇；例如硬脂酸和棕榈酸等脂肪酸，以及它们的化合物；酰胺酸蜡；酯蜡；酮；氢化蓖麻油及其衍生物；植物蜡；动物蜡；和硅酮树脂。
衍生物包括氧化物以及与乙烯基系单体的嵌段共聚物和接枝改性物。可以使用这些中的一种或混合物。
脱模剂含量相对于100质量份的树脂或生成树脂的聚合性单体优选为2.0质量份至30.0质量份。
调色剂基础颗粒可以包含树脂。该树脂可以示例为以下。
苯乙烯或其衍生物的均聚物，例如聚苯乙烯和聚乙烯基甲苯；苯乙烯系共聚物，例如苯乙烯-丙烯共聚物、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、苯乙烯-乙烯基萘共聚物、苯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸辛酯共聚物、苯乙烯-二甲基氨基乙基丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸丁酯共聚物、苯乙烯-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯、苯乙烯-乙烯基甲基醚共聚物、苯乙烯-乙烯基乙基醚共聚物、苯乙烯-乙烯基甲基酮共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-异戊二烯共聚物、苯乙烯-马来酸共聚物和苯乙烯-马来酸酯共聚物；以及聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇缩丁醛、硅酮树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚丙烯酸系树脂、松香、改性松香、萜烯树脂、酚醛树脂、脂肪族烃树脂、脂环族烃树脂和芳香族系石油树脂。可以使用这些中的一种，或者可以使用多种的混合物。
在前述中优选的是苯乙烯均聚物；苯乙烯-丙烯酸系共聚物，例如苯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸辛酯共聚物和苯乙烯-二甲基氨基乙基丙烯酸酯共聚物；和苯乙烯-甲基丙烯酸系共聚物，例如苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸丁酯共聚物和苯乙烯-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯共聚物。
聚合性单体可以示例为以下给出的乙烯基系聚合性单体。
苯乙烯；苯乙烯衍生物，例如α-甲基苯乙烯、β-甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、对正丁基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、对正己基苯乙烯、对正辛基苯乙烯、对正壬基苯乙烯、对正癸基苯乙烯、对正十二烷基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯和对苯基苯乙烯；丙烯酸系聚合性单体，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸苄酯、二甲基磷酸酯乙基丙烯酸酯、二乙基磷酸酯乙基丙烯酸酯、二丁基磷酸酯乙基丙烯酸酯和2-苯甲酰氧基乙基丙烯酸酯；甲基丙烯酸系聚合性单体，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸正壬酯、二乙基磷酸酯乙基甲基丙烯酸酯和二丁基磷酸酯乙基甲基丙烯酸酯；亚甲基脂肪族单羧酸酯类；乙烯基酯，例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、丁酸乙烯酯和甲酸乙烯酯；乙烯基醚，例如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚和乙烯基异丁基醚；以及乙烯基甲基酮、乙烯基己基酮和乙烯基异丙基酮。可以使用这些中的一种，或者可以使用多种的混合物。
在聚合性单体聚合时，可以添加聚合引发剂。以下为聚合引发剂的实例：
偶氮系和重氮系聚合引发剂，例如2,2’-偶氮二(2,4-二戊腈)、2,2’-偶氮二异丁腈、1,1’-偶氮二(环己烷-1-腈)、2,2’-偶氮二-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈和偶氮二异丁腈；以及过氧化物系聚合引发剂，例如过氧化苯甲酰、过氧化甲乙酮、过氧化碳酸二异丙酯、氢过氧化枯烯、过氧化2,4-二氯苯甲酰和过氧化月桂酰。可以使用这些中的一种，或者可以使用多种的混合物。
聚合引发剂的添加量相对于聚合性单体优选为0.5质量％至30.0质量％。
为了控制树脂的分子量，在聚合性单体聚合时，可以添加链转移剂。
该链转移剂的添加量相对于聚合性单体优选为0.001质量％至15,000质量％。
为了控制树脂的分子量，在聚合性单体聚合时，可以添加交联剂。
交联性单体可以示例为以下。
二乙烯基苯，双(4-丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷，乙二醇二丙烯酸酯，1,3-丁二醇二丙烯酸酯，1,4-丁二醇二丙烯酸酯，1,5-戊二醇二丙烯酸酯，1,6-己二醇二丙烯酸酯，新戊二醇二丙烯酸酯，二甘醇二丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，聚乙二醇#200、#400和#600的二丙烯酸酯，二丙二醇二丙烯酸酯，聚丙二醇二丙烯酸酯，聚酯型二丙烯酸酯(MANDA，Nippon Kayaku Co.,Ltd.)，以及通过将前述物质中的丙烯酸酯改变为甲基丙烯酸酯而提供的交联剂。
多官能交联性单体可以示例为以下：
季戊四醇三丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四丙烯酸酯、低聚酯丙烯酸酯、和它们的甲基丙烯酸酯，2,2-双(4-甲基丙烯酰氧基·聚乙氧基苯基)丙烷、邻苯二甲酸二丙烯酸酯、氰脲酸三烯丙酯、异氰脲酸三烯丙酯、偏苯三酸三烯丙酯和氯菌酸二烯丙酯。可以使用这些中的一种，或者可以使用多种的混合物。
交联剂的添加量相对于聚合性单体优选为0.001质量％至15,000质量％。
当在上述悬浮聚合中使用的介质是水系介质时，以下可以用作聚合性单体组合物的颗粒的分散稳定剂：
磷酸三钙、磷酸镁、磷酸锌、磷酸铝、碳酸钙、碳酸镁、氢氧化钙、氢氧化镁、氢氧化铝、偏硅酸钙、硫酸钙、硫酸钡、膨润土、二氧化硅和氧化铝。
以下是有机分散剂的实例：
聚乙烯醇、明胶、甲基纤维素、甲基羟丙基纤维素、乙基纤维素、羧甲基纤维素的钠盐、和淀粉。
也可以使用商购可得的非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂或阳离子表面活性剂。
这些表面活性剂示例为以下：
十二烷基硫酸钠、十四烷基硫酸钠、十五烷基硫酸钠、辛基硫酸钠、油酸钠、月桂酸钠和硬脂酸钾。
调色剂基础颗粒可以包含着色剂。对这些着色剂没有特别限制，并且可以使用公知的着色剂。
着色剂含量相对于100质量份的树脂或生产树脂的聚合性单体优选为3.0质量份至15.0质量份。
调色剂基础颗粒可以包含电荷控制剂。对该电荷控制剂没有特别限制，并且可以使用公知的电荷控制剂。
电荷控制剂含量相对于100质量份的树脂或生产树脂的聚合性单体优选为0.01质量份至10.00质量份。
以下描述各种测量方法。
<用扫描透射型电子显微镜(STEM)观察调色剂截面的方法>
如下进行制备用于用扫描透射型电子显微镜(STEM)观察的调色剂截面。
以下描述用于制备调色剂截面的过程。
当将有机细颗粒或无机细颗粒外部添加至调色剂时，使用例如以下方法除去有机细颗粒或无机细颗粒，以得到所使用的样品。
通过将160g蔗糖(Kishida Chemical Co.,Ltd.)添加至100mL去离子水，并且在水浴上加热的同时溶解，来制备蔗糖浓缩液。将31g的该蔗糖浓缩液和6mL的Contaminon N(用于清洗精密测量仪器的中性pH7清洗剂的10质量％水溶液，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和有机助洗剂，Wako Pure Chemical Industries,Ltd.)引入离心分离管(50mL容量)中。向其中添加1.0g调色剂，并且使用例如刮刀将调色剂的团块打碎。将离心分离管用振荡器(AS-1N，购自AS ONE Corporation)以每分钟300冲程(strokes per minute(spm))振荡20分钟。振荡后，将溶液转移至旋转转子用玻璃管(50mL)中，并且使用离心分离机(H-9R，Kokusan Co.,Ltd.)使用3,500rpm和30分钟的条件进行分离。
该过程导致调色剂颗粒与外部添加剂的分离。目视检查调色剂颗粒与水溶液的令人满意的分离，并且用例如刮刀回收分离至最上层中的调色剂颗粒。使用减压过滤器将回收的调色剂颗粒过滤，然后在干燥机中干燥至少一小时以产生测量样品。将该过程进行多次以确保必要量。
通过与借助能量色散型X射线分析(EDS)的元素分析组合来确定凸部是否包含有机硅聚合物。
首先将调色剂在盖玻片(方形盖玻片，正方形No.1，Matsunami Glass Ind.,Ltd.)上散布成单层，并且使用Osmium Plasma Coater(OPC80T，Filgen,Inc.)在其上施涂Os膜(5nm)和萘膜(20nm)作为保护膜。
然后将D800光固化性树脂(JEOL Ltd.)填充至PTFE管(外径3mm(内径1.5mm)×3mm)中，并且将上述盖玻片在使调色剂面向D800光固化性树脂以与其的情况下轻轻地放在管上。使该组件暴露于光并且使树脂固化，然后除去盖玻片和管，以得到其中调色剂嵌入最外表面侧的圆柱型的树脂。
使用超声波超薄切片机(UC7，Leica)，通过以0.6mm/s的切削速度，以恰好调色剂的半径的长度(例如，当重均粒径(D4)为8.0μm时为4.0μm)，从圆柱型的树脂的最表面侧进行切削，来产生调色剂的中心部的截面。
然后通过以100nm的膜厚度切削来制备调色剂截面的薄片样品。可以通过按照该过程切削来获得调色剂的中心部的截面。
使用来自JEOL Ltd.的JEM-2800作为扫描透射型电子显微镜(STEM)。使用1nm的STEM探针尺寸和1024×1024像素的图像尺寸来获取图像。通过在明场图像的检测器控制面板上将对比度(Contrast)调整为1425，和将亮度(Brightness)调整为3750，并且在图像控制面板上将对比度调整为0.0，将亮度调整为0.5，和将伽玛(Gamma)调整为1.00，来获取图像。
如图1所示，图像倍率为100,000倍，并且进行图像获取以符合近似为一个调色剂颗粒的截面的圆周的四分之一至二分之一。
通过使用图像处理软件(Image J(从https://imagej.nih.gov/ij/可得))对获得的STEM图像进行图像处理来测量含有机硅聚合物的凸部。对从STEM图像中随机选择的30个凸部进行该测量。
通过将扫描电子显微镜(SEM)与借助能量色散型X射线分析(EDS)的元素分析组合，来检查凸部是否包含有机硅聚合物。
首先，使用画线工具(在直线(Straight)选项卡上选择分段线(Segmented line))沿调色剂基础颗粒的圆周画线。在有机硅聚合物凸部埋没在调色剂基础颗粒中的区域中，将线连接如同没有发生该埋没，以维持调色剂基础颗粒的轮廓线的曲率。
基于该线进行向展开图像的展开(选择编辑(Edit)选项卡上的选择(Selection)，将属性(properties)中的线宽更改为500像素，然后选择编辑选项卡上的选择并且进行矫直(Straightener))。
在该展开图像中，对单个含有机硅聚合物的凸部进行以下测量。
使对于其中凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿圆周的线的长度为凸部宽度w。
凸部直径D表示沿凸部宽度w的法线方向的凸部的最大长度，并且凸部高度H表示在形成凸部直径D的线段中，从凸部的顶点至沿着圆周的线的长度。
对30个随机选择的凸部进行该测量，并且将凸部高度H的个数平均值取作为各个测量值的算术平均值。
<H80的计算方法>
使用利用上述扫描透射型电子显微镜(STEM)拍摄的调色剂截面的STEM图像，对于凸部高度H为30nm至300nm的凸部构建凸部高度H的累积分布，并且将H80(单位：nm)取作对应于凸部高度H的从小侧起累积达到80个数％的凸部高度。
<在调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像中的亮部面积的面积比例的计算方法>
使用扫描电子显微镜进行调色剂表面的观察，以获得亮部面积的面积比例。获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像；获得其中该背散射电子图像中的有机硅聚合物部分显示为亮部的二值化处理的图像；并且确定该图像中亮部面积相对于图像的总面积的比例。
使用扫描电子显微镜(SEM)获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像。
当将有机细颗粒或无机细颗粒外部添加至调色剂时，使用例如以下方法除去有机细颗粒或无机细颗粒，以得到所使用的样品。
通过将160g蔗糖(Kishida Chemical Co.,Ltd.)添加至100mL去离子水，并且在水浴上加热的同时溶解，来制备蔗糖浓缩液。将31g该蔗糖浓缩液和6mL的Contaminon N(用于清洗精密测量仪器的中性pH7清洗剂的10质量％水溶液，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和有机助洗剂，Wako Pure Chemical Industries,Ltd.)引入离心分离管(50mL容量)中。向其中添加1.0g调色剂，并且使用例如刮刀将调色剂的团块打碎。将离心分离管用振荡器(AS-1N，购自AS ONE Corporation)以每分钟300冲程(strokes per minute(spm))振荡20分钟。振荡后，将溶液转移至旋转转子用玻璃管(50mL)中，并且使用离心分离机(H-9R，Kokusan Co.,Ltd.)使用3,500rpm和30分钟的条件进行分离。
该过程导致调色剂颗粒与外部添加剂的分离。目视检查调色剂颗粒与水溶液的令人满意的分离，并且用例如刮刀回收分离至最上层中的调色剂颗粒。使用减压过滤器将回收的调色剂颗粒过滤，然后在干燥机中干燥至少一小时以得到测量样品。将该过程进行多次以确保必要量。
通过与后述借助能量色散型X射线分析(EDS)的元素分析组合来确定凸部是否包含有机硅聚合物。
SEM仪器和观察条件如下。
所用仪器：来自Carl Zeiss Microscopy GmbH的ULTRAPLUS
加速电压：1.0kV
WD：2.0mm
孔径：30.0μm
检测信号：EsB(能量选择式背散射电子)
EsB栅极(grid)：800V
观察倍率：50,000倍
对比度：63.0±5.0％(参考值)
亮度：38.0±5.0％(参考值)
分辨率：1,024×768
预处理：将调色剂颗粒散布在碳带上(不进行蒸镀)
设定加速电压和EsB栅极以实现以下项：获取调色剂颗粒的最表面层上的结构数据，抑制未蒸镀样品的过度带电，和选择性检测高能量背散射电子。对于观察视野，选择调色剂颗粒曲率最小的顶点附近。
通过将背散射电子图像与通过可以借助扫描电子显微镜(SEM)提供的能量色散型X射线分析(EDS)而提供的元素映射图像重叠，来确认背散射电子图像中的亮部源自有机硅聚合物。
SEM/EDS仪器和观察条件如下。
所用仪器(SEM)：来自Carl Zeiss Microscopy GmbH的ULTRAPLUS
所用仪器(EDS)：来自Thermo Fisher Scientific Inc.的NORAN System 7，UltraDry EDS Detector
加速电压：5.0kV
WD：7.0mm
孔径：30.0μm
检测信号：SE2(二次电子)
观察倍率：50,000倍
模式：光谱成像
预处理：将调色剂颗粒散布在碳带上，铂溅射
将背散射电子图像与通过该过程获取的硅元素映射图像重叠，并且确认映射图像中的硅原子部与背散射电子图像中的亮部之间的一致性。
通过使用ImageJ图像处理软件(开发商：Wayne Rashand)分析通过上述过程得到的调色剂颗粒表面的背散射电子图像，来取得亮部面积相对于背散射电子图像的总面积的面积比例的计算。
首先通过图像(Image)菜单中的类型(Type)将背散射电子图像转换为8位(8-bit)。然后，通过处理(Process)菜单中的滤镜(Filters)，将中值直径设定为2.0像素以减少图像噪声。
在除去显示在背散射电子图像下方的观察条件显示部后，估计图像的中心，并且使用来自工具栏的矩形工具(Rectangle Tool)从背散射电子图像的图像中心选择1.5μm见方的范围。
然后从图像菜单上的调整(Adjust)中选择阈值(Threshold)。选择默认(Default)；点击自动(Auto)；然后通过点击应用(Apply)来获得二值化处理的图像。该过程使背散射电子图像的亮部显示为白色。
重复：在除去在背散射电子图像下方显示的观察条件显示部，估计图像的中心，并且使用来自工具栏的矩形工具从背散射电子图像的图像中心选择1.5μm见方的范围。
然后从分析(Analyze)菜单中选择直方图(Histogram)。使用新的打开的直方图窗口，读取计数值(Count value)(对应于背散射电子图像的总面积)。点击列表(List)，并且读取当亮度为0时的计数值(对应于背散射电子图像中的亮部面积)。然后，使用这些值来计算亮部面积相对于背散射电子图像的总面积的面积比例。对于每个进行评价的调色剂颗粒，在10个视野上进行该过程，并且计算个数平均值，从而对于使背散射电子图像中的有机硅聚合物部分变为亮部的二值化处理的图像，提供图像的亮部面积相对于总面积的面积比例(％)。
<有机硅聚合物的鉴定方法>
通过将用扫描电子显微镜(SEM)的观察与通过能量色散型X射线分析(EDS)的元素分析组合来进行有机硅聚合物的鉴定。
使用“S-4800日立超高分辨率场发射扫描电子显微镜”(Hitachi High-Technologies Corporation)扫描电子显微镜，在最大放大50,000X的视野中观察调色剂。通过聚焦在调色剂颗粒表面上进行表面的观察。
对例如表面上存在的颗粒进行EDS分析，并且基于Si元素峰的有无来确定例如分析的颗粒是否为有机硅聚合物。
当有机硅聚合物和二氧化硅细颗粒两者存在于调色剂颗粒表面上时，通过将Si和O元素含量(原子％)的比(Si/O比)与标准品比较来进行有机硅聚合物的鉴定。
在相同条件下，对有机硅聚合物的标准品和二氧化硅细颗粒的标准品进行EDS分析，并且获得两者的Si和O元素含量(原子％)。
将有机硅聚合物的Si/O比指定为A，并且将二氧化硅细颗粒的Si/O比指定为B。选择测量条件，以使A显著地大于B。
具体地，在相同条件下对各标准品进行十次测量，并且获得A和B及其各自的算术平均值。选择测量条件，以使获得的平均值提供A/B>1.1。
当例如待判别的颗粒的Si/O比在相对于[(A+B)/2]的A侧时，则例如判断该颗粒为有机硅聚合物。
使用Tospearl 120A(Momentive Performance Materials Japan LLC)作为有机硅聚合物颗粒的标准品，并且使用HDK V15(Asahi Kasei Corporation)作为二氧化硅细颗粒的标准品。
<外部添加剂的一次颗粒的数均粒径R的测量方法>
使用“S-4800日立超高分辨率场发射扫描电子显微镜”(Hitachi High-Technologies Corporation)扫描电子显微镜和能量色散型X射线分析(EDS)的组合进行测量。
在最大放大至50,000X的视野中，在也使用借助如上所述的EDS的元素分析过程的同时，随机拍摄外部添加剂颗粒。
从拍摄的图像中随机选择100个外部添加剂颗粒；测量对象外部添加剂颗粒的一次颗粒的长径；并且将其算术平均值取作一次颗粒的数均粒径R。
根据外部添加剂颗粒的尺寸适当地调整观察倍率。
<有机硅聚合物的构成化合物的组成和比率的鉴定方法>
使用NMR来鉴定存在于调色剂中的有机硅聚合物的构成化合物的组成和比率。
当除有机硅聚合物以外在调色剂中还存在例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂时，进行以下过程。
将1g调色剂引入小瓶中，并且溶解和分散在31g氯仿中。通过使用用于分散的超声波均化器处理30分钟，来制备分散液。
超声波处理仪器：VP-050超声波均化器(TIETECH Co.,Ltd.)
微芯片：步进型微芯片，前端直径
微芯片的前端位置：玻璃小瓶的中央部，距离小瓶的底面5mm高
超声波条件：强度30％，30分钟
在该处理期间，在用冰水冷却小瓶以防止分散液的温度升高的同时，施加超声波。
将分散液转移至旋转转子用玻璃管(50mL)中，并且使用离心分离机(H-9R，Kokusan Co.,Ltd.)以及58.33S-1和30分钟的条件进行离心分离。离心分离后，具有高比重的颗粒，例如二氧化硅细颗粒存在于玻璃管的下层中。回收作为上层的含有机硅聚合物的氯仿溶液，并且通过真空干燥(40℃/24小时)除去氯仿，从而获得样品。
使用该样品或有机硅聚合物，使用固态29Si-NMR来测量和计算有机硅聚合物的构成化合物的存在量比，和有机硅聚合物中由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构的比例。
首先使用13C-NMR来确认由R表示的烃基。
<<13C-NMR(固态)的测量条件>>
仪器：JNM-ECX500II，JEOL RESONANCE
样品管：
样品：样品或有机硅聚合物
测量温度：室温
脉冲模式：CP/MAS
测量核频率：123.25MHz(13C)
标准物质：金刚烷(外部标准：29.5ppm)
样品转速：20kHz
接触时间：2ms
延迟时间：2s
扫描次数：1024次
通过源自例如键合硅原子的甲基(Si-CH3)、乙基(Si-C2H5)、丙基(Si-C3H7)、丁基(Si-C4H9)、戊基(Si-C5H11)、己基(Si-C6H13)或苯基(Si-C6H5)的信号的有无借助该方法来确认由R表示的烃基。
另一方面，在固态29Si-NMR的情况下，取决于有机硅聚合物的构成化合物中键合至Si的官能团的结构，在不同的位移区域检测到峰。
可以通过使用标准样品鉴定各峰位置来确定键合至Si的结构。另外，可以从获得的峰面积计算各个构成化合物的存在量比。可以通过计算来确定T3单元结构的峰面积相对于总峰面积的比例。
固态29Si-NMR的具体测量条件如下。
仪器：JNM-ECX5002(JEOL RESONANCE)
温度：室温
测量方法：DDMAS法，29Si，45°
样品管：氧化锆，
样品：以粉末形式填充在样品管中
样品转速：10kHz
弛豫延迟：180s
扫描：2,000
在该测量之后，通过曲线拟合对样品或有机硅聚合物中的具有不同取代基和键合基团的硅烷组分进行峰分离，分为以下结构X1、结构X2、结构X3和结构X4，并且计算它们各自的峰面积。
以下所示的结构X3为T3单元结构。
结构X1：(Ri)(Rj)(Rk)SiO1/2 (A1)
结构X2：(Rg)(Rh)Si(O1/2)2 (A2)
结构X3：RmSi(O1/2)3 (A3)
结构X4：Si(O1/2)4 (A4)
式(A1)、(A2)和(A3)中的Ri、Rj、Rk、Rg、Rh和Rm表示键合硅的有机基团，例如碳原子数1至6的烃基、卤素原子、羟基、乙酰氧基、或烷氧基。
当必须更详细地确认结构时，可以使用来自上述13C-NMR和29Si-NMR的测量结果与来自1H-NMR的测量结果的组合来进行鉴定。
<调色剂中存在的有机硅聚合物或二氧化硅细颗粒的定量方法>
如上所述将调色剂分散在氯仿中；然后基于有机硅聚合物和例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂的比重差进行离心分离，并且获得各样品；并且确定有机硅聚合物或二氧化硅细颗粒等外部添加剂的含量。
以下作为实例，使用二氧化硅细颗粒作为外部添加剂的情况。其它细颗粒可以使用相同的方法来定量。
首先使用荧光X射线来测量经压制的调色剂，并且通过使用例如校准曲线法或FP法的分析来确定调色剂中的硅含量。
然后，对于形成有机硅聚合物和二氧化硅细颗粒的构成化合物，使用例如固态29Si-NMR和热解GC/MS来确定各自的结构，并且确定有机硅聚合物和二氧化硅细颗粒中的硅含量。
由通过荧光X射线确定的调色剂中的硅含量、与通过固态29Si-NMR和热解GC/MS确定的有机硅聚合物和二氧化硅细颗粒中的硅含量之间的关系通过计算来确定调色剂中的有机硅聚合物和二氧化硅细颗粒的含量。
<通过水洗法测量有机硅聚合物或例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂对调色剂基础颗粒或调色剂颗粒的固着率的方法>
(水洗步骤)
在50mL容量的小瓶中称量20g“Contaminon N”(用于清洗精密测量仪器的中性pH7清洗剂的10质量％水溶液，包含非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和有机助洗剂)，并且进行与1g调色剂的混合。
将小瓶置于来自Iwaki Sangyo Co.,Ltd.的“KM Shaker”中，并且在将速度设定至50的情况下进行振荡120秒。取决于有机硅聚合物或二氧化硅细颗粒的固着状态，这用于使有机硅聚合物或例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂从调色剂基础颗粒或调色剂颗粒表面转移至分散液侧。
然后使用离心分离机(H-9R，Kokusan Co.,Ltd.)(在16.67S-1下5分钟)将调色剂和转移至上清液中的有机硅聚合物或例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂分离。
将沉淀的调色剂通过真空干燥(40℃/24小时)来干燥成固态，以提供水洗后调色剂。
使用S-4800日立超高分辨率场发射扫描电子显微镜(Hitachi High-Technologies Corporation)来拍摄未进行该水洗步骤的调色剂(水洗前调色剂)和通过水洗步骤提供的调色剂(水洗后调色剂)。
通过使用能量色散型X射线分析(EDS)的元素分析来鉴定测量对象。
通过使用Image-Pro Plus ver.5.0(Nippon Roper KK)图像分析软件分析所得的调色剂表面图像，来计算覆盖率。
使用S-4800的图像获取条件如下。
(1)样品制备
将导电性糊剂薄地涂布在样品台(15mm×6mm铝样品台)上，并且将调色剂喷涂至其上。在使用鼓风机从样品台除去过多的调色剂之后，进行充分地干燥。将样品台放置在样品架中，并且使用样品高度计将样品台高度调整为36mm。
(2)设定用S-4800观察的条件
在如上所述使用借助能量色散型X射线分析(EDS)的元素分析，预先区分调色剂表面上的有机硅聚合物或例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂之后，进行覆盖率的测量。
将液氮引入安装至S-4800壳体的防污染阱中直至溢出，并且进行静置30分钟。启动S-4800的“PC-SEM”，并且进行冲洗(清洁作为电子源的FE芯片)。点击画面上的控制面板中的加速电压显示部分，并且按下[冲洗(flashing)]按钮以打开冲洗执行对话框。确认冲洗强度为2，并且进行执行。确认由于冲洗导致的发射电流为20至40μA。将样品架插入S-4800壳体的样品室中。在控制面板上按下[原点(home)]，从而将样品架移动至观察位置。
点击加速电压显示部分以打开HV设定对话框，并且将加速电压设定为[1.1kV]和将发射电流设定为[20μA]。在操作面板的[基本(base)]选项卡中，将信号选择设置为[SE]；对于SE检测器，选择[上(Upper)(U)]和[+BSE]；在[+BSE]的右侧的选择框中选择[L.A.100]；并且将仪器放置在背散射电子图像观察模式中。类似地，在操作面板的[基本]选项卡内，将电子光学系统条件模块的探针电流设定为[标准(Normal)]；将焦点模式设定为[UHR]；并且将WD设定为[4.5mm]。按下控制面板的加速电压显示部分的[ON]按钮以施加加速电压。
(3)确定调色剂的数均粒径(D1)
通过在控制面板的倍率显示部分内拖动来将倍率设定为5,000(5k)倍。旋转控制面板上的[COARSE]聚焦旋钮，并且在获得一定程度的聚焦的情况下进行光圈对准(aperture alignment)的调整。点击控制面板中的[对准(Align)]，并且显示对准对话框，并且选择[光束(Beam)]。通过旋转控制面板上的STIGMA/ALIGNMENT旋钮(X，Y)，来将显示的光束移动至同心圆的中心。然后选择[光圈(Aperture)]，并且逐步旋转STIGMA/ALIGNMENT旋钮(X，Y)，并且进行调整以使图像的移动停止或使移动最小化。关闭光圈对话框，并且用自动聚焦进行聚焦。通过重复该操作另外的两次来进行聚焦。
然后对300个调色剂测量粒径，并且确定数均粒径(D1)。对于各颗粒的粒径，使用在调色剂颗粒的观察期间的最大直径。
(4)焦点调整
在(3)中获得的数均粒径(D1)±0.1μm的颗粒的最大直径的中点与测量画面的中央一致的情况下，在控制面板的倍率显示部分内进行拖动来将倍率设定为10,000(10k)倍。
旋转控制面板上的[COARSE]聚焦旋钮，并且在获得一定程度的聚焦的情况下进行光圈对准的调整。点击控制面板中的[对准]，并且显示对准对话框，并且选择[光束]。通过旋转控制面板上的STIGMA/ALIGNMENT旋钮(X，Y)，来将显示的光束移动至同心圆的中心。然后选择[光圈]，并且逐步旋转STIGMA/ALIGNMENT旋钮(X，Y)，并且进行调整以使图像的移动停止或使移动最小化。关闭光圈对话框，并且用自动聚焦进行聚焦。然后将倍率设定为50,000(50k)倍，并且在使用聚焦旋钮和STIGMA/ALIGNMENT旋钮自动聚焦的情况下再次进行焦点调整和聚焦。通过重复该操作另外的一次进行聚焦。当观察面具有大的倾斜角时，覆盖率的测量精度容易降低，由于该原因在焦点调整期间选择观察面整体上的同时聚焦，并且在选择最小可能的表面倾斜的情况下进行分析。
(5)图像贮存
使用ABC模式进行亮度调整，并且拍摄并保存尺寸为640×480像素的图像。使用该图像文件如下进行分析。每一个调色剂拍摄一张照片，并且获得25个调色剂颗粒的图像。
(6)图像分析
通过使用下述分析软件，进行通过上述过程得到的图像的二值化处理，来确定覆盖率。此处，将上述每一个界面划分为12个正方形，并且对每一个进行分析。
Image-Pro Plus ver.5.0图像分析软件的分析条件如下所述。然而，在所划分区域内存在粒径小于30nm或大于300nm的有机硅聚合物、或者粒径小于30nm或大于1,200nm的例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂的情况下，不对这些划分区域进行覆盖率的测量。
在Image-Pro Plus ver.5.0图像分析软件中，从工具栏中的“测量”中依次选择“计数/尺寸(Count/size)”和“选项(Option)”，并且设定二值化条件。在对象提取选项中选择8个连接，并且将平滑化(smoothing)设定为0。此外，不选择预筛选(pre-filter)、孔填充(hole filling)和包络线(enclosure line)，并且将“排除边界线(exclude boundaryline)”设定为“无(none)”。从工具栏中的“测量”中选择“测量项目”，并且将2至107输入面积筛选范围。
通过描绘正方形区域来计算覆盖率。此时，使区域的面积(C)为24,000至26,000像素。用“处理”-二值化进行自动二值化，并且计算无有机硅聚合物或例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂的区域的面积的总和(D)。
使用下式由正方形区域的面积C和无有机硅聚合物或例如二氧化硅细颗粒等外部添加剂的区域的面积的总和D来确定覆盖率。
覆盖率(％)＝100-(D/C×100)
使用所有获得的数据的算术平均值作为覆盖率。
对于水洗前调色剂和水洗后调色剂两者计算覆盖率，并且
使用[水洗后调色剂的覆盖率]/[水洗前调色剂的覆盖率]×100作为本公开中的“固着率”。
实施例
以下使用实施例和比较例更详细地描述本公开，但是本公开绝不限于此或由此限制。除非另有具体说明，否则实施例中使用的“份”和“％”基于质量。
以下描述调色剂的生产例。
<调色剂颗粒1生产例>
(水系介质1制备)
在安装有搅拌器、温度计和回流冷凝器的反应器中，将14.0份的磷酸钠(十二水合物，RASAIndustries,Ltd.)引入650.0份的去离子水中，并且在用氮气吹扫的同时，将其在65℃下保持1.0小时。
在使用T.K.均质混合器(Tokushu Kika Kogyo Co.,Ltd.)以15,000rpm搅拌的同时，一次引入溶解在10.0份去离子水中的9.2份氯化钙(二水合物)的氯化钙水溶液，以制备含有分散稳定剂的水系介质。将10质量％的盐酸引入水系介质中以将pH调整为5.0，从而得到水系介质1。
<制备聚合性单体组合物>
·苯乙烯：60.0份
·C.I.颜料蓝15:3：6.5份
将上述材料引入磨碎机(Mitsui Miike Chemical Engineering Machinery Co.,Ltd.)，并且使用直径为1.7mm的氧化锆颗粒在220rpm下进行分散5.0小时。然后，除去氧化锆颗粒以制备着色剂分散液。
另一方面，
·苯乙烯：20.0份
·丙烯酸正丁酯：20.0份
·交联剂(二乙烯基苯)：0.3份
·饱和聚酯树脂：5.0份
(环氧丙烷改性双酚A(2mol加合物)和对苯二甲酸的缩聚物(10:12摩尔比)，玻璃化转变温度Tg＝68℃，重均分子量Mw＝10,000，分子量分布Mw/Mn＝5.12)
·费-托蜡(熔点：78℃)：7.0份
将上述材料添加至着色剂分散液，然后加热至65℃，并且通过使用T.K.均质混合器(Tokushu Kika Kogyo Co.,Ltd.)以500rpm溶解和分散至均匀，来制备聚合性单体组合物。
<造粒步骤>
将水系介质1的温度设定为70℃。在将T.K.均质混合器的转速保持在15,000rpm的同时，将聚合性单体组合物引入水系介质1中，并且添加10.0份聚合引发剂过氧化新戊酸叔丁酯。在用搅拌器维持15,000rpm的同时，进行造粒10分钟。
<聚合步骤和蒸馏步骤>
在造粒步骤后，将搅拌器更换为螺旋桨式叶轮，并且在维持70℃和以150rpm搅拌的同时，进行聚合5.0小时。然后将温度升高至85℃，并且在保持的同时进行聚合2.0小时。
随后将反应器上的回流冷凝器更换为冷凝器，并且通过将所得的浆料加热至100℃来进行蒸馏6小时，从而蒸馏出未反应的聚合性单体并且得到树脂颗粒分散液。
<有机硅聚合物形成步骤>
将60.0份去离子水计量加入安装有搅拌器和温度计的反应器中，并且使用10质量％盐酸将pH调整为4.0。在搅拌的同时将其加热以使温度为40℃。然后添加40.0份有机硅化合物甲基三乙氧基硅烷，并且在搅拌的同时进行水解至少2小时。
当不发生油/水分离并且存在一层时，通过目视观察来确认水解的终点；然后冷却得到的有机硅化合物水解液。
在将所得的树脂颗粒分散液的温度设定为55℃之后，添加25.0份有机硅化合物水解液(有机硅化合物的添加量为10.0份)，并且引发有机硅化合物的聚合。在该条件下进行保持0.25小时，随后使用3.0％碳酸氢钠水溶液将pH调整为5.5。在55℃下继续搅拌的同时，进行保持1.0小时(缩合反应1)，然后使用3.0％碳酸氢钠水溶液将pH调整为9.5，随后再保持4.0小时(缩合反应2)，以获得调色剂颗粒分散液。
<洗涤步骤和干燥步骤>
在有机硅聚合物形成步骤结束之后，将调色剂颗粒分散液冷却；将盐酸添加至调色剂颗粒分散液以将pH调整为1.5以下；并且在搅拌的同时进行保持1.0小时。
然后通过使用压力过滤器进行固/液分离来获得调色剂滤饼。
将所得的调色剂滤饼用去离子水再次浆化以提供另一分散液，然后使用上述过滤器通过固/液分离来获得调色剂滤饼。
将所得的调色剂滤饼转移至40℃的恒温室中，并且经72小时干燥并分级，以获得调色剂颗粒1。调色剂颗粒1的生产条件在表1中给出。
<调色剂颗粒2至11和比较调色剂颗粒2至9的生产例>
除了改变为表1中所示的条件以外，与调色剂颗粒1的生产例同样地进行来获得调色剂颗粒2至11和比较调色剂颗粒2至9。调色剂颗粒2至11和比较调色剂颗粒2至9的生产条件在表1中给出。
[表1]
<外部添加剂A1至A6和A8至A11的生产例>
如下生产外部添加剂A1至A6和A8至A11。
将150份的5％氨水引入安装有搅拌器、滴加喷嘴和温度计的1.5-L玻璃反应器中，并且用作碱催化剂溶液。
将该碱催化剂溶液调整为50℃；在搅拌的同时，滴加100份的四乙氧基硅烷和50份的5％氨水；并且进行反应8小时，以得到二氧化硅细颗粒分散液。然后将所得的二氧化硅细颗粒分散液通过喷雾干燥来干燥，并且用针磨机进行破碎以获得二氧化硅细颗粒。
通过适当地改变这些生产条件，得到具有不同的一次颗粒的数均粒径R的外部添加剂A1至A6和A8至A11。外部添加剂A1至A6和A8至A11的性质在表2给出。
<外部添加剂A7的生产例>
使用AKP-30氧化铝(Sumitomo Chemical Co.,Ltd.)作为外部添加剂A7。外部添加剂A7的性质在表2中给出。
[表2]
外部添加剂No. 种类 一次颗粒的数均粒径R(nm)
A1 二氧化硅 120
A2 二氧化硅 200
A3 二氧化硅 60
A4 二氧化硅 170
A5 二氧化硅 1100
A6 二氧化硅 70
A7 氧化铝 200
A8 二氧化硅 100
A9 二氧化硅 30
A10 二氧化硅 20
A11 二氧化硅 1300
<调色剂1的生产例>
将100.00份调色剂颗粒1和1.00份外部添加剂A1引入在其夹套内注入7℃水的亨舍尔混合机(FM10C型，Nippon Coke&Engineering Co.,Ltd.)中。然后，在夹套中的水温稳定在7℃±1℃之后，使用38m/sec的旋转叶片的圆周速度进行混合10分钟。在该混合期间，适当地调整流经夹套的水量，以防止亨舍尔混合机的槽内温度超过25℃。
将所得混合物通过开口为75μm的筛网筛分，以获得调色剂1。调色剂1的生产条件和性质在表3中给出。
<调色剂2至11和比较调色剂2至9的生产例>
除了改变为表3中所示的外部添加剂A，并且用亨舍尔混合机适当地改变外部添加条件以外，与调色剂1的生产例同样地进行获得调色剂2至11和比较调色剂2至9。调色剂2至11和比较调色剂2至9的生产条件和性质在表3中给出。
[表3]
表中的“X”表示外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比。
<比较调色剂颗粒1的生产例>
除了不进行“有机硅聚合物形成步骤”以外，与调色剂颗粒1的生产例同样地进行来获得比较调色剂颗粒1。比较调色剂颗粒1的生产条件在表1中给出。
<比较调色剂1的生产例>
将100.00份比较调色剂颗粒1和1.00份外部添加剂A8引入在其夹套内注入7℃水的亨舍尔混合机(FM10C型，Nippon Coke&Engineering Co.,Ltd.)中。然后，在夹套中的水温稳定在7℃±1℃之后，使用38m/sec的旋转叶片的圆周速度进行混合10分钟。在该混合期间，适当地调整流经夹套的水量，以防止亨舍尔混合机的槽内温度超过25℃。
将所得混合物通过开口为75μm的筛网筛分，以获得比较调色剂1。比较调色剂1的生产条件和性质在表3中给出。
<实施例1>
对调色剂1进行以下评价。结果在表4中给出。
<转印性的评价>
使用来自Canon,Inc.的商用激光束打印机LBP7700C的改造机作为评价机。改造包括通过改变评价机的主体并且改变软件来提供转速为360mm/sec的显影辊。
将调色剂装入LBP7700C的调色剂盒中，并且将该调色剂盒在常温常湿环境(25℃，50％RH；以下也称为N/N)下放置24小时。
在上述环境中将其放置24小时后，将调色剂盒安装在上述机器中，并且在N/N环境下在左右留有50mm空白的A4纸的中央部沿横向打印出7,500张打印率为5.0％的图像。
为了评价，在使用初期(第一张打印后)和第7,500张打印后(长期使用后)输出实心图像，并且将在形成实心图像时感光构件上的未转印调色剂使用透明的聚酯压敏粘合带粘贴并剥离。
通过从将剥离的压敏粘合带粘贴在纸上的浓度减去仅将压敏粘合带粘贴在纸上的浓度来计算浓度差。
在五个位置进行浓度测量并且确定其算术平均值。基于该浓度差值，如下进行评价。
使用X-Rite彩色反射浓度计(X-Rite 500系列，X-Rite，Incorporated)来测量浓度。
(评价标准)
A：浓度差小于0.030
B：浓度差为0.030以上且小于0.050
C：浓度差为0.050以上且小于0.100
D：浓度差为0.100以上
<低温定影性的评价>
使用来自Canon,Inc.的激光束打印机LBP9600C的改造机作为评价机；改造使得能够调节定影单元的定影温度。
使用该改造机，在常温常湿环境(25℃，50％RH；以下也称为N/N)下，以300mm/sec的处理速度使定影温度从140℃以5℃的步长变化。
其它条件如下：在图像接收纸上产生调色剂承载量为0.40mg/cm2的实心图像，并且以无油构造施加热和压力。
在上述条件下进行打印，并且目视检查通纸状态。确定在通纸期间不发生卷绕时的定影单元的最低温度，并且基于以下标准确定低温定影期间的卷绕性(低温定影性)。
GF-600(面积重量＝60g/m2，由Canon Marketing Japan Inc.出售)用作图像接收纸。
评价标准
A：140℃或145℃
B：150℃
C：155℃
D：160℃或165℃
E：170℃以上
<流动性的评价(实心追随性)>
使用以下方法评价高温高湿环境下的实心追随性。
使用上述来自Canon,Inc.的商用LBP7700C激光束打印机的改造机作为评价机。
将填充有调色剂的盒和主体在高温高湿环境(温度＝32.5℃，湿度＝80％RH)下放置24小时以上。然后连续输出三张实心图像，以提供样品图像，并且通过对第三张获得的实心图像目视评价来评价实心追随性。
使用连续通纸，也可以在一天内完成1％打印率的10,000张；然后进行放置在机器内一天；并且在放置时间后，如上评价实心追随性。以下给出评价标准。
在该评价中，已知在更高的调色剂流动性下获得更好的结果。
在每10,000张时进行评价，并且对30,000张进行连续评价。
以下评价标准是对30,000张进行连续评价的标准。
(评价标准)
A：图像浓度均匀，无不均匀
B：存在图像浓度地微小的不均匀，但是水平不会对使用造成问题
C：存在图像浓度的不均匀，但是水平不会对使用造成问题
D：以无法提供均匀的实心图像的水平存在图像浓度的不均匀
<实施例2至11和比较例1至9>
除了将调色剂1改变为调色剂2至11和比较调色剂1至9以外，与实施例1同样地进行评价。结果在表4中给出。
[表4]
虽然已经参照示例性实施方案描述了本发明，但是应当理解的是，本发明不限于公开的示例性实施方案。所附权利要求的范围要符合最宽泛的解释从而涵盖所有此类修改以及等同的结构和功能。

Claims (5)

1.一种调色剂，其包括：
调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在所述调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，和
外部添加剂A，
其特征在于，
所述有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构，其中R表示碳原子数为1至6的烷基或者表示苯基；
所述有机硅聚合物在所述调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；
在用扫描透射型电子显微镜获得的调色剂截面图像的展开图像中，其中通过将沿着所述调色剂基础颗粒的表面的圆周的线展开成直线来提供该截面图像的所述展开图像，并且
参照该展开图像，使用
凸部宽度w作为对于其中凸部和所述调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿所述圆周的线的长度；
凸部直径D作为沿所述凸部宽度w的法线方向所述凸部的最大长度；和
凸部高度H作为在形成所述凸部直径D的线段中，从所述凸部的顶点至沿着所述圆周的线的长度，
所述凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm；
所述外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与所述凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；
所述外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至300nm；和
在通过用扫描电子显微镜观察所述调色剂的表面而获得的图像中，获取所述调色剂的表面的1.5μm见方的背散射电子图像，并且二值化处理，由此使所述背散射电子图像中的所述有机硅聚合物部分变为亮部，
所述图像中亮部面积相对于所述图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。
2.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述外部添加剂A对所述调色剂颗粒的表面的固着率为0％至20％。
3.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中所述外部添加剂A包括二氧化硅细颗粒。
4.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中所述有机硅聚合物对所述调色剂基础颗粒的表面的固着率为80％至100％。
5.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中在当对于凸部高度H为30nm至300nm的所述凸部构建所述凸部高度H的累积分布时，所述凸部高度H的从小侧起累积达到80个数％的凸部高度设为H80的情况下，H80为65nm至120nm。
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