CN111584605B - 阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置,通过使像素限定层包括相互接触的第一子限定层和第二子限定层,并且使第一子限定层在垂直于衬底基板所在平面方向上的第一高度大于第二子限定层在垂直于衬底基板所在平面方向上的第二高度。这样在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以通过第一子限定层将不同颜色发光层间隔开。由于第二子限定层的第二高度较低,可以使相同颜色发光层的材料在相邻像素开口之间进行流动,相当于增大了发光材料的扩散范围,从而可以提高发光层的成膜均匀性,进而提高显示装置的显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)具有自发光、反应快、视角广、发光效率高、色彩艳、轻薄等优点,因此,利用有机发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。
发明内容
本发明实施例提供的阵列基板,包括:
衬底基板;
第一电极层,位于所述衬底基板上,且所述第一电极层包括相互间隔设置的多个第一电极;
像素限定层,位于所述第一电极层背离所述衬底基板一侧,且所述像素限定层包括:相互接触的第一子限定层和第二子限定层;其中,所述第一子限定层和所述第二子限定层限定出多个像素开口,一个所述像素开口在所述衬底基板的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底基板的正投影内;
发光功能层,位于所述像素限定层背离所述衬底基板一侧,且所述发光功能层包括多种颜色不同的发光层;其中,所述发光层位于所述像素开口内;且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同,沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同;所述第一方向与所述第二方向不同;
所述第一子限定层位于设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,且所述第一子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第一高度;
所述第二子限定层位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,所述第二子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第二高度;
所述第一高度大于所述第二高度。
可选地,在本发明实施例中,所述像素开口具有长边和短边,所述第二子限定层在所述衬底基板的正投影靠近设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在所述衬底基板的正投影。
可选地,在本发明实施例中,所述第一子限定层在所述衬底基板的正投影大致沿所述第一方向弯折延伸,且所述第一子限定层为连续的折线结构;
在所述第二方向上,相邻两个所述第一子限定层之间设置有多个所述第二子限定层,且位于相邻两个所述第一子限定层之间的多个所述第二子限定层间隔排列。
可选地,在本发明实施例中,所述第一子限定层在所述衬底基板的正投影大致沿所述第一方向延伸,且所述第一子限定层为连续的直线结构;
在所述第二方向上,相邻两个所述第一子限定层之间设置有多个所述第二子限定层,且位于相邻两个所述第一子限定层之间的多个所述第二子限定层间隔排列。
可选地,在本发明实施例中,所述阵列基板包括多个重复单元,所述多个重复单元沿第二方向排列为多个重复单元组,所述多个重复单元组沿所述第一方向排列;
各所述重复单元包括沿所述第二方向依次排列的多个像素开口;其中,同一所述重复单元组的发光层的颜色不同。
可选地,在本发明实施例中,所述像素开口的长边的延伸方向与所述第二方向之间的夹角大于0度小于90度。
可选地,在本发明实施例中,同一所述重复单元中,各所述像素开口具有相对的第一短边与第二短边;针对沿所述第一方向依次排列的两个所述像素开口,所述两个所述像素开口中的第一个像素开口的第一短边、第二个像素开口的第二短边以及所述两个像素开口之间设置的所述第二子限定层在所述第一方向上具有交叠区域。
可选地,在本发明实施例中,所述第一个像素开口的第一短边位于所述两个像素开口之间设置的所述第二子限定层的一端,所述第二个像素开口的第二短边位于所述两个像素开口之间设置的所述第二子限定层的另一端。
可选地,在本发明实施例中,所述像素开口的长边的延伸方向与所述第一方向大致相同;
所述第二子限定层在所述衬底基板的正投影位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在所述衬底基板的正投影之间。
可选地,在本发明实施例中,所述第二子限定层在所述第二方向上的宽度与相邻的所述像素开口的短边在所述衬底基板的正投影的宽度大致相同。
可选地,在本发明实施例中,所述发光功能层包括第一颜色发光层、第二颜色发光层以及第三颜色发光层;
所述多个像素开口包括第一像素开口、第二像素开口以及第三像素开口;其中,所述第一颜色发光层位于所述第一像素开口,所述第二颜色发光层位于所述第二像素开口,所述第三颜色发光层位于所述第三像素开口;
各所述重复单元包括沿所述第二方向依次排列的第一像素开口、第二像素开口以及第三像素开口。
本发明实施例还提供了阵列基板的制备方法,包括:
在衬底基板上形成第一电极层中的相互间隔设置的多个第一电极的图案;
在形成有所述第一电极层的衬底基板上形成所述第二子限定层;其中,所述第二子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第二高度;
在形成有所述第二子限定层的衬底基板上形成所述第一子限定层;其中,所述第一子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第一高度,且所述第一高度大于所述第二高度;所述第一子限定层和所述第二子限定层相互接触,以限定出多个像素开口,以及一个所述像素开口在所述衬底基板的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底基板的正投影内;
采用喷墨打印工艺在各所述像素开口内形成发光功能层;其中,所述发光功能层包括多种颜色不同的发光层;其中,所述发光层位于所述像素开口内,且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同,沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同;所述第一方向与所述第二方向不同;
其中,所述第二子限定层位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,所述第一子限定层位于设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间。
本发明实施例还提供了显示面板,包括上述阵列基板。
本发明实施例还提供了显示装置,包括上述显示面板。
附图说明
图1为本发明实施例中的一些阵列基板的俯视结构示意图;
图2a为图1所示的阵列基板在AA’方向上的剖视结构示意图;
图2b为本发明实施例中的又一些阵列基板的俯视结构示意图;
图3为本发明实施例中的另一些阵列基板的俯视结构示意图;
图4为图3所示的阵列基板在AA’方向上的剖视结构示意图;
图5为本发明实施例中的一些阵列基板的制备方法的流程图;
图6a为本发明实施例中的阵列基板在制备时的一些剖视结构示意图;
图6b为本发明实施例中的阵列基板在制备时的另一些剖视结构示意图;
图6c为本发明实施例中的阵列基板在制备时的又一些剖视结构示意图;
图6d为本发明实施例中的阵列基板在制备时的又一些剖视结构示意图;
图6e为本发明实施例中的阵列基板在制备时的又一些剖视结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例的附图,对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本发明的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
除非另外定义,本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。
需要注意的是,附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例,目的只是示意说明本发明内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
在制备有机发光二极管时,其发光层形成方法有:一、真空蒸镀方法,适用于有机小分子,其特点是发光层的形成不需要溶剂,薄膜厚度均一,但是设备投资大、材料利用率低、不适用于大尺寸产品的生产。二、采用有机发光材料的溶液制成发光层,包括旋涂、喷墨打印等,适用于聚合物材料和可溶性小分子,其特点是设备成本低,在大规模、大尺寸生产上优势突出。其中,采用喷墨打印的方式形成发光层时,需要预先在衬底基板100上制作像素界定层,以限定墨滴精确的喷入指定的像素的发光区域内。通常,上述像素界定层具有多个开口,在喷墨打印的过程中,将溶液精准的喷墨打印到像素限定层的开口中以形成发光层。然而,喷墨打印的墨水在该开口中的扩散可能不均匀,这将使得在开口的不同位置形成的发光层的厚度不均匀。尤其在开口的边长不均等时,例如,开口具有长边和短边,由于短边的宽度相比长边的宽短较小,因此导致发光层在短边处的扩散相比在长边处的扩散的均匀性降低。由此导致显示装置在发光时其像素亮度不均匀,严重影响显示装置的显示效果。
有鉴于此,本发明实施例提供了一种阵列基板,如图1至图2b所示,包括:
衬底基板100;
第一电极110层,位于衬底基板100上,且第一电极110层包括相互间隔设置的多个第一电极110;
像素限定层,位于第一电极110层背离衬底基板100一侧,且像素限定层包括:相互接触的第一子限定层120和第二子限定层130;其中,第一子限定层120和第二子限定层130限定出多个像素开口,一个像素开口在衬底基板100的正投影位于一个第一电极110在衬底基板100的正投影内;
发光功能层140,位于像素限定层背离衬底基板100一侧,且发光功能层140包括多种颜色不同的发光层;其中,发光层位于像素开口内;且沿第一方向F1相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同,沿第二方向F2相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同;第一方向F1与第二方向F2不同;
其中,第一子限定层120位于设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,且第一子限定层120在垂直于衬底基板100所在平面方向上具有第一高度H1;
第二子限定层130位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,第二子限定层130在垂直于衬底基板100所在平面方向上具有第二高度H2;
第一高度H1大于第二高度H2。
本发明实施例提供的上述阵列基板,通过使像素限定层包括相互接触的第一子限定层和第二子限定层,并且使第一子限定层在垂直于衬底基板所在平面方向上的第一高度大于第二子限定层在垂直于衬底基板所在平面方向上的第二高度。这样在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以通过第一子限定层将不同颜色发光层间隔开。由于第二子限定层的第二高度较低,可以使相同颜色发光层的材料在相邻像素开口之间进行流动,相当于增大了发光材料的扩散范围,从而可以提高发光层的成膜均匀性,进而提高显示装置的显示效果。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,像素开口具有长边和短边。示例性地,像素开口的形状为长方形,则该长方形的长边可以作为像素开口的长边,该长方形的短边可以作为像素开口的短边。当然,在实际应用中,像素开口还可以具有其他形状,这可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图2a所示,在发光功能层140背离衬底基板100一侧还设置有第二电极层150,这样可以使第一电极110、发光层以及第二电极层形成层叠结构,进而形成电致发光二极管。示例性地,可以使发光层的材料为有机电致发光材料,这样可以使电致发光二极管为有机发光二极管。也可以使发光层的材料为量子点电致发光材料,这样可以使电致发光二极管为量子点发光二极管。需要说明的是,像素限定层的像素开口所在的区域为电致发光二极管所在的子像素的发光区域。
在具体实施时,在本发明实施例中,在第一电极110层与衬底基板100还设置有晶体管阵列层。晶体管阵列层可以包括多个像素电路,一个第一电极110与一个像素电路电连接,以通过像素电路向第一电极110输入驱动电流,并对第二电极层施加相应的电压,从而驱动发光层发光。示例性地,像素电路可以包括存储电容、以及与存储电容电连接的晶体管。例如,像素电路可以包括2T1C像素电路、3T1C像素电路、7T1C像素电路中的至少一种。在实际应用中,像素电路的结构可以与相关技术中的基本相同,在此不作赘述。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,第二子限定层130在衬底基板100的正投影靠近设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在衬底基板100的正投影。这样可以使设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边的范围,通过第二子限定层130进行扩大,从而可以提高像素开口的短边使发光材料扩散的范围。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,第一子限定层120为连续的折线结构,且第一子限定层120在衬底基板100的正投影大致沿第一方向F1弯折延伸。这样使得每一个第一子限定层120设置为折线形的一体结构。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,在第二方向F2上,相邻两个第一子限定层120之间设置有多个第二子限定层130,且位于相邻两个第一子限定层120之间的多个第二子限定层130间隔排列。这样可以使第二子限定层130设置为非连续性的结构。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,阵列基板可以包括多个重复单元PX,多个重复单元PX沿第二方向F2排列为多个重复单元PX组,多个重复单元PX组沿第一方向F1排列;其中,各重复单元PX包括沿第二方向F2依次排列的多个像素开口;其中,同一重复单元PX种的发光层的颜色不同。也就是说,重复单元PX可以包括多个子像素,一个子像素包括一个像素开口。这样可以通过重复单元PX中不同子像素的发光层发光以进行混色,从而实现显示功能。
示例性地,第一方向可以与第二方向垂直。例如,第一方向可以为像素行方向,第二方向可以为像素列方向。或者,第一方向可以为像素列方向,第二方向可以为像素行方向。这些可以根据实际应用的需求进行设计确定,在此不作限定。
示例性地,如图1至图2b所示,发光功能层140可以包括第一颜色发光层141、第二颜色发光层142以及第三颜色发光层143。在一些示例中,第一颜色、第二颜色以及第三颜色可以从红色、绿色以及蓝色中进行选取。例如,第一颜色为红色、第二颜色为绿色、第三颜色为蓝色。当然,本公开实施例包括但不限于此。上述的第一颜色、第二颜色和第三颜色还可为其他颜色。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1至图2b所示,多个像素开口包括第一像素开口KK1、第二像素开口KK2以及第三像素开口KK3;其中,第一颜色发光层141位于第一像素开口KK1,第二颜色发光层142位于第二像素开口KK2,第三颜色发光层143位于第三像素开口KK3。示例性地,各重复单元PX包括沿第二方向F2依次排列的第一像素开口KK1、第二像素开口KK2以及第三像素开口KK3。也就是说,重复单元PX包括沿第二方向F2依次排列的第一颜色子像素、第二颜色子像素以及第三颜色子像素。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,像素开口的长边的延伸方向F3与第二方向F2之间的夹角β可以大于0度小于90度。示例性地,像素开口的长边的延伸方向F3与第二方向F2之间的夹角β为锐角。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,同一重复单元PX中,各像素开口具有相对的第一短边与第二短边;其中,第一短边和第二短边分别靠近不同颜色发光层。例如,第一像素开口KK1具有相对的第一短边DS1-1与第二短边DS2-1,第一短边DS1-1靠近第三颜色发光层143,第二短边DS2-1靠近第二颜色发光层142。第二像素开口KK2具有相对的第一短边DS1-2与第二短边DS2-2,第一短边DS1-2靠近第一颜色发光层141,第二短边DS2-2靠近第三颜色发光层143。第三像素开口KK3具有相对的第一短边DS1-3与第二短边DS2-3,第一短边DS1-3靠近第二颜色发光层142,第二短边DS2-3靠近第一颜色发光层141。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,针对沿第一方向F1依次排列的两个像素开口,两个像素开口中的第一个像素开口的第一短边、第二个像素开口的第二短边以及两个像素开口之间设置的第二子限定层130在第一方向F1上具有交叠区域。这样可以使沿第一方向F1相邻的像素开口的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,相当于将沿第一方向F1相邻的像素开口的短边进行扩充。从而在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高像素开口短边处的流动性,以及使发光材料在像素开口的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图1所示,第一个像素开口的第一短边位于两个像素开口之间设置的第二子限定层130的一端,第二个像素开口的第二短边位于两个像素开口之间设置的第二子限定层130的另一端。这样可以使沿第一方向F1相邻的像素开口的短边尽可能被扩充。从而在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以进一步提高像素开口短边处的流动性,进一步使发光材料在像素开口的短边处可以扩散均匀,进而进一步提高形成的发光层的均匀性。
示例性地,如图1与图2b所示,针对沿第一方向F1相邻的两个第一像素开口KK1,第一个第一像素开口KK1的第一短边DS1-1、第二个第一像素开口KK1的第二短边DS2-1、以及这两个第一像素开口KK1之间设置的第二子限定层130,在第一方向F1上具有交叠区域。其中,第一个第一像素开口KK1的第一短边DS1-1位于该第二子限定层130的一端,第二个第一像素开口KK1的第二短边DS2-1位于该第二子限定层130的另一端。并且,第一子限定层120与第一像素开口KK1的第一短边DS1-1和第一短边DS2-1毗邻设置。这样可以使沿第一方向F1相邻的第一像素开口KK1的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高第一像素开口KK1的短边处的流动性,从而可以使发光材料在第一像素开口KK1的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
示例性地,如图1与图2b所示,针对沿第一方向F1相邻的两个第二像素开口KK2,第一个第二像素开口KK2的第一短边DS1-2、第二个第二像素开口KK2的第二短边DS2-2、以及这两个第二像素开口KK2之间设置的第二子限定层130,在第一方向F1上具有交叠区域。其中,第一个第二像素开口KK2的第一短边DS1-2位于该第二子限定层130的一端,第二个第二像素开口KK2的第二短边DS2-2位于该第二子限定层130的另一端。并且,第一子限定层120与第二像素开口KK2的第一短边DS1-2和第一短边DS2-2毗邻设置。这样可以使沿第一方向F1相邻的第二像素开口KK2的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高第二像素开口KK2的短边处的流动性,从而可以使发光材料在第二像素开口KK2的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
示例性地,如图1与图2b所示,针对沿第一方向F1相邻的两个第三像素开口KK3,第一个第三像素开口KK3的第一短边DS1-3、第二个第三像素开口KK3的第二短边DS2-3、以及这两个第三像素开口KK3之间设置的第二子限定层130,在第一方向F1上具有交叠区域。其中,第一个第三像素开口KK3的第一短边DS1-3位于该第二子限定层130的一端,第二个第三像素开口KK3的第二短边DS2-3位于该第二子限定层130的另一端。并且,第一子限定层120与第三像素开口KK3的第一短边DS1-3和第一短边DS2-3毗邻设置。这样可以使沿第一方向F1相邻的第三像素开口KK3的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高第三像素开口KK3的短边处的流动性,从而可以使发光材料在第三像素开口KK3的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
需要说明的是,在本发明实施例中,第二子限定层130在衬底基板100的正投影靠近设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在衬底基板100的正投影,指的可以是:图1所示的第二子限定层130设置于沿第一方向F1相邻的两个像素开口的长边之间,并且该第二子限定层130同时靠近相邻的这两个像素开口的一个短边。例如,以第一像素开口KK1为例,该第二子限定层130同时靠近第一个第一像素开口KK1的第一短边DS1-1和第二个第一像素开口KK1的第二短边DS1-2。
本发明实施例提供了又一些显示面板,其结构示意图如图3所示,其针对上述实施例的实施方式进行了变形。下面仅说明本实施例与上述实施例的区别之处,其相同之处在此不作赘述。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图3与图4所示,像素开口的长边的延伸方向与第一方向F1大致相同;其中,第二子限定层130在衬底基板100的正投影位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在衬底基板100的正投影之间。进一步地,第二子限定层130在第二方向F2上的宽度与相邻的像素开口的短边在衬底基板100的正投影的宽度大致相同。这样可以使沿第一方向F1相邻的第一像素开口KK1的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,相当于将短边取消,进一步使发光材料可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图3所示,第一子限定层120为连续的直线结构,且第一子限定层120在衬底基板100的正投影大致沿第一方向F1延伸。这样使得每一个第一子限定层120设置为直线形的一体结构。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图3所示,在第二方向F2上,相邻两个第一子限定层120之间设置有多个第二子限定层130,且位于相邻两个第一子限定层120之间的多个第二子限定层130间隔排列。这样可以使第二子限定层130设置为非连续性的结构。
示例性地,如图3与图4所示,一列中的发光层的颜色相同。针对同一列中相邻的两个第一像素开口KK1,第一个第一像素开口KK1的第一短边DS1-1与第二个第一像素开口KK1的第一短边DS2-1之间设置有第二子限定层130。这样可以使沿第一方向F1相邻的第一像素开口KK1的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,相当于将短边取消。从而在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高第一像素开口KK1的短边处的流动性,使发光材料在第一像素开口KK1的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
示例性地,如图3与图4所示,针对同一列中相邻的两个第二像素开口KK2,第一个第二像素开口KK2的第一短边DS1-2与第二个第二像素开口KK2的第一短边DS2-2之间设置有第二子限定层130。这样可以使沿第一方向F1相邻的第二像素开口KK2的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,相当于将短边取消。从而在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高第二像素开口KK2的短边处的流动性,使发光材料在第二像素开口KK2的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
示例性地,如图3与图4所示,针对同一列中相邻的两个第三像素开口KK3,第一个第三像素开口KK3的第一短边DS1-3与第二个第三像素开口KK3的第一短边DS2-3之间设置有第二子限定层130。这样可以使沿第一方向F1相邻的第三像素开口KK3的短边可以通过高度较低的第二子限定层130进行连通,相当于将短边取消。从而在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以提高第三像素开口KK3的短边处的流动性,使发光材料在第三像素开口KK3的短边处可以扩散均匀,进而提高形成的发光层的均匀性。
需要说明的是,在本发明实施例中,第二子限定层130在衬底基板100的正投影靠近设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在衬底基板100的正投影,指的可以是:图3所示的第二子限定层130设置于沿第一方向F1相邻的两个像素开口的短边之间。例如,以第一像素开口KK1为例,该第二子限定层130同时紧邻第一个第一像素开口KK1的第一短边DS1-1和第二个第一像素开口KK1的第二短边DS1-2。
需要说明的是,在实际工艺中,由于工艺条件的限制或其他因素,上述各特征中的相同并不能完全相同,可能会有一些偏差,因此上述各特征之间的相同关系只要大致满足上述条件即可,均属于本发明的保护范围。例如,上述相同可以是在误差允许范围之内所允许的相同。
本发明实施例还提供了上述阵列基板的制备方法,如图5所示,可以包括如下步骤:
S510、在衬底基板上形成第一电极层中的相互间隔设置的多个第一电极的图案;
S520、在形成有第一电极层的衬底基板上形成第二子限定层;其中,第二子限定层130在垂直于衬底基板100所在平面方向上具有第二高度H2;
S530、在形成有第二子限定层的衬底基板上形成第一子限定层;其中,第一子限定层120在垂直于衬底基板100所在平面方向上具有第一高度H1,且第一高度H1大于第二高度H2;第一子限定层120和第二子限定层130相互接触,以限定出多个像素开口,以及一个像素开口在衬底基板100的正投影位于一个第一电极110在衬底基板100的正投影内;
S540、采用喷墨打印工艺在各像素开口内形成发光功能层;其中,发光功能层140包括多种颜色不同的发光层;其中,发光层位于像素开口内,且沿第一方向F1相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同,沿第二方向F2相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同;第一方向F1与第二方向F2不同;并且,第二子限定层130位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,第一子限定层120位于设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间。
S550、在发光功能层背离衬底基板一侧形成第二电极层。
在具体实施时,在本发明实施例中,在步骤S510之前,还包括:在衬底基板100上形成晶体管阵列层。
下面采用具体实施例,结合图6a至图6e所示,对本发明实施例提供的阵列基板的制备方法进行解释说明。
本发明实施例提供的阵列基板的制备方法,可以包括如下步骤:
(1)在衬底基板100上形成晶体管阵列层。例如,晶体管阵列层的制作工序需要构图的膜层依次为:有源层→栅金属层→层间绝缘层→源漏金属层→平坦层。
(2)采用一次构图工艺,在平坦化层背离衬底基板100一侧形成相互间隔设置的多个第一电极110的图案;如图6a所示。
(3)采用一次构图工艺,在形成有第一电极110层的衬底基板100上形成第二子限定层130;如图6b所示。
(4)采用一次构图工艺,在形成有第二子限定层130的衬底基板100上形成第一子限定层120;如图6c所示。其中,第二子限定层130在垂直于衬底基板100所在平面方向上具有第二高度H2,第一子限定层120在垂直于衬底基板100所在平面方向上具有第一高度H1,第一高度H1大于第二高度H2。并且,第一子限定层120和第二子限定层130相互接触,以限定出多个像素开口。
(5)采用喷墨打印工艺,将发光材料喷涂到各个像素开口内,从而形成不同颜色的发光层,进而形成发光功能层140;如图6d所示。
(6)在发光功能层140背离衬底基板100一侧形成第二电极层;如图6e所示。第二电极层可以为覆盖衬底基板100的整面结构。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示面板。该显示面板解决问题的原理与前述阵列基板相似,因此该显示面板的实施可以参见前述阵列基板的实施,重复之处在此不再赘述。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的上述显示面板。该显示装置解决问题的原理与前述显示面板相似,因此该显示装置的实施可以参见前述显示面板的实施,重复之处在此不再赘述。
在具体实施时,在本发明实施例中,显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的,在此不做赘述,也不应作为对本发明的限制。
本发明实施例提供的上述阵列基板、制备方法、显示面板及显示装置,通过使像素限定层包括相互接触的第一子限定层和第二子限定层,并且使第一子限定层在垂直于衬底基板所在平面方向上的第一高度大于第二子限定层在垂直于衬底基板所在平面方向上的第二高度。这样在采用喷墨打印工艺在像素开口中形成发光层时,可以通过第一子限定层将不同颜色发光层间隔开。由于第二子限定层的第二高度较低,可以使相同颜色发光层的材料在相邻像素开口之间进行流动,相当于增大了发光材料的扩散范围,从而可以提高发光层的成膜均匀性,进而提高显示装置的显示效果。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (12)
1.一种阵列基板,其中,包括:
衬底基板;
第一电极层,位于所述衬底基板上,且所述第一电极层包括相互间隔设置的多个第一电极;
像素限定层,位于所述第一电极层背离所述衬底基板一侧,且所述像素限定层包括:相互接触的第一子限定层和第二子限定层;其中,所述第一子限定层和所述第二子限定层限定出多个像素开口,一个所述像素开口在所述衬底基板的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底基板的正投影内;
发光功能层,位于所述像素限定层背离所述衬底基板一侧,且所述发光功能层包括多种颜色不同的发光层;其中,所述发光层位于所述像素开口内;且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同,沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同;所述第一方向与所述第二方向不同;
所述第一子限定层位于设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,且所述第一子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第一高度;
所述第二子限定层位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,所述第二子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第二高度;
所述第一高度大于所述第二高度;
其中,所述像素开口具有长边和短边,所述像素开口的长边的延伸方向与所述第二方向之间的夹角大于0度小于90度;
其中,沿所述第一方向相邻的相邻像素开口在所述像素开口的长边的延伸方向至少存在部分区域重叠,且所述第二子限定层位于重叠区域,使得喷墨打印时相同颜色发光层的材料通过所述第二子限定层在相邻像素开口之间进行流动。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其中,所述第二子限定层在所述衬底基板的正投影靠近设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在所述衬底基板的正投影。
3.如权利要求2所述的阵列基板,其中,所述第一子限定层为连续的折线结构,且所述第一子限定层在所述衬底基板的正投影大致沿所述第一方向弯折延伸;
在所述第二方向上,相邻两个所述第一子限定层之间设置有多个所述第二子限定层,且位于相邻两个所述第一子限定层之间的多个所述第二子限定层间隔排列。
4.如权利要求2所述的阵列基板,其中,所述第一子限定层为连续的直线结构,且所述第一子限定层在所述衬底基板的正投影大致沿所述第一方向延伸;
在所述第二方向上,相邻两个所述第一子限定层之间设置有多个所述第二子限定层,且位于相邻两个所述第一子限定层之间的多个所述第二子限定层间隔排列。
5.如权利要求2-4任一项所述的阵列基板,其中,所述阵列基板包括多个重复单元,所述多个重复单元沿第二方向排列为多个重复单元组,所述多个重复单元组沿所述第一方向排列;
各所述重复单元包括沿所述第二方向依次排列的多个像素开口;其中,同一所述重复单元组的发光层的颜色不同。
6.如权利要求1所述的阵列基板,其中,所述第一个像素开口的第一短边位于所述两个像素开口之间设置的所述第二子限定层的一端,所述第二个像素开口的第二短边位于所述两个像素开口之间设置的所述第二子限定层的另一端。
7.如权利要求5所述的阵列基板,其中,所述像素开口的长边的延伸方向与所述第一方向大致相同;
所述第二子限定层在所述衬底基板的正投影位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口的短边在所述衬底基板的正投影之间。
8.如权利要求7所述的阵列基板,其中,所述第二子限定层在所述第二方向上的宽度与相邻的所述像素开口的短边在所述衬底基板的正投影的宽度大致相同。
9.如权利要求5所述的阵列基板,其中,所述发光功能层包括第一颜色发光层、第二颜色发光层以及第三颜色发光层;
所述多个像素开口包括第一像素开口、第二像素开口以及第三像素开口;其中,所述第一颜色发光层位于所述第一像素开口,所述第二颜色发光层位于所述第二像素开口,所述第三颜色发光层位于所述第三像素开口;
各所述重复单元包括沿所述第二方向依次排列的第一像素开口、第二像素开口以及第三像素开口。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的阵列基板的制备方法,其中,包括:
在衬底基板上形成第一电极层中的相互间隔设置的多个第一电极的图案;
在形成有所述第一电极层的衬底基板上形成所述第二子限定层;其中,所述第二子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第二高度;
在形成有所述第二子限定层的衬底基板上形成所述第一子限定层;其中,所述第一子限定层在垂直于所述衬底基板所在平面方向上具有第一高度,且所述第一高度大于所述第二高度;所述第一子限定层和所述第二子限定层相互接触,以限定出多个像素开口,以及一个所述像素开口在所述衬底基板的正投影位于一个所述第一电极在所述衬底基板的正投影内;
采用喷墨打印工艺在各所述像素开口内形成发光功能层;其中,所述发光功能层包括多种颜色不同的发光层;其中,所述发光层位于所述像素开口内,且沿第一方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色相同,沿第二方向相邻的至少两个像素开口内的发光层的颜色不同;所述第一方向与所述第二方向不同;
其中,所述第二子限定层位于设置有相同颜色发光层的相邻两个像素开口之间,所述第一子限定层位于设置有不同颜色发光层的相邻两个像素开口之间。
11.一种显示面板,其中,包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。
12.一种显示装置,其中,包括如权利要求11所述的显示面板。
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