CN111863908A

CN111863908A - 显示基板及其制作方法、显示装置

Info

Publication number: CN111863908A
Application number: CN202010736427.3A
Authority: CN
Inventors: 张月
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Priority date: 2020-07-28
Filing date: 2020-07-28
Publication date: 2020-10-30
Anticipated expiration: 2040-07-28
Also published as: CN111863908B

Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。显示基板，包括：衬底基板；薄膜晶体管阵列层；平坦层；位于平坦层远离衬底基板一侧的第一电极以及像素界定层的图形，像素界定层的图形限定出多个亚像素区域；像素界定层的图形包括沿第一方向延伸的第一像素界定层和沿第二方向延伸的第二像素界定层，第二像素界定层用以间隔开不同颜色的亚像素，第一方向与第二方向垂直；第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度小于第一电极远离衬底基板的第二表面的表面高度，第一电极远离衬底基板的第二表面的表面高度小于第二像素界定层远离衬底基板的第三表面的表面高度。本发明的技术方案能够提高显示装置的发光均匀性。

Description

显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)相对于液晶显示器(LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩鲜艳、重量轻、厚度薄等优点，被认为是下一代显示技术。OLED一般包括在衬底上依次形成的阳极层、空穴传输层、空穴注入层、像素界定层、电子注入层、电子传输层、阴极层等结构。

OLED的成膜方式主要包括蒸镀制程或溶液制程。溶液制程OLED成膜方式主要有喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂、丝网印刷等，其中喷墨打印技术由于其材料利用率较高、可以实现大尺寸化，被认为是大尺寸OLED实现量产的重要方式。

喷墨打印工艺需要预先在显示基板的电极上制作像素界定层(Pixel DefiningLayer，简称：PDL)，以限定墨滴精确的流入指定的亚像素区域。相关技术中，在像素界定层限定出的亚像素区域内打印墨水时，如果墨水无法完全包覆住亚像素区域的颗粒物，颗粒物会对墨水产生拉力，使大量墨水吸附在颗粒物附近，远处墨水减少，影响发光层成膜的均匀性，进而引起像素不良。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示装置的发光均匀性。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种显示基板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；

位于所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板一侧的平坦层；

位于所述平坦层远离所述衬底基板一侧的第一电极以及像素界定层的图形，所述像素界定层的图形限定出多个亚像素区域；

所述像素界定层的图形包括沿第一方向延伸的第一像素界定层和沿第二方向延伸的第二像素界定层，所述第二像素界定层用以间隔开不同颜色的亚像素，所述第一方向与所述第二方向垂直；

其中，所述第一像素界定层远离所述衬底基板的第一表面的表面高度小于所述第一电极远离所述衬底基板的第二表面的表面高度，所述第一电极远离所述衬底基板的第二表面的表面高度小于所述第二像素界定层远离所述衬底基板的第三表面的表面高度。

一些实施例中，所述平坦层远离所述衬底基板的一侧表面形成有多个阵列排布的凸起，所述第一电极位于所述凸起上。

一些实施例中，所述第一表面的表面高度比所述第二表面的表面高度小0.1-0.6um；所述第二表面的表面高度比所述第三表面的表面高度小1-1.5um。

一些实施例中，所述第一像素界定层采用亲液材料制作。

一些实施例中，所述第二像素界定层采用疏液材料制作。

本发明的实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本发明的实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层；

在所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板的一侧形成平坦层；

在所述平坦层远离所述衬底基板的一侧形成第一电极以及像素界定层的图形，所述像素界定层的图形限定出多个亚像素区域；

一些实施例中，形成所述平坦层包括：

形成表面具有多个阵列排布的凸起的所述平坦层。

一些实施例中，利用亲液材料形成所述第一像素界定层。

一些实施例中，利用疏液材料形成所述第二像素界定层。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度小于第一电极远离衬底基板的第二表面的表面高度，第一电极远离衬底基板的第二表面的表面高度小于第二像素界定层远离衬底基板的第三表面的表面高度，这样在像素界定层的图形限定出的亚像素区域内喷墨打印墨水时，如果亚像素区域内存在颗粒物，由于第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度比较低，墨水会包覆颗粒物流动到第一像素界定层所在区域，进一步，由于第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度比较低，堆积的墨水量比较多，可以将颗粒物完全包覆住，减少颗粒物对墨水的拉力，墨水干燥后能够形成厚度均匀的发光层，从而提高显示装置的发光均匀性。

附图说明

图1为显示基板的平面示意图；

图2为出现像素不良的示意图；

图3为本发明实施例显示基板的平面示意图；

图4为本发明实施例显示基板的截面示意图。

附图标记

1 衬底基板

2 薄膜晶体管阵列层

3 平坦层

41、81 第一像素界定层

42、82 第二像素界定层

5 第一电极

6 发光层

7 颗粒物

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

喷墨打印工艺需要预先在显示基板的电极上制作像素界定层，以限定墨滴精确的流入指定的亚像素区。Line Bank型像素结构具有提高打印OLED器件的发光均匀性、减小高分辨率打印难度的优点，其结构如图1所示，第一像素界定层41和第二像素界定层42均制作在阳极层上，其中，第一像素界定层41为亲液材料，高度不高于1um；第二像素界定层42为疏液材料，高度为1.2-1.5um；通过将每一列同色N(N为大于1的整数)个亚像素连通，墨水干燥只在这一列像素最边缘位置有攀爬，中间亚像素获得均匀成膜，从而提高像素内发光均匀性。

然而由于Line Bank型像素结构的连通性使其易受颗粒物(Partical)的影响，如图2所示，在Line Bank型像素结构的显示基板上喷墨打印发光层墨水时，当亚像素区域内的墨水无法完全包覆住Partical时，Partical会对墨水产生拉力，从而使大量墨水吸附在附近，远处墨水减少，进而引起整列像素不良。

本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示装置的发光均匀性。

本发明的实施例提供一种显示基板，如图3和图4所示，其中，图4为图3在AA’方向上的截面示意图，本实施例的显示基板包括：

衬底基板1；

位于所述衬底基板1上的薄膜晶体管阵列层2；

位于所述薄膜晶体管阵列层2远离所述衬底基板一侧的平坦层3；

位于所述平坦层3远离所述衬底基板一侧的第一电极5以及像素界定层的图形，所述像素界定层的图形限定出多个亚像素区域；

所述像素界定层的图形包括沿第一方向延伸的第一像素界定层81和沿第二方向延伸的第二像素界定层82，所述第二像素界定层82用以间隔开不同颜色的亚像素，所述第一方向与所述第二方向垂直；

其中，所述第一像素界定层81远离所述衬底基板的第一表面的表面高度小于所述第一电极5远离所述衬底基板的第二表面的表面高度，所述第一电极5远离所述衬底基板的第二表面的表面高度小于所述第二像素界定层82远离所述衬底基板的第三表面的表面高度。

本实施例中，第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度小于第一电极远离衬底基板的第二表面的表面高度，第一电极远离衬底基板的第二表面的表面高度小于第二像素界定层远离衬底基板的第三表面的表面高度，这样在像素界定层的图形限定出的亚像素区域内喷墨打印墨水时，如果亚像素区域内存在颗粒物，由于第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度比较低，墨水会包覆颗粒物流动到第一像素界定层所在区域，进一步，由于第一像素界定层远离衬底基板的第一表面的表面高度比较低，堆积的墨水量比较多，可以将颗粒物完全包覆住，减少颗粒物对墨水的拉力，墨水干燥后能够形成厚度均匀的发光层，从而提高显示装置的发光均匀性。

其中，第一表面的表面高度为第一表面与衬底基板1靠近第一表面的表面之间的距离，第二表面的表面高度为第二表面与衬底基板1靠近第二表面的表面之间的距离，第三表面的表面高度为第三表面与衬底基板1靠近第三表面的表面之间的距离。

本实施例中，第一电极5可以为阳极也可以为阴极。

本实施例中，显示基板分为不发光区域(即像素界定层所在区域)和发光区域(即亚像素区域)，在发光区域打印墨水，在不发光区域形成第一像素界定层81和第二像素界定层82。其中，第二像素界定层82可以沿列方向延伸，间隔开不同颜色的亚像素，第一像素界定层81可以沿行方向延伸，间隔开同一颜色的不同亚像素。

一些实施例中，所述第一表面的表面高度比所述第二表面的表面高度小0.1-0.6um；所述第二表面的表面高度比所述第三表面的表面高度小1-1.5um。这样可以保证第一像素界定层81所在区域堆积的墨水量比较多，可以将颗粒物完全包覆住；另外，第二像素界定层82能够将不同颜色的亚像素完全间隔开。

本实施例可以将第一电极的厚度设计的比较大，从而使得第二表面的表面高度大于第一表面的表面高度，但这样会提升生产成本，因此，可以在平坦层3对应发光区域的位置制作多个阵列排布的凸起，第一电极位于所述凸起上，从而使得第一电极的第一表面的表面高度比较高。

本实施例中，可以先在平坦层对应发光区域的位置形成第一电极5，再在不发光区域形成第一像素界定层81，使第一像素界定层81的表面高度比较低，为了提高对墨水的吸附力，第一像素界定层81可以采用亲液材料制作；之后再形成第二像素界定层82，第二像素界定层82的高度可以为1.2-1.5um，为了降低墨水攀爬的情况，第二像素界定层82可以采用疏液材料制作。

在一列亚像素区域内喷墨打印同一种发光层墨水时，每一列同色N个亚像素连通，发光区的Partical会随墨水流通到第一像素界定层81所在位置，当粒径较大、在发光区墨水无法完全包覆住的Partical流通到非发光的第一像素界定层81所在位置时，由于第一像素界定层81所在位置较低，堆积的墨水量很多，因此可以将Partical包覆住，从而减小Partical对墨水的拉力，以此缓解Line Bank像素内的Partical引起的线不良，提高显示装置的发光均匀性，大大减小了量产难度。本实施例的技术方案实现简单，解决了常规LineBank结构中易因Partical而引发整列像素不良的问题，减小了量产难度。

该显示装置包括但不限于：射频单元、网络模块、音频输出单元、输入单元、传感器、显示单元、用户输入单元、接口单元、存储器、处理器、以及电源等部件。本领域技术人员可以理解，上述显示装置的结构并不构成对显示装置的限定，显示装置可以包括上述更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。在本发明实施例中，显示装置包括但不限于显示器、手机、平板电脑、电视机、可穿戴电子设备、导航显示设备等。

所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。

本发明的实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层；

一具体示例中，本实施例的制作方法包括以下步骤：

步骤1、提供一衬底基板，在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层；

其中，衬底基板可为玻璃基板或石英基板，还可以为柔性基板。薄膜晶体管阵列层包括多个薄膜晶体管以及栅线、数据线等走线。

步骤2、形成覆盖薄膜晶体管阵列层的平坦层；

其中，平坦层可以采用有机绝缘材料制作，对平坦层进行构图，形成多个对应亚像素区域的凸起。

步骤3、形成第一电极；

具体地，在完成步骤2的衬底基板上通过溅射或热蒸发的方法沉积厚度约为

的透明导电层，透明导电层可以是ITO、IZO或者其他的透明金属氧化物，在透明导电层上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于第一电极的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的透明导电层薄膜，剥离剩余的光刻胶，形成第一电极，第一电极位于凸起上。

步骤4、利用亲液材料在不发光区域制作第一像素界定层，第一像素界定层的表面高度低于第一电极的表面高度；

步骤5、利用疏液材料在不发光区域制作第二像素界定层，第二像素界定层的表面高度大于第一电极的表面高度，高度可以为1.2-1.5um；

步骤6、在第二像素界定层限定出的区域打印同一种颜色的墨水，每一列同色N个亚像素连通，发光区的Partical会随墨水流通到第一像素界定层所在位置，当粒径较大、在发光区墨水无法完全包覆住的Partical流通到非发光的第一像素界定层所在位置时，由于第一像素界定层所在位置较低，堆积的墨水量很多，因此可以将Partical包覆住，从而减小Partical对墨水的拉力，以此缓解Line Bank像素内的Partical引起的线不良；

步骤7、制作电子注入层、电子传输层等膜层；

步骤8、制作第二电极和封装结构。

经过上述步骤即可制作得到本实施例的显示基板，本实施例的技术方案实现简单，解决了常规Line Bank结构中易因Partical而引发整列像素不良的问题，减小了显示基板的量产难度。

在本发明各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本发明的保护范围之内。

需要说明，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层远离所述衬底基板的一侧表面形成有多个阵列排布的凸起，所述第一电极位于所述凸起上。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一表面的表面高度比所述第二表面的表面高度小0.1-0.6um；所述第二表面的表面高度比所述第三表面的表面高度小1-1.5um。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一像素界定层采用亲液材料制作。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二像素界定层采用疏液材料制作。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的显示基板。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层；

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述平坦层包括：

形成表面具有多个阵列排布的凸起的所述平坦层。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，利用亲液材料形成所述第一像素界定层。

10.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，利用疏液材料形成所述第二像素界定层。