CN117501846A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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CN117501846A
CN117501846A CN202280001552.7A CN202280001552A CN117501846A CN 117501846 A CN117501846 A CN 117501846A CN 202280001552 A CN202280001552 A CN 202280001552A CN 117501846 A CN117501846 A CN 117501846A
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pixel retaining
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贾文斌
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BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Zhuoyin Technology Co Ltd
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Abstract

显示面板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域。显示面板包括：衬底基板，以及像素界定层；像素界定层用于限定出多个子像素开口，包括：交叉设置的主像素挡墙和多个子像素挡墙；多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙和第二子像素挡墙，第一子像素挡墙的高度和第二子像素挡墙的高度均小于主像素挡墙的高度，第一子像素挡墙和第二子像素挡墙的高度不同和/或材料不同。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置 技术领域
本公开涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、一种显示面板的制备方法、以及一种显示装置。
背景技术
在有机发光半导体显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)技术中，通常使用有机发光器件完成红色、绿色以及蓝色的三原色(Red,Green,Blue；RGB)像素发光。目前像素的制备可以预先在基板的电极上制作像素界定层(pixel define layer,PDL)，以限定墨滴精确的流入指定的R/G/B亚像素区。对于传统像素结构，随着像素分辨率的提升，需要像素开口变小，像素成膜均匀性不断降低，从而影响产品的寿命和品质。因此，目前的技术难点在于，如何提升显示面板内的像素的分布均匀性。
概述
本公开提供了一种显示面板，包括：
衬底基板，以及设置在所述衬底基板一侧的像素界定层，所述像素界定层用于限定出多个子像素开口；所述像素界定层包括：
主像素挡墙，用于隔开显示颜色不同的子像素开口；
间隔设置的多个子像素挡墙；所述子像素挡墙与所述主像素挡墙交叉设置，用于隔开显示颜色相同的子像素开口；
其中，所述多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙和第二子像素挡墙，所述第一子像素挡墙的高度和所述第二子像素挡墙的高度均小于所述主像素挡墙的高度，所述第一子像素挡墙和所述第二子像素挡墙的高度不同和/或材料不同。
可选地，所述第一子像素挡墙的高度小于所述第二子像素挡墙的高度，和/或者，所述第一子像素挡墙的亲液性高于所述第二子像素挡墙的亲液性。
可选地，相邻的两个所述第二子像素挡墙之间间隔设置有至少一个所述第一子像素挡墙。
可选地，所述像素界定层还包括：第三子像素挡墙；其中，所述第三子像素挡墙设置在所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙背离所述衬底基板的一侧表面上，所述第二子挡墙在所述衬底基板上的正投影位于所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙在所述衬底基板上的正投影范围内。
可选地，所述第三子像素挡墙与所述主像素挡墙的高度相同且材料相同。
可选地，所述第二子像素挡墙的高度大于或者等于所述主像素挡墙的高度的0.5倍，并且小于或者等于所述主像素挡墙；和/或者，
所述第一子像素挡墙的高度大于或者等于所述主像素挡墙的高度的0.1倍，并且小于或者等于所述主像素挡墙的0.4倍。
可选地，所述第一子像素挡墙的高度大于或者等于10nm，并且小于或者等于0.3um；和/或者，
所述第二子像素挡墙的高度大于或者等于50nm，并且小于或者等于0.6um；和/或者，
所述主像素挡墙的高度大于或者等于100nm，并且小于或者等于5um。
可选地，所述第二子挡墙的液体接触角大于或者等于38°，并且小于或者等于45°；和/或者，
所述第二子像素挡墙的液体接触角大于或者等于10°，并且小于或者等于38；和/或者，
所述第一子像素挡墙的液体接触角大于或者等于0°，并且小于或者等于5°。
可选地，主像素挡墙包括：含氟PI或者树脂；和/或者，
所述第一子像素挡墙包括以下任一者：PI，亚克力，树脂以及无机膜层；和/或者，
所述第二子像素挡墙包括：PI或者树脂。
可选地，颜色不同且相邻的子像素开口沿行方向排布，颜色相同且相邻的子像素开口沿列方向排布；
所述子像素开口包括长边，所述长边沿列方向延伸。
可选地，所述显示基板还包括：设置在所述子像素开口内的有机材料层；
其中，所述有机材料层背离所述衬底基板的一侧表面高于所述第一子像素挡墙背离所述衬底基板一侧的表面，且低于所述主像素挡墙背离所述衬底基板一侧的表面；其中，所述第一子像素挡墙的高度小于所述第二子像素挡墙的高度。
本公开还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层用于限定出多个子像素开口；
其中，所述像素界定层包括：主像素挡墙，用于隔开颜色不同的子像素开口；以及间隔设置的多个子像素挡墙；所述子像素挡墙与所述主像素挡墙交叉设置，用于隔开颜色相同的子像素开口；其中，所述多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙和第二子像素挡墙，所述第一子像素挡墙的高度和所述第二子像素挡墙的高度均小于所述主像素挡墙的高度，所述第一子像素挡墙和所述第二子像素挡墙的高度不同和/或材料不同。
可选地，在所述衬底基板的一侧形成像素界定层的步骤，包括：
采用第一构图工艺，在所述衬底基板的一侧形成所述第一子像素挡墙和所述第二子像素挡墙；
采用第二构图工艺，在所述衬底基板的同一侧形成所述主像素挡墙，以及，在所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙背离所述衬底基板的一侧形成第三子像素挡墙，所述第三子像素挡墙在所述衬底基板上的正投影位于所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙在所述衬底基板上的正投影范围内。
可选地，在所述衬底基板的一侧形成像素界定层的步骤之后，还包括：
采用喷墨打印工艺，在所述子像素开口内形成有机材料层。
本公开还提供了一种显示装置，包括如上述任一项实施例所述的一种显示面板。
上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能够更清楚了解本公开的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本公开的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本公开的具体实施方式。
附图简述
为了更清楚地说明本公开实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。需要说明的是，附图中的比例仅作为示意并不代表实际比例。
图1示出了相关技术中的一种像素界定层的平面结构示意图；
图2示出了相关技术中的一种显示面板的剖面结构示意图；
图3示出了相关技术中的又一种像素界定层的平面结构示意图；
图4示出了相关技术中的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图5示意性地示出了本公开提供的一种像素界定结构的平面结构示意图；
图6示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图7示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的又一剖面结构示意图；
图8示意性地示出了本公开提供的一种像素均匀性的对比示意图；
图9示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的制备方法的步骤流程图。
详细描述
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
在相关技术中，OLED的成膜方式主要有蒸镀制程和溶液制程。目前蒸镀制程技术已经应用于量产中，但是该技术材料昂贵以及材料利用率较低，加大产品开发的成本。而溶液制程OLED成膜方式主要有喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂、丝网印刷等。
参照图1，图1示出了相关技术中的一种像素界定层的平面结构示意图。如图1所示，目前常用的喷墨打印工艺将墨滴打印至像素区域中，而像素区域对应的各个子像素开口由像素界定层限定得到。其中，像素界定结构中限 定的像素的分辨率越高，对喷墨打印的精度要求越高。
参照图2，图2示出了相关技术中的一种显示面板的剖面结构示意图。如图2所示，通过显示面板在PDL-x2所在平面的剖面结构，可以看到每个子像素开口彼此独立，互不连通，受打印机喷头硬件的限制，每个喷嘴的稳定性无法保证进入每个子像素开口的墨滴体积均相同，进而无法保证得到的每个像素的体积也一致，由此造成显示效果不均匀。同时，高分辨率的产品对打印精度要求越高，对像素短边打印精度及长边所在方向的要求也越来越高。
参照图3，图3示出了相关技术中的又一种像素界定层的平面结构示意图。如图3所示，申请人发现，让纵向每一列的同颜色的子像素的墨滴相互流通，可以使得同色的子像素的墨滴被平均分配到同一列的各子像素开口中，减少子像素的墨滴体积差异，进而减少打印的串色和薄暗线，同时由于氛围的影响，提高打印成膜均匀性，还可以降低打印机台的硬件精度需求。
参照图4，图4示出了相关技术中的又一种显示面板的剖面结构示意图。如图4所示的显示面板在PDL-y1所在平面的剖面结构所展示的Line Bank像素排列，申请人还进一步发现，如果让同颜色的子像素的墨滴相互流通，存在以下问题：首先，在显示面板的VCD干燥过程中，边缘像素墨滴溶剂的蒸发过快，导致中间墨滴向边缘变动，同时带动这溶质向显示面板边缘流动，从而造成显示面板边缘的膜厚不均，会形成显示不均匀的问题。其次，在实际加工过程中，打印机台的台面平坦度通常较高，难以做到理想化的低数值，而打印机台的不平整会造成较高一侧的像素向较低一侧流动，高低两侧像素膜厚相差大，同样会造成显示不均匀的问题。而理想的Line Bank像素排列结构要求打印时同列像素液体能够顺畅流通，在像素烘干时流通性差，显然，目前的显示面板结构并不能兼顾这两点要求。
为了解决上述问题，本公开提供了一种显示面板，参照图5，图5示意性地示出了本公开提供的一种像素界定结构的平面结构示意图。如图5所示，该显示面板包括：衬底基板50，以及设置在衬底基板50一侧的像素界定层，像素界定层用于限定出多个子像素开口40。
其中，显示面板可以包括有机发光二极管显示基板或液晶面板的彩膜基 板，用于进行发光显示。
像素界定层包括：
主像素挡墙60，用于隔开颜色不同的子像素开口40；间隔设置的多个子像素挡墙；子像素挡墙与主像素挡墙60交叉设置，用于隔开颜色相同的子像素开口40。
参照图5进行示例性的说明，多个纵向平行排列的主像素挡墙60，与多个横向平行排列的子像素挡墙，可以形成多个子像素开口40。子像素开口40可以用于设置有机材料层，有机材料层可以包括发光像素材料，即，像素。其中，相邻两个主像素挡墙60之间的子像素开口40，发光像素材料的显示颜色相同。示例性的，可以是红色或者绿色或者蓝色。
其中，显示颜色相同的子像素开口40可以设置有相同发光颜色的有机材料层。
参照图6，图6示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的剖面结构示意图。参照图7，图7示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的又一剖面结构示意图。如图6所示的显示面板在A-A所在平面的剖面结构，以图7所示的显示面板在B-B所在平面的剖面结构，其中，多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙10和第二子像素挡墙20，第一子像素挡墙10的高度和第二子像素挡墙20的高度均小于主像素挡墙60的高度，第一子像素挡墙10和第二子像素挡墙20的高度不同和/或材料不同。
通过本公开实施例，第一子像素挡墙10的高度和第二子像素挡墙20的高度均小于主像素挡墙60的高度，可以有效防止像素的外溢，还可以避免不同颜色的像素在制备过程中出现混杂。
其中，主像素挡墙60的亲液性可以大于子像素挡墙的亲液性，由此可以进一步防止像素的外溢，同样还可以避免不同颜色的像素在制备过程中出现隔列混杂。
需要注意的是，本公开实施例中的“A，和/或，B”，即，至少包括“A”和“B”中的任一项，具体可以包含以下三种情况：“A和B”、“A”、“B”。
其中，衬底基板50可以用于作为子像素开口40的底部，与主像素挡墙60和像素界定层一起限定像素的位置。其中，衬底基板50可以包括基板和电极。
其中，本公开中的像素界定层中子像素挡墙的高度或者主像素挡墙60的高度，是指像素界定层在处于同一平面上情况下，比如处于衬底基板50一侧表面的情况下，沿衬底基板50的法线方向的高度。
本公开中的亲液性是材料表面对液体的亲和力，可以与材料表面的疏液性成反比，本公开中可以指材料表面对喷墨打印时像素液体的亲和力。亲液性与材料表面的表面能或表面张力相关，亲液性越高，经由该处材料流动的液体的流动性越差。
其中，多个子像素挡墙可以与主像素挡墙60相互垂直。
其中，高度较高和/或亲液性较低的第二子像素挡墙20可以起到缓冲像素墨滴，降低像素烘干时像素液体的流动性的作用。高度较低和/或亲液性较高的第一子像素挡墙10可以使像素在喷墨打印时实现同列流通，调整相邻子像素开口40中的像素墨滴的体积差异的作用。
其中，像素可以包括红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，还可以包括白色像素层。单一颜色的子像素，可以用于发光，进行相应颜色的显示。其中，各颜色的子像素可以横向依次交替设置，形成红黄蓝三色像素组合，以相应的灰度比例或亮度比例完成相应的画面显示。
参照图8，图8示意性地示出了本公开提供的一种像素均匀性的对比示意图。如图8所示，通过上述实施例，本公开提供主像素挡墙60和至少2种不同高度和/或者不同亲液性的子像素挡墙，并且有机材料层高度高于子像素挡墙而低于主像素挡墙60，则像素可以在加工过程中保持较好的流动性，使各子像素开口40中的像素体积均匀，并且，在像素干燥过程中减少像素向显示面板一侧流动，进一步提高像素发光的均匀性，进而提高显示面板的显示效果。以及，本公开还可以解决打印机台的平坦度不足的问题，在放低对打印机台的平坦度的要求的同时，还可以提高打印工艺窗口和器件调整空间，尤其适用于大尺寸OLED面板的打印量产。
本公开通过设置两种高度和/或者亲液性不同的子像素挡墙，即可以在减少制备难度的情况下，保持像素适当的流动性。为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种子像素挡墙，其中，第一子像素挡墙10的高度小于第二子像素挡墙20的高度，和/或者，第一子像素挡墙10的亲液性高于第二子像素挡墙20的亲液性。
具体的，第一子像素挡墙10的高度较低，和/或者，亲液性较高，则像素液体在喷墨打印加工过程中，可以经由第一子像素挡墙10的上方均匀流动，并使第一子像素挡墙10两侧子像素开口40中的像素在流动平均后液体体积大致相同。而第二子像素挡墙20的高度较高，和/或者，亲液性较低，像素液体可以在干燥过程中，针对显示面板放置在不平坦的机台上像素液体向一侧发生流动的情况，或者针对像素液体随着边缘蒸发向一侧流动的情况，使第二子像素挡墙20两侧的像素不流动或者流动速度较慢，进一步防止出现不均匀的显示效果。
为了进一步方便制备，子像素挡墙可以是同层设置的两种像素界定层。为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种子像素挡墙，其中，第一子像素挡墙10包括第一子像素挡墙10；第二子像素挡墙20包括第二子像素挡墙20；其中，第一子像素挡墙10的高度小于第二子像素挡墙20的高度，和/或者，第一子像素挡墙10的亲液性大于第二子像素挡墙20的亲液性。
像素界定结构同样可以与子像素挡墙同层设置。为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种高度不同的像素界定结构，其中，主像素挡墙60包括延伸至第一像素区域周围的第一子像素挡墙10和位于第一子像素挡墙10上的第二子挡墙；其中，第二子挡墙的高度大于或者等于第二子像素挡墙20的高度,和/或者，第二子挡墙的亲液性小于或者等于第二子像素挡墙20的亲液性。
优选的，为了帮助相同颜色的像素的汇集，沿衬底基板5060的法线所在平面的方向，主像素挡墙60中的第二子挡墙的剖面形状可以是梯形，进一步的可以是等腰梯形，其中，梯形的下底边位于靠近衬底基板5060的一侧。
其中，第一子像素挡墙10可以是一次性制备得到的。因此，制备得到第一像素区域内的第一子像素挡墙10，该部分第一子像素挡墙10用于作为第一子像素挡墙10。还可以同期制备得到第一像素区域外围的第一子像素挡墙10，该部分第一子像素挡墙10用于作为主像素挡墙60的一部分，用于为主像素挡墙60进行加高。
在本公开实施例中，子像素挡墙和主像素挡墙60的高度，子像素挡墙和主像素挡墙60的亲液性，子像素挡墙设置的种类数量以及具体排列分布 方式，都可以影响到显示面板中像素的流动性，为了使显示面板中像素的流动性适中，可以对上述因素中一项或多项进行调整。
高度较高或者亲液性较高的子像素挡墙可以对像素的流动性进行限制，但较高或者亲液性较高的子像素挡墙如果设置得过于密集，会导致像素难以在打印过程中流通，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，相邻的两个第二子像素挡墙20之间间隔设置有至少一个第一子像素挡墙10。
其中，第二子像素挡墙20之间间隔设置的第一子像素挡墙10越多，说明第一子像素挡墙10的密集度越高，则同列的相邻两个第二子像素挡墙20之间的子像素开口40越多，像素流动性越高。示例性的，当每隔2个第二子像素挡墙20设置一个第一子像素挡墙10，则在同列的相邻两个第一子像素挡墙10之间，存在3个子像素开口40。
为了进一步减少显示面板中的发光不均匀区域，在一种可选的实施方式中，在同一显示面板上不同区域内的第一子像素挡墙10的密集度可以不同，也即，相邻的每两个第一子像素挡墙10之间间隔设置的子像素开口40的数量可以不同，以针对显示面板中不同的发光情况，局部性地调节像素流动性，进而改善显示面板的整体显示效果。
在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，像素界定层还包括：第三子像素挡墙。
其中，第三子像素挡墙设置在衬底基板50最外侧的两个第一子像素挡墙10背离衬底基板50的一侧表面上，第二子挡墙在衬底基板50上的正投影位于衬底基板50最外侧的两个第一子像素挡墙10在衬底基板50上的正投影范围内。
由此，在本公开实施例中，将第三子像素挡墙设置在衬底基板50最外侧的两个第一子像素挡墙10上，通过像素区域的边缘位置上更高的像素挡墙，可以加强对沿主像素挡墙60的方向上像素流动的限定。而与主像素挡墙60垂直的方向上像素流动的限定，则可以由高于子像素挡墙的主像素挡墙60完成。
进一步的，在一种可选的实施方式中，第三子像素挡墙与主像素挡墙60的高度相同且材料相同。由此，第三子像素挡墙可以和主像素挡墙60同时 制备得到，进一步减少加工复杂度。
在一种可选的实施方式中，第二子像素挡墙20的高度大于或者等于主像素挡墙60的高度的0.5倍，并且小于或者等于主像素挡墙60；和/或者，
第一子像素挡墙10的高度大于或者等于主像素挡墙60的高度的0.1倍，并且小于或者等于主像素挡墙60的0.4倍。
具体地，在主像素挡墙60与子像素挡墙交叉的位置上，还可以形成重叠的像素挡墙，重叠的像素挡墙的高度可以是主像素挡墙60的高度与子像素挡墙的高度的和值。
进一步的，本公开还提供了一种示例性的像素界定层高度，其中，
第一子像素挡墙10的高度大于或者等于10nm，并且小于或者等于0.3um；和/或者，
第二子像素挡墙20的高度大于或者等于50nm，并且小于或者等于0.6um；和/或者，
主像素挡墙60的高度大于或者等于100nm，并且小于或者等于5um。
为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种亲液性不同的像素界定结构，其中，第二子挡墙的液体接触角大于或者等于38°，并且小于或者等于45°；和/或者，
第二子像素挡墙20的液体接触角大于或者等于10°，并且小于或者等于38；和/或者，
第一子像素挡墙10的液体接触角大于或者等于0°，并且小于或者等于5°。
其中，液体接触角可以是像素液体在材料表面形成的墨滴边缘与材料平面之间的夹角。液体接触角越大，亲液性越低。
通过上述实施例，可以针对不同平坦度的机台平面，以及像素液体在烘干过程中的流动情况，采用指定的不同高度或亲液性的三种像素挡墙形成像素界定层，使像素液体既能够在喷墨打印的过程中流通，也能够减缓或者避免像素液体在烘干过程中流动，得到最大程度化均匀分布的子像素，即，在烘干完成后各子像素开口40内的像素体积相同或相似，进而可以形成处处均匀的显示效果。
在本公开实施例中，主像素挡墙60的材料和每种子像素挡墙的材料均 可以不同，为了使第一子像素挡墙10的亲液性高于或者等于第二子像素挡墙20的亲液性，并且，第二子像素挡墙20的亲液性高于或者等于主像素挡墙60的亲液性，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，主像素挡墙60包括：含氟PI或者树脂；和/或者，
第一子像素挡墙10包括以下任一者：PI，亚克力，树脂以及无机膜层；和/或者，
第二子像素挡墙20包括：PI或者树脂。
其中，本公开中的PI是聚酰亚胺。
其中，可以通过改变材料的含氟量，来改变材料的液体接触角，因此，主像素挡墙60和第一子像素挡墙10的PI材料中的含氟量可以不同。
其中，在第二子像素挡墙20大于第一子像素挡墙10的高度的情况下，第二子像素挡墙20的亲液性可以等于主像素挡墙60的亲液性。
可选的，还可以通过表面处理改变材料的液体接触角。
考虑到目前显示面板中像素结构的常用排列方式，比如RGB排列或者钻石排列，可以通过设置阵列式的子像素开口40，用于放置像素。为此，在一种可选的实施方式中，其中，颜色不同且相邻的子像素开口40沿行方向排布，颜色相同且相邻的子像素开口40沿列方向排布。
子像素开口40包括长边，长边沿列方向延伸。
其中，子像素开口40可以是长条状，还包括短边，长边沿列方向延伸是指同列的子像素开口40通过短边连接。
其中，显示面板中的像素排列是根据颜色进行的，同色像素才可以流通，不同颜色像素需要交替排列，以一个像素组合中不同的亮度比例的像素配合显示出需要的颜色和亮度。因此，在可选的一种实施方式中，沿列方向排布每个子像素开口40内的像素层为同一材料，用于显示相同颜色。
参照图9，图9是本公开实施例提供的一种显示面板的制备方法的步骤流程图。如图9所示，结合上述实施例，基于相似的发明构思，本公开实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
步骤S301，提供衬底基板50。
步骤S302，在衬底基板50的一侧形成像素界定层，像素界定层用于限 定出多个子像素开口40。
其中，像素界定层包括：主像素挡墙60，用于隔开颜色不同的子像素开口40；以及间隔设置的多个子像素挡墙；子像素挡墙与主像素挡墙60交叉设置，用于隔开颜色相同的子像素开口40；其中，多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙10和第二子像素挡墙20，第一子像素挡墙10的高度和第二子像素挡墙20的高度均小于主像素挡墙60的高度，第一子像素挡墙10和第二子像素挡墙20的高度不同和/或材料不同。
具体的，两种子像素挡墙可以同时制备，也可以分别制备，不同子像素挡墙的制备顺序可以不分先后。
考虑到主像素挡墙60需要将显示面板中所有的像素限定在内，主像素挡墙60需要高于其他像素界定结构，因此可以在制备得到子像素挡墙后，制备主像素挡墙60。
具体的，可以通过喷墨打印的方式，在子像素开口40内制备像素层。
在进行喷墨打印的加工过程中，像素可以是液体状态的墨滴。因此，每两个相邻的主像素挡墙60可以形成一个贯通区域，使像素液体可以经由子像素挡墙的上方在该贯通区域内发生流动。
通过上述实施例，本公开可以通过设置高度和/或者亲液性不同的子像素挡墙，在保证像素的液滴平均化的前提，降低贯通区的墨滴流动，还可以进一步根据机台的平坦度以及像素液体烘干过程中的流动情况，根据显示效果的均匀性，调整需要制备的子像素挡墙高度、亲液性位置以及密度。
进一步的，本公开在制备得到两种子像素挡墙后，可以制备主像素挡墙60。在制备主像素挡墙60时，可以同步制备第三子像素挡墙。为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种形成像素界定层的方法，包括：
步骤401，采用第一构图工艺，在衬底基板50的一侧形成第一子像素挡墙10和第二子像素挡墙20。
步骤402，采用第二构图工艺，在衬底基板50的同一侧形成主像素挡墙60，以及，在衬底基板50最外侧的两个第一子像素挡墙10背离衬底基板50的一侧形成第三子像素挡墙，第三子像素挡墙在衬底基板50上的正投影位于衬底基板50最外侧的两个第一子像素挡墙10在衬底基板50上的正投影范围内。
其中，第三子像素挡墙高度和材料可以和主像素挡墙60相同。因此，第三子像素挡墙可以和主像素挡墙60同步进行制备，以此降低制备的复杂度。
其中，第三子像素挡墙还可以和主像素挡墙60交叉连接，已实现更好的像素密封性。
在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种制备有机材料层的方法，包括：
采用喷墨打印工艺，在子像素开口40内形成有机材料层。
具体的，有机材料层可以是像素层。可以通过喷墨打印的方式，沿相邻两个主像素挡墙60之间每列的子像素开口40内喷墨打印相同发光颜色的同一材料，得到阵列排布的像素。
其中，可以在每行或者每列设置至少一个喷嘴，用于同步进行油墨打印，以提高像素制备的效率。
需要说明的是，该制备方法还可以包括更多的步骤，这可以根据实际需求而定，本公开对此不作限制。关于该制备方法制备得到的显示装置的详细说明和技术效果可以参考上文中关于显示装置的描述，此处不再赘述。
结合上述实施例，基于相似的发明构思，本公开实施例还提供了一种显示装置，包括如上述任一项实施例的一种显示面板。本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本公开所提供的一种显示面板、一种显示面板的制备方法、以及 一种显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本公开的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本公开的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本公开的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本公开的限制。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。
本文中所称的“一个实施例”、“实施例”或者“一个或者多个实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或者特性包括在本公开的至少一个实施例中。此外，请注意，这里“在一个实施例中”的词语例子不一定全指同一个实施例。
在此处所提供的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本公开的实施例可以在没有这些具体细节的情况下被实践。在一些实例中，并未详细示出公知的方法、结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。
在权利要求中，不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的元件或步骤。位于元件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的元件。本公开可以借助于包括有若干不同元件的硬件以及借助于适当编程的计算机来实现。在列举了若干装置的单元权利要求中，这些装置中的若干个可以是通过同一个硬件项来具体体现。单词第一、第二、以及第三等的使用不表示任何顺序。可将这些单词解释为名称。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本公开的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本公开进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或 者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本公开各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (15)

  1. 一种显示基板，包括：衬底基板，以及设置在所述衬底基板一侧的像素界定层，所述像素界定层用于限定出多个子像素开口；所述像素界定层包括：
    主像素挡墙，用于隔开显示颜色不同的子像素开口；
    间隔设置的多个子像素挡墙；所述子像素挡墙与所述主像素挡墙交叉设置，用于隔开显示颜色相同的子像素开口；
    其中，所述多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙和第二子像素挡墙，所述第一子像素挡墙的高度和所述第二子像素挡墙的高度均小于所述主像素挡墙的高度，所述第一子像素挡墙和所述第二子像素挡墙的高度不同和/或材料不同。
  2. 根据权利要求1所述的一种显示面板，其中，所述第一子像素挡墙的高度小于所述第二子像素挡墙的高度，和/或者，所述第一子像素挡墙的亲液性高于所述第二子像素挡墙的亲液性。
  3. 根据权利要求2所述的一种显示面板，其中，相邻的两个所述第二子像素挡墙之间间隔设置有至少一个所述第一子像素挡墙。
  4. 根据权利要求2所述的一种显示面板，其中，所述像素界定层还包括：第三子像素挡墙；其中，所述第三子像素挡墙设置在所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙背离所述衬底基板的一侧表面上，所述第二子挡墙在所述衬底基板上的正投影位于所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙在所述衬底基板上的正投影范围内。
  5. 根据权利要求4所述的一种显示面板，其中，所述第三子像素挡墙与所述主像素挡墙的高度相同且材料相同。
  6. 根据权利要求1所述的一种显示面板，其中，所述第二子像素挡墙 的高度大于或者等于所述主像素挡墙的高度的0.5倍，并且小于或者等于所述主像素挡墙；和/或者，
    所述第一子像素挡墙的高度大于或者等于所述主像素挡墙的高度的0.1倍，并且小于或者等于所述主像素挡墙的0.4倍。
  7. 根据权利要求6所述的一种显示面板，其中，所述第一子像素挡墙的高度大于或者等于10nm，并且小于或者等于0.3um；和/或者，
    所述第二子像素挡墙的高度大于或者等于50nm，并且小于或者等于0.6um；和/或者，
    所述主像素挡墙的高度大于或者等于100nm，并且小于或者等于5um。
  8. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二子挡墙的液体接触角大于或者等于38°，并且小于或者等于45°；和/或者，
    所述第二子像素挡墙的液体接触角大于或者等于10°，并且小于或者等于38；和/或者，
    所述第一子像素挡墙的液体接触角大于或者等于0°，并且小于或者等于5°。
  9. 根据权利要求1所述的一种显示面板，其中，主像素挡墙包括：含氟PI或者树脂；和/或者，
    所述第一子像素挡墙包括以下任一者：PI，亚克力，树脂以及无机膜层；和/或者，
    所述第二子像素挡墙包括：PI或者树脂。
  10. 根据权利要求1至9任一项所述的一种显示面板，其中，颜色不同且相邻的子像素开口沿行方向排布，颜色相同且相邻的子像素开口沿列方向排布；
    所述子像素开口包括长边，所述长边沿列方向延伸。
  11. 根据权利要求1-9任一项所述的一种显示面板，其中，所述显示基 板还包括：设置在所述子像素开口内的有机材料层；
    其中，所述有机材料层背离所述衬底基板的一侧表面高于所述第一子像素挡墙背离所述衬底基板一侧的表面，且低于所述主像素挡墙背离所述衬底基板一侧的表面；其中，所述第一子像素挡墙的高度小于所述第二子像素挡墙的高度。
  12. 一种显示面板的制备方法，包括：
    提供衬底基板；
    在所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层用于限定出多个子像素开口；
    其中，所述像素界定层包括：主像素挡墙，用于隔开颜色不同的子像素开口；以及间隔设置的多个子像素挡墙；所述子像素挡墙与所述主像素挡墙交叉设置，用于隔开颜色相同的子像素开口；其中，所述多个子像素挡墙包括第一子像素挡墙和第二子像素挡墙，所述第一子像素挡墙的高度和所述第二子像素挡墙的高度均小于所述主像素挡墙的高度，所述第一子像素挡墙和所述第二子像素挡墙的高度不同和/或材料不同。
  13. 根据权利要求12所述的一种显示面板的制备方法，其中，在所述衬底基板的一侧形成像素界定层的步骤，包括：
    采用第一构图工艺，在所述衬底基板的一侧形成所述第一子像素挡墙和所述第二子像素挡墙；
    采用第二构图工艺，在所述衬底基板的同一侧形成所述主像素挡墙，以及，在所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙背离所述衬底基板的一侧形成第三子像素挡墙，所述第三子像素挡墙在所述衬底基板上的正投影位于所述衬底基板最外侧的两个第一子像素挡墙在所述衬底基板上的正投影范围内。
  14. 根据权利要求12所述的一种显示面板的制备方法，其中，在所述衬底基板的一侧形成像素界定层的步骤之后，还包括：
    采用喷墨打印工艺，在所述子像素开口内形成有机材料层。
  15. 一种显示装置，其中，包括如权利要求1至11任一项所述的一种显示面板。
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