CN111599849B - 阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置。该阵列基板包括至少两种颜色不同的子像素,子像素沿第一方向排布为像素列,位于同一像素列的各子像素的颜色相同,阵列基板包括衬底、第一电极层、像素界定结构和有机发光层,像素界定结构包括第一像素界定结构和厚度小于所述第一像素界定结构的第二像素界定结构,有机发光层包括至少两种颜色的颜色发光层,其中至少一种颜色的发光层包括位于显示区的主体部和位于边框区的虚拟部,虚拟部与至少两个同一颜色主体部连接,使得至少一个颜色的墨水在相应的多个像素列之间是可流通的,有利于提升有机发光层的厚度的均匀性。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体而言,本申请涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。
背景技术
有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)显示技术因其轻薄、可弯折、对比度高等优点,而被广泛应用且具有良好的前景。
对于喷墨打印方法制作的OLED产品来说,在喷墨打印干燥成膜的过程中,溶剂蒸汽在液滴边缘区域挥发较快,这样会造成液滴由中心向边缘的溶液流动,这种流动会带动溶质向液滴边缘迁移,并最终在边缘沉积,而形成边缘厚中心薄的沉积形貌,即“咖啡环效应”,从而使得子像素内的有机发光层的成膜很不均匀,这样会导致OLED器件发光不均,从而影响显示效果。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点,提出一种阵列基板、显示面板及显示装置,用以解决现有的技术中的阵列基板存在的有机发光层厚度不均匀的技术问题。
第一个方面,本申请实施例提供了一种阵列基板,包括至少两种颜色不同的子像素,所述子像素沿第一方向排布为像素列,位于同一所述像素列的各所述子像素的颜色相同,所述阵列基板包括:
衬底,包括显示区和位于所述显示区周围的边框区;
第一电极层,位于所述衬底的一侧且包括与所述子像素一一对应的第一电极;
像素界定结构,包括第一像素界定结构和厚度小于所述第一像素界定结构的第二像素界定结构,所述第一像素界定结构包括位于所述显示区的第一挡墙和位于所述边框区的第二挡墙,所述第一挡墙沿第一方向延伸且相邻所述第一挡墙限定与所述像素列一一对应的像素列开口,所述第二挡墙沿第二方向延伸,且与限定至少两个同种颜色的相邻的所述像素列的所对应的所述像素列开口的所述第一挡墙连接;所述第二像素界定结构包括位于所述显示区的第三挡墙,所述第三挡墙位于所述像素列开口内以将所述像素列开口划分为与所述子像素一一对应的像素开口,一个所述像素开口在所述衬底上的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底上的正投影内,所述第二方向与所述第一方向相交;
有机发光层,所述有机发光层至少包括第一颜色发光层和第二颜色发光层,所述第一颜色发光层包括位于显示区的第一主体部和位于所述边框区的第一虚拟部,所述第一主体部铺满相应的所述像素列开口所限定的区域,所述第一虚拟部与至少两个相邻的所述第一主体部连接,和/或所述第二颜色发光层包括位于显示区的第二主体部和位于所述边框区的第二虚拟部,所述第二主体部铺满相应的所述像素列开口所限定的区域,所述第二虚拟部与至少两个相邻的所述第二主体部连接。
可选地,所述边框区包括虚拟像素区,所述第一虚拟部和所述第二虚拟部均位于所述虚拟像素区。
可选地,所述第一虚拟部和所述第二虚拟部均沿所述第二方向延伸,所述第一颜色发光层包括至少两个所述第一虚拟部,每个所述第一虚拟部与部分所述第一主体部连接,所述第二颜色发光层包括至少两个所述第二虚拟部,每个所述第二虚拟部与部分所述第二主体部连接。
可选地,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第二虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括第三主体部,在所述第二方向上,所述第一主体部、所述第二主体部和所述第三主体部交替排布;所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区。
可选地,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第二虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括位于显示区得到多个第三主体部和位于所述虚拟像素区的第三虚拟部,两个相邻所述第三主体部之间包括一个所述第一主体部或一个所述第二主体部,其中,所述第三颜色发光层为蓝色发光层;所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区,所述第三虚拟部位于第一虚拟像素区和/或所述第二虚拟像素区。
可选地,所述第一虚拟部和所述第二虚拟部均沿所述第二方向延伸,所述第一颜色发光层包括一个所述第一虚拟部,所述第一虚拟部与全部所述第一主体部连接,所述第二颜色发光层包括一个所述第二虚拟部,所述第二虚拟部与全部所述第二主体部连接。
可选地,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第二虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括第三主体部,在所述第二方向上,所述第一主体部、所述第二主体部和所述第三主体部交替排布;所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区。
可选地,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第二虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括位于显示区得到多个第三主体部和位于所述虚拟像素区的第三虚拟部,两个相邻所述第三主体部之间包括一个所述第一主体部或一个所述第二主体部,其中,所述第三颜色发光层为蓝色发光层;所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区,在所述第二方向上,所述第三虚拟部交替排布在所述第一虚拟像素区和所述第二虚拟像素区。
可选地,所述第一虚拟部和所述第二虚拟部在所述衬底上的正投影与所述第一电极在所述衬底上的正投影无交叠。
可选地,所述第一像素界定结构的厚度为1.2μm~2μm,所述第二像素界定结构的厚度为0.5μm~1μm。
可选地,所述第一像素界定结构和所述第二像素界定结构采用同一材料一体成型。
可选地,所述第一像素界定结构的材料为疏液材料,所述第二像素界定结构的材料为亲液材料,所述第一像素界定结构位于所述第二像素界定结构远离所述衬底的一侧。
第二个方面,本申请实施例提供了一种显示面板,所述阵列基板包括上述的阵列基板。
第三个方面,本申请实施例提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述的显示面板。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果是:
本申请实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置,利用第一像素界定结构形成多个对应像素列的开口,并利用第二像素界定结构来划分子像素,且将至少一种颜色对应的像素列开口在虚拟像素区进行连通,从而使得形成至少一种颜色的子像素的墨水(含有有机发光层材料的溶液)在多个像素列开口内是可流通的,即使部分像素列开口并未进行连通,但该部分像素列开口内的墨水也可以在该像素列开口内流通,如此有利于提升有机发光层的厚度的均匀性,从而提升显示装置的显示效果。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1为本申请实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图;
图2为图1所示的阵列基板沿N-N线的一种截面示意图;
图3为图1所示的阵列基板沿N-N线的一种截面示意图;
图4为本申请实施例提供的另一种阵列基板的俯视结构示意图;
图5为本申请实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图;
图6为本申请实施例提供的再一种阵列基板的俯视结构示意图;
图7为本申请实施例提供的另又一种阵列基板的俯视结构示意图;
图8为本申请实施例提供的另再一种阵列基板的俯视结构示意图;
图9为图8中所示的阵列基板沿D-D线的截面示意图;
图10为图8中所示的阵列基板沿D-D线的截面示意图;
图11为本申请实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程示意图;
图12为本申请实施例提供的一种显示面板的框架结构示意图;
图13为本申请实施例提供的一种显示装置的框架结构示意图。
附图标记:
1-衬底;11-显示区;12-边框区;121-虚拟像素区;121a-第一虚拟像素区;121b-第二虚拟像素区;
2-第一电极层;21-第一电极;
3-像素界定结构;31-第一像素界定结构;311-第一挡墙;312-第二挡墙;32-第二像素界定结构;321-第二挡墙;
4-有机发光层;41-第一颜色发光层;411-第一主体部;412-第一虚拟部;42-第二颜色发光层;421-第二主体部;422-第二虚拟部;43-第三颜色发光层;431-第三主体部;432-第三虚拟部;
5-第二电极层;
R-红色子像素;G-绿色子像素;B-蓝色子像素;
A-像素列开口;X-第二方向;Y-第一方向。
具体实施方式
下面详细描述本申请,本申请的实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外,如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的,则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语,应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样被特定定义,否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
本申请的发明人考虑到,对于喷墨打印方法制作的OLED产品来说,在喷墨打印干燥成膜的过程中,溶剂蒸汽在液滴边缘区域挥发较快,这样会造成液滴由中心向边缘的溶液流动,这种流动会带动溶质向液滴边缘迁移,并最终在边缘沉积,而形成边缘厚中心薄的沉积形貌,即“咖啡环效应”,从而使得子像素内的有机发光层的成膜很不均匀,这样会导致OLED器件发光不均,从而影响显示效果。
本申请提供的阵列基板、显示面板及显示装置,旨在解决现有技术的如上技术问题。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。
本申请实施例提供了一种阵列基板,阵列基板包括至少两种颜色不同的子像素,子像素沿第一方向排布为像素列,位于同一像素列的各子像素的颜色相同。如图1所示,本实施例提供的阵列基板包括:
衬底1,包括显示区11和位于显示区11周围的边框区12;
第一电极层2,位于衬底1的一侧且包括与子像素一一对应的第一电极21;
像素界定结构3,包括第一像素界定结构31和厚度小于第一像素界定结构31的第二像素界定结构32,第一像素界定结构31包括位于显示区11的第一挡墙311和位于边框区12的第二挡墙312,第一挡墙311沿第一方向Y延伸且相邻第一挡墙311限定与像素列一一对应的像素列开口A,第二挡墙312沿第二方向X延伸,且与限定至少两个同种颜色的相邻的像素列的所对应的像素列开口A的第一挡墙311连接;第二像素界定结构312包括多个位于显示区11的第三挡墙321,第三挡墙321位于像素列开口A内以将像素列开口A划分为与子像素一一对应的像素开口M,一个像素开口M在衬底1上的正投影位于一个第一电极21在衬底1上的正投影内,第二方向X与第一方向Y相交;
有机发光层4,有机发光层4至少包括第一颜色发光层41和第二颜色发光层42,第一颜色发光层41包括位于显示区11的第一主体部411和位于边框区12的第一虚拟部412,第一主体部411铺满相应的像素列开口A所限定的区域,第一虚拟部412与至少两个相邻的第一主体部411连接,和/或第二颜色发光层42包括位于显示区11的第二主体部421和位于边框区12的第二虚拟部422,第二主体部421铺满相应的像素列开口A所限定的区域,第二虚拟部422与至少两个相邻的第二主体部421连接。
需要说明的是,虽然图1所示的阵列基板中,第一颜色发光层41和第二颜色发光层42都在边框区12连接的,但在具体实施中,也可以根据实际情况仅设计为第一颜色发光层41或第二颜色发光层42是在边框区12连接的。
需要说明的是,虽然图1所示的阵列基板中,第一方向Y与第二方向X是互相垂直的,但在具体实施中,也可以根据子像素的形状适应性地调整第一方向Y与第二方向X之间的夹角,本申请对第一方向Y与第二方向X之间的夹角的角度不做具体限定。
本实施例提供的阵列基板,利用第一像素界定结构31形成多个对应像素列的开口A,并利用第二像素界定结构32来划分子像素,且将至少一种颜色对应的像素列开口A在虚拟像素区20进行连通,从而使得形成至少一种颜色的子像素的墨水(含有有机发光层材料的溶液)在多个像素列开口A内是可流通的,即使部分像素列开口A并未进行连通,但该部分像素列开口A内的墨水也可以在该像素列开口A内流通,如此有利于提升有机发光层的厚度的均匀性,从而提升显示装置的显示效果。
可选地,如图1所示,本实施例提供的阵列基板中,边框区12包括虚拟像素区121,第一虚拟部412和第二虚拟部422位于虚拟像素区121。本实施例的阵列基板中,将虚拟部设置在虚拟像素区121,使得虚拟部与显示区10的距离较近,从而节省有机发光材料以降低生产成本。
进一步地,本实施例提供的阵列基板中,第一虚拟部412和第二虚拟部422在衬底1上的正投影与第一电极21在衬底1上的正投影无交叠。即在本实施例中,可以将虚拟像素区121的第一电极层2去除,能够有效避免虚拟像素区12发生电路故障。
可选地,如图2或图3所示,本实施例提供的阵列基板中,第一像素界定结构31的厚度为1.2μm~2μm,第二像素界定结构32的厚度为0.5μm~1μm。具体地,第一像素界定结构31的厚度优选为1.5μm,第二像素界定结构32的厚度为0.8μm。
本实施例提供的阵列基板采用上述厚度的第一像素界定结构31和第二像素界定结构32,既能够保证第二像素界定结构32防止第一电极21短路,又能够保证墨水在像素列开口A限定的区域内流通且不同颜色的墨水不会混合。
可选地,如图2所示,本实施例提供的阵列基板中,第一像素界定结构31和第二像素界定结构32采用同一材料一体成型。
具体地,第一像素界定结构31和第二像素界定结构32由同一材料经过半色调工艺制成,该材料为采用携带有疏水性官能团的聚酰亚胺、聚丙烯甲酯等材料,例如,疏水性官能团可以为氟(-F),在受到特定光照射条件时,能够改变上述疏水性官能团的结构,从而使材料的亲疏水性质发生变化。
在实际生产中,上述材料在半色调工艺处理后形成的第一像素界定结构31具有疏液性,半色调工艺处理后的第二像素界定结构32具有亲液性,也就是通过半色调工艺处理后,形成的像素界定结构3不仅包括厚度不同的第一像素界定结构31和第二像素界定结构32,第一像素界定结构31和第二像素界定结构32的亲疏液性也不同。
本实施例提供的阵列基板,由于第一像素界定结构31和第二像素界定结构32分别具有疏水性和亲水性,有利于墨水在像素列开口A内流通且不易外溢到相邻的像素列开口A内;像素界定结构3能够通过对一种材料以半色调工艺形成,减少了工艺步骤,有利于降低阵列基板的生产成本。
可选地,如图3所示,第一像素界定结构31的材料为疏液材料,第二像素界定结构32的材料为亲液材料,第一像素界定结构位于第二像素界定结构远离衬底的一侧。
本实施例提供的阵列基板中的第一像素界定结构31和第二像素界定结构32分别采用疏水材料和亲水材料制成,有利于墨水在像素列开口A内流通且不易外溢到相邻的像素列开口A内。
可选地,如图1所示,本实施例提供的阵列基板中,第一虚拟部412和第二虚拟部422均沿第二方向X延伸,第一颜色发光层41包括至少两个第一虚拟部412,每个第一虚拟部412与部分第一主体部411连接,第二颜色发光层42包括至少两个第二虚拟部422,每个第二虚拟部422与部分第二主体部421连接。
在该阵列基板中,将同种颜色的部分有机发光层4的主体部进行连接,能够有效提升有机发光层4的厚度的均一性。针对将同种颜色的部分有机发光层4的主体部进行连接的情形,具有不同颜色像素列的排布,以下进行详细说明。
在一些可选的实施方式中,如图4所示,虚拟像素区121包括第一虚拟像素区121a和位于显示区11远离第一虚拟像素区121a一侧的第二虚拟像素区121b;有机发光层4还包括第三颜色发光层43,第三颜色发光层43包括第三主体部431,在第二方向X上,第一主体部411、第二主体部421和第三主体部431交替排布;第一虚拟部412位于第一虚拟像素区121a,第二虚拟部422位于第二虚拟像素区121b。
具体地,如图4所示,第一颜色发光层41、第二颜色发光层42以及第三颜色发光层43分别对应红色有机发光层、绿色有机发光层和蓝色有机发光层,由于蓝色发光材料的发光效率较低,寿命也较低,因此,在具体实施时,可将限定蓝色像素列的第一挡墙311之间的距离设计得大于限定红色和绿色像素列的第一挡墙311之间的距离,以使蓝色发光层的主体部的面积大于红色发光层和绿色发光层的面积,即蓝色子像素的面积大于红色子像素、绿色子像素的面积,以补偿蓝色发光材料的发光效率和寿命。
本实施例提供的阵列基板,将两种颜色的相邻的有机发光层的主体部进行连接,有利于提升有机发光层的厚度的均匀性,且第一虚拟部412和第二虚拟部422位于显示区11的相对侧,能够防止第一虚拟部412和第二虚拟部422占用较大的空间,从而防止边框宽度的增加。
在另一些可选的实施方式中,如图5所示,虚拟像素区12包括第一虚拟像素区121a和位于显示区11远离第一虚拟像素区121a一侧的第二虚拟像素区121b;有机发光层还包括第三颜色发光层43,第三颜色发光层43包括位于显示区11得到多个第三主体部431和位于虚拟像素区12的第三虚拟部432,两个相邻第三主体部431之间包括一个第一主体部411或一个第二主体部421,其中,第三颜色发光层43为蓝色发光层;第一虚拟部412位于第一虚拟像素区121a,第二虚拟部422位于第二虚拟像素区121b,第三虚拟部432位于第一虚拟像素区121a和/或第二虚拟像素区121b。
具体地,如图5所示,第一颜色发光层41、第二颜色发光层42以及第三颜色发光层43分别对应蓝色有机发光层、绿色有机发光层和红色有机发光层,在本实施例中,蓝色有机发光层的主体部的数量多于红色有机发光层的主体部的数量,有利于补偿蓝色发光材料的发光效率以及提升显示装置的寿命。
在图5所示的阵列基板中,第一颜色发光层(蓝色发光层)的多个第一虚拟部412中,既有位于第一虚拟像素区121a的,也有位于第二虚拟像素区121b的,例如,位于第一虚拟像素区121a的第一虚拟部412既能够实现相邻第一主体部411的连接,又不会增加第一虚拟像素区121a在第一方向Y的宽度。
由于蓝色像素列的数量较多,因此,可将限定红色、绿色以及蓝色像素列的第一挡墙311设计为等距离,这有利于降低形成第一像素界定结构31的掩膜版的设计难度、以及降低第一像素界定结构31的刻蚀工艺的难度。
可选地,如图6或图7所示,本实施例提供的阵列基板中,第一虚拟部412和第二虚拟部422均沿第二方向X延伸,第一颜色发光层41包括一个第一虚拟部412,第一虚拟部412与全部第一主体部411连接,第二颜色发光层42包括一个第二虚拟部422,第二虚拟部422与全部第二主体部421连接。
在该阵列基板中,将同种颜色的全部有机发光层4的主体部进行连接,能够有效提升有机发光层4的厚度的均一性。针对将同种颜色的全部有机发光层4的主体部进行连接的情形,具有不同颜色像素列的排布,以下进行详细说明。
在一些具体的实施方式中,如图6所示,虚拟像素区12包括第一虚拟像素区121a和位于显示区11远离第一虚拟像素区121a一侧的第二虚拟像素区121b;有机发光层还包括第三颜色发光层43,第三颜色发光层43包括第三主体部431,在第二方向上,第一主体部411、第二主体部421和第三主体部431交替排布;第一虚拟部412位于第一虚拟像素区121a,第二虚拟部422位于第二虚拟像素区121b。
具体地,如图6所示,第一颜色发光层41(蓝色有机发光层)、第二颜色发光层42(绿色有机发光层)的全部主体部通过相应的虚拟部进行连接,而第三颜色发光层43(红色有机发光层)仅包括第三主体部431,而第三主体部431未进行连接,需要说明的是,可根据实际设计情况,选择任意两种颜色的有机发光层的主体部进行连接。
由于蓝色发光材料的发光效率较低,寿命也较低,因此,在具体实施时,可将限定蓝色像素列的第一挡墙311之间的距离设计得大于限定红色和绿色像素列的第一挡墙311之间的距离,以使蓝色发光层的主体部的面积大于红色发光层和绿色发光层的面积,即蓝色子像素的面积大于红色子像素、绿色子像素的面积,以补偿蓝色发光材料的发光效率和寿命。
本实施例提供的阵列基板,将两种颜色的相邻的有机发光层的主体部进行连接,有利于提升有机发光层的厚度的均匀性,且第一虚拟部412和第二虚拟部422位于显示区11的相对侧,能够防止第一虚拟部412和第二虚拟部422占用较大的空间,从而防止边框宽度的增加。
在另一些具体的实施方式中,如图7所示,虚拟像素区12包括第一虚拟像素区121a和位于显示区11远离第一虚拟像素区121a一侧的第二虚拟像素区121b;有机发光层还包括第三颜色发光层43,第三颜色发光层43包括位于显示区11得到多个第三主体部431和位于虚拟像素区12的第三虚拟部432,两个相邻第三主体部431之间包括一个第一主体部411或一个第二主体部421,其中,第三颜色发光层43为蓝色发光层;第一虚拟部412位于第一虚拟像素区121a12,第二虚拟部422位于第二虚拟像素区121b,在第二方向上,第三虚拟部432交替排布在第一虚拟像素区121a和第二虚拟像素区121b。
具体地,如图7所示,第一颜色发光层41、第二颜色发光层42以及第三颜色发光层43分别对应蓝色有机发光层、绿色有机发光层和红色有机发光层,在本实施例中,蓝色有机发光层的主体部的数量多于红色有机发光层的主体部的数量,有利于补偿蓝色发光材料的发光效率以及提升显示装置的寿命。
在图7所示的阵列基板中,第一颜色发光层(蓝色发光层)的多个第一虚拟部412中,既有位于第一虚拟像素区121a的,也有位于第二虚拟像素区121b的,例如,位于第一虚拟像素区121a的第一虚拟部412既能够实现相邻第一主体部411的连接,又不会增加第一虚拟像素区121a在第一方向Y的宽度。
如图7所示,由于蓝色像素列的数量较多,因此,可将限定红色、绿色以及蓝色像素列的第一挡墙311设计为等距离,这有利于降低形成第一像素界定结构31的掩膜版的设计难度、以及降低第一像素界定结构31的刻蚀工艺的难度。
本实施例提供的阵列基板,将各颜色的有机发光层的主体部全部进行连接,使得每个颜色的墨水都在整个阵列基板上都是连通的,有利于提升有机发光层的厚度的均匀性,且第一虚拟部412和第二虚拟部422位于显示区11的相对侧,能够防止第一虚拟部412和第二虚拟部422占用较大的空间,从而防止边框宽度的增加。
进一步地,请结合图8至图10,本实施例提供的阵列基板还包括位于有机发光层5远离衬底1的一侧形成第二电极层5。通常,将第一电极层2作为阳极层,将第二电极层5作为阴极层。
更进一步地,阵列基板还包括位于第一电极层3与衬底1之间的驱动电路,具体地,驱动电路包括薄膜晶体管、电容、栅极线、数据线、感测线等,在制作过程中需形成相应的有源层、导电层、绝缘层等,并对有源层、导电层、绝缘层进行图形化处理以获得薄膜晶体管、电容、栅极线、数据线、感测线等。
本申请实施例还提供了一种阵列基板的制作方法,如图11所示,并结合图1或图2,本实施例提供的阵列基板的制作方法包括:
S1:提供一衬底1,衬底包括显示区11和边框区12。
S2:在衬底1上形成第一电机层2,并对第一电机层2进行图形化处理以获得与子像素一一对应的第一电机21。
S3:在第一电机层2远离衬底1的一侧形成像素界定结构3,像素界定结构3包括第一像素界定结构31和厚度小于第一像素界定结构31的第二像素界定结构32,第一像素界定结构31包括位于显示区11的第一挡墙311和位于边框区12的第二挡墙312,第一挡墙311沿第一方向Y延伸且相邻第一挡墙311限定与像素列一一对应的像素列开口A,第二挡墙312沿第二方向X延伸,且与限定至少两个同种颜色的相邻的像素列的所对应的像素列开口A的第一挡墙311连接;第二像素界定结构312包括多个位于显示区11的第三挡墙321,第三挡墙321位于像素列开口A内以将像素列开口A划分为与子像素一一对应的像素开口M,一个像素开口M在衬底1上的正投影位于一个第一电极21在衬底1上的正投影内,第二方向X与第一方向Y相交;
S4:形成有机发光层4,有机发光层4至少包括第一颜色发光层41和第二颜色发光层42,第一颜色发光层41包括位于显示区11的第一主体部411和位于边框区12的第一虚拟部412,第一主体部411铺满相应的像素列开口A所限定的区域,第一虚拟部412与至少两个相邻的第一主体部411连接,和/或第二颜色发光层42包括位于显示区11的第二主体部421和位于边框区12的第二虚拟部422,第二主体部421铺满相应的像素列开口A所限定的区域,第二虚拟部422与至少两个相邻的第二主体部421连接。
本实施例提供的阵列基板的制作方法,利用第一像素界定结构31形成多个像素列开口A,利用第二像素界定结构32来划分子像素,且将至少一种颜色对应的像素列开口A在虚拟像素区12进行连通,从而使得形成至少一个颜色的全部子像素的墨水在整个阵列基板内是可流通的,即使部分颜色所对应的像素列开口A并未进行连通,而该部分颜色的子像素所对应的像素列开口A也能够使整列的子像素的墨水是可在该像素列开口A内流通,如此有利于提升各颜色的有机发光层的厚度的均匀性,从而提升显示装置的显示效果。
可选地,请结合图1至图3,在本实施例提供的阵列基板的制作方法中,步骤S3包括:在衬底1的一侧形成像素界定材料层,并采用半色调工艺对像素界定材料层进行图形化处理以形成第一像素界定结构31和第二像素界定结构32,半色调工艺处理后的第一像素界定结构31至少部分具有疏水性,半色调工艺处理后的第二像素界定结构32具有亲水性。
由于半色调工艺使不同区域的受照射情况不同,不仅能够形成厚度不同的第一像素界定结构31和第二像素界定结构32,且当材料受到特定照射时,能够改变材料表明的官能团的结构,从而使材料的亲疏水性质发生变化,基于上述原理,能够通过对半色调工艺的参数进行调整来实现第一像素界定结构31和第二像素界定结构32和厚度以及亲疏水性质的控制。
本实施例提供的阵列基板的制作方法,由于第一像素界定结构31和第二像素界定结构32分别具有疏水性和亲水性,有利于墨水在第一开口212内流通且不易外溢到相邻的像素列开口A内;像素界定结构3能够通过对一种材料以半色调工艺形成,减少了工艺步骤,有利于降低阵列基板的生产成本。
可选地,请结合图8和图9,在本实施例提供的阵列基板的制作方法中,步骤S2包括:
在衬底1的一侧形成第二像素界定材料层,并对第二像素界定材料层进行图形化处理以获得第二像素界定结构32;
在第二像素界定材料层远离衬底1的一侧形成第一像素界定材料层,并对第一像素界定材料层进行图形化处理以获得第一像素界定结构31。
本实施例提供的阵列基板的制作方法,分别采用疏水材料和亲水材料制成第一像素界定结构31和第二像素界定结构32,获得的像素界定结构有利于墨水在像素列开口A内流通且不易外溢到相邻的像素列开口A内。
进一步地,请结合图8至图10,本实施例提供的阵列基板的制作方法还包括以下步骤:在有机发光层5远离衬底1的一侧形成第二电极层5。通常,将第一电极层2作为阳极层,将第二电极层5作为阴极层。
更进一步地,阵列基板还包括位于第一电极层3与衬底1之间的驱动电路,本阵列基板的制作方法还包括:在形成第一电极层2之前,在衬底1靠近第一电极层2的一侧形成驱动电路。具体地,驱动电路包括薄膜晶体管、电容、栅极线、数据线、感测线等,在制作过程中需形成相应的有源层、导电层、绝缘层等,并对有源层、导电层、绝缘层进行图形化处理以获得薄膜晶体管、电容、栅极线、数据线、感测线等。
基于同一发明构思,本申请实施例还提供了一种显示面板,如图8所示,该显示面板包括上述实施例中的阵列基板,具有上述实施例中的阵列基板的有益效果,在此不再赘述。
本实施例提供的显示面板还包括封装结构,封装结构用于对显示面板进行保护,具体地,封装结构可以为薄膜封装结构,以防止水氧阵列基板进行侵蚀。
此外,本实施例提供的显示面板还可以包括盖板,以用于对显示面板进行进一步保护。
基于同一发明构思,本申请实施例还提供了一种显示装置,如图9所示,该显示装置,包括实施例中的显示面板,具有上述实施例中的显示面板的有益效果,在此不再赘述。
具体地,本实施例提供的显示装置还包括驱动芯片和供电电源,其中,驱动芯片为显示面板提供驱动信号,而供电电源为显示面板提供电能。
应用本申请实施例,至少能够实现如下有益效果:
本申请实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置,利用第一像素界定结构形成多个对应像素列的开口,并利用第二像素界定结构来划分子像素,且将至少一种颜色对应的像素列开口在虚拟像素区进行连通,从而使得形成至少一种颜色的子像素的墨水(含有有机发光层材料的溶液)在多个像素列开口内是可流通的,即使部分像素列开口并未进行连通,但该部分像素列开口内的墨水也可以在该像素列开口内流通,如此有利于提升有机发光层的厚度的均匀性,从而提升显示装置的显示效果。
本技术领域技术人员可以理解,本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地,具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地,现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
应该理解的是,虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明,这些步骤的执行并没有严格的顺序限制,其可以以其他的顺序执行。而且,附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段,这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成,而是可以在不同的时刻执行,其执行顺序也不必然是依次进行,而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
以上所述仅是本申请的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
Claims (14)
1.一种阵列基板,包括至少两种颜色不同的子像素,所述子像素沿第一方向排布为像素列,位于同一所述像素列的各所述子像素的颜色相同,其特征在于,所述阵列基板包括:
衬底,包括显示区和位于所述显示区周围的边框区;
第一电极层,位于所述衬底的一侧且包括与所述子像素一一对应的第一电极;
像素界定结构,包括第一像素界定结构和厚度小于所述第一像素界定结构的第二像素界定结构,所述第一像素界定结构包括位于所述显示区的第一挡墙和位于所述边框区的第二挡墙,所述第一挡墙沿第一方向延伸且相邻所述第一挡墙限定与所述像素列一一对应的像素列开口,所述第二挡墙沿第二方向延伸,且与限定至少两个同种颜色的相邻的所述像素列的所对应的所述像素列开口的所述第一挡墙连接;所述第二像素界定结构包括位于所述显示区的第三挡墙,所述第三挡墙位于所述像素列开口内以将所述像素列开口划分为与所述子像素一一对应的像素开口,一个所述像素开口在所述衬底上的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底上的正投影内,所述第二方向与所述第一方向相交;
有机发光层,所述有机发光层至少包括第一颜色发光层和第二颜色发光层,所述第一颜色发光层包括位于显示区的第一主体部和位于所述边框区的第一虚拟部,所述第一主体部铺满相应的所述像素列开口所限定的区域,所述第一虚拟部与至少两个相邻的所述第一主体部连接,和/或所述第二颜色发光层包括位于显示区的第二主体部和位于所述边框区的第二虚拟部,所述第二主体部铺满相应的所述像素列开口所限定的区域,所述第二虚拟部与至少两个相邻的所述第二主体部连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述边框区包括虚拟像素区,所述虚拟部位于所述虚拟像素区。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,
所述第一虚拟部和所述第二虚拟部均沿所述第二方向延伸,所述第一颜色发光层包括至少两个所述第一虚拟部,每个所述第一虚拟部与部分所述第一主体部连接,所述第二颜色发光层包括至少两个所述第二虚拟部,每个所述第二虚拟部与部分所述第二主体部连接。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第一虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;
所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括第三主体部,在所述第二方向上,所述第一主体部、所述第二主体部和所述第三主体部交替排布;
所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区。
5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第一虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;
所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括位于显示区得到多个第三主体部和位于所述虚拟像素区的第三虚拟部,两个相邻所述第三主体部之间包括一个所述第一主体部或一个所述第二主体部,其中,所述第三颜色发光层为蓝色发光层;
所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区,所述第三虚拟部位于第一虚拟像素区和/或所述第二虚拟像素区。
6.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,
所述第一虚拟部和所述第二虚拟部均沿所述第二方向延伸,所述第一颜色发光层包括一个所述第一虚拟部,所述第一虚拟部与全部所述第一主体部连接,所述第二颜色发光层包括一个所述第二虚拟部,所述第二虚拟部与全部所述第二主体部连接。
7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第一虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;
所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括第三主体部,在所述第二方向上,所述第一主体部、所述第二主体部和所述第三主体部交替排布;
所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区。
8.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述虚拟像素区包括第一虚拟像素区和位于所述显示区远离所述第一虚拟像素区一侧的第二虚拟像素区;
所述有机发光层还包括第三颜色发光层,所述第三颜色发光层包括位于显示区得到多个第三主体部和位于所述虚拟像素区的第三虚拟部,两个相邻所述第三主体部之间包括一个所述第一主体部或一个所述第二主体部,其中,所述第三颜色发光层为蓝色发光层;
所述第一虚拟部位于所述第一虚拟像素区,所述第二虚拟部位于所述第二虚拟像素区,在所述第二方向上,所述第三虚拟部交替排布在所述第一虚拟像素区和所述第二虚拟像素区。
9.根据权利要求2-8中任一项所述的阵列基板,其特征在于,
所述第一虚拟部和所述第二虚拟部在所述衬底上的正投影与所述第一电极在所述衬底上的正投影无交叠。
10.根据权利要求1-8中任一项所述的阵列基板,其特征在于,
所述第一像素界定结构的厚度为1.2μm~2μm,所述第二像素界定结构的厚度为0.5μm~1μm。
11.根据权利要求1-5中任一项所述的阵列基板,其特征在于,
所述第一像素界定结构和所述第二像素界定结构采用同一材料一体成型。
12.根据权利要求1-8中任一项所述的阵列基板,其特征在于,
所述第一像素界定结构的材料为疏液材料,所述第二像素界定结构的材料为亲液材料,所述第一像素界定结构位于所述第二像素界定结构远离所述衬底的一侧。
13.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-12中任一项所述的阵列基板。
14.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求13所述的显示面板。
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