CN111341804A - 显示器件及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示器件及其制备方法、显示装置。其中，显示器件包括：TFT阵列基板；发光结构，设于TFT阵列基板上，包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，像素堤岸的高度大于像素隔离柱的高度；像素堤岸于TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，像素隔离柱位于像素凹槽内并将像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；散射层，设于发光结构的出光侧，包括第一黑色隔离墙和被第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元，散射单元和像素单元的位置一一对应设置，且第一黑色隔离墙和像素隔离柱的位置对应设置。该显示器件能够提高出光效率和提升了高分辨率显示器的显示效果。

Description

显示器件及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，特别是涉及一种显示器件及其制备方法、显示装置。

背景技术

在AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极管)、QLED(Quantum dot light emitting diodes，量子点发光二极管)显示技术中，顶发射的器件结构由于驱动电路不妨碍出光，因此有利于实现较高的开口率，提升显示效果。在这种技术中，由于位于出光侧的电极经常具有反射可见光的特性，于是器件内部经常具有较强的光学微腔效应。在光学微腔效应下，正面出光得到加强，但是侧角度相应出光变弱。如图1所示为常见顶发射显示器的结构示意图，其中，11为基板，12为带有驱动TFT电路的驱动层，13为像素之间的像素堤岸(Bank)，14为顶发射发光像素，15为透明粘合层，16为封装基板；如图1所示，出光方向相对集中平行于基板法线的正向(即0度)，而当观察角度为45度角及以上则光强明显变弱。这对于手机屏幕等主要为个人使用，正面观看的显示设备问题不大，但在需要较广视角的大屏幕如电视等公共显示场合则较为不利。而如果不使用上述微腔效应，比如用透明电极让各个角度出光更接近均衡的Lambertian(兰伯特理想散射)分布，则因为实际显示器结构中发光器件之上还有其他微结构，依然会出现光强不均。很多斜侧向出光将被微结构阻挡吸收，损失出光效率。因此，如何在顶发射结构中，尽量利用器件出光，同时又避免强度随视角变化，就成为急需解决的挑战。

与此同时，高分辨率也是未来显示发展的重要方向。而为了实现高分辨率所需的更小的像素尺寸，往往需要探索如何突破设备和工艺的分辨率限制。比如说，在印刷显示技术中，目前常见的喷墨打印设备的墨滴尺寸不可能无限缩小。相应的，打印像素也就只能在一定的尺寸以上才能被准确打印。而目前的设备工艺极限对未来更高分辨率，比如4K×2K和8K×4K分辨率的要求，经常难以满足其需要。因此，一些已有的技术提出一类解决方案，即通过合理排列RGB子像素，让相同颜色的子像素相邻，从而可以用较大开口或者说较低分辨率的掩模实现其蒸镀，或者在印刷显示技术中用较低分辨率的打印工艺实现印刷这些子像素。相邻的红绿蓝(RGB)三种颜色的子像素组一个RGB像素单元，而子像素之间，相同颜色的子像素排布在一起组成较大的同色子像素区域，从而有利于蒸镀或者打印实现相应分辨率。

然而，在研究中，发明人发现该技术存在一类问题：采用特殊排列的彩色像素阵列中，RGB像素单元的单色子像素排列实际上并不均匀。例如，当需要显示一条绿色斜线时，实际显示的子像素因为排列的关系，往往难于均匀显示，即在高分辨率像素结构中，想要点亮位于直线上的同色子像素时，实际点亮的同色子像素并不处于一条直线上。

另一方面，散射层技术已经被广泛运用于显示器制造中。散射层是在某种透明主体材料形成的膜中，掺入金属微粒或者其他折射率明显异于主体材料的微粒，从而让光线通过时发生随机的散射。其常见功能包含：改善液晶白光背板的光均匀度、在某些显示器中改善出光的可视角分布、减少器件界面的全反射提高光输出，等等。但是在RGB像素的显示器中，应用散射层会遇到一个严重的问题：散射会导致子像素的光扩散到相邻像素甚至更远，从而引起图像模糊不清。这导致散射层技术很难直接应用在自主发光RGB像素的彩色显示器件上。于是，尤其在高分辨率的应用场合，如何使用散射层的优势而避免不良效果成为一种挑战。

发明内容

基于此，有必要针对高分辨率像素结构中，点亮位于斜线上的同色子像素时，实际点亮的同色子像素并不处于一条直线上的问题，提供一种显示器件，能够提高出光率和提升显示效果，从而满足高分辨率显示的要求。

一种显示器件，包括：

TFT阵列基板；

发光结构，设于所述TFT阵列基板上，所述发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，所述像素堤岸的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素堤岸于所述TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述像素凹槽内并将所述像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个所述子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一所述像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；

散射层，设于所述发光结构的出光侧，所述散射层包括第一黑色隔离墙和被所述第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元，所述散射单元和所述像素单元的位置一一对应设置，且所述第一黑色隔离墙和所述像素隔离柱的位置对应设置。

上述显示器件，基于高分辨率像素排列设计和散射层的特点，将两者结合在一起，用专门的散射层结构设计，将散射层图形化，按照像素单元用黑色矩阵将散射层分隔成多个散射单元，并使所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应，从而可以使每个像素单元发出的光在出射前都经过与之对应的散射单元的散射作用，改善出光的角度均匀性，提高发光器件的出光效率；位于像素单元内的子像素发出的光经过散射单元的反复散射，可以形成整体像素单元发光的视觉效果，从而可以避免因子像素排列的不均匀导致的画质损失，提高高分辨率显示效果；而且所述散射层的第一黑色隔离墙和所述发光结构的像素隔离柱的位置对应设置，可以防止不同像素单元之间因为散射光造成的串扰，避免了模糊化现象，因此，能够同时提高发光器件出光效率和改善高分辨率的像素显示效果。

需要说明的是，所述散射层设于所述发光结构的出光侧，根据所述显示器件的具体出光类型(底发射或顶发射)，可以将所述散射层设置在所述发光结构的出光方向的一侧。

在其中一个实施例中，多个所述像素凹槽排列成多行像素凹槽行，所述多行像素凹槽行包括至少一个第一像素凹槽行和至少一个第二像素凹槽行，所述第一像素凹槽行与所述第二像素凹槽行交替排列，所述第一像素凹槽行包括沿第一方向排列的多个所述像素凹槽，所述第二像素凹槽包括沿第一方向排列的多个所述像素凹槽，且所述第一像素凹槽行中的多个所述像素凹槽与所述第二像素凹槽行中的多个所述像素凹槽错位排列；

位于所述第一像素凹槽行的多个所述像素凹槽均设置有第一像素，所述第一像素包括两个第一子像素，且两个所述第一子像素沿第二方向排列，所述第二方向与所述第一方向相交；

位于所述第二像素凹槽行的多个所述像素凹槽依次交替设置有第二像素和第三像素；所述第二像素包括四个第二子像素，且四个所述第二子像素呈2×2矩阵排列；所述第三像素包括四个第三子像素，且四个所述第三子像素呈2×2矩阵排列。

在其中一个实施例中，所述第一子像素为蓝色子像素，所述第二子像素为红色子像素或绿色子像素，所述第三子像素为红色子像素或绿色子像素，且所述第二子像素和所述第三子像素的颜色不相同；

位于相邻的所述第一像素凹槽行和所述第二像素凹槽行内相邻的所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素构成一个所述像素单元。

在其中一个实施例中，每个所述散射单元均围绕有所述第一黑色隔离墙。

在其中一个实施例中，所述显示器件还包括彩色滤光片，所述彩色滤光片设于所述发光结构与所述散射层之间，或者所述彩色滤光片设于所述散射层上；

所述彩色滤光片包括第二黑色隔离墙和被所述第二黑色隔离墙隔开的多个彩色滤光膜(CF膜)单元，所述彩色滤膜单元与所述像素凹槽的数量相同，所述第二黑色隔离墙与所述像素堤岸的位置对应设置，且所述第一黑色隔离墙贯穿所述彩色滤光膜单元。

在其中一个实施例中，所述散射单元至少包括折射率不同的两种材料，所述两种材料的折射率之差大于其中任意一种材料的折射率的15％。

在其中一个实施例中，所述两种材料中，其中一种材料的折射率小于等于1.5，另一种材料的折射率大于等于1.9。

在其中一个实施例中，所述第一黑色隔离墙的制备原料包括光敏树脂和黑色染料。

在其中一个实施例中，所述显示器件为顶发射显示器件，所述顶发射显示器件还包括设于所述发光结构和所述散射层之间的透明粘合层，且所述第一黑色隔离墙嵌入所述透明粘合层内。

在其中一个实施例中，所述散射单元的厚度为100nm～2μm，所述透明粘合层的厚度为5μm～60μm，所述第一黑色隔离墙至少嵌入至所述透明粘合层的3/4。

作为一个总的发明构思，本发明另一目的在于提供一种显示器件的制备方法，包括以下步骤：

提供TFT阵列基板；

于所述TFT阵列基板上形成发光结构，所述发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，所述像素堤岸的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素堤岸于所述TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述像素凹槽内并将所述像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个所述子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一所述像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；

提供透明盖板，于所述透明盖板上形成图案化的散射层，所述散射层包括第一黑色隔离墙和被所述第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元，且所述第一黑色隔离墙凸出于所述散射单元；所述散射单元的数量与所述像素单元的数量相同；

将所述散射层和所述发光结构采用透明粘合材料粘合，且所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应，所述第一黑色隔离墙和所述像素隔离柱的位置对应设置，并使所述第一黑色隔离墙嵌入所述透明粘合层内，其中所述透明粘合材料固化形成透明粘合层。

作为一个总的发明构思，本发明提供了另一种显示器件的制备方法，包括以下步骤：

提供TFT阵列基板；

于所述TFT阵列基板上形成图案化的散射层，所述散射层包括第一黑色隔离墙和被所述第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元；

于所述散射层上形成发光结构，所述发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，所述像素堤岸的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素堤岸于所述TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述像素凹槽内，并将所述像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个所述子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一所述像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；所述像素隔离柱和所述第一黑色隔离墙的位置对应设置；所述像素单元的数量与所述散射单元的数量相同；且所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应。

作为一个总的发明构思，本发明又一目的在于提供一种显示装置，包括上述显示器件或者采用上述制备方法制备得到的显示器件。

本发明上述显示装置，通过在显示器件的发光结构之上增设具有与发光结构的像素单元一一对应的散射单元的散射层，通过散射单元改善显示器件的出光的角度均匀性，提高显示器件的出光效率；同时，由于散射层的散射单元被第一黑色隔离墙间隔开，能够防止不同像素单元之间因为散射光造成的串扰，避免了模糊化现象；进一步地，由于散射单元的散射作用，同一像素单元内子像素的出光效果更趋近于整体像像素单元的发光效果，从而改善了因子像素排列不均匀导致的画质损失，提升了高分辨率显示器的显示效果，从而可满足高分辨率的要求，达到了同时提高出光效率和改善高分辨率的像素显示效果的作用。

附图说明

图1为常见顶发射显示器件结构示意图；

图2为本发明一实施方式显示器件发光结构像素排列的示意图；

图3为本发明一实施方式显示器件的结构示意图；

图4为本发明一实施方式对应图3顶发射显示器件发光结构像素排列分布的散射层示意图；

图5为本发明另一实施方式顶发射显示器件的结构示意图；

图6为本发明一实施方式显示器件位于斜线上的绿色子像素发光的显示效果图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将对本发明进行更全面的描述，并给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参照图3，为本发明一实施方式的显示器件10，包括TFT阵列基板100、发光结构120和散射层160。

其中，发光结构120设于TFT阵列基板120上，包括：像素堤岸121、像素隔离柱123和多个像素单元(图未示)。

像素堤岸121于TFT阵列基板100之上围成多个像素凹槽122，像素凹槽122内设有像素隔离柱123，像素隔离柱123将像素凹槽122至少分成两个子像素凹槽124，且像素堤岸121的高度大于像素隔离柱123的高度。每个子像素凹槽124内均形成有一个子像素，且位于同一像素凹槽122内的多个子像素的颜色相同。

散射层160，设于发光结构120的出光侧，包括：第一黑色隔离墙161和被第一黑色隔离墙161隔开的多个散射单元162，散射单元162和像素单元的位置一一对应设置，且第一黑色隔离墙161和发光结构120的像素隔离柱123的位置对应设置。

在一实施例中，多个像素凹槽排列成多行像素凹槽行，多行像素凹槽行包括至少一个第一像素凹槽行和至少一个第二像素凹槽行，第一像素凹槽行与第二像素凹槽行交替排列，所述第一像素凹槽行包括沿第一方向排列的多个像素凹槽，第二像素凹槽包括沿第一方向排列的多个像素凹槽，且第一像素凹槽行中的多个像素凹槽与所述第二像素凹槽行中的多个像素凹槽错位排列。位于第一像素凹槽行的多个像素凹槽均设置有第一像素，第一像素包括两个第一子像素，且两个第一子像素沿第二方向排列，第二方向与第一方向相交。位于第二像素凹槽行的多个像素凹槽依次交替设置有第二像素和第三像素；第二像素包括四个第二子像素，且四个第二子像素呈2×2矩阵排列；第三像素包括四个第三子像素，且四个第三子像素呈2×2矩阵排列。

可以理解，发光结构包括多个第一像素凹槽行和多个第二像素凹槽行，多个第一像素凹槽行和多个第二像素凹槽行沿第二方向依次交替排列。

进一步地，请结合图2，为一较优实施例的高分辨率显示器件的像素排列方式，第一子像素为蓝色子像素，第二子像素为红色子像素或绿色子像素，第三子像素为红色子像素或绿色子像素，且第二子像素和第三子像素的颜色不相同。位于相邻的第一像素凹槽行和第二像素凹槽行内相邻的蓝色子像(B)、红色子像素(R)和绿色子像素(G)构成一个像素单元。

相应的，发光结构120中，需要设置蓝色子像素的像素凹槽被像素隔离柱均等分成沿第二方向排列的2个子像素凹槽，需要设置红色或绿色子像素的像素凹槽被像素隔离柱等分成呈矩阵排列的4个子像素凹槽，即位于第一像素凹槽行的多个像素凹槽均包括两个子像素凹槽，且两个子像素凹槽沿第二方向排列，第二方向与第一方向相交；位于第二像素凹槽行的多个像素凹槽均包括四个子像素凹槽，且四个子像素凹槽呈2×2矩阵排列。

更进一步地，位于相邻的第一像素凹槽行和第二像素凹槽行的相邻的第一子像素、第二子像素和第三子像素，第一子像素的中心点位于第二子像素和第三子像素的中位线上，且第一方向与第二方向垂直。

具体地，请继续参见图2的发光结构的像素排列方式，每个像素单元均包括红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)三个子像素，且RGB子像素呈“品”字形或倒“品”字型排列，图2中虚线框所框住的即为一个“品”字型的像素单元。如此，红色子像素或者绿色子像素的数量为蓝色子像素数量的两倍，且单个蓝色子像素的面积约为单个红色子像素和单个绿色子像素的面积之和。相同颜色的子像素排布在一起，组成较大的同色像素，可以共用同一个像素凹槽开口，不但有利于蒸镀或实现打印，还可以增加每个像素单元中蓝色子像素的面积，提高显示器的分辨率，相应增加蓝色子像素的寿命。

值得注意的是，如图2所示的像素排列，如果显示器件中没有设置本发明实施例的散射层，想要显示一条经过虚线所框像素单元的45度绿色斜线时，实际点亮的是图中的G1、G2和G3等子像素。显然，他们实际并不处于一条直线上。而如果同样的斜线穿过的是相邻像素单元，则点亮的像素又完全不同于上述排列，其并非简单的平移关系。这就导致，真正显示高分辨率图像时，应用这类特殊像素排列技术的显示器，其细节的表现还不如传统的像素排列下应有的效果。

图4为一实施例对应图2的发光结构像素排列设计的散射层的示意图，散射单元与像素单元的位置一一对应设置。需要说明的是，高分辨率显示器件像素排列方式有很多种，图2仅为本发明高分辨率显示器件像素排列的一种方式，可以针对不同的像素排列方式来进行散射层的图案化设计，满足散射单元与像素单元的位置一一对应设置，且第一黑色隔离墙161和像素隔离柱的位置对应设置，即可。

可以理解，散射单元与像素单元的位置一一对应设置，其可以是俯视位方向的完全重叠，也可以不完全重叠，且每一个散射单元均围绕有第一黑色隔离墙161。

值得注意的是，散射单元与像素单元的位置一一对应设置，是指多个散射单元中的每一个散射单元的位置与一个像素单元的位置相对应，显示器件中包括多对位置相对应的散射单元和像素单元。

在一实施例中，第一黑色隔离墙161围绕一个散射单元162设置。

在一实施例中，第一黑色隔离墙161围绕每个散射单元162设置，也就是说每个散射单元162均围绕有第一黑色隔离墙161。具体地，第一黑色隔离墙161由纵横交错的黑色子隔离墙形成网格状，散射单元162位于该网格状的网格区域。

在一实施例中，一一对应的散射单元的背离TFT阵列基板的表面面积与像素单元的背离TFT阵列基板的表面面积相等。如此，如图4所示，俯视位散射单元与像素单元一一对应且完全重叠。即散射层160的第一黑色隔离墙161位于对应于发光结构120一个像素单元的周围的位置上，也就是图2中虚线框的位置，第一黑色隔离墙161框出的每个独立的散射单元区域与发光结构120的每个像素单元的位置正对。

可以理解，在其他实施例中，散射单元的背离TFT阵列基板的表面面积与像素单元的背离TFT阵列基板的表面面积可以不必完全相同，但是需要满足从俯视角度看，第一黑色隔离墙隔离的每个独立的散射单元区域必须覆盖与其相对应的像素单元。

请参见图5，本发明另一实施方式的顶发射显示器件20，可包括TFT阵列基板200、及依次设于TFT阵列基板200上的发光结构220、透明粘合层230、散射层260和透明盖板280。

其中，发光结构220包括像素堤岸221、像素隔离柱223和多个像素单元(图未示)。

像素堤岸221于TFT阵列基板200之上围成多个像素凹槽222，像素凹槽222内设有像素隔离柱223，像素隔离柱223将像素凹槽222至少分成两个子像素凹槽224，且像素堤岸221的高度大于像素隔离柱223的高度。每个子像素凹槽224内均形成有一个子像素，且位于同一像素凹槽222内的多个子像素的颜色相同。

请结合图2和图5，发光结构220的像素单元包括红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素。所述红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素分别位于不同的子像素凹槽224内，且位于同一个像素凹槽222内的多个子像素的颜色相同，即像素凹槽222限定的区域为同色子像素区域。

如此，子像素凹槽224定义了各子像素的发光区域，像素凹槽222与位于该像素凹槽内的多个子像素凹槽224对应，从而聚集在一起的具有相同颜色的多个子像素共用一个像素凹槽222的开口，即像素凹槽222为多个相同子像素共用，且可以防止墨水溢出。在印刷制备过程中，共用像素凹槽222开口的子像素可以同时进行打印，从而成倍的增大了墨水的沉积区域，因此可以有效减小各子像素的尺寸，同时保证墨水不会因子像素面积过小而发生溢出，弥补打印设备机械精度不足，便于实现高分辨率显示器件的印刷。

透明粘合层230，设于发光结构220上，用来粘合发光结构220和位于发光结构220之上的散射层260。

在一实施例中，透明粘合层包括依次层叠于发光结构之上的薄膜封装层和粘合层，用来封装发光结构和将发光结构和散射层粘合。

散射层260，设于透明粘合层230上，包括第一黑色隔离墙261和被第一黑色隔离墙261隔开的多个散射单元262，散射单元262和像素单元的位置一一对应设置，且第一黑色隔离墙261和发光结构220的像素隔离柱223的位置对应设置，第一黑色隔离墙261还嵌入透明粘合层230内。

在一实施例中，TFT阵列基板为具有TFT驱动阵列的透明基板。

进一步地，顶发射显示器件20还包括位于TFT阵列基板200之上的透明平坦层210，用来平坦TFT阵列基板200的上表面。

进一步地，顶发射显示器件20还包括彩色滤光片250，彩色滤光片250设于透明粘合层230与散射层260之间，彩色滤光片250包括第二黑色隔离墙251和被第二黑色隔离墙251隔开的多个彩色滤光膜单元252，彩色滤膜单元252与发光结构220的像素凹槽222的数量相同，第二黑色隔离墙251与像素堤岸221的位置对应设置，且散射层260的第一黑色隔离墙261贯穿彩色滤光膜单元252。如此，彩色滤光片250位于发光结构220的出光侧，彩色滤光片250的彩色滤光膜单元252与发光结构的同色子像素区域(即像素凹槽222限定的子像素区域)相对应，且每一个彩色滤光膜单元252被第一黑色隔离墙261贯穿，从而进一步将彩色滤光膜单元252分隔成多个滤光区域，每一个滤光区域对应一个子像素，更加利于滤出同色光，减少光损失和光串扰。

在其他实施例中，彩色滤光片设于散射层之上。

在一实施例中，散射层的厚度为100nm～2μm。

在一实施例中，透明粘合层的厚度为5μm～60μm，散射层的第一黑色隔离墙至少嵌入至透明粘合层的3/4。也就是说，第一黑色隔离墙靠近TFT阵列基板的下缘凸出散射单元靠近TFT阵列基板的下表面，且至少嵌入至透明粘合层的3/4处。

如此，可有效阻止散射单元中被任意方向散射的器件发光进入相邻的RGB像素单元，防止串扰。

进一步地，第一黑色隔离墙的下缘尽量与发光结构的背离TFT阵列基板100一侧的表面相接近。

在一实施例中，散射单元中至少包括折射率不同的两种材料，且两种材料的折射率之差大于其中任一一种材料的折射率的15％。

可以理解，散射层的散射单元可以由不同折射率的材料制备而成，且材料之间的折射率有明显不同，具体需要满足混合材料中至少有一对材料A、B，它们的折射率之差的绝对值大于材料A或B任意一种材料的折射率的15％。

在一实施例中，在散射单元中，材料A的重量百分含量为0.5％～99.5％，材料B的重量百分含量为0.5％～99.5％。

在一实施例中，材料A的折射率小于等于1.5，材料B的折射率大于等于1.9。具体的，材料A可以为折射率小于等于1.5的硅树脂，材料B可以是折射率大于等于1.9的金属氧化物纳米或微米颗粒，比如纳米或微米级的二氧化钛、氧化锌等。

在一实施例中，散射层的第一黑色隔离墙的制备原料为包括光敏树脂和黑色染料的混合物。具体的，黑色染料可以为但不限于炭黑。

黑色隔离墙可以吸收自然光而不会影响出光颜色，可以避免传统散射层中带反射效果的反射板会将自然光进行反射，使点亮的子像素与自然光造成混色影响清晰度这一问题。

在一实施例中，透明盖板上还具有偏光减反射元件，如偏光片、减反射膜等。

以顶发射型显示器件为例，本发明另一实施方式提供一种顶发射型显示器件的制备方法，包括以下步骤：

S11、提供TFT阵列基板，于TFT阵列基板上形成包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元的发光结构。

S12、提供透明盖板，于透明盖板上形成图案化的散射层，散射层包括第一黑色隔离墙和被第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元，且第一黑色隔离墙凸出于散射单元；散射单元的数量与发光结构的像素单元的数量相同；

S13、将散射层和发光结构采用透明粘合材料粘合，且像素单元和散射单元的位置一一对应，第一黑色隔离墙和像素隔离柱的位置对应，并使第一黑色隔离墙嵌入透明粘合层内，其中透明粘合材料固化形成透明粘合层。

可以理解，对以上步骤S11和S12的先后顺序没有严格要求，S11和S12可以同时进行，也可以择一先完成S11或S12，待步骤S11和S12完成后，再进行步骤S13的操作。

具体地，发光结构包括多个像素单元，每一个所述像素单元包括红、绿、蓝三个子像素。

在一实施例中，发光结构的形成步骤包括：

于TFT阵列基板上形成图案化的像素堤岸和像素隔离柱，且像素堤岸的高度大于像素隔离柱的高度；像素堤岸于TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，多个像素凹槽呈行排列多行像素凹槽行，且相邻两行的像素凹槽行中的像素凹槽错位排列；像素隔离柱位于像素凹槽内，并将像素凹槽至少分成两个子像素凹槽。

于像素凹槽内打印发光结构墨水，并干燥成膜，从而每一个像素凹槽内形成至少有两个相同颜色的子像素，每一个子像素凹槽对应一个子像素，所述子像素为红色子像素、绿色子像素或蓝色子像素，相邻的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素组成一个像素单元。

在一实施例中，于透明盖板上形成图案化的第一黑色隔离墙，从而在透明盖板上围成多个散射区域，分别于多个散射区域内形成散射单元，散射单元的上表面低于第一黑色隔离墙的上缘，从而获得散射层。

具体的，可参照图4进行散射层的图案化设计，黑色隔离墙的材料以光敏树脂和黑色染料如炭黑素的混合体为材料，于透明盖板上形成一层膜层，然后采用传统的光刻工艺或黑矩阵工艺实现图案化，形成图案化的第一黑色隔离墙161，即黑矩阵。再将含有不同折射率材料的散射液通过打印、刮涂或者旋涂等溶液法涂布于制备好的黑矩阵中，干燥后固化成膜，得到散射单元。

在一实施例中，散射液包括至少折射率不同的两种材料，且两种材料的折射率之差大于其中任一一种的折射率的15％。

进一步地，其中一种材料的折射率小于等于1.5，另一种材料的折射率大于等于1.9。具体的，一种材料可以为折射率小于等于1.5的硅树脂，另一种材料可以是折射率大于等于1.9的金属氧化物纳米或微米颗粒，比如纳米或微米级的二氧化钛、氧化锌等。

在一实施例中，散射液还包括有机溶剂。其中，有机溶剂可以为但不限于异丙醇、乙醇。如此，可以防止散射颗粒团聚，使散射颗粒能够均匀的分布于硅树脂内，提高散射特性。

在一实施例中，散射液中的有机溶剂的重量百分含量为40％～90％。

在一实施例中，为了进一步提高散射层的散射特性，防止散射颗粒的聚集，散射液中还包括2wt％～30wt％的分散剂。具体的分散剂可以为乙酰丙酮等。

在一实施例中，顶发射显示器件20的制备方法还包括在步骤S2之后，制备彩色滤光片250的步骤：

于散射层260的散射单元262之上(即第一黑色隔离墙之间)沉积一层黑色隔离墙膜层；

采用传统光刻工艺制备第二黑色隔离墙251，第二黑色隔离墙251与像素堤岸221的位置对应设置；第二黑色隔离墙251在散射单元262上围成多个滤光区，滤光区的数量与像素凹槽222的数量相同；

于多个滤光区域内分别采用传统光刻工艺或打印工艺制备得到多个彩色滤光膜单元252。

在一实施例中，在步骤S12中，于透明盖板上形成图案化的散射层的同时，还包括制备彩色滤光片的步骤：

于透明盖板上采用传统工艺制备形成图案化的第二黑色隔离墙和贯穿至彩色滤光单元的部分第一黑色隔离墙，第二黑色隔离墙的位置与发光结构的像素堤岸的位置相对应，第二黑色隔离墙在透明盖板上围成多个滤光区，滤光区的数量与像素凹槽的数量相同；

于多个滤光区内采用分别制备彩色滤光膜单元，得到彩色滤光片；

采用光刻工艺制作第一黑色隔离墙的剩余部分，凸出于彩色滤光片的第一黑色隔离墙于彩色滤光片上围成多个散射区域，于多个散射区域内分别制备得到散射单元。

需要说明的是，显示器件10例如可以为顶发射型，也可以是底发射型。底发射型显示器件的散射层设于发光结构的出光侧，即散射层设于发光结构与TFT阵列基板之间。

本发明又一实施方式提供一种底发射型显示器件的制备方法，包括以下步骤：

S21、提供TFT阵列基板。

S22、于TFT阵列基板上形成图案化的散射层，散射层包括第一黑色隔离墙和被第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元。

在一实施例中，于TFT阵列基板上形成第一黑色隔离墙，从而在TFT阵列基板上围成多个散射区域，分别于多个散射区域内沉积形成散射单元，获得散射层。

具体地，根据高分辨率显示器件的发光结构的像素排列(比如图2所示的像素排列)需求，进行散射层的图案设计，采用传统的光刻工艺、黑矩阵工艺实现图案化，形成第一黑色隔离墙，即黑矩阵。再将含有不同折射率材料的散射液通过打印、刮涂或者旋涂等溶液法涂布于制备好的黑矩阵中，干燥后固化成膜，得到散射单元。如此，散射颗粒能够均匀的分布于硅树脂内，提高散射特性。

S23、于散射层上形成发光结构，发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，像素堤岸的高度大于像素隔离柱的高度；像素堤岸于TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，像素隔离柱位于像素凹槽内，并将像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；像素隔离柱和第一黑色隔离墙的位置对应设置；像素单元的数量与散射单元的数量相同；且像素单元和散射单元的位置一一对应。

具体地，采用高分辨率像素排列设计(比如图2所示的像素排列)，于散射层上形成图案化的像素堤岸和像素隔离柱；满足像素堤岸的高度大于像素隔离柱的高度，像素堤岸于TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，像素隔离柱位于像素凹槽内并将像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，而且，像素隔离柱和第一黑色隔离墙的位置对应设置；然后按照高分辨率像素排列方式，于像素凹槽内打印发光墨水，并干燥成膜，从而第一个像素凹槽内形成至少两个颜色相同的子像素，如此，形成的的像素单元的数量与散射层的散射单元的数量相同，且像素单元与散射单元的位置一一对应，第一个像素单元发出的光均可以经过与之对应的散射单元的散射作用后再出光。本发明另一实施方式提供一种显示装置，包括上述显示器件10或采用上述方法制备得到的显示器件。

本发明上述实施方式的显示器件，通过在显示器件出光方向增设具有与发光结构的像素单元一一对应的散射单元的散射层，从而防止了波导(waveguide)模式的光损失，提高了出光效率；同时，由于散射层的散射单元被黑色隔离墙间隔开，能够防止不同像素单元之间因为散射光和自然光反射造成的串扰，避免了模糊化现象；进一步地，由于散射单元的散射作用，同一像素单元内子像素的出光效果更趋近于整体像素单元的发光效果，从而改善了因子像素排列不均匀导致的画质损失，如图6所示为本发明一实施方式显示器件中位于非直线上的绿色子像素的发光显示效果，通过散射单元的散射作用，绿色子像素发光在散射层内的相应散射单元内被反复散，直到从正面射出，从而形成整体RGB像素单元发光的视觉效果，呈现出位于斜线上的绿色显示效果，因此，能够有效避免因子像素距离过远而产生的视觉断续感，有效改善画质，提升高分辨率显示器的显示效果，从而满足高分辨率的要求。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示器件，其特征在于，包括：

TFT阵列基板；

发光结构，设于所述TFT阵列基板上，所述发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，所述像素堤岸的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素堤岸于所述TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述像素凹槽内并将所述像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个所述子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一所述像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；

散射层，设于所述发光结构的出光侧，所述散射层包括第一黑色隔离墙和被所述第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元，所述散射单元和所述像素单元的位置一一对应设置，且所述第一黑色隔离墙和所述像素隔离柱的位置对应设置。

2.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，多个所述像素凹槽排列成多行像素凹槽行，所述多行像素凹槽行包括至少一个第一像素凹槽行和至少一个第二像素凹槽行，所述第一像素凹槽行与所述第二像素凹槽行交替排列，所述第一像素凹槽行包括沿第一方向排列的多个所述像素凹槽，所述第二像素凹槽包括沿第一方向排列的多个所述像素凹槽，且所述第一像素凹槽行中的多个所述像素凹槽与所述第二像素凹槽行中的多个所述像素凹槽错位排列；

位于所述第一像素凹槽行的多个所述像素凹槽均设置有第一像素，所述第一像素包括两个第一子像素，且两个所述第一子像素沿第二方向排列，所述第二方向与所述第一方向相交；

位于所述第二像素凹槽行的多个所述像素凹槽依次交替设置有第二像素和第三像素；所述第二像素包括四个第二子像素，且四个所述第二子像素呈2×2矩阵排列；所述第三像素包括四个第三子像素，且四个所述第三子像素呈2×2矩阵排列。

3.根据权利要求2所述的显示器件，其特征在于，所述第一子像素为蓝色子像素，所述第二子像素为红色子像素或绿色子像素，所述第三子像素为红色子像素或绿色子像素，且所述第二子像素和所述第三子像素的颜色不相同；

位于相邻的所述第一像素凹槽行和所述第二像素凹槽行内相邻的所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素构成一个所述像素单元。

4.根据权利要求1或2所述的显示器件，其特征在于，每个所述散射单元均围绕有所述第一黑色隔离墙。

5.根据权利要求1或2所述的显示器件，其特征在于，所述显示器件还包括彩色滤光片，所述彩色滤光片设于所述发光结构与所述散射层之间，或者所述彩色滤光片设于所述散射层上；

所述彩色滤光片包括第二黑色隔离墙和被所述第二黑色隔离墙隔开的多个彩色滤光膜单元，所述彩色滤膜单元与所述像素凹槽的数量相同，所述第二黑色隔离墙与所述像素堤岸的位置对应设置，且所述第一黑色隔离墙贯穿所述彩色滤光膜单元。

6.根据权利要求1或2所述的显示器件，其特征在于，所述散射单元至少包括折射率不同的两种材料，所述两种材料的折射率之差大于其中任意一种材料的折射率的15％。

7.根据权利要求1～6任一项所述的显示器件，其特征在于，所述显示器件为顶发射显示器件，所述顶发射显示器件还包括设于所述发光结构和所述散射层之间的透明粘合层，且所述第一黑色隔离墙嵌入所述透明粘合层内。

8.一种显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供TFT阵列基板；

于所述TFT阵列基板上形成发光结构，所述发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，所述像素堤岸的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素堤岸于所述TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述像素凹槽内并将所述像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个所述子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一所述像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；

提供透明盖板，于所述透明盖板上形成图案化的散射层，所述散射层包括第一黑色隔离墙和被所述第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元，且所述第一黑色隔离墙凸出于所述散射单元；所述散射单元的数量与所述像素单元的数量相同；

将所述散射层和所述发光结构采用透明粘合材料粘合，且所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应，所述第一黑色隔离墙和所述像素隔离柱的位置对应设置，并使所述第一黑色隔离墙嵌入所述透明粘合层内，其中所述透明粘合材料固化形成透明粘合层。

9.一种显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供TFT阵列基板；

于所述TFT阵列基板上形成图案化的散射层，所述散射层包括第一黑色隔离墙和被所述第一黑色隔离墙隔开的多个散射单元；

于所述散射层上形成发光结构，所述发光结构包括像素堤岸、像素隔离柱和多个像素单元，所述像素堤岸的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素堤岸于所述TFT阵列基板上围成多个像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述像素凹槽内，并将所述像素凹槽至少分隔成两个子像素凹槽，每个所述子像素凹槽内均形成有一个子像素，且位于同一所述像素凹槽内的多个子像素的颜色相同；所述像素隔离柱和所述第一黑色隔离墙的位置对应设置；所述像素单元的数量与所述散射单元的数量相同；且所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～7任一所述的显示器件或者采用权利要求8或9的制备方法制备得到的显示器件。

Images