CN107895736B - 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法 - Google Patents

一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107895736B
CN107895736B CN201711354187.5A CN201711354187A CN107895736B CN 107895736 B CN107895736 B CN 107895736B CN 201711354187 A CN201711354187 A CN 201711354187A CN 107895736 B CN107895736 B CN 107895736B
Authority
CN
China
Prior art keywords
groove
subpixel area
pixel defining
defining layer
color
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201711354187.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107895736A (zh
Inventor
赵德江
刘文祺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201711354187.5A priority Critical patent/CN107895736B/zh
Publication of CN107895736A publication Critical patent/CN107895736A/zh
Priority to EP18792002.0A priority patent/EP3616241A4/en
Priority to PCT/CN2018/083936 priority patent/WO2018196694A1/en
Priority to US16/316,111 priority patent/US11322560B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN107895736B publication Critical patent/CN107895736B/zh
Priority to US17/721,023 priority patent/US11744118B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法,涉及显示技术领域。本发明在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层,第二像素界定层上设置有多个第一凹槽,相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽,第一凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第一开口,第二凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第二开口。当后续打印发光层时,直接向第一凹槽内滴入发光材料,第一开口就可将发光材料流入与第一凹槽连通的子像素区域内,也可向第二凹槽内滴入发光材料,通过第二开口流入与第二凹槽连通的子像素区域内,通过改变像素界定层的结构,在不改变现有设备的前提下提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。

Description

一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode,有机电致发光器件)具有主动发光、高亮度、高对比度、超薄、低功耗、可柔性化以及工作温度范围宽等诸多优点,已成为极具竞争力和发展前景的下一代显示技术。
目前OLED显示面板的制作方法包括两种,第一种是蒸镀方式,蒸镀方式可以实现OLED全彩产品的制作,且能够对应极高的分辨率,但是材料利用率低,大尺寸的显示面板要使用白光加彩膜的方式制作;第二种是喷墨打印方式,其材料利用率高,可制作大尺寸的全彩显示面板。
但是,采用喷墨打印方式制作OLED显示面板,受墨滴体积和打印精度的限制,不容易实现中小尺寸的高分辨率打印,如果要提高打印分辨率,需要对打印设备进行很大的改进,且设备运行不稳定,打印工艺的难度较高。
发明内容
本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法,以解决现有的喷墨打印方式,打印分辨率较低、打印工艺的难度较高的问题。
为了解决上述问题,本发明公开了一种阵列基板,包括:衬底基板、形成在所述衬底基板上的电极层和第一像素界定层,所述第一像素界定层将所述衬底基板划分为多个子像素区域;
在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成有第二像素界定层,所述第二像素界定层上设置有多个第一凹槽,相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽,所述第一凹槽与所述子像素区域相邻的一侧上设置有第一开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与所述第一凹槽连通,所述第二凹槽与所述子像素区域相邻的一侧上设置有第二开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与所述第二凹槽连通,所述第一凹槽连通的子像素区域的颜色与所述第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同,相邻行的第二像素界定层上的所述第一凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开设置。
优选地,相邻行的第二像素界定层上的所述第二凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开设置。
优选地,所述第一凹槽和所述第二凹槽之间通过所述第二像素界定层构成的侧壁隔开,所述第二凹槽由所述两个侧壁以及设置在所述两个侧壁相邻侧的第二开口构成,所述第二开口用于将第一颜色的子像素区域与所述第二凹槽连通。
优选地,所述第二凹槽与子像素区域相邻的一侧设置有所述第二像素界定层,所述第二开口设置在与所述子像素区域相邻的一侧设置的所述第二像素界定层上,用于将第一颜色的子像素区域与所述第二凹槽连通。
优选地,在相邻两行的所述第二像素界定层中,其中一行第二像素界定层上的第一凹槽与第二颜色的子像素区域连通,另一行第二像素界定层上的第一凹槽与第三颜色的子像素区域连通。
优选地,任意相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上都设置有第二像素界定层。
优选地,奇数行第二像素界定层上的第一凹槽和第二凹槽位置在所述子像素区域的列方向上分别对齐设置,偶数行第二像素界定层上的第一凹槽和第二凹槽位置在所述子像素区域的列方向上分别对齐设置。
优选地,所述奇数行第二像素界定层上的第一凹槽与所述偶数行第二像素界定层上的第一凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开2个子像素区域设置;所述奇数行第二像素界定层上的第二凹槽与所述偶数行第二像素界定层上的第二凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开2个子像素区域设置。
优选地,与每个所述第一凹槽连通的第二颜色的子像素区域的个数为4个,与每个所述第一凹槽连通的第三颜色的子像素区域的个数为4个,与每个所述第二凹槽连通的第一颜色的子像素区域的个数为2个。
优选地,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层为一体结构。
优选地,所述第一凹槽底部至所述衬底基板的距离等于所述第一像素界定层顶表面至所述衬底基板的距离。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种显示面板,包括上述的阵列基板。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种阵列基板的制作方法,包括:
在衬底基板上形成电极层;
在所述电极层上形成第一像素界定层;所述第一像素界定层将所述衬底基板划分为多个子像素区域;
在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层;
在所述第二像素界定层上形成多个第一凹槽;相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽;
在所述第一凹槽与所述子像素区域相邻的一侧形成第一开口,以将同一颜色的子像素区域分别与所述第一凹槽连通;
在所述第二凹槽与所述子像素区域相邻的一侧形成第二开口,以将同一颜色的子像素区域分别与所述第二凹槽连通;所述第一凹槽连通的子像素区域的颜色与所述第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同,相邻行的第二像素界定层上的所述第一凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开设置。
优选地,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层通过一次构图工艺形成。
为了解决上述问题,本发明另外公开了一种显示面板的制作方法,包括:
提供上述的阵列基板;
向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口将对应颜色的发光材料流入与所述第一凹槽连通的子像素区域内;
向第二凹槽内滴入与所述第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,以通过第二开口将与所述第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料流入与所述第二凹槽连通的子像素区域内。
优选地,所述向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口将对应颜色的发光材料流入与所述第一凹槽连通的子像素区域内的步骤,包括:
向奇数行第二像素界定层上的第一凹槽内滴入第二颜色发光材料,以通过所述奇数行的第一凹槽的第一开口将所述第二颜色发光材料流入第二颜色的子像素区域内,形成第二发光层;
向偶数行第二像素界定层上的第一凹槽内滴入第三颜色发光材料,以通过所述偶数行的第一凹槽的第一开口将所述第三颜色发光材料流入第三颜色的子像素区域内,形成第三发光层。
与现有技术相比,本发明包括以下优点:
采用双层像素界定层的结构,在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层,第二像素界定层上设置有多个第一凹槽,相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽,第一凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第一开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与第一凹槽连通,第二凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第二开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与第二凹槽连通,第一凹槽连通的子像素区域的颜色与第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同。当后续打印发光层时,直接向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,第一开口就可将对应颜色的发光材料流入与第一凹槽连通的子像素区域内,也可向第二凹槽内滴入与第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,通过第二开口流入与第二凹槽连通的子像素区域内,通过改变像素界定层的结构,在打印时,设置在相邻两行的子像素区域可以通过一次喷墨完成打印,在不改变现有设备的前提下提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。
附图说明
图1示出了本发明实施例的一种阵列基板的结构示意图;
图2示出了图1所示的阵列基板沿截面A-A’的局部剖视图;
图3示出了图1所示的阵列基板沿截面B-B’的局部剖视图;
图4示出了图1所示的阵列基板沿截面C-C’的局部剖视图;
图5示出了本发明实施例的另一种阵列基板的结构示意图;
图6示出了图5所示的阵列基板沿截面D-D’的局部剖视图;
图7示出了本发明实施例的一种阵列基板的制作方法的流程图;
图8示出了本发明实施例的一种显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
图1为本发明实施例的一种阵列基板的结构示意图,图2为图1所示的阵列基板沿截面A-A’的局部剖视图,图3为图1所示的阵列基板沿截面B-B’的局部剖视图。
结合图1、图2和图3所示,本发明实施例提供了一种阵列基板,包括:衬底基板100、形成在衬底基板100上的电极层101和第一像素界定层102,第一像素界定层102将衬底基板100划分为多个子像素区域103;在至少两行相邻两行子像素区域103之间的第一像素界定层102上形成有第二像素界定层104,第二像素界定层104上设置有多个第一凹槽111,相邻两个第一凹槽111之间设置有第二凹槽112,第一凹槽111与子像素区域103相邻的一侧上设置有第一开口113,用于将同一颜色的子像素区域103分别与第一凹槽111连通,第二凹槽112与子像素区域103相邻的一侧上设置有第二开口114,用于将同一颜色的子像素区域103分别与第二凹槽112连通,第一凹槽111连通的子像素区域103的颜色与第二凹槽112连通的子像素区域103的颜色不同,相邻行的第二像素界定层104上的第一凹槽111沿子像素区域103的行方向上错开设置。
需要说明的是,图1中的第二凹槽是仅在第一凹槽与第二凹槽相邻的两侧设置第二像素界定层,而在第二凹槽除上述两侧的其他两侧(即与子像素区域相邻的两侧)不设置第二像素界定层从而形成的。第二开口114可以看成是:未设置第二像素界定层的上述其他两侧构成的区域。。
如图1所示,相邻行的第二像素界定层104上的第二凹槽112沿子像素区域103的行方向上错开设置。
其中,可以只在相邻两行的第一像素界定层102上形成第二像素界定层104,例如,在图1中的第一行子像素区域103和第二行子像素区域103之间的第一像素界定层102上形成第二像素界定层104,且在第二行子像素区域103和第三行子像素区域103之间的第一像素界定层102上也形成第二像素界定层104,其余相邻两行子像素区域103之间的第一像素界定层102上可以不形成第二像素界定层104,当然,也可以形成第二像素界定层104。
图4为图1所示的阵列基板沿截面C-C’的局部剖视图。
结合图1和图4,第一凹槽111和第二凹槽112之间通过第二像素界定层104构成的侧壁(如图4中的侧壁a和侧壁b)隔开,第二凹槽112由两个侧壁以及设置在两个侧壁相邻侧的第二开口114构成,第二开口114用于将第一颜色的子像素区域103与第二凹槽112连通。
如图1所示,第二凹槽112与子像素区域103相邻的两侧壁未设置第二像素界定层104,从而节省了材料。也就是说,在相邻两行子像素区域103的第二凹槽112中,与两个子像素区域103相邻的第一像素界定层102上未设置第二像素界定层104,在第二凹槽112内直接滴入发光材料,可将发光材料流入到两个子像素区域103中,即使在与两个子像素区域103相邻的第一像素界定层102上残留有发光材料,但是显示面板是通过电极层101控制发光材料发光,而第一像素界定层102上残留的发光材料不与电极层101接触,因此,不影响显示面板的发光。
参照图5,示出了本发明实施例的另一种阵列基板的结构示意图。
图5所示的阵列基板与图1所示的阵列基板的不同之处在于,第二凹槽112的结构不同。
如图5所示,第二凹槽112与子像素区域103相邻的一侧设置有第二像素界定层104,第二开口114设置在与子像素区域103相邻的一侧设置的第二像素界定层104上,用于将第一颜色的子像素区域103与第二凹槽112连通。
参照图6,示出了图5所示的阵列基板沿截面D-D’的局部剖视图。
在第二凹槽112的位置处,第一像素界定层102上设置有第二像素界定层104,在第二像素界定层104上形成第二凹槽112,且在第二像素界定层104上还形成第二开口114,第二开口114设置在与子像素区域103相邻的一侧设置的第二像素界定层104上。
在图5所示的阵列基板中,向与第二凹槽112连通的子像素区域103内打印发光材料时,将发光材料滴入第二凹槽112,第二开口114将发光材料流入对应的子像素区域103内。
如图1和图5所示,在相邻两行第二像素界定层104中,其中一行第二像素界定层104上的第一凹槽111与第二颜色的子像素区域103连通,另一行第二像素界定层104上的第一凹槽111与第三颜色的子像素区域103连通。
为了区分不同颜色的子像素区域,可以将第一颜色的子像素区域用103A表示,第二颜色的子像素区域用103B表示,第三颜色的子像素区域用103C表示。
例如,在图1和图5中的第一行第二像素界定层104上,第一凹槽111与第二颜色的子像素区域103B连通,第二行第二像素界定层104上,第一凹槽111与第三颜色的子像素区域103C连通。
其中,第一颜色、第二颜色和第三颜色均不相同,可以有以下几种不同的颜色分布方式,第一种颜色分布方式为:第一颜色为蓝色,第二颜色为红色、第三颜色为绿色;第二种颜色分布方式为:第一颜色为蓝色,第二颜色为绿色、第三颜色为红色;第三种颜色分布方式为:第一颜色为红色,第二颜色为蓝色、第三颜色为绿色;第四种颜色分布方式为:第一颜色为红色,第二颜色为绿色、第三颜色为蓝色;第五种颜色分布方式为:第一颜色为绿色,第二颜色为红色、第三颜色为蓝色;第六种颜色分布方式为:第一颜色为绿色,第二颜色为蓝色、第三颜色为红色。
在本发明一种优选的实施例中,任意相邻两行子像素区域103之间的第一像素界定层102上都设置有第二像素界定层104。通过在所有的第二像素界定层104上设置第一凹槽111和第一开口113,在打印发光材料时,只要在第一凹槽111内滴入发光材料,就可通过第一开口113将发光材料流入与第一凹槽111连通的子像素区域内,直接在第一凹槽111内完成相邻两行的子像素区域103的喷墨打印,提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。
在本发明实施例中,奇数行第二像素界定层104上的第一凹槽111和第二凹槽112位置在子像素区域103的列方向上分别对齐设置,偶数行第二像素界定层104上的第一凹槽111和第二凹槽112位置在子像素区域103的列方向上分别对齐设置。
也就是说,在阵列基板中,奇数行第二像素界定层104上的第一凹槽111位置在子像素区域103的列方向上对齐设置,奇数行第二像素界定层104上的第二凹槽112位置在子像素区域103的列方向上对齐设置;偶数行第二像素界定层104上的第一凹槽111位置在子像素区域103的列方向上对齐设置,偶数行第二像素界定层104上的第二凹槽112位置在子像素区域103的列方向上对齐设置。
例如,在图1和图5中,第一行第二像素界定层104和第三行第二像素界定层104上的第一凹槽111在子像素区域103的列方向上对齐设置,第一行第二像素界定层104和第三行第二像素界定层104上的第二凹槽112在子像素区域103的列方向上对齐设置;第二行第二像素界定层104和第四行第二像素界定层104上的第一凹槽111在子像素区域103的列方向上对齐设置,第二行第二像素界定层104和第四行第二像素界定层104上的第二凹槽112在子像素区域103的列方向上对齐设置。
其中,奇数行第二像素界定层104上的第一凹槽111与偶数行第二像素界定层104上的第一凹槽104沿子像素区域103的行方向上错开2个子像素区域103设置;奇数行第二像素界定层104上的第二凹槽112与偶数行第二像素界定层104上的第二凹槽112沿子像素区域103的行方向上错开2个子像素区域103设置。
例如,在图1和图5中,第一行第二像素界定层104上的第一凹槽111与第二行第二像素界定层104上的第一凹槽111之间,错开两个子像素区域103设置,分别是第二颜色的子像素区域103B和第三颜色的子像素区域103C;第一行第二像素界定层104上的第二凹槽112与第二行第二像素界定层104上的第二凹槽112之间,错开两个子像素区域103设置,分别是第二颜色的子像素区域103B和第三颜色的子像素区域103C。
如图1和图5所示,与每个第一凹槽111连通的第二颜色的子像素区域103B的个数为4个,与每个第一凹槽111连通的第三颜色的子像素区域103C的个数为4个,与每个第二凹槽112连通的第一颜色的子像素区域103A的个数为2个。
因此,在进行打印时,每个第一凹槽111对应一个喷头,每个第二凹槽112对应一个喷头,通过喷头向第一凹槽111内打印第二颜色发光材料时,通过第一开口113可以将第二颜色发光材料流入4个第二颜色的子像素区域103B内;通过喷头向第一凹槽111内打印第三颜色发光材料时,通过第一开口113可以将第三颜色发光材料流入4个第三颜色的子像素区域103C内;通过喷头向第二凹槽112内打印第一颜色发光材料,可以将第一颜色发光材料流入2个第一颜色的子像素区域103A内。
而对于图1所示的第二凹槽112,可采用体积较大的喷头,将第一颜色发光材料一起滴入第二凹槽112、与第二凹槽112对应的两个第一颜色的子像素区域103A内,第二凹槽112内的第一颜色发光材料可以通过第二开口114流向相邻的两个第一颜色的子像素区域103A内,即使在第二凹槽112内残留有发光材料,也不影响显示面板的发光。
对于图5所示的第二凹槽112,采用喷头将第一颜色发光材料滴入第二凹槽112内,通过第二开口114将第一颜色发光材料流入2个第一颜色的子像素区域103A内。
在现有技术中,用于喷墨打印的喷墨打印设备包括并排设置的多个喷嘴,每列子像素区域对应一个喷嘴,所以喷嘴的数量等于一行子像素区域的数量,打印时,通过移动喷嘴实现所有子像素区域的打印。对于高PPI(Pixels Per Inch,每英寸像素数目)的产品而言,这种产品的像素密度大,造成喷墨打印时,所采用的喷墨打印设备的一排喷嘴的布置密度也大,造成喷墨打印设备制作困难。而本发明实施例中的阵列基板在进行喷墨打印时,打印第二颜色发光材料的喷头数量为原本数量的1/4,打印第三颜色发光材料的喷头数量为原本数量的1/4,而打印第一颜色发光材料的喷头数量为原本数量的1/2,通过减少喷头数量,从而降低喷墨打印设备制作难度。
此外,在第一凹槽111内滴入发光材料就可实现4个子像素区域的打印,打印方便,且第一凹槽111的面积较大,可提高打印精度;而且,在第二凹槽112内一次可打印两个第一颜色的子像素区域,进一步降低了打印难度,提高了打印分辨率。
在本发明实施例中,第一像素界定层102和第二像素界定层104为一体结构,即第一像素界定层102和第二像素界定层104通过一次构图工艺完成;当然,也可以通过构图工艺先形成第一像素界定层102,在第一像素界定层102上再次采用构图工艺形成第二像素界定层104。
在本发明实施例中,如图2所示,第一凹槽111底部至衬底基板100的距离d1大于第一像素界定层102顶表面至衬底基板100的距离d2,也就是说第一凹槽111未贯穿第二像素界定层104。
在本发明一种优选的实施例中,第一凹槽111底部至衬底基板100的距离等于第一像素界定层102顶表面至衬底基板100的距离,也就是说第一凹槽111可以贯穿第二像素界定层104。
其中,第一像素界定层102顶表面指的是远离电极层101的表面,将第一凹槽111设置成贯穿第二像素界定层104,相对于第一凹槽111未贯穿第二像素界定层104,制作工艺难度较低。
其中,第一像素界定层102的厚度为第二像素界定层104的厚度为1.5μm至2μm。
在本发明实施例中,采用双层像素界定层的结构,在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层,第二像素界定层上设置有多个第一凹槽,相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽,第一凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第一开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与第一凹槽连通,第二凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第二开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与第二凹槽连通,第一凹槽连通的子像素区域的颜色与第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同。当后续打印发光层时,直接向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,第一开口就可将对应颜色的发光材料流入与第一凹槽连通的子像素区域内,也可向第二凹槽内滴入与第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,通过第二开口流入与第二凹槽连通的子像素区域内,通过改变像素界定层的结构,在打印时,设置在相邻两行的子像素区域可以通过一次喷墨完成打印,在不改变现有设备的前提下提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。
实施例二
本发明实施例还提供了一种显示面板,该显示面板包括图1至图6任一幅所示的阵列基板。
关于阵列基板的具体描述可以参照实施例一的描述,本发明实施例对此不再赘述。
在本发明实施例中,显示面板还包括形成在子像素区域103内的发光层,通过喷墨打印,在第一颜色的子像素区域103A内形成第一发光层,在第二颜色的子像素区域103B内形成第二发光层,在第三颜色的子像素区域103C内形成第三发光层。
在本发明实施例中,该显示面板包括阵列基板,采用双层像素界定层的结构,在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层,第二像素界定层上设置有多个第一凹槽,相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽,第一凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第一开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与第一凹槽连通,第二凹槽与子像素区域相邻的一侧上设置有第二开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与第二凹槽连通,第一凹槽连通的子像素区域的颜色与第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同。当后续打印发光层时,直接向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,第一开口就可将对应颜色的发光材料流入与第一凹槽连通的子像素区域内,也可向第二凹槽内滴入与第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,通过第二开口流入与第二凹槽连通的子像素区域内,通过改变像素界定层的结构,在打印时,设置在相邻两行的子像素区域可以通过一次喷墨完成打印,在不改变现有设备的前提下提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。
实施例三
参照图7,示出了本发明实施例的一种阵列基板的制作方法的流程图,具体可以包括以下步骤:
步骤701,在衬底基板上形成电极层。
在本发明实施例中,在衬底基板100上形成电极层101。
其中,电极层101一般为阳极层,其材料为ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡);衬底基板100可以为玻璃基板、石英基板、金属基板、树脂基板等。
步骤702,在所述电极层上形成第一像素界定层。
在本发明实施例中,在电极层101上通过构图工艺形成第一像素界定层102。
具体的,在电极层101先沉积第一像素界定层薄膜,对第一像素界定层薄膜采用构图工艺形成第一像素界定层102。其中,第一像素界定层102将衬底基板100划分为多个子像素区域103。
步骤703,在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层。
在本发明实施例中,在相邻两行子像素区域103之间的第一像素界定层102上形成第二像素界定层104。
具体的,在第一像素界定层102上先沉积第二像素界定层薄膜,对第二像素界定层薄膜采用构图工艺形成第二像素界定层104。
在本发明一种优选的实施例中,第一像素界定层102和第二像素界定层104通过一次构图工艺形成,沉积像素界定层薄膜,接着采用构图工艺一次形成第一像素界定层102和第二像素界定层104,可简化工艺流程。
步骤704,在所述第二像素界定层上形成多个第一凹槽。
在本发明实施例中,在第二像素界定层104上,可采用刻蚀工艺形成多个第一凹槽111,当然,也可以采用其他工艺形成第一凹槽111,本发明实施例对此不做限制。
其中,相邻两个第一凹槽111之间设置有第二凹槽112。
步骤705,在所述第一凹槽与所述子像素区域相邻的一侧形成第一开口,以将同一颜色的子像素区域分别与所述第一凹槽连通。
在本发明实施例中,在第一凹槽111与子像素区域103相邻的一侧形成第一开口113,以将同一颜色的子像素区域103分别与第一凹槽111连通。
步骤706,在所述第二凹槽与所述子像素区域相邻的一侧形成第二开口,以将同一颜色的子像素区域分别与所述第二凹槽连通。
在本发明实施例中,在第二凹槽112与子像素区域103相邻的一侧形成第二开口114,以将同一颜色的子像素区域103分别与第二凹槽112连通。
其中,第一凹槽111连通的子像素区域103的颜色与第二凹槽112连通的子像素区域103的颜色不同,相邻行的第二像素界定层104上的第一凹槽111沿子像素区域103的行方向上错开设置。
在本发明实施例中,在衬底基板上形成电极层,在电极层上形成第一像素界定层,在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层,在第二像素界定层上形成多个第一凹槽,在第一凹槽与子像素区域相邻的一侧形成第一开口,以将同一颜色的子像素区域分别与第一凹槽连通,在第二凹槽与子像素区域相邻的一侧形成第二开口,以将同一颜色的子像素区域分别与第二凹槽连通。当后续打印发光层时,直接向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,第一开口就可将对应颜色的发光材料流入与第一凹槽连通的子像素区域内,也可向第二凹槽内滴入与第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,通过第二开口流入与第二凹槽连通的子像素区域内,通过改变像素界定层的结构,在打印时,设置在相邻两行的子像素区域可以通过一次喷墨完成打印,在不改变现有设备的前提下提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。
实施例四
参照图8,示出了本发明实施例的一种显示面板的制作方法的流程图,具体可以包括以下步骤:
步骤801,提供一阵列基板。
在本发明实施例中,该阵列基板如图1至图6中的任一幅所示的阵列基板,关于阵列基板的具体描述可参照实施例一的描述。
步骤802,向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口将对应颜色的发光材料流入与所述第一凹槽连通的子像素区域内。
在本发明实施例中,向第一凹槽111内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口113将对应颜色的发光材料流入与第一凹槽111连通的子像素区域103内。
其中,发光材料是一种液态有机材料,发光材料流入子像素区域103内,当发光材料干燥后,可形成发光层,当然发光材料也可以是无机材料,例如量子点。
由于每个子像素区域的特性相近,在表面张力的作用下实现自平衡,让发光材料在各个子像素区域内均匀的分布;当发光材料干燥形成发光层时,各个子像素区域内的发光层也是均匀分布的,即使各个子像素区域内的发光层分布有微小的差别,也可以通过第一像素界定层进行修正。
其中,奇数行第二像素界定层104上的第一凹槽111与第二颜色的子像素区域103B连通,偶数行第二像素界定层104上的第一凹槽111与第三颜色的子像素区域103C连通。
在本发明一种优选的实施例中,向奇数行第二像素界定层上的第一凹槽内滴入第二颜色发光材料,以通过所述奇数行的第一凹槽的第一开口将所述第二颜色发光材料流入第二颜色的子像素区域内,形成第二发光层;向偶数行第二像素界定层上的第一凹槽内滴入第三颜色发光材料,以通过所述偶数行的第一凹槽的第一开口将所述第三颜色发光材料流入第三颜色的子像素区域内,形成第三发光层。
向奇数行第二像素界定层104上的第一凹槽111内滴入第二颜色发光材料,通过奇数行的第一凹槽111的第一开口113将第二颜色发光材料流入第二颜色的子像素区域103B内,干燥后形成第二发光层;向偶数行第二像素界定层104上的第一凹槽111内滴入第三颜色发光材料,通过偶数行的第一凹槽111的第一开口113将第三颜色发光材料流入第三颜色的子像素区域103C内,干燥后形成第三发光层。
步骤803,向第二凹槽内滴入与所述第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,以通过第二开口将与所述第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料流入与所述第二凹槽连通的子像素区域内。
在本发明实施例中,向第二凹槽112内滴入与第一凹槽111内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,通过第二开口114将与第一凹槽111内滴入的发光材料颜色不同的发光材料流入与第二凹槽112连通的子像素区域103内。
如图1所示的阵列基板,可采用体积较大的喷头,将第一颜色发光材料一起滴入第二凹槽112、与第二凹槽112对应的两个第一颜色的子像素区域103A内,第二凹槽112内的第一颜色发光材料可以通过第二开口114流向相邻的两个第一颜色的子像素区域103A内,干燥后可形成第一发光层。
如图5所示的阵列基板,采用喷头将第一颜色发光材料滴入第二凹槽112内,通过第二开口114将第一颜色发光材料流入2个第一颜色的子像素区域103A内,干燥后可形成第一发光层。
需要说明的是,步骤802和步骤803的顺序可以根据实际工艺要求进行相应的调整。
在本发明实施例中,提供一阵列基板,向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口将对应颜色的发光材料流入与第一凹槽连通的子像素区域内,向第二凹槽内滴入与第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,以通过第二开口将与第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料流入与第二凹槽连通的子像素区域内。通过改变像素界定层的结构,在打印时,设置在相邻两行的子像素区域可以通过一次喷墨完成打印,在不改变现有设备的前提下提高打印分辨率,降低打印工艺的难度。
对于前述的各方法实施例,为了简单描述,故将其都表述为一系列的动作组合,但是本领域技术人员应该知悉,本发明并不受所描述的动作顺序的限制,因为依据本发明,某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次,本领域技术人员也应该知悉,说明书中所描述的实施例均属于优选实施例,所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法,进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (16)

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板、形成在所述衬底基板上的电极层和第一像素界定层,所述第一像素界定层将所述衬底基板划分为多个子像素区域;
在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成有第二像素界定层,所述第二像素界定层上设置有多个第一凹槽,相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽,所述第一凹槽与所述子像素区域相邻的一侧上设置有第一开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与所述第一凹槽连通,所述第二凹槽与所述子像素区域相邻的一侧上设置有第二开口,用于将同一颜色的子像素区域分别与所述第二凹槽连通,所述第一凹槽连通的子像素区域的颜色与所述第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同,相邻行的第二像素界定层上的所述第一凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开设置。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,相邻行的第二像素界定层上的所述第二凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开设置。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一凹槽和所述第二凹槽之间通过所述第二像素界定层构成的侧壁隔开,所述第二凹槽由所述两个侧壁以及设置在所述两个侧壁相邻侧的第二开口构成,所述第二开口用于将第一颜色的子像素区域与所述第二凹槽连通。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二凹槽与子像素区域相邻的一侧设置有所述第二像素界定层,所述第二开口设置在与所述子像素区域相邻的一侧设置的所述第二像素界定层上,用于将第一颜色的子像素区域与所述第二凹槽连通。
5.根据权利要求3或4所述的阵列基板,其特征在于,在相邻两行的所述第二像素界定层中,其中一行第二像素界定层上的第一凹槽与第二颜色的子像素区域连通,另一行第二像素界定层上的第一凹槽与第三颜色的子像素区域连通。
6.根据权利要求1-4中任意一项所述的阵列基板,其特征在于,任意相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上都设置有第二像素界定层。
7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,奇数行第二像素界定层上的第一凹槽和第二凹槽位置在所述子像素区域的列方向上分别对齐设置,偶数行第二像素界定层上的第一凹槽和第二凹槽位置在所述子像素区域的列方向上分别对齐设置。
8.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述奇数行第二像素界定层上的第一凹槽与所述偶数行第二像素界定层上的第一凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开2个子像素区域设置;所述奇数行第二像素界定层上的第二凹槽与所述偶数行第二像素界定层上的第二凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开2个子像素区域设置。
9.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,与每个所述第一凹槽连通的第二颜色的子像素区域的个数为4个,与每个所述第一凹槽连通的第三颜色的子像素区域的个数为4个,与每个所述第二凹槽连通的第一颜色的子像素区域的个数为2个。
10.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层为一体结构。
11.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一凹槽底部至所述衬底基板的距离等于所述第一像素界定层顶表面至所述衬底基板的距离。
12.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1至11中任意一项所述的阵列基板。
13.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成电极层;
在所述电极层上形成第一像素界定层;所述第一像素界定层将所述衬底基板划分为多个子像素区域;
在相邻两行子像素区域之间的第一像素界定层上形成第二像素界定层;
在所述第二像素界定层上形成多个第一凹槽;相邻两个第一凹槽之间设置有第二凹槽;
在所述第一凹槽与所述子像素区域相邻的一侧形成第一开口,以将同一颜色的子像素区域分别与所述第一凹槽连通;
在所述第二凹槽与所述子像素区域相邻的一侧形成第二开口,以将同一颜色的子像素区域分别与所述第二凹槽连通;所述第一凹槽连通的子像素区域的颜色与所述第二凹槽连通的子像素区域的颜色不同,相邻行的第二像素界定层上的所述第一凹槽沿所述子像素区域的行方向上错开设置。
14.根据权利要求13所述的制作方法,其特征在于,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层通过一次构图工艺形成。
15.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供如权利要求1-11中任一项所述的阵列基板;
向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口将对应颜色的发光材料流入与所述第一凹槽连通的子像素区域内;
向第二凹槽内滴入与所述第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料,以通过第二开口将与所述第一凹槽内滴入的发光材料颜色不同的发光材料流入与所述第二凹槽连通的子像素区域内。
16.根据权利要求15所述的制作方法,其特征在于,所述向第一凹槽内滴入对应颜色的发光材料,以通过第一开口将对应颜色的发光材料流入与所述第一凹槽连通的子像素区域内的步骤,包括:
向奇数行第二像素界定层上的第一凹槽内滴入第二颜色发光材料,以通过所述奇数行的第一凹槽的第一开口将所述第二颜色发光材料流入第二颜色的子像素区域内,形成第二发光层;
向偶数行第二像素界定层上的第一凹槽内滴入第三颜色发光材料,以通过所述偶数行的第一凹槽的第一开口将所述第三颜色发光材料流入第三颜色的子像素区域内,形成第三发光层。
CN201711354187.5A 2017-04-27 2017-12-15 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法 Active CN107895736B (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711354187.5A CN107895736B (zh) 2017-12-15 2017-12-15 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法
EP18792002.0A EP3616241A4 (en) 2017-04-27 2018-04-20 ARRAY SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING AN ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY BOARD
PCT/CN2018/083936 WO2018196694A1 (en) 2017-04-27 2018-04-20 Array substrate, method of fabricating array substrate, display panel, and method of fabricating display panel
US16/316,111 US11322560B2 (en) 2017-04-27 2018-04-20 Display panel with channels in the pixel defining layer
US17/721,023 US11744118B2 (en) 2017-04-27 2022-04-14 Array substrate, method of fabricating array substrate, display panel, and method of fabricating display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711354187.5A CN107895736B (zh) 2017-12-15 2017-12-15 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107895736A CN107895736A (zh) 2018-04-10
CN107895736B true CN107895736B (zh) 2019-10-22

Family

ID=61808033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711354187.5A Active CN107895736B (zh) 2017-04-27 2017-12-15 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107895736B (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3616241A4 (en) 2017-04-27 2021-01-20 BOE Technology Group Co., Ltd. ARRAY SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING AN ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY BOARD
CN109273499B (zh) * 2018-09-25 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置
CN109860438B (zh) * 2019-02-15 2020-12-15 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN110323265B (zh) * 2019-07-23 2020-12-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极管显示面板及其制造方法
US11114515B2 (en) 2019-07-23 2021-09-07 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Organic light-emitting diode display panel and manufacturing method thereof
US11081537B2 (en) 2019-08-15 2021-08-03 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Substrate and manufacturing method thereof
CN110568640B (zh) * 2019-08-15 2021-03-23 Tcl华星光电技术有限公司 基板及其制作方法
CN111554711A (zh) * 2020-05-11 2020-08-18 京东方科技集团股份有限公司 透明显示面板及其制备方法、显示装置
CN117529148A (zh) * 2021-11-30 2024-02-06 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和显示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105206643A (zh) * 2015-08-21 2015-12-30 Tcl集团股份有限公司 一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置
CN207800610U (zh) * 2017-12-15 2018-08-31 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及显示面板

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104659072B (zh) * 2015-03-16 2017-07-28 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板和阵列基板制作方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105206643A (zh) * 2015-08-21 2015-12-30 Tcl集团股份有限公司 一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置
CN207800610U (zh) * 2017-12-15 2018-08-31 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
CN107895736A (zh) 2018-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107895736B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及其制作方法
CN207800610U (zh) 一种阵列基板及显示面板
US10461137B2 (en) Organic electroluminescent display panel and method for manufacturing the same
CN108807457B (zh) 阵列基板以及制作方法、oled器件及其制作方法、显示装置
CN106449710B (zh) 像素结构以及包含该像素结构的oled显示面板
CN104282710B (zh) 像素结构及其金属掩模
US7755266B2 (en) Pixel structure for electroluminescent panel
CN109585490B (zh) 像素界定层、喷墨打印方法、显示基板及其制造方法、显示装置
US8619220B2 (en) Liquid crystal display panel and color filter
CN107086239A (zh) 像素结构及其制备方法和显示装置
CN111640772B (zh) 一种显示面板、其制作方法及显示装置
WO2021238431A1 (zh) 阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置
CN107680990A (zh) 像素排列结构、像素结构、制作方法及显示方法
CN104576696A (zh) 一种像素结构及采用该像素结构的有机发光显示器
CN107331681A (zh) 一种显示基板及其制作方法、显示器件
CN105679796A (zh) 显示面板及制备方法
WO2019227926A1 (zh) 像素排列结构、显示面板及掩膜版组件
CN109148533A (zh) 一种有机发光二极管显示器
WO2024022056A9 (zh) 显示面板及制作方法、显示装置
US11744118B2 (en) Array substrate, method of fabricating array substrate, display panel, and method of fabricating display panel
CN104600096B (zh) 一种oled像素阵列结构及一种掩模板
CN111146255B (zh) 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置
JPH10300918A (ja) カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ
WO2016197503A1 (zh) Oled显示面板及其制作方法、oled显示装置
CN117202692B (zh) 有机电致发光器件及其制作方法、显示面板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant