CN111650787B - 显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提出了显示基板及其制作方法、显示装置。该显示基板包括：基板，其上限定有盲孔区；缓冲层，覆盖基板的一侧；有机膜层，设置在缓冲层远离基板的表面，且在盲孔区中具有第一开孔；钝化层，设置在有机膜层远离基板的一侧，且在盲孔区中具有第二开孔；透明电极层，覆盖钝化层和第二开孔中的缓冲层。本发明所提出的显示基板，其缓冲层在盲孔区中的表面虽会被钝化层的干法刻蚀成凹凸不平，但通过在缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，从而使盲孔区内的均一性更好，在减缓盲孔区发黄问题的同时，还可保证盲孔区的透过率达到90％以上。

Description

显示基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示结构设计技术领域，具体的，本发明涉及显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
全面屏手机(Mobile)中的某些形态，会在屏幕的左上角设计一个放置摄像头的透明区域，被俗称为“盲孔”，且产品一般要求盲孔的透过率＞90％，所以，对盲孔内的膜层结构不仅要求材料具有较高透过率，还尽可能地保持孔内膜层结构要更少。
具体的，参考图1，盲孔区C中的膜层结构较多，且缓冲层200表面还存在着明显的凹凸不平，从而造成点灯时盲孔区会发黄的现象(参考图7中的改善前)，严重的甚至会影响摄像头(Camera)的拍摄效果。
发明内容
本发明是基于发明人的下列发现而完成的：
本发明的发明人为了改善盲孔区的发黄问题，所以提出一种显示基板的结构，其盲孔区的缓冲层虽然容易被钝化层等膜层的干法刻蚀成凹凸不平的表面，但是，可以在缓冲层的上表面再沉积一层平整的透明电极层，从而有效地改善盲孔区的表面均一性，进而解决盲孔发黄影响摄像头拍摄效果的技术问题。此外，还可以将有机膜层与缓冲层之间的各个功能层的开口扩大出盲孔区，从而进一步减缓各个膜层之间的光干涉，进而使显示基板上的发黄风险更小。
在本发明的第一方面，本发明提出了一种显示基板。
根据本发明的实施例，所述显示基板包括：基板，所述基板上限定有盲孔区；缓冲层，所述缓冲层覆盖所述基板的一侧；有机膜层，所述有机膜层设置在所述缓冲层远离所述基板的表面，且在所述盲孔区中具有第一开孔；钝化层，所述钝化层设置在所述有机膜层远离所述基板的一侧，且在所述盲孔区中具有第二开孔；透明电极层，所述透明电极层覆盖所述钝化层和所述第二开孔中的所述缓冲层。
本发明实施例的显示基板，其缓冲层在盲孔区中的表面虽会被钝化层的干法刻蚀成凹凸不平，但通过在缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，从而使盲孔区内的均一性更好，在减缓盲孔区发黄问题的同时，还可保证盲孔区的透过率达到90％以上。
另外，根据本发明上述实施例的显示基板，还可以具有如下附加的技术特征：
根据本发明的实施例，所述基板上还限定有显示区，且所述透明电极层与所述显示区内的像素电极层是同层设置的。
根据本发明的实施例，所述透明电极层的厚度为400～1000埃。
根据本发明的实施例，形成所述透明电极层的材料包括氧化铟锡。
根据本发明的实施例，所述显示区环绕所述盲孔区设置；所述显示基板进一步包括功能层，所述功能层设置在所述缓冲层与所述有机膜层之间，且在所述显示区内，并且，所述功能层具有第三开孔，且所述盲孔区落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内。
根据本发明的实施例，所述第一开孔在所述基板上的正投影落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内，且所述有机膜层通过所述第三开孔与所述缓冲层直接接触。
在本发明的第二方面，本发明提出了一种制作显示基板的方法。
根据本发明的实施例，所述方法包括：在基板的一侧形成缓冲层；在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成有机膜层，并在所述基板的盲孔区中形成有第一开孔；在所述有机膜层远离所述基板的一侧形成钝化层，并在所述盲孔区中干法刻蚀出第二开孔；在所述钝化层和所述第二开孔中的所述缓冲层远离所述基板的一侧形成透明电极层。
采用本发明实施例的制作方法，其形成钝化层的第二开孔采用的干法刻蚀，虽然会造成盲孔区中缓冲层的表面凹凸不平，但是在第二开孔中缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，可以使制作出的显示基板的盲孔发黄风险更低，从而使显示装置的拍摄功能颜色效果更逼真。
另外，根据本发明上述实施例的制作方法，还可以具有如下附加的技术特征：
根据本发明的实施例，所述透明电极层与所述基板的显示区内的像素电极是通过一次构图工艺形成的。
根据本发明的实施例，在所述形成有机膜层的步骤之前，所述方法进一步包括：在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成功能层，且所述功能层形成在所述显示区内。
根据本发明的实施例，在所述功能层上干法刻蚀出第三开孔，并且，所述盲孔区落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内。
在本发明的第三方面，本发明提出了一种显示装置。
根据本发明的实施例，所述显示装置包括上述的显示基板。
本发明实施例的显示装置，其显示基板上的盲孔区发黄的风险更低，从而使设置在盲孔区中的摄像头的拍摄效果更好，进而使显示装置的拍照功能色彩更逼真。本领域技术人员能够理解的是，前面针对显示基板所描述的特征和优点，仍适用于该显示装置，在此不再赘述。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述的方面结合下面附图对实施例的描述进行解释，其中：
图1是常规的显示基板上盲孔区的截面结构示意图；
图2是本发明一个实施例的显示基板上盲孔区的截面结构示意图；
图3是本发明另一个实施例的显示基板上盲孔区的截面结构示意图；
图4是本发明另一个实施例的显示基板的俯视结构示意图(a)和局部放大图(b)；
图5是常规的显示基板(a)和本发明的显示基板(b)的盲孔区与显示区之间过渡区的截面对比电子显微镜照片；
图6是常规的显示基板(a)和本发明的显示基板(b)的盲孔区表面均一性的对比电子显微镜照片；
图7的(a)是常规的显示基板(改善前)和本发明的显示基板(改善后)的发黄不良对比照片；
图7的(b)是常规的显示基板(改善前)和本发明的显示基板(改善后)的对盒后显示面板的发黄不良对比照片；
图8是本发明一个实施例的制作显示基板的方法流程示意图。
附图标记
100 基板
200 缓冲层
300 有机膜层
301 第一开孔
400 钝化层
401 第二开孔
500 透明电极层
601 第三开孔
610 栅绝缘层
620 栅线
630 层间绝缘层
640 数据线
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，本技术领域人员会理解，下面实施例旨在用于解释本发明，而不应视为对本发明的限制。除非特别说明，在下面实施例中没有明确描述具体技术或条件的，本领域技术人员可以按照本领域内的常用的技术或条件或按照产品说明书进行。
在本发明的一个方面，本发明提出了一种显示基板。
根据本发明的实施例，参考图2，显示基板包括基板100、缓冲层(Buffer)200、有机膜层(PLN)300、钝化层400和透明电极层500；其中，基板100上限定有盲孔区C；缓冲层200覆盖基板100的一侧；有机膜层300设置在缓冲层200远离基板100的表面，且有机膜层300在盲孔区C中具有第一开孔301；钝化层400设置在有机膜层300远离基板100的一侧，且钝化层400在盲孔区C中具有第二开孔401，且第二开孔401在基板100上的正投影可以落入第一开孔301在基板100上的正投影之内；而透明电极层500覆盖钝化层400和第二开孔401中的缓冲层200。
本发明的发明人发现，参考图1，现有显示基板的盲孔区C中，由于有源层(ACT)、层间介质层(ILD)630、数据线(SD)640和钝化层(PVX)300等膜层进行的干法刻蚀工艺，会造成盲孔区C中裸露的缓冲层200的过刻，不仅会使缓冲层200变薄且均一性变差(参考图6的(a)，缓冲层的厚度偏差达到30nm以上)，从而影响到显示装置的拍摄功能。此外，如果去除盲孔区C中心的透光区的缓冲层200而只有基板100，虽然其透过率最高，但是钝化层400等干刻工艺依然会造成基板100表面的过刻问题，从而同样会导致玻璃材料的基板100表面也是凹凸不平的，进而会出显示异常的问题。
所以，参考图2，发明人在盲孔区C中凹凸不平的缓冲层200表面，进一步设计一层平整的透明电极层500，如此，可以使盲孔区C内的厚度均一性更好(参考图6的(b))，从而减小凸起或毛刺等凹凸不平引起的光干涉风险，进而在减缓盲孔区发黄问题的同时，还可保证盲孔区C的透过率依然达到90％以上。
根据本发明的实施例，参考图4的(a)，基板100上还可以限定有显示区A，其中，显示区A可以是环绕盲孔区C设置的。并且，透明电极层500与显示区A内的像素电极层还可以是同层设置的，即透明电极层500与像素电极层是由相同的材料形成的。如此，通过一次构图工艺可以形成透明电极层500与像素电极层，从而无需为透明电极层500额外增加一道掩膜板，进而降低该显示基板的制作成本。
在本发明的一些实施例中，透明电极层500的厚度可以为400～1000埃
Figure BDA0002534527510000051
如此，采用40～100nm较薄厚度的透明电极层500，即可覆盖盲孔区C中缓冲层200的表面凹凸不平，且不会显著增加盲孔区C中透光区的总厚度，从而保证透过率依然达到90％以上。
在本发明的一些实施例中，形成透明电极层500的材料可以包括氧化铟锡(ITO)，如此，采用和像素电极层(P-ITO)相同透明材料的导电金属材料，不仅可使盲孔区C的透过率更高，且溅射等方式形成的透明电极层500的表面更加平整。
根据本发明的实施例，参考图3，显示基板可以进一步包括功能层，且功能层设置在缓冲层200与有机膜层300之间，且功能层设置在显示区A内，具体的，功能层可以包括层叠设置的栅绝缘层610、栅线620、层间介质层630和数据线640等。
此外，参考图1，发明人还发现现有显示基板的盲孔区C中，栅绝缘层(GI)610和层间介质层(ILD)630形成台阶状结构，且ILD的小孔被PVX和PLN的大孔包裹，从而在盲孔区C中Buffer+GI+ILD的膜层结构会引起多膜层干涉，从而导致显示出现发黄现象。所以，发明人使ILD和GI远离盲孔区C，即ILD和GI组成的功能层具有的第三开孔601，且盲孔区C落散射入第三开孔601在基板100上的正投影之内。如此，将有机膜300层与缓冲层200之间的功能层的开口601扩大出盲孔区C，从而进一步减缓各个膜层之间的光干涉，进而使显示基板上的发黄等不良的风险更小。
在本发明的一些实施例中，第一开孔301在基板100上的正投影落入第三开孔601在基板100上的正投影之内，且有机膜层300通过第三开孔601与缓冲层200直接接触。如此，使功能层的开口601远离盲孔区C，并通过有机膜层300覆盖功能层的台阶，从而更有效地减少各个膜层之间的光干涉，进而使显示基板上的发黄风险进一步更小。
具体的，对本发明设计的显示基板的盲孔区C进行透过率测试，以阵列基板(TFT)为例，彩膜基板(CF)一侧只做光刻胶(OC)膜层，并采用聚酰亚胺(PI)液、封框(Seal)胶以及液晶(LC)对盒，如此，对组装后的显示面板进行透过率测试。其中，现有的盲孔区C只有基板和缓冲层的设计，其平均透光率为92.42％；本发明设计的盲孔区C有基板、缓冲层和ITO的透明电极层的设计，其平均透光率也为92.42％；而盲孔区C有基板、缓冲层、钝化层和ITO的透明电极层的设计，其平均透光率降至89.49％。
综上所述，根据本发明的实施例，本发明提出了一种显示基板，其缓冲层在盲孔区中的表面虽会被钝化层的干法刻蚀成凹凸不平，但通过在缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，从而使盲孔区内的均一性更好，在减缓盲孔区发黄问题的同时，还可保证盲孔区的透过率达到90％以上。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种制作显示基板的方法。根据本发明的实施例，参考图8，该制作方法包括：
S100：在基板的一侧形成缓冲层。
在该步骤中，在基板100的一侧形成整层的缓冲层200。其中，基板100可以限定有盲孔区C和显示区A，且显示区A环绕盲孔区C设置。
在本发明的一些实施例中，在步骤S100之后、S200之前，可以在缓冲层200远离基板100的一侧形成功能层，且功能层形成在显示区A内。具体的，可以在缓冲层200远离基板100的表面依次形成绝缘层610、栅线620、层间介质层630和数据线640，并干法刻蚀出第三开口601，并且，盲孔区C是落入第三开孔601在基板100上的正投影之内。如此，将有机膜300层与缓冲层200之间的功能层的开口601扩大出盲孔区C，从而进一步减缓各个膜层之间的光干涉，进而使显示基板上的发黄风险更小。
S200：在缓冲层远离基板的一侧形成有机膜层，并在基板的盲孔区中形成有第一开孔。
在该步骤中，继续在步骤S100形成的缓冲层200远离基板100的一侧形成有机膜层300，具体的，可以在功能层远离基板100的表面继续形成有机膜层300；并且，在盲孔区C中形成有第一开孔。
在本发明的一些实施例中，形成的第一开孔301在基板100上的正投影落入第三开孔601在基板100上的正投影之内，并且，有机膜层300可以通过第三开孔601与缓冲层200直接接触。如此，使功能层的开口601远离盲孔区C，并通过有机膜层300覆盖功能层的台阶，从而更有效地减少各个膜层之间的光干涉，进而使显示基板上的发黄风险进一步更小。
S300：在有机膜层远离基板的一侧形成钝化层，并在盲孔区中干法刻蚀出第二开孔。
在该步骤中，在步骤S200形成的有机膜层300远离基板100的一侧形成钝化层400，并在盲孔区C中干法刻蚀出第二开孔401。
S400：在钝化层和第二开孔中的缓冲层远离基板的一侧形成透明电极层。
在该步骤中，在步骤S300形成的钝化层400和第二开孔402中的缓冲层200远离基板100的一侧形成透明电极层500。如此，可使盲孔区C中透光区的膜层均一性更好，且较现有的制作工艺的平坦性更好。
在本发明的一些实施例中，透明电极层500与基板100的显示区A内的像素电极可以是通过一次构图工艺形成的。如此，无需为透明电极层500额外增加一道掩膜板，进而降低该显示基板的制作成本。并且，透明电极层500的厚度可以为400～1000埃
Figure BDA0002534527510000071
且形成透明电极层500的材料可以包括氧化铟锡(ITO)。
综上所述，根据本发明的实施例，本发明提出了一种制作方法，其形成钝化层的第二开孔采用的干法刻蚀，虽然会造成盲孔区中缓冲层的表面凹凸不平，但是在第二开孔中缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，可以使制作出的显示基板的盲孔发黄风险更低，从而使显示装置的拍摄功能颜色效果更逼真。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种显示装置。根据本发明的实施例，显示装置包括上述的显示基板。
根据本发明的实施例，该显示装置的具体类型不受特别的限制，具体例如显示屏、电视、手机、平板电脑或智能手表等，本领域技术人员可根据显示装置的实际使用要求进行相应地选择，在此不再赘述。需要说明的是，该显示装置中除了显示基板以外，还包括其他必要的组成和结构，以OLED显示屏为例，具体例如触控面板、外壳、控制电路板或电源线，等等，本领域技术人员可根据该显示装置的功能进行相应地补充，在此不再赘述。
综上所述，根据本发明的实施例，本发明提出了一种显示装置，其显示基板上的盲孔区发黄的风险更低，从而使设置在盲孔区中的摄像头的拍摄效果更好，进而使显示装置的拍照功能功能色彩更逼真。本领域技术人员能够理解的是，前面针对显示基板所描述的特征和优点，仍适用于该显示装置，在此不再赘述。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (11)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
基板，所述基板上限定有盲孔区；
缓冲层，所述缓冲层覆盖所述基板的一侧，在所述盲孔区中，所述缓冲层具有凹凸不平的表面；
有机膜层，所述有机膜层设置在所述缓冲层远离所述基板的表面，且在所述盲孔区中具有第一开孔；
钝化层，所述钝化层设置在所述有机膜层远离所述基板的一侧，且在所述盲孔区中具有第二开孔；
透明电极层，所述透明电极层覆盖所述钝化层和所述第二开孔中的所述缓冲层。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基板上还限定有显示区，且所述透明电极层与所述显示区内的像素电极层是同层设置的。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透明电极层的厚度为400～1000埃。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，形成所述透明电极层的材料包括氧化铟锡。
5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示区环绕所述盲孔区设置；所述显示基板进一步包括功能层，所述功能层设置在所述缓冲层与所述有机膜层之间，且在所述显示区内，并且，所述功能层具有第三开孔，且所述盲孔区落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一开孔在所述基板上的正投影落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内，且所述有机膜层通过所述第三开孔与所述缓冲层直接接触。
7.一种制作显示基板的方法，其特征在于，包括：
在基板的一侧形成缓冲层；
在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成有机膜层，并在所述基板的盲孔区中形成有第一开孔；
在所述有机膜层远离所述基板的一侧形成钝化层，并在所述盲孔区中干法刻蚀出第二开孔；
在所述钝化层和所述第二开孔中的所述缓冲层远离所述基板的一侧形成透明电极层。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述透明电极层与所述基板的显示区内的像素电极是通过一次构图工艺形成的。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述形成有机膜层的步骤之前，所述方法进一步包括：
在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成功能层，且所述功能层形成在所述显示区内。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述功能层上干法刻蚀出第三开孔，并且，所述盲孔区落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的显示基板。
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