CN111522088A - 层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法 - Google Patents

层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法，所述层叠体适合用于制造具有在向光学功能层转印液晶层时抑制褶皱、不规则形状异物的产生的液晶层的光学层叠体。层叠体在包含基材层的含基材层的层上设置有包含第1液晶层的含第1液晶层的层。含基材层的层相对于含第1液晶层的层能够剥离。第1液晶层包含沿着相对于第1液晶层的面的水平方向发生了取向的液晶化合物。含第1液晶层的层的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。

Description

层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层 叠体及其制造方法
技术领域
本发明涉及层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法。
背景技术
在有机EL显示装置、液晶显示装置等显示装置中，为了防止外光的反射，有时使用层叠有直线偏振板和相位差板的椭圆偏振板等。作为构成该椭圆偏振板的相位差板，已知包含使聚合性液晶化合物固化而成的层(液晶层)或其层叠体的相位差板。专利文献1记载了一种通过在基材上形成相对于该基材的面发生了水平取向的液晶层，并将其转印至直线偏振板的转印法而将该液晶层层叠于直线偏振板的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-21976号公报
发明内容
发明要解决的课题
这种发生了水平取向的液晶层存在如下问题：在从基材转印至直线偏振板时，容易自端部产生褶皱、不规则形状的异物。专利文献1记载了一种通过调整粘接剂层、液晶层之间的宽度关系来抑制异物产生的方法，但其在难以调整宽度关系的情况下不是有效的方法。
本发明的目的在于，提供一种层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法，所述层叠体适合用于制造具有在向光学功能层转印液晶层时抑制褶皱、不规则形状异物的产生的液晶层的光学层叠体。
用于解决课题的手段
本发明提供以下示出的层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法。
〔1〕一种层叠体，其是在包含基材层的含基材层的层上设置有包含第1液晶层的含第1液晶层的层的层叠体，
上述含基材层的层相对于上述含第1液晶层的层能够剥离，
上述第1液晶层包含沿着相对于上述第1液晶层的面的水平方向发生了取向的液晶化合物，
上述含第1液晶层的层的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。
〔2〕根据〔1〕所述的层叠体，其中，上述含基材层的层与上述含第1液晶层的层之间的密合力为0.05N/25mm以上。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的层叠体，其中，上述含基材层的层还包含取向层，
上述含第1液晶层的层设置于上述含基材层的层的上述取向层侧。
〔4〕根据〔1〕或〔2〕所述的层叠体，其中，上述含第1液晶层的层还包含取向层，
上述含基材层的层设置于上述含第1液晶层的层的上述取向层侧。
〔5〕一种带粘接层的层叠体，其是包含粘接层和〔1〕～〔4〕中任一项所述的层叠体的带粘接层的层叠体，
上述粘接层层叠于上述层叠体的上述含第1液晶层的层侧，
上述含第1液晶层的层具有未层叠上述粘接层的未层叠区域。
〔6〕根据权利要求〔5〕所述的带粘接层的层叠体，其中，上述未层叠区域存在于上述带粘接层的层叠体中的宽度方向的至少一个端部。
〔7〕一种带基材层的光学层叠体，其是依次包含〔1〕～〔4〕中任一项所述的层叠体、粘接层和光学功能层的带基材层的光学层叠体，
上述粘接层设置于上述层叠体的上述含第1液晶层的层侧。
〔8〕一种带基材层的光学层叠体，其中，在〔5〕或〔6〕所述的带粘接层的层叠体的上述粘接层上设置有光学功能层。
〔9〕根据〔7〕或〔8〕所述的带基材层的光学层叠体，其中，上述光学功能层包含偏振层。
〔10〕根据〔7〕～〔9〕中任一项所述的带基材层的光学层叠体，其中，上述光学功能层包含第2液晶层。
〔11〕一种光学层叠体，其是依次含有包含第1’液晶层的含第1’液晶层的层、粘接层和光学功能层的光学层叠体，
上述第1’液晶层包含沿着相对于上述第1’液晶层的面的水平方向发生了取向的液晶化合物，
上述含第1’液晶层的层的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。
〔12〕根据〔11〕所述的光学层叠体，其中，上述含第1’液晶层的层还包含取向层。
上述取向层设置于第1’液晶层的与上述粘接层相反的一侧。
〔13〕一种光学层叠体的制造方法，其是依次含有包含第1’液晶层的含第1’液晶层的层、粘接层和光学功能层的光学层叠体的制造方法，
其包括从上述〔7〕～〔10〕中任一项所述的带基材层的光学层叠体剥离上述含基材层的层的工序。
发明效果
根据本发明，能够提供对于制造具有在向光学功能层转印液晶层时抑制褶皱、不规则形状异物的发生的液晶层的光学层叠体而言适合的层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法。
附图说明
图1是示意性地示出本发明的层叠体的一例的概略截面图。
图2是示意性地示出本发明的层叠体的其它例的概略截面图。
图3是示意性地示出本发明的带粘接层的层叠体的一例的概略截面图。
图4是示意性地示出本发明的带基材层的光学层叠体的一例的概略截面图。
图5是示意性地示出本发明的带基材层的光学层叠体的其它例的概略截面图。
图6是示意性地示出本发明的光学层叠体的制造工序的一例的概略截面图。
图7是示意性地示出本发明的光学层叠体的制造工序的其它例的概略截面图。
附图标记说明
1a、1b层叠体；2a带粘接层的层叠体；3a、3c带基材层的光学层叠体；4a、4b光学层叠体；10a含基材层的层；11a基材层；11b基材层(含基材层的层)；12a、12b取向层；13a第1液晶层(含第1液晶层的层)；13’a第1’液晶层(含第1’液晶层的层)；13ax未层叠区域；13ay层叠区域；13b第1液晶层；20b含第1液晶层的层；20’b含第1’液晶层的层；30a、30c粘接层；60a、60c光学功能层；W宽度方向。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的层叠体、带粘接层的层叠体、带基材层的光学层叠体、光学层叠体及其制造方法的优选实施方式进行说明。需要说明的是，以下示出的各实施方式及其变形例可以任意组合。另外，在各实施方式及其变形例中，对于与在其之前的实施方式或其变形例中说明过的部件相同的部件，有时标注相同的符号并省略其说明。
[实施方式1(层叠体)]
图1是示意性地示出本实施方式的层叠体的一例的概略截面图。图中，W表示宽度方向。如图1所示那样，本实施方式的层叠体1a在包含基材层11a的含基材层的层10a上设置有第1液晶层13a(含第1液晶层的层)。如图1所示那样，含基材层的层10a可以包含基材层11a和取向层12a，在含基材层的层10a的取向层12a侧设置有第1液晶层13a，第1液晶层13a直接接触取向层12a。第1液晶层31a包含沿着相对于其表面的水平方向发生了取向的液晶化合物。另外，含基材层的层10a相对于第1液晶层13a能够剥离。层叠体1a可以在第1液晶层13a上进一步具有其它层。层叠体1a可以为片状体的膜，也可以为长条状的膜。
如图1所示那样，在层叠体1a的宽度方向截面中，宽度方向的长度按照基材层11a、取向层12a、第1液晶层13a的顺序变短，取向层12a的宽度方向两端的位置与基材层11a的宽度方向两端的位置相比位于宽度方向内侧，第1液晶层13a的宽度方向两端的位置与取向层12a的宽度方向两端的位置相比位于宽度方向内侧。需要说明的是，层叠体1a的各层的宽度方向的长度和各层的两端的宽度方向的位置不限定于上述关系。例如，基材层11a与取向层12a也可以是宽度方向的长度相同，且在层叠体1a的宽度方向截面中的宽度方向两端的位置相同。另外，取向层12a与第1液晶层13a可以是宽度方向的长度相同，且在层叠体1a的宽度方向截面中的宽度方向两端的位置相同，也可以是与第1液晶层13a相比，取向层12a的宽度方向的长度更短，且取向层12a的宽度方向两端的位置与第1液晶层13a的宽度方向两端的位置相比位于宽度方向内侧。另外，图1所示的层叠体1a具有在宽度方向上对称的结构，但也可以具有在宽度方向上不对称的结构。
基材层11a可以具有作为支承取向层12a和第1液晶层13a的支承层的功能。取向层12a可以具有使为了形成第1液晶层13a而使用的液晶化合物沿着水平方向发生液晶取向的取向控制力。
第1液晶层13a可以是聚合性液晶化合物(液晶化合物)发生聚合而形成的层，例如，可以在含基材层的层10a的取向层12a上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并进行干燥，在聚合性液晶化合物沿着相对于第1液晶层13a的面的水平方向发生了取向的状态下，通过照射紫外线等活性能量射线而将聚合性液晶化合物进行聚合从而使其固化来形成。第1液晶层13a可以具有单层结构，也可以具有2层以上的多层结构。
第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下，优选为1.5mm以下、可以为1.2mm以下、可以为1.1mm以下，另外，只要为0(零)mm以上即可，通常为0.1mm以上，优选为0.3mm以上、更优选为0.5mm以上。若穿刺试验中的位移量过小，则存在研磨等加工时容易产生裂纹等不良情况的倾向。另外，通过将穿刺试验中的位移量设为0.5mm以上且2.0mm以下的范围，在能够有效地抑制第1液晶层13a转印时的异物的产生的同时，也容易形成在研磨等加工中加工适应性优异的第1液晶层13a。穿刺试验中的位移量可以如后述实施例中记载那样地使用穿刺试验机进行测定。
如后所述，层叠体1a是为了获得具有粘接层30a和光学功能层60a的带基材层的光学层叠体3a(图4)而使用的，通过从该带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a，能够获得光学层叠体4a(图6)。若包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下，则如上所述从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a时，能够在第1液晶层13a的层叠有粘接层30a的区域即层叠区域13ay与未层叠粘接层30a的区域即未层叠区域13ax(图4中用右上斜线表示的部分)之间良好地分离第1液晶层13a。
与此相对，若第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量超过2.0mm，则第1液晶层13a容易拉伸，因此，从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a时，容易发生如下不良情况：第1液晶层13a不在层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间这一预期位置发生分离，形成分离部分为不规则形状的异物，在分离部分产生褶皱等。
第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量可通过例如为了获得包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13a而使用的聚合性液晶化合物的种类、第1液晶层13a中的聚合性液晶化合物的聚合度(固化度)、第1液晶层13a所含的聚合引发剂、反应性添加剂、流平剂、阻聚剂、交联剂等添加剂的种类和量、第1液晶层13a的厚度等来进行调整。在第1液晶层13a的除了厚度之外的条件相同的情况下，厚度越大则越难以拉伸，存在第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量变小的倾向。第1液晶层13a的厚度可根据所应用的显示装置的种类来适当选择，优选为0.3μm以上、可以为0.5μm以上、可以为1μm以上，另外，通常为10μm以下、可以为5μm以下、优选为3μm以下。
含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力优选为0.05N/25mm以上、可以为0.06N/25mm以上、可以为0.07N/25mm以上、可以为0.08N/25mm以上、可以为0.10N/25mm以上。只要含基材层的层10a相对于第1液晶层13a能够剥离，含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力的上限值就没有特别限定，例如可以设为0.5N/25mm以下。密合力可以通过后述实施例中记载的方法进行测定。
若含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力小于0.05N/25mm，则从后述带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a时，第1液晶层13a难以在层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间良好地分离，容易发生上述不良情况。
含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力可通过取向层12a或第1液晶层13a所含的聚合引发剂、反应性添加剂、流平剂、阻聚剂、交联剂等添加剂的种类和量来调整。另外，上述密合力也可以通过对基材层11a的取向层12a侧的表面、取向层12a的表面和第1液晶层13a的取向层12a侧的表面进行的电晕处理、等离子体处理、火焰处理等表面处理来调整。
本实施方式的层叠体可以如以下示出的变形例那样地进行变更。
(实施方式1的变形例1)
在上文中，如图1所示那样，以包含基材层11a和取向层12a的层叠体1a为例对含基材层的层10a进行了说明，但含基材层的层可以不包含取向层12a，例如，可以为图2所示的层叠体。图2是示意性地示出本实施方式的层叠体的其它例的概略截面图。如图2所示那样，对于层叠体1b而言，在基材层11b(含基材层的层)上设置有取向层12b以及具有包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13b的含第1液晶层的层20b，基材层11b设置于含第1液晶层的层20b的取向层12b侧。第1液晶层13b直接接触取向层12b。另外，形成层叠体1b的基材层11b相对于含第1液晶层的层20b能够剥离。
在层叠体1b中，具有包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13b的含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量可以设为2.0mm以下。作为含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量可以采用的范围与上述实施方式中说明的范围相同，因此省略其说明。作为调整含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量的方法，除了如上述实施方式中说明那样地调整第1液晶层的穿刺试验中的位移量的方法之外，也可以通过取向层12b所含的成分的种类和量、取向层12b的厚度等来调整。在除了厚度之外的条件相同的情况下，含第1液晶层的层20b的厚度越大则越难以伸长，存在含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量变小的倾向。含第1液晶层的层20b的厚度可根据所应用的显示装置的种类来适当选择，优选为0.4μm以上、可以为1μm以上，通常为12μm以下、优选为8μm以下、更优选为5μm以下。另外，第1液晶层13b的厚度优选为0.3μm以上、可以为0.5μm以上、可以为1μm以上，另外，通常为10μm以下、可以为5μm以下、优选为3μm以下。取向层12b的厚度优选为0.01μm以上、可以为0.05μm以上，另外，通常为10μm以下、可以为3μm以下、优选为0.5μm以下。
层叠体1b也是为了获得具有粘接层和光学层叠体的带基材层的光学层叠体而使用的，通过从该带基材层的光学层叠体剥离基材层11b，能够获得后述光学层叠体4b(图7)。若包含经水平取向的液晶化合物的含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下，则如上所述地从带基材层的光学层叠体剥离基材层时，能够在含第1液晶层的层20b的层叠有粘接层的区域即层叠区域与未层叠粘接层的区域即未层叠区域之间良好地分离含第1液晶层的层20b。与此相对，若含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量超过2.0mm，则含第1液晶层的层20b容易拉伸，因此，从带基材层的光学层叠体剥离基材层11b时，容易发生如下不良情况：含第1液晶层的层20b不会在层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间这一预期位置发生分离，形成分离部分为不规则形状的异物，在分离部分产生褶皱等。含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量的优选范围可以设为与上述第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量的优选范围相同。
另外，基材层11b与含第1液晶层的层20b之间的密合力优选为0.05N/25mm以上。作为该密合力可进一步采用的范围与上述实施方式中说明的范围相同，对其调整方法也与上述实施方式中说明的范围相同，因此省略其说明。若基材层11b与含第1液晶层的层20b之间的密合力小于0.05N/25mm，则从带基材层的光学层叠体剥离基材层11b时，含第1液晶层的层20b难以在层叠区域与未层叠区域之间良好地分离，容易发生上述不良情况。基材层11b与含第1液晶层的层20b之间的密合力的优选范围可以设为与上述含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力的优选范围相同。
(实施方式1的变形例2)
在图1和图2所示的层叠体1a和层叠体1b中，以包含取向层的情况为例进行了说明，但层叠体可以不含取向层。
[实施方式2(带粘接层的层叠体)]
图3是示意性地示出本实施方式的带粘接层的层叠体的一例的概略截面图。图中，W表示宽度方向。如图3所示那样，本实施方式的带粘接层的层叠体2a具有图1所示的层叠体1a和粘接层30a，且粘接层30a设置于层叠体1a的第1液晶层13a侧。粘接层30a是由粘接剂、粘合剂形成的层。层叠体1a在之前的实施方式中进行了说明，带粘接层的层叠体2a可通过例如在层叠体1a上涂布粘接剂、粘合剂或者转印粘合剂层等从而形成粘接层30a来获得。带粘接层的层叠体2a可以具有覆盖粘接层30a的与第1液晶层13a相反一侧的表面的剥离层。带粘接层的层叠体2a可以为片状体的膜，也可以为长条的膜。
如图3所示那样，在带粘接层的层叠体2a的宽度方向截面中，粘接层30a与第1液晶层13a相比宽度方向的长度变短，粘接层30a的宽度方向两端的位置与第1液晶层13a的宽度方向两端的位置相比位于宽度方向内侧。另外，第1液晶层13a具有层叠有粘接层30a的区域即层叠区域13ay和未层叠粘接层30a的区域即未层叠区域13ax(图4中用右上斜线表示的部分)。如图3所示那样，在带粘接层的层叠体2a的宽度方向截面中，通过在第1液晶层13a的两端设置未层叠区域13ax，从而在带粘接层的层叠体2a、使用层叠体1a或带粘接层的层叠体2a而得到的后述带基材层的光学层叠体3a(图4)中难以露出粘接层，能够抑制对其进行输送时因粘接层而污染输送路径。
需要说明的是，带粘接层的层叠体2a中的粘接层30a如果能够设置在第1液晶层13a上，且在第1液晶层13a形成层叠区域13ay和未层叠区域13ax，则不限定于图3所示的带粘接层的层叠体2a的结构。例如，粘接层30a的宽度方向的一个端部可以与第1液晶层13a的宽度方向的一个端部位于相同位置。另外，也可以按照在第1液晶层13a的俯视图中，中央部形成未层叠区域并且形成包围该未层叠区域的层叠区域的方式，在第1液晶层13a上设置粘接层30a。另外，第1液晶层13a只要分别具有1个以上的层叠区域13ay和未层叠区域13ax即可，也可以分别具有2个以上，层叠区域13ay与未层叠区域13ax的数量可以互为相同或不同。
如后所述，带粘接层的层叠体2a是为了获得具有光学功能层60a的带基材层的光学层叠体3a(图4)而使用的，通过从该带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a，能够得到光学层叠体4a(图6)。带粘接层的层叠体2a具有包含经水平取向的液晶化合物且穿刺试验中的位移量为2.0mm以下的第1液晶层13a，因此，如上所述，从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a时，能够使第1液晶层13a在第1液晶层13a的层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间良好地分离。
另外，在带粘接层的层叠体2a中，通过使含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力为0.05N/25mm以上，能够使第1液晶层13a在第1液晶层13a的层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间良好地分离。
本实施方式的带粘接层的层叠体可以如以下所示的变形例那样地进行变更。
(实施方式2的变形例1)
在上文中，以具有图1所示的层叠体1a和粘接层30a的带粘接层的层叠体2a为例进行了说明，但层叠体可以为图2所示的层叠体1b。使用了层叠体1b的带粘接层的层叠体是为了获得后述具有光学功能层的带基材层的光学层叠体而使用的，通过从该带基材层的光学层叠体剥离基材层11b(含基材层的层)，能够得到后述光学层叠体4b(图7)。在使用了层叠体1b的带粘接层的层叠体中，通过使具有包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13b的含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下，在从带基材层的光学层叠体剥离基材层11b时，能够使含第1液晶层的层20b在含第1液晶层的层20b的设置有粘接层的区域即层叠区域与未设置粘接层的区域即未层叠区域之间良好地分离。另外，通过使基材层11b与含第1液晶层的层20b之间的密合力为0.05N/25mm以上，从带基材层的光学层叠体剥离基材层11b时，容易使含第1液晶层的层20b在层叠区域与未层叠区域之间良好地分离。
(实施方式2的变形例2)
在上文中，以包含取向层的带粘接层的层叠体为例进行了说明，但带粘接层的层叠体可以不含取向层。
[实施方式3(带基材层的光学层叠体)]
图4是示意性地示出本实施方式的带基材层的光学层叠体的一例的概略截面图。
图中，W表示宽度方向。如图4所示那样，本实施方式的带基材层的光学层叠体3a依次具有图1所示的层叠体1a、粘接层30a和光学功能层60a，粘接层30a设置于层叠体1a的第1液晶层13a侧。带基材层的光学层叠体3a只要具有层叠体1a的第1液晶层13a与光学功能层60a隔着粘接层30a相对的结构即可，可以将层叠体1a与光学功能层60a隔着粘接层30a进行贴合，也可以在图3所示的带粘接层的层叠体2a的粘接层30a上设置光学功能层60a。对于带基材层的光学层叠体3a所含的基材层11a、取向层12a、第1液晶层13a和粘接层30a的说明，如之前的实施方式中说明的那样。光学功能层60a可以包含例如偏振层，也可以包含使聚合性液晶化合物进行聚合而形成的液晶层即第2液晶层，还可以包含偏振层和第2液晶层。带基材层的光学层叠体3a可以为片状体的膜，也可以为长条的膜。
如图4所示那样，在带基材层的光学层叠体3a的宽度方向截面中，光学功能层60a与粘接层30a相比宽度方向的长度变长，光学功能层60a的宽度方向两端的位置与粘接层30a的宽度方向两端的位置相比位于宽度方向外侧。光学功能层60a的宽度方向的长度和宽度方向两端的位置不限定于图4所示的位置，但通过处于上述关系，在输送带基材层的光学层叠体3a时，能够抑制粘接层露出从而污染输送路径。需要说明的是，光学功能层60a与层叠体1a的各层的宽度方向的长度和宽度方向两端的位置关系没有特别限定，光学功能层60a的宽度方向的长度与形成层叠体1a的所有层相比可长可短，可以与形成层叠体1a的任意层不同，也可以与任意层相同。
另外，光学功能层60a的宽度方向两端的位置与形成层叠体1a的所有层相比可以为宽度方向外侧，也可以为内侧，还可以与形成层叠体1a的任意层相同。
如后所述，通过从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a，能够得到光学层叠体4a(图6)。带基材层的光学层叠体3a具有包含经水平取向的液晶化合物且穿刺试验中的位移量为2.0mm以下的第1液晶层13a，因此如上所述地从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a时，能够使第1液晶层13a在第1液晶层13a的层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间良好地分离。
另外，在带基材层的光学层叠体3a中，通过使含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力为0.05N/25mm以上，能够使第1液晶层13a在第1液晶层13a的层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间良好地分离。
本实施方式的带基材层的光学层叠体可以如以下所示的变形例那样地进行变更。
(实施方式3的变形例1)
在上文中，以具有图1所示的层叠体1a、粘接层30a和光学功能层60a的带基材层的光学层叠体3a为例进行了说明，但层叠体可以为图2所示的层叠体1b。通过从使用了层叠体1b的带基材层的光学层叠体剥离基材层11b(含基材层的层)，能够获得后述的光学层叠体4b(图7)。在使用了层叠体1b的带基材层的光学层叠体中，通过使具有包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13b的含第1液晶层的层20b的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下，在从带基材层的光学层叠体剥离基材层11b时，能够使含第1液晶层的层20b在含第1液晶层的层20b的层叠有粘接层的区域即层叠区域与未层叠粘接层的区域即未层叠区域之间良好地分离。
另外，通过使基材层11b与含第1液晶层的层20b之间的密合力为0.05N/25mm以上，从带基材层的光学层叠体剥离基材层11b时，容易使含第1液晶层的层20b在层叠区域与未层叠区域之间良好地分离。
(实施方式3的变形例2)
在上文中，以包含取向层的带粘接层的层叠体为例进行了说明，但带基材层的光学层叠体可以不含取向层。
(实施方式3的变形例3)
在上文中，以使用了光学功能层60a的带基材层的光学层叠体3a(图4)为例进行了说明，但光学功能层60a可以为例如图1所示的层叠体1a。图5是示意性地示出本实施方式的带基材层的光学层叠体的其它例的概略截面图。图5所示的带基材层的光学层叠体3c依次包含层叠体1a、粘接层30c和光学功能层60c。对于层叠体1a的说明，如之前的实施方式中说明的那样。
另外，粘接层30d与粘接层30a相同，且光学功能层60c具有与图1所示的层叠体1a相同的层结构，因此省略其说明。
在带基材层的光学层叠体3c中，在光学功能层60c的第1液晶层13a(第2液晶层)侧设置有粘接层30c。另外，通过从带基材层的光学层叠体3c剥离形成层叠体1a的含基材层的层10a，能够得到光学层叠体。
在带基材层的光学层叠体3c中，以使用图1所示的层叠体1a作为光学功能层60c的情况为例进行了说明，但也可以使用图2所示的层叠体1b作为光学功能层。另外，形成光学功能层的层叠体的第1液晶层、含有液晶层的层在穿刺试验中的位移量可以为2.0mm以下，也可以超过2.0mm。
[实施方式4(光学层叠体及其制造方法)]
图6是示意性地示出本实施方式的光学层叠体的制造工序的一例的概略截面图。
图中，W表示宽度方向。如图6所示那样，本实施方式的光学层叠体4a依次包含第1’液晶层13’a(含第1’液晶层的层)、粘接层30a和光学功能层60a。第1’液晶层13’a包含沿着相对于其表面的水平方向发生取向的液晶化合物。对于光学层叠体4a所含的粘接层30a和光学功能层60a的说明，如之前的实施方式中说明的那样。光学层叠体4a可以为片状体的膜，也可以为长条的膜。
在光学层叠体4a的宽度方向截面中，第1’液晶层13’a与粘接层30可以如图6所示那样地宽度方向的长度相同，且宽度方向两端的位置也相同。
这种光学层叠体4a可以历经例如从图4所示的带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a的工序来获得。若从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a，则如图6所示那样，能够以未层叠区域13ax存在于含基材层的层10a上且层叠区域13ay存在于粘接层30a上的方式将第1液晶层13a分离，粘接层30a上存在的层叠区域13ay成为第1’液晶层13’a。这种第1液晶层13a的分离是因为带基材层的光学层叠体3a中的第1液晶层13a具有未设置粘接层30a的未层叠区域13ax(图4中，用右上斜线表示的部分)和设置有粘接层30a的层叠区域13ay而发生的。具体而言，层叠区域13ay是设置有粘接层30的区域，因此，即使将含基材层的层10a剥离，其也固定于粘接层30a而难以与含基材层的层10a一同被剥离。与此相对，未层叠区域13ax是未设置粘接层30a的区域，因此，若将含基材层的层10a剥离，则容易与含基材层的层10a一同被剥离。其结果，若从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a，则第1液晶层13a分离成未层叠区域13ax和层叠区域13ay。
本实施方式中，如上所述，带基材层的光学层叠体3a中的第1液晶层13a包含经水平取向的液晶化合物，且穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。因此，通过从带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a，能够将未层叠区域13ax与层叠区域13ay良好地分离，能够抑制下述不良情况的发生：第1液晶层13a未在层叠区域13ay与未层叠区域13ax之间这一预期位置发生分离、未被分离且分离部分形成不规则形状、在分离部分产生褶皱等。另外，通过使穿刺试验中的位移量处于上述范围，如图6所示那样，容易获得第1’液晶层13’a的宽度方向两端的位置与粘接层30的宽度方向两端的位置相同的光学层叠体4a。
光学层叠体4a的第1’液晶层13’a在穿刺试验中的位移量与之前的实施方式中说明的第1液晶层13a同样地为2.0mm以下，优选为1.5mm以下、可以为1.2mm以下、可以为1.1mm以下，另外，只要为0(零)mm以上即可，通常为0.1mm以上，优选为0.3mm以上、更优选为0.5mm以上。如上所述，在从带基材层的光学层叠体3a获得光学层叠体4a的情况下，第1’液晶层13’a是来自之前的实施方式中说明过的第1液晶层13a的层，因此可以具有与第1液晶层13a相同的特性。
需要说明的是，光学层叠体4a也可以用作之前的实施方式中说明过的光学功能层。将光学层叠体4a用作光学功能层的带基材层的光学层叠体可以制成使层叠体的含有液晶层的层与光学层叠体4a的第1’液晶层13’a(第2液晶层)隔着粘接层相对的光学层叠体。另外，通过从该带基材层的光学层叠体剥离含基材层的层，能够得到光学层叠体。
本实施方式的光学层叠体及其制造方法可以如以下所示的变形例那样地进行变更。
(实施方式4的变形例1)
在上文中，以依次包含第1’液晶层13’a、粘接层30a和光学功能层60a的光学层叠体4a为例进行了说明，但光学层叠体可以进一步具有取向层，也可以为例如图7所示的光学层叠体。图7是示意性地示出本实施方式的光学层叠体的其它例的概略截面图。如图7所示那样，光学层叠体4b依次包含：包含取向层12’b和第1’液晶层13’b的含第1’液晶层的层20’b、粘接层30a和光学功能层60a。粘接层30a设置于含第1’液晶层的层20’b的第1’液晶层13’b侧。
在光学层叠体4b的宽度方向截面中，含第1’液晶层的层20’b(取向层12’b和第1’液晶层13’b)与粘接层30a可以如图7所示那样地宽度方向的长度相同，且宽度方向两端的位置也相同。这种光学层叠体4b可通过例如从包含层叠体1b(图2)的带基材层的光学层叠体剥离基材层11b(含基材层的层)来获得。若从包含层叠体1b的带基材层的光学层叠体剥离基材层11b，则根据与由图6所示的带基材层的光学层叠体3a获得光学层叠体4a的情况相同的原理，如图7所示那样，含第1液晶层的层20b(图2)分离成未层叠粘接层30a的区域即未层叠区域(图7中，用右上斜线表示的部分)和层叠有粘接层30a的区域即层叠区域。在图2所示的层叠体1b中，具有包含经水平取向的液晶化合物的第1液晶层13b的含第1液晶层的层20b在穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。因此，若从包含层叠体1b的带基材层的光学层叠体剥离基材层11b，则能够将含第1液晶层的层20b良好地分离成未层叠区域和层叠区域。由此，上述层叠区域成为图7所示的含第1’液晶层的层20’b，能够得到含第1’液晶层的层20’b的宽度方向两端的位置与粘接层30a的宽度方向两端的位置相同的光学层叠体4b。
光学层叠体4b的含第1’液晶层的层20’b在穿刺试验中的位移量与之前的实施方式中说明的含第1液晶层的层20b同样地为2.0mm以下，优选为1.5mm以下、可以为1.2mm以下、可以为1.1mm以下，另外，只要为0(零)mm以上即可，通常为0.1mm以上，优选为0.3mm以上、更优选为0.5mm以上。如上所述，从包含层叠体1b的带基材层的光学层叠体得到光学层叠体4b时，含第1’液晶层的层20’b、含第1’液晶层的层20’b所包含的取向层12’b和第1’液晶层13’b成为来自之前的实施方式中说明过的含第1液晶层的层20b的层，因此，可以具有与含第1液晶层的层20b、取向层12b和第1液晶层13b分别相同的特性。
需要说明的是，光学层叠体4b也可以用作之前的实施方式中说明的光学功能层。将光学层叠体4b用作光学功能层的带基材层的光学层叠体可以制成使层叠体的含有液晶层的层与光学层叠体4b的取向层12’b隔着粘接层相对的光学层叠体。另外，通过从该带基材层的光学层叠体剥离含基材层的层，能够得到光学层叠体。
(实施方式4的变形例2)
在上文中，对于从图4所示的带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a而得到光学层叠体4a(图6)的情况进行了说明，但也可以从图5所示的带基材层的光学层叠体3c剥离含基材层的层10a而得到光学层叠体。
需要说明的是，从图5所示的带基材层的光学层叠体3c剥离含基材层的层10a而得到的光学层叠体也可以用作之前的实施方式中说明的层叠体。此时，通过在剥离含基材层的层10a后的一侧设置粘接层，并在该粘接层上层叠光学功能层，能够得到带基材层的光学层叠体。通过从该带基材层的光学层叠体剥离含基材层的层10a，也能够得到光学层叠体。另外，在该情况下，如之前的实施方式中说明的那样，光学功能层60c所含的第1液晶层13a的穿刺试验中的位移量优选设为2.0mm以下，光学功能层60c所含的含基材层的层10a与第1液晶层13a之间的密合力也优选设为0.05N/25mm以上。由此，通过将光学功能层60c所含的基材层11a剥离，能够使光学功能层60c所含的第1液晶层13a在层叠区域和未层叠区域良好地分离。
另外，从图5所示的带基材层的光学层叠体3c剥离含基材层的层10a而得到的光学层叠体也可以用作之前的实施方式中说明的光学功能层。
(实施方式4的变形例3)
在上文中，以从未层叠区域13ax位于宽度方向两端的带基材层的光学层叠体3a剥离含基材层的层10a而制造光学层叠体4a的情况为例进行了说明，但不限定于此。例如，在带基材层的光学层叠体的俯视图中，在第1液晶层的中央部具有未层叠区域且以包围未层叠区域的方式具有层叠区域的情况下，通过从带基材层的光学层叠体剥离第1剥离层，也能够使第1液晶层在未层叠区域与层叠区域之间良好地分离。此时，在光学层叠体中，可以使其俯视图中的第1’液晶层的轮廓位置与粘接层的轮廓位置保持一致。
以上，对本发明的实施方式及其变形例进行了说明，但本发明不限定于这些实施方式及其变形例，例如，也可以将上述的各实施方式及其变形例的各结构和各工序加以组合来实施。以下，对全部实施方式及其变形例中通用的各事项进行详细说明。
(光学功能层)
光学功能层的构成没有特别限定，可以是偏振层、在偏振层的至少单面形成有保护层的偏振板、在偏振板的至少单面层叠有防护膜的带防护膜的偏振板、反射膜、半透射型反射膜、增亮膜、光学补偿膜、带防眩功能的膜、相位差膜等，可以是具有它们之中的一个的构成，也可以具有含有两个以上的多层结构。另外，光学功能层可以包含第2液晶层。本说明书中，“偏振层”是指具有如下性质的层：使无偏振的光入射时，使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射的性质。
作为光学功能层任选包含的偏振层，可以是二色性色素吸附取向于单层的聚乙烯醇树脂膜而得的偏振层，也可以是在基材膜上设置有二色性色素吸附取向了的聚乙烯醇树脂层的两层以上的层叠膜。另外，偏振层可以是使二色性色素取向于聚合性液晶化合物，并使聚合性液晶化合物发生聚合而得的固化膜。此时，偏振层也可以是第2液晶层。
光学功能层任选包含的第2液晶层可以是聚合性液晶化合物发生聚合而形成的层。第2液晶层可通过在第2液晶层用基材层上或者设置于其上的第2液晶层用取向层上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并进行干燥，且通过照射紫外线等活性能量射线将聚合性液晶化合物聚合并使其固化来形成。
(基材层)
基材层的构成没有特别限定，优选为由树脂材料形成的膜。作为树脂材料，可以使用例如透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的树脂材料。具体而言，可列举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂；降冰片烯系聚合物等环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素和乙酸丙酸纤维素等纤维素酯系树脂；聚乙烯醇和聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚芳酯系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚酮系树脂；聚苯硫醚系树脂；聚苯醚系树脂、以及它们的混合物、共聚物等。这些树脂之中，优选使用环状聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素酯系树脂和(甲基)丙烯酸系树脂中的任一者或它们的混合物。需要说明的是，上述“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸和甲基丙烯酸中的至少1种”。
基材层可以是混合有1种或2种以上树脂的单层，也可以具有2层以上的多层结构。在具有多层结构的情况下，形成各层的树脂彼此可以相同也可以不同。在基材层为由树脂材料形成的膜的情况下，可以向基材层添加任意添加剂。作为添加剂，可列举出例如紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料和着色剂等。
基材层的厚度没有特别限定，一般而言，从强度、处理性等作业性的观点出发，优选为1～300μm、更优选为10～200μm、进一步优选为30～120μm。
(取向层)
层叠体可以在基材层与第1液晶层之间包含取向层。取向层具有使形成于其上的液晶层所包含的聚合性液晶化合物沿着期望方向发生取向的取向控制力。作为取向层，优选具有不因聚合性液晶组合物的涂布等而溶解的耐溶剂性，且具有耐受用于去除溶剂、使后述聚合性液晶化合物发生取向的加热处理的耐热性。作为取向层，可列举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案或多个沟槽(槽)的沟槽取向层。从控制取向控制力的容易性的观点出发，作为取向层，优选为光取向性聚合物层。取向层的厚度优选为0.01μm以上、可以为0.05μm以上，另外，通常为10μm以下、可以为3μm以下、优选为0.5μm以下。
取向性聚合物层可通过将使取向性聚合物溶解于溶剂而得的组合物涂布于基材层并去除溶剂，并根据需要进行摩擦处理来形成。此时，对于由取向性聚合物形成的取向性聚合物层而言，取向控制力可通过取向性聚合物的表面状态、摩擦条件来任意地调整。另外，通过向取向性聚合物中添加交联剂等，能够调整膜强度。
光取向性聚合物层可通过将包含具有光反应性基团的聚合物或单体且包含溶剂的光取向膜形成用组合物涂布于基材层，并照射偏振光来形成。此时，对于光取向性聚合物层而言，取向控制力可通过对于光取向性聚合物的偏振光照射条件等来任意地调整。另外，通过向取向性聚合物中添加交联剂等，能够调整膜强度。
光反应性基团是指通过进行光照射而产生液晶取向能力的基团。具体而言，可列举出参与通过光照射而发生的分子的取向诱导或异构化反应、二聚反应、光交联反应或光分解反应等成为液晶取向能力的起源的光反应的基团。其中，参与二聚反应或光交联反应的基团从取向性、膜强度优异的观点出发是优选的。作为光反应性基团，优选为不饱和键，特别优选具有双键的基团，特别优选具有选自碳-碳双键(C＝C键)、碳-氮双键(C＝N键)、氮-氮双键(N＝N键)和碳-氧双键(C＝O键)中的至少1者的基团。
作为具有C＝C键的光反应性基团，可列举出乙烯基、多烯基、芪基、芪唑基、芪唑鎓基、查尔酮基和肉桂酰基等。作为具有C＝N键的光反应性基团，可列举出具有芳香族席夫碱、芳香族腙等结构的基团。作为具有N＝N键的光反应性基团，可列举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲臢(formazan)基和具有氧化偶氮基苯结构的基团等。作为具有C＝O键的光反应性基团，可列举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基和马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基、卤代烷基等取代基。
其中，优选参与光二聚反应的光反应性基团，从光取向所需的偏振光照射量较少且容易获得热稳定性、经时稳定性优异的光取向膜的观点出发，优选肉桂酰基和查尔酮基。作为具有光反应性基团的聚合物，特别优选具有使该聚合物侧链的末端部成为肉桂酸结构那样的肉桂酰基的聚合物。
通过将光取向膜形成用组合物涂布在基材层上，能够在基材层上形成光取向诱导层。作为该组合物所含的溶剂，可列举出与作为聚合性液晶组合物中能够使用的溶剂而后述的溶剂相同的溶剂，可根据具有光反应性基团的聚合物或单体的溶解性来适当选择。
光取向膜形成用组合物中的具有光反应性基团的聚合物或单体的含量可根据聚合物或单体的种类或作为目标的光取向性聚合物层的厚度来适当调节，相对于光取向膜形成用组合物的质量，优选设为至少0.2质量％，更优选为0.3～10质量％的范围。在不明显损害光取向膜特性的范围内，光取向膜形成用组合物可以包含聚乙烯醇、聚酰亚胺等高分子材料、光敏剂。
作为将光取向膜形成用组合物涂布于基材层的方法，可列举出旋涂法、挤压法、凹版涂布法、模具涂布法、棒涂法、涂抹法等涂布法；柔版法等印刷法等公知的方法。作为从所涂布的光取向膜形成用组合物中去除溶剂的方法，可列举出例如自然干燥法、通风干燥法、加热干燥和减压干燥法等。
对于照射偏振光而言，可以是对从涂布至基材层上的光取向膜形成用组合物中去除溶剂而得的物质直接照射偏振UV的形式，也可以是从基材层侧照射偏振光并使偏振光透射来进行照射的形式。另外，该偏振光特别优选实质上为平行光。
所照射的偏振光的波长可以是具有光反应性基团的聚合物或单体的光反应性基团能够吸收光能量的波长区域。具体而言，特别优选为波长250～400nm的范围的UV(紫外线)。作为用于照射该偏振光的光源，可列举出氙灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、KrF、ArF等紫外光激光等，更优选为高压汞灯、超高压汞灯和金属卤化物灯。这些之中，高压汞灯、超高压汞灯和金属卤化物灯的波长313nm的紫外线的发光强度大，故而优选。通过穿过适当的偏振片而照射来自上述光源的光，能够照射偏振UV。作为所述偏振片，可以使用偏振滤光器、格兰-汤普森、格兰泰勒等偏振棱镜、线栅类型的偏振片。
沟槽取向层可通过如下方法来形成：例如，隔着具有图案形状的狭缝的曝光用掩膜对感光性聚酰亚胺膜表面进行曝光、显影等从而形成凹凸图案的方法；在表面具有槽的板状原盘(日文：原盤)形成活性能量射线固化性树脂的未固化层，将该层转印至基材层并进行固化的方法；在基材层形成活性能量射线固化性树脂的未固化层，并对该层按压具有凹凸的辊状原盘等，由此形成凹凸并使其固化的方法等。
(第1液晶层和第2液晶层)
第1液晶层和第2液晶层(以下，有时将两者统称为“液晶层”)可以使用包含公知的聚合性液晶化合物等液晶化合物的组合物来形成。
聚合性液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物和它们的混合物。聚合性液晶化合物具有可以参与至少1种聚合反应的聚合性反应基团，尤其是光聚合性反应基团。光聚合性反应基团是指通过由光聚合引发剂产生的反应活性物种、例如活性自由基或酸等而可以参与聚合反应的基团。作为光聚合性官能团，可列举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁基等。其中，优选为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙烷基和氧杂环丁基，更优选为丙烯酰氧基。关于聚合性液晶化合物的液晶性，液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致性液晶，作为相有序结构，可以为向列液晶，也可以为近晶液晶。聚合性液晶化合物可以仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为聚合性液晶化合物，可列举出例如日本特表平11-513019号公报、日本特开2010-31223号公报、日本特开2010-270108号公报、日本特开2011-6360号公报和日本特开2011-207765号公报中记载那样的液晶化合物等。
在使用聚合性液晶化合物的情况下，包含聚合性液晶化合物的组合物可以在包含聚合性液晶化合物的基础上，进一步包含溶剂、聚合引发剂、交联剂、流平剂、抗氧化剂、增塑剂、敏化剂等添加剂。这些成分可以分别仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为包含聚合性液晶化合物的组合物中任选含有的溶剂，优选为能够溶解上述聚合性液晶化合物且对于上述聚合性液晶化合物的聚合反应为惰性的溶剂。
作为溶剂，可列举出甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲基醚、苯酚等醇溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯溶剂；丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、环庚酮、甲基戊基酮、甲基异丁基酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等酮溶剂；戊烷、己烷、庚烷等非氯代脂肪族烃溶剂；甲苯、二甲苯等非氯化芳香族烃溶剂；乙腈等腈溶剂；丙二醇单甲基醚、四氢呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶剂；氯仿、氯苯等氯代烃溶剂等。溶剂可以单独使用，也可以组合使用。
聚合性液晶组合物中的溶剂含量通常相对于固体成分100质量份优选为10质量份～10000质量份，更优选为50质量份～5000质量份。需要说明的是，固体成分是指聚合性液晶组合物中的除了溶剂之外的成分的合计。
包含聚合性液晶化合物的组合物所任选含有的聚合引发剂是能够引发聚合性液晶化合物的聚合反应的化合物，从能够在更低温条件下引发聚合反应的观点出发，优选光聚合性引发剂。具体而言，可列举出能够利用光的作用产生活性自由基或酸的光聚合引发剂，其中，优选利用光的作用而产生自由基的光聚合引发剂。作为光自由基聚合引发剂，可列举出例如苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、苯偶酰缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、肟化合物、三嗪化合物、碘鎓盐和锍盐。作为光自由基聚合引发剂，可以仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为光自由基聚合引发剂，可以使用市售品。作为这种市售品，具体而言，可列举出Irgacure(イルガキュア、注册商标)907、Irgacure 184、Irgacure 651、Irgacure 819、Irgacure 250、Irgacure 369、Irgacure 379、Irgacure 127、Irgacure 2959、Irgacure754、Irgacure 379EG(以上为BASF JAPAN公司制)；Seikuol BZ、Seikuol Z、Seikuol BEE(以上为精工化学公司制)；Kayacure(カヤキュア一)BP100(日本化药公司制)；KayacureUVI-6992(DOW公司制)；ADEKA OPTOMER SP-152、ADEKA OPTOMER SP-170、ADEKA OPTOMERN-1717、ADEKA OPTOMER N-1919、ADEKA ARKLES NCI-831、ADEKA ARKLES NCI-930(以上为ADEKA公司制)；TAZ-A、TAZ-PP(以上为日本SiberHegner公司制)和TAZ-104(三和化学公司制)。
聚合引发剂的含量相对于聚合性液晶化合物的总量100重量份通常为0.1～30质量份，优选为1～20质量份，更优选为1～15质量份。若在该范围内，则聚合性基团的反应充分进行，且容易使液晶化合物的取向状态稳定化。
包含聚合性液晶化合物的组合物所任选含有的交联剂是在分子内具有1个以上光反应性基团、热反应性基团的化合物。通过使用交联剂，液晶层的交联密度发生变化，容易调整膜强度。作为交联剂，可列举出多官能丙烯酸酯化合物、环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、羟甲基化合物、异氰酸酯化合物等。
其中，从涂布膜的均匀性和调整膜强度的观点出发，优选多官能丙烯酸酯化合物。交联剂优选在分子内具有2个以上且8个以下的反应性基团，更优选具有2个以上且6个以下的聚合性基团。
作为多官能丙烯酸酯，可以使用市售品。作为这种市售品，具体而言，可列举出A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化学公司制)、“ARONIX M-220”、“ARONIX M-325”、“ARONIX M-240”、“ARONIX M-270”“ARONIXM-309”、“ARONIX M-310”、“ARONIX M-321”、“ARONIX M-350”、“ARONIX M-360”、“ARONIX M-305”、“ARONIXM-306”、“ARONIX M-450”、“ARONIX M-451”、“ARONIX M-408”、“ARONIX M-400”、“ARONIX M-402”、“ARONIX M-403”、“ARONIX M-404”、“ARONIX M-405”、“ARONIX M-406”(东亚合成公司制)；“EBECRYL 11”、“EBECRYL 145”、“EBECRYL 150”、“EBECRYL 40”、“EBECRYL140”、“EBECRYL 180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列(Daicel-Scitech公司制)等。
交联剂的含量相对于聚合性液晶化合物的总量100质量份优选为1质量份～30质量份，更优选为3质量份～20质量份。若交联剂的含量为下限值以下，则在研磨等加工时容易发生不良情况，若为上限值以上，则液晶化合物的取向状态变得不稳定，容易产生取向缺陷。
作为包含聚合性液晶化合物的组合物所任选含有的反应性添加剂，优选在其分子内具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团。需要说明的是，此处提及的“活性氢反应性基团”是指对于羧基(-COOH)、羟基(-OH)、氨基(-NH2)等具有活性氢的基团具备反应性的基团，其代表例为缩水甘油基、噁唑啉基、碳二亚胺基、氮丙啶基、酰亚胺基、异氰酸酯基、硫代异氰酸酯基、马来酸酐基等。反应性添加剂在分子内具有的碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的个数通常分别为1～20个，优选分别为1～10个。
在反应性添加剂中，优选在分子内存在至少2个活性氢反应性基团。此时，存在的多个活性氢反应性基团可以相同，也可以不同。
反应性添加剂在分子内具有的碳-碳不饱和键是指碳-碳双键或碳-碳三键，优选为碳-碳双键。其中，作为反应性添加剂，优选在分子内以乙烯基和/或(甲基)丙烯酰基的形式包含碳-碳不饱和键。进而，活性氢反应性基团优选为选自环氧基、缩水甘油基和异氰酸酯基中的至少1种。尤其是，特别优选具有丙烯酸类基团作为碳-碳双键且具有异氰酸酯基作为活性氢反应性基团的反应性添加剂。
作为反应性添加剂，可列举出甲基丙烯酰氧基缩水甘油醚、丙烯酰氧基缩水甘油醚等具有(甲基)丙烯酰基和环氧基的化合物；氧杂环丁烷丙烯酸酯、氧杂环丁烷甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯酰基和氧杂环丁基的化合物；内酯丙烯酸酯、内酯甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯酰基和内酯基的化合物；乙烯基噁唑啉、异丙烯基噁唑啉等具有乙烯基和噁唑啉基的化合物；丙烯酸异氰酰基甲酯、甲基丙烯酸异氰酰基甲酯、丙烯酸2-异氰酰基乙酯和甲基丙烯酸2-异氰酰基乙酯等具有(甲基)丙烯酰基和异氰酸酯基的化合物、以及这些单体的低聚物等。另外，可列举出甲基丙烯酸酐、丙烯酸酐、马来酸酐、乙烯基马来酸酐等具有乙烯基、亚乙烯基和酸酐的化合物等。其中，优选为甲基丙烯酰氧基缩水甘油醚、丙烯酰氧基缩水甘油醚、丙烯酸异氰酰基甲酯、甲基丙烯酸异氰酰基甲酯、乙烯基噁唑啉、丙烯酸2-异氰酰基乙酯、甲基丙烯酸2-异氰酰基乙酯或这些单体的低聚物，特别优选为丙烯酸异氰酰基甲酯、丙烯酸2-异氰酰基乙酯或这些单体的低聚物。
在聚合性液晶组合物含有反应性添加剂的情况下，其含量相对于聚合性液晶化合物100质量份通常为0.1质量份以上且30质量份以下，优选为0.1质量份以上且5质量份以下。
为了使涂布组合物而得到的涂膜更平坦，包含聚合性液晶化合物的组合物可以含有流平剂。作为流平剂，可列举出例如硅酮系、聚丙烯酸酯系和全氟烷基系的流平剂。
作为流平剂，可以使用市售品，具体而言，可列举出DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上均为东丽道康宁公司制)；KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上均为信越化学工业公司制)；TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上均为Momentive Performance Materials Japan合同公司制)；fluorinert(フロリナート)(注册商标)FC-72、fluorinert FC-40、fluorinert FC-43、fluorinert FC-3283(以上均为住友3M公司制)；Megafac(日文：メガフアツク，注册商标)R-08、Megafac R-30、Megafac R-90、Megafac F-410、Megafac F-411、Megafac F-443、Megafac F-445、Megafac F-470、Megafac F-477、Megafac F-479、Megafac F-482、Megafac F-483、Megafac F-556(以上均为DIC公司制)、Eftop(商品名)EF301、Eftop EF303、Eftop EF351、Eftop EF352(以上均为三菱材料电子化成公司制)；Surflon(注册商标)S-381、Surflon S-382、Surflon S-383、Surflon S-393、Surflon SC-101、Surflon SC-105、KH-40、SA-100(以上均为AGC SeimiChemica公司制)；商品名E1830、E5844(大金精细化学研究所制)；BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353和BYK-361N(均为商品名：BM Chemie公司制)等。流平剂可以单独使用或组合使用2种以上。
流平剂的含量相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为0.01～5质量份，进一步优选为0.05～3质量份。若流平剂的含量在上述范围内，则存在容易使聚合性液晶化合物发生取向且所得液晶固化膜变得更平滑的倾向，故而优选。
在使用聚合性液晶化合物的情况下，通过将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布至取向层上，加热至相变温度从而形成使液晶化合物发生了水平取向的涂膜，并使该涂膜发生固化，由此能够形成作为液晶固化层的液晶层。或者，通过在基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的组合物而形成涂膜，并将该涂膜与基材层一同拉伸，由此也可以形成液晶层。
作为将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布至基材层或取向层上的方法，可列举出旋涂法、挤压法、凹版涂布法、模具涂布法、棒涂法、涂抹法等涂布法；柔版法等印刷法等公知的方法。
作为包含聚合性液晶化合物的组合物的干燥方法，可列举出自然干燥法、通风干燥法、加热干燥和减压干燥法等。此时，通过将由聚合性液晶组合物得到的涂膜进行加热，能够从涂膜中干燥去除溶剂且使聚合性液晶化合物发生取向。涂膜的加热温度可考虑所使用的聚合性液晶化合物和形成涂膜的基材层、取向层等的材质等来适当决定，为了使聚合性液晶化合物相变成液晶相状态，通常需要为液晶相变温度以上的温度。
加热时间可根据加热温度、所使用的聚合性液晶化合物的种类、溶剂的种类和其沸点及其量等来适当决定，通常为15秒～10分钟，优选为0.5～5分钟。
在所得干燥涂膜中，通过在保持聚合性液晶化合物的取向状态的情况下，使聚合性液晶化合物发生固化，从而形成以期望的取向状态存在的聚合性液晶化合物的聚合物、即液晶层。作为固化方法，可列举出热聚合和光聚合，从聚合容易度的观点出发，优选为光聚合。在光聚合中，作为对干燥涂膜进行照射的光，可根据该干燥涂膜所包含的光自由基聚合引发剂的种类、聚合性液晶化合物的种类(尤其是该聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团的种类)及其量来适当选择。作为其具体例，可列举出选自可见光、紫外光、红外光、X射线、α射线、β射线和γ射线中的1种以上的光、活性电子射线。其中，从控制聚合反应的进行且容易调整膜强度的观点、作为光聚合装置而能够使用在本领域中广泛使用的装置的观点出发，优选为紫外光，优选以能够利用紫外光进行光聚合的方式预先选择聚合性液晶组合物所含有的聚合性液晶化合物、光自由基聚合引发剂的种类。另外，通过在聚合时一边利用适当的冷却手段将干燥涂膜进行冷却一边进行光照射，也能够控制聚合温度。如果通过采用这种冷却手段在更低温下实施聚合性液晶化合物的聚合，则即使基材使用了耐热性较低的基材，也能够适当地形成液晶层。另外，通过在不因光照射时的热而发生不良情况(基材的由热导致的变形等)的范围内提高聚合温度，也能够促进聚合反应。
作为对干燥涂膜照射的光的光源，可列举出例如低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、氙灯、卤素灯、碳弧灯、钨灯、镓灯、准分子激光、发出波长范围为380～440nm的光的LED光源、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。
紫外光的照射强度通常为10～3,000mW/cm2。紫外光的照射强度优选为对于光聚合引发剂的活化而言有效的波长区域内的强度。照射紫外光的时间通常为0.1秒～10分钟，优选为0.1秒～5分钟、更优选为0.1秒～3分钟、进一步优选为0.1秒～1分钟。若以这种紫外光的照射强度照射1次或多次，则其累积光量为10～3,000mJ/cm2、优选为50～2,000mJ/cm2、更优选为100～1,000mJ/cm2。
液晶层的厚度可根据所应用的显示装置来适当选择，优选为0.3μm以上、可以为0.5μm以上、可以为1μm以上，另外，通常为10μm以下、可以为5μm以下、优选为3μm以下。
第1液晶层和第2液晶层可以分别为相位差层，也可以为偏振层。作为相位差层，只要对光赋予特定的相位差，就没有特别限定，可列举出例如作为1/2波长板、1/4波长板、逆波长分散性的1/4波长板等而发挥功能的相位差层。
(粘接层)
粘接层可以利用粘接剂、粘合剂和它们的组合来形成，通常为1层，可以为2层以上。粘接层包含2层以上的层时，各层彼此可以由相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为粘接剂，可以将例如水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂等之中的1种或2种以上组合来形成。作为水系粘接剂，可列举出例如聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。作为活性能量射线固化型粘接剂，是通过照射紫外线等活性能量射线而发生固化的粘接剂，可列举出例如包含聚合性化合物和光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂和光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可列举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体；来自这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可列举出包含通过照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基、酸之类的活性物种的物质的光聚合引发剂。使用粘接剂而形成的粘接层(粘接剂层)的厚度没有特别限定，通常为0.001μm～10μm，从外观不良的观点出发，优选为0.01～5μm。
作为粘合剂，可列举出例如以(甲基)丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅酮系树脂、聚酯、聚氨基甲酸酯、橡胶系树脂或聚醚等作为基础聚合物且添加有异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物等交联剂的组合物。其中，包含(甲基)丙烯酸系树脂的粘合剂的光学透明性、粘接性、耐久性优异，故而优选。使用粘合剂而形成的粘接层(粘合剂层)的厚度没有特别限定，通常为1μm～40μm，从加工性、耐久性的观点出发，优选为3μm～25μm。
从薄膜化等的观点出发，粘接层优选使用活性能量射线固化型粘接剂来形成，特别优选使用包含紫外线固化性的环氧系单体和光阳离子聚合引发剂的粘接剂来形成。
(光学层叠体)
光学层叠体通过使用例如包含偏振层的层作为光学功能层、使用包含1/4波长板的层作为第1液晶层或第2液晶层，或者使用包含1/4波长板的层作为光学功能层且使用包含液晶化合物的偏振层作为第1液晶层，由此能够制成圆偏振板。这种圆偏振板可用作例如有机电致发光(EL)显示装置的防反射膜。在将光学层叠体制成圆偏振板的情况下，光学层叠体只要包含偏振层和1/4波长板即可，例如，可以具有按照[i]偏振层、1/2波长板、1/4波长板的顺序或[ii]偏振层、逆波长分散性的1/4波长板的顺序层叠有各层的结构。
实施例
以下，示出实施例和比较例更具体地说明本发明，但本发明不限定于这些例子。实施例、比较例中的“％”和“份”在没有特别记载的情况下为质量％和质量份。
[面内相位差值的测定]
经由粘合剂(LINTEC公司制的压敏式粘合剂25μm)将将层叠体的含第1液晶层的层与玻璃进行贴合，并剥离含基材层的层，由此得到相位差值测定用的试验片。使用王子计测机器株式会社制的KOBRA-WR测定含第1液晶层的层的相对于波长550nm的光的面内相位差值。
[穿刺试验中的位移量的测定]
从自层叠体剥离含基材层的层而得到的含第1液晶层的层中切出长度30mm×宽度30mm的片断，作为穿刺试验用的试验片。穿刺试验使用安装有直径为1mm、前端的曲率半径为0.5R的穿刺夹具的小型台式试验机〔株式会社岛津制作所制的商品名“EZ Test”〕，对于夹在开有穿刺夹具能够通过的直径10mm的圆形孔的2片样品台之间的穿刺试验用试验片，将上述穿刺夹具以0.33cm/秒进行穿刺，测定直至穿刺试验用试验片发生断裂为止的位移量。
[密合力的测定]
在通过实施例得到的层叠体的含第1液晶层的层侧贴合粘合剂(LINTEC公司制的压敏式粘合剂、25μm)。从该形成有粘合剂层的层叠体裁切宽度25mm×长度约150mm的试验片，将其粘合剂层的面贴合于玻璃板后，在试验片的含基材层的层(宽度25mm的一边)粘贴剥离用胶带(宽度25mm×长度约180mm)。使用拉伸试验机夹住剥离用胶带的一端，在温度为23℃、相对湿度为60％的气氛下，以300mm/分钟的十字头速度(夹具移动速度)进行180°剥离试验，进行密合力的测定。
[光学层叠体的评价]
在通过实施例得到的层叠体(宽度200mm×长度约250mm、第1液晶层的取向方向可以采取相对于宽度方向的任意方向)的第1液晶层侧，按照在宽度方向两端分别以50mm的宽度方向的长度形成未形成粘合剂层的未层叠区域的方式，贴合粘合剂(LINTEC公司制的压敏式粘合剂、25μm)。在该粘合剂层上层叠作为光学功能层的偏振板(宽度100mm×长度约250mm)，得到带基材层的光学层叠体。对于从所得带基材层的光学层叠体中沿着长边方向剥离含基材层的层而得到的光学层叠体，通过目视观察第1液晶层的端部形状，将追随粘接层的形状的样品记作A，将呈现部分未追随粘接层形状的不规则形状或者产生褶皱的样品记作B，将呈现端部全长均未追随粘接层形状的不规则形状或者产生褶皱的样品记作C。
[加工性的评价]
将通过实施例而得到的层叠体(宽度200mm×长度约250mm、第1液晶层的取向方向相对于宽度方向可以采取任意方向)以含基材层的层朝上的方式，使用超级切割机(荻野精机制作所制)沿着长边方向进行裁切，利用倍率为100倍的显微镜对试验片的第1液晶层侧的裁切部附近进行观察。第1液晶层仅部分产生轻微裂纹、伤痕(长度为0.5mm以下)的样品记作A，部分产生长度超过0.5μm且为1.0mm以下的裂纹、伤痕的样品记作B，在第1液晶层的全长产生裂纹、伤痕的样品记作C。
〔实施例1〕
(光取向层形成用组合物(1)的制备)
将下述成分进行混合，并将所得混合物在80℃的温度下搅拌1小时，由此得到光取向层形成用组合物(1)。
·光取向性材料(5份)：
[化学式1]
Figure BDA0002378518540000331
·溶剂(95份)：环戊酮
(液晶层形成用组合物(A)的制备)
相对于下述所示的聚合性液晶化合物LC242(BASF公司制)100质量份，添加流平剂“BYK-361N”(BM Chemie公司制)0.1质量份、作为光聚合引发剂的2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮“Irgacure(注册商标)907(Irg907)”(BASF JAPAN株式会社制)3.0质量份、作为反应性添加剂的Laromer(注册商标)LR-9000(BASF JAPAN公司制)2.0质量份、作为交联剂的二季戊四醇六丙烯酸酯“NK ESTER A-DPH”(新中村化学工业公司制)5.0质量份。进而，以固体成分浓度为13％的方式添加环戊酮。将所得混合物在80℃下搅拌1小时后，冷却至室温为止，得到液晶层形成用组合物(A)。
[化学式2]
Figure BDA0002378518540000332
(层叠体的制造)
使用电晕处理装置(AGF-B10、春日电机株式会社制)，以2.6mJ/cm2的电晕处理能量对作为基材层的厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜进行处理。在实施了电晕处理的表面用棒涂机涂布上述光取向层形成用组合物(1)，在80℃下干燥1分钟，并使用偏振UV照射装置(SPOT CURE SP-7；USHIO电机公司制)，以100mJ/cm2的累积光量实施偏振UV曝光，得到光取向层。需要说明的是，以曝光后的光取向层的取向方向为45°的方式照射偏振UV。
接着，使用棒涂机在光取向层上涂布液晶层形成用组合物(A)，在120℃下干燥1分钟后，使用高压汞灯(UNICURE VB-15201BY-A、USHIO电机公司制)，照射紫外线(在氮气气氛下、波长：365nm、波长365nm处的累积光量：1000mJ/cm2)，由此形成作为相位差层的第1液晶层，得到层叠体。利用激光显微镜(LEXT、奥林巴斯株式会社制)测定所得光取向层的厚度，结果为100nm。利用相同的测定方法测定的第1液晶层的厚度为2μm。利用上述方法测定所得含第1液晶层的层的面内相位差值，结果为Re(550)＝258nm。
从所得层叠体剥离基材层时，含第1液晶层的层(带光取向层的第1液晶层)被分离。需要说明的是，仅仅带光取向层的第1液晶层被分离可通过基于上述激光显微镜的厚度测定来确认。利用上述步骤测定所得含第1液晶层的层的穿刺位移量，结果为1.0mm。另外，基材层与含第1液晶层的层(带光取向层的第1液晶层)之间的密合力为0.07N/25mm。另外，利用上述方法实施光学层叠体的评价时，第1液晶层的端部形状未观察到不规则形状、褶皱的发生，是良好的结果。另外，利用上述方法实施加工性的评价时，部分地产生了1.0mm以下的裂纹/伤痕。将它们的结果示于表1。
〔实施例2〕
如表1中记载的那样，除了未添加反应性添加剂之外进行与实施例1相同的操作来制备聚合性液晶组合物，并按照与实施例1相同的步骤使用其制作层叠体。
从所得层叠体剥离基材层时，仅第1液晶层从含基材层的层(带光取向层的基材层)分离。需要说明的是，仅第1液晶层被分离通过基于上述激光显微镜的厚度测定来确认。利用与实施例1相同的方法测定穿刺位移量，并且实施含基材层的层与第1液晶层之间的密合力测定、光学层叠体的剥离评价和加工性的评价。将结果示于表1。
〔实施例3〕
如表1中记载的那样，相对于聚合性液晶化合物添加15份的A-DPH作为交联剂，未添加反应性添加剂，除此之外，进行与实施例1相同的操作，制备聚合性液晶组合物，并按照与实施例1相同的步骤使用其制作层叠体。
从所得层叠体剥离基材层时，仅第1液晶层从含基材层的层(带光取向层的基材层)分离。需要说明的是，仅第1液晶层被分离通过基于上述激光显微镜的厚度测定来确认。利用与实施例1相同的方法测定穿刺位移量，并且实施含基材层的层与第1液晶层之间的密合力测定、光学层叠体的剥离评价和加工性的评价。将结果示于表1。
〔实施例4〕
如表1中记载的那样，相对于聚合性液晶化合物添加15份的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(NK ESTER A-TMPT(新中村化学工业公司制))作为交联剂，未添加反应性添加剂，除此之外，进行与实施例1相同的操作，制备聚合性液晶组合物，并按照与实施例1相同的步骤使用其制作层叠体。
从所得层叠体剥离基材层时，仅第1液晶层从含基材层的层(带光取向层的基材层)分离。需要说明的是，仅第1液晶层被分离通过基于上述激光显微镜的厚度测定来确认。利用与实施例1相同的方法测定穿刺位移量，并且实施含基材层的层与第1液晶层之间的密合力测定、光学层叠体的剥离评价和加工性的评价。将结果示于表1。
〔实施例5〕
如表1中记载的那样，相对于聚合性液晶化合物添加15份的氨基甲酸酯丙烯酸酯(UA-122P(新中村化学工业公司制))作为交联剂，未添加反应性添加剂，除此之外，进行与实施例1相同的操作，制备聚合性液晶组合物，并按照与实施例1相同的步骤使用其制作层叠体。
从所得层叠体剥离基材层时，仅第1液晶层从含基材层的层(带光取向层的基材层)分离。需要说明的是，仅第1液晶层被分离通过基于上述激光显微镜的厚度测定来确认。利用与实施例1相同的方法测定穿刺位移量，并且实施含基材层的层与第1液晶层之间的密合力测定、光学层叠体的剥离评价和加工性的评价。将结果示于表1。
〔实施例6〕
如表1中记载的那样，相对于聚合性液晶化合物添加15份的1，6-己二醇二丙烯酸酯(NK ESTER A-HD-N(新中村化学工业公司制))作为交联剂，未添加反应性添加剂，除此之外，进行与实施例1相同的操作，制备聚合性液晶组合物，按照与实施例1相同的步骤并使用其制作层叠体。
从所得层叠体剥离基材层时，仅第1液晶层从含基材层的层(带光取向层的基材层)分离。需要说明的是，仅第1液晶层被分离通过基于上述激光显微镜的厚度测定来确认。利用与实施例1相同的方法测定穿刺位移量，并且实施含基材层的层与第1液晶层之间的密合力测定、光学层叠体的剥离评价和加工性的评价。将结果示于表1。
[表1]
Figure BDA0002378518540000361

Claims (13)

1.一种层叠体，其是在包含基材层的含基材层的层上设置有包含第1液晶层的含第1液晶层的层的层叠体，其中，
所述含基材层的层相对于所述含第1液晶层的层能够剥离，
所述第1液晶层包含沿着相对于所述第1液晶层的面的水平方向发生了取向的液晶化合物，
所述含第1液晶层的层的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。
2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，所述含基材层的层与所述含第1液晶层的层之间的密合力为0.05N/25mm以上。
3.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述含基材层的层还包含取向层，
所述含第1液晶层的层设置于所述含基材层的层的所述取向层侧。
4.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述含第1液晶层的层还包含取向层，
所述含基材层的层设置于所述含第1液晶层的层的所述取向层侧。
5.一种带粘接层的层叠体，其是包含粘接层和权利要求1～4中任一项所述的层叠体的带粘接层的层叠体，
所述粘接层层叠于所述层叠体的所述含第1液晶层的层侧，
所述含第1液晶层的层具有未层叠所述粘接层的未层叠区域。
6.根据权利要求5所述的带粘接层的层叠体，其中，所述未层叠区域存在于所述带粘接层的层叠体中的宽度方向的至少一个端部。
7.一种带基材层的光学层叠体，其是依次包含权利要求1～4中任一项所述的层叠体、粘接层和光学功能层的带基材层的光学层叠体，其中，
所述粘接层设置于所述层叠体的所述含第1液晶层的层侧。
8.一种带基材层的光学层叠体，其中，在权利要求5或6所述的带粘接层的层叠体的所述粘接层上设置有光学功能层。
9.根据权利要求7或8所述的带基材层的光学层叠体，其中，所述光学功能层包含偏振层。
10.根据权利要求7～9中任一项所述的带基材层的光学层叠体，其中，所述光学功能层包含第2液晶层。
11.一种光学层叠体，其是依次含有包含第1’液晶层的含第1’液晶层的层、粘接层和光学功能层的光学层叠体，
所述第1’液晶层包含沿着相对于所述第1’液晶层的面的水平方向发生了取向的液晶化合物，
所述含第1’液晶层的层的穿刺试验中的位移量为2.0mm以下。
12.根据权利要求11所述的光学层叠体，其中，所述含第1’液晶层的层还包含取向层，
所述取向层设置于第1’液晶层的与所述粘接层相反的一侧。
13.一种光学层叠体的制造方法，其是依次含有包含第1’液晶层的含第1’液晶层的层、粘接层和光学功能层的光学层叠体的制造方法，
其包括从权利要求7～10中任一项所述的带基材层的光学层叠体剥离所述含基材层的层的工序。
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