CN111462615A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板包括第一衬底、位于该第一衬底上的反光构件、及位于该反光构件上的有机膜层；其中，该反光构件利用反光以减少该有机膜层边缘的非有机膜层残留。本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

Description

显示面板及其制作方法

技术领域

本申请涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

随着科技水平的提高，人民对显示面板的质量要求越来越高。

现有技术中，在显示面板的制作过程中，由于膜层较多，且挖孔或信号交错较复杂，膜层会留有较大段差、坡度较大的边缘坡，在后续导电材料涂布以及图案化处理时，较大段差、坡度较大边缘坡处的光阻弱曝严重，导致光阻残留，从而导致导电材料连残、短路的技术问题。

因此，亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。

发明内容

本申请提供了一种显示面板及其制作方法，以解决目前在显示面板的制作过程中，由于膜层较多，且挖孔或信号交错较复杂，膜层会留有较大段差、坡度较大的边缘坡，在后续导电材料涂布以及图案化处理时，较大段差、坡度较大边缘坡处的光阻弱曝严重，导致光阻残留，从而导致导电材料连残、短路的技术问题。

为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：

一种显示面板，所述显示面板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的反光构件、及位于所述反光构件上的有机膜层；

其中，所述反光构件利用反光以减少所述有机膜层边缘的非有机膜层残留。

在本申请的显示面板中，所述有机膜层覆盖所述反光构件，以及所述反光构件靠近所述有机膜层的边缘。

在本申请的显示面板中，所述反光构件包括多个第一反光部件，所述有机膜层搭接在所述第一反光部件上；

所述第一反光部件与所述显示面板的源漏极层或者栅极层同层设置。

在本申请的显示面板中，在远离所述有机膜层的方向上，所述第一反光部件的厚度逐渐减小。

在本申请的显示面板中，所述反光构件还包括多个位于所述第一反光部件上的第二反光部件，所述有机膜层搭接在所述第一反光部件及所述第二反光部件上；

所述第一反光部件与所述栅极层同层设置，所述第二反光部件与所述源漏极层同层设置；

在靠近所述有机膜层的一侧，所述第一反光部件向所述有机膜层延伸、以及凸出于所述第二反光部件。

在本申请的显示面板中，在远离所述有机膜层的方向上，所述第一反光部件的厚度逐渐减小，所述第二反光部件的厚度逐渐减小，所述第一反光部件的坡度大于所述第二反光部件的坡度。

在本申请的显示面板中，所述第一反光部件在所述有机膜层的外围间隔设置。

在本申请的显示面板中，所述有机膜层为所述显示面板的色阻层或所述显示面板的平坦层中的一种。

一种显示面板的制作方法，包括：

在第一衬底上形成反光材料层；

将所述反光材料层经图案化处理，形成反光构件；

在所述第一衬底上形成有机膜层，所述有机膜层位于所述反光构件上；

其中，所述反光构件利用反光以减少所述有机膜层边缘的非有机膜层残留。

在本申请的显示面板的制作方法中，在形成反光构件的步骤包括：

在第一衬底上依次形成第二反光材料层、及第一反光材料层；

将所述第二反光材料层、及所述第一反光材料层经图案化处理，形成多个第二反光部件、及多个第一反光部件；

其中，所述第一反光部件与所述第二反光部件构成所述反光构件，所述第二反光部件位于所述第一反光部件上，所述有机膜层搭接在所述第一反光部件及所述第二反光部件上，在靠近所述有机膜层的一侧，所述第一反光部件向所述有机膜层延伸、以及凸出于所述第二反光部件。

有益效果：本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请的显示面板的第一种结构的结构示意图；

图2为本申请的显示面板的第二种结构的结构示意图；

图3为本申请的显示面板的第三种结构的结构示意图；

图4为本申请的显示面板的第四种结构的结构示意图；

图5为本申请的显示面板的第五种结构的结构示意图；

图6为本申请的显示面板的第六种结构的结构示意图；

图7为本申请的显示面板的第七种结构的俯视示意图；

图8为本申请的显示面板的制作方法的步骤流程图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

现有技术中，在显示面板的制作过程中，由于膜层较多，且挖孔或信号交错较复杂，膜层会留有较大段差、坡度较大的边缘坡，在后续导电材料涂布以及图案化处理时，较大段差、坡度较大边缘坡处的光阻弱曝严重，导致光阻残留，从而导致导电材料连残、短路的技术问题。

请参阅图1～图7，本申请公开了一种显示面板100，所述显示面板100包括第一衬底200、位于所述第一衬底200上的反光构件400、及位于所述反光构件400上的有机膜层300；

其中，所述反光构件400利用反光以减少所述有机膜层300边缘的非有机膜层300残留。

本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。

请参阅图1～图7，所述显示面板100包括第一衬底200、位于所述第一衬底200上的反光构件400、及位于所述反光构件400上的有机膜层300。其中，所述反光构件400利用反光以减少所述有机膜层300边缘的非有机膜层300残留。

本实施例中，通过所述反光构件400的设置，在所述显示面板100的制作过程中，在所述有机膜层300上会有导电材料500的设置，在对导电材料500进行图案化处理时，会在导电材料500上涂布光阻层，因为所述反光构件400的设置，利用反光构件400对光的反射与衍射作用，与使得光阻层在曝光过程中，机膜层边缘处光阻得到充分地曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，所述有机膜层300覆盖所述反光构件400，以及所述反光构件400靠近所述有机膜层300的边缘，具体请参阅图2。此种设置方法，对于制作精度要求不高，结构简单，制作工艺简单，同时，在曝光过程中，反光构件400与机膜层边缘处光阻距离相对较远，曝光效果一般，但是比现有技术中的技术方案效果好。

本实施例中，所述反光构件400包括多个第一反光部件410，所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410上，具体请参阅图1，将图1中的反光构件400替换为第一反光部件410即可。所述第一反光部件410与所述显示面板100的源漏极层或者栅极层同层设置。通过将所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410上，在曝光过程中，缩小了第一反光部件410与所述机膜层边缘处光阻距离，所述第一反光部件410可以更好地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，在远离所述有机膜层300的方向上，所述第一反光部件410的厚度逐渐减小，具体请参阅图3。将所述第一反光部件410设置为斜坡状，从而进一步减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，并在导电材料500图案化处理过程中，所述第一反光部件410可以更好地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，所述反光构件400还包括多个位于所述第一反光部件410上的第二反光部件420，所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410及所述第二反光部件420上，具体请参阅图4。所述第一反光部件410与所述栅极层同层设置，所述第二反光部件420与所述源漏极层同层设置。在靠近所述有机膜层300的一侧，所述第一反光部件410向所述有机膜层300延伸、以及凸出于所述第二反光部件420。将所述反光构件400设置成包括第一反光部件410与第二反光部件420的台阶状，通过台阶状的反光构件400，在导电材料500图案化处理过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，当所述反光构件400只包括第一反光部件410时，所述第一反光部件410的外形可以为台阶状，在远离所述有机膜层300方向上，所述第一反光部件410的台阶状外形可以为上台阶状或下台阶状，一方面，可以减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，另一方面，在导电材料500图案化处理过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，在远离所述有机膜层300的方向上，所述第一反光部件410的厚度逐渐减小，所述第二反光部件420的厚度逐渐减小，所述第一反光部件410的坡度大于所述第二反光部件420的坡度，具体请参阅图5。一方面，可以减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，另一方面，在导电材料500图案化处理过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，在远离所述有机膜层300的一侧，所述第一反光部件410向远离所述有机膜层300方向延伸、以及凸出于所述第二反光部件420。所述有机膜层300覆盖所述第二反光部件420，所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410上，具体请参阅图6。此种为“下台阶”设置方式，可以减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，同时，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，所述第一反光部件410在所述有机膜层300的外围间隔设置，具体请参阅图7。所述第一反光部件410在所述有机膜层300边缘间隔设置，在导电材料500图案化处理过程中，一方面会，使导电材料500容易出现自身断连，另一方面，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，也方便了对光阻的曝光，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，所述有机膜层300为所述显示面板100的色阻层或所述显示面板100的平坦层中的一种。所述色阻层包括多个色阻，所述反光构件400可以位于所述色阻的边缘。

本实施例中，所述反光构件400的材料可以为反光材料，包括金属、反光膜，在此不做限定。当所述反光材料为金属时，可以与所述显示面板100的源漏极层或者栅极层同层设置。

本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

请参阅图8，本申请还提供了一种显示面板100的制作方法，包括：

S100、在第一衬底200上形成反光材料层；

S200、将所述反光材料层经图案化处理，形成反光构件400；

S300、在所述第一衬底200上形成有机膜层300，所述有机膜层300位于所述反光构件400上；

其中，所述反光构件400利用反光以减少所述有机膜层300边缘的非有机膜层300残留。

本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。

请参阅图1～图8，所述显示面板100的制作方法包括：

S100、在第一衬底200上形成反光材料层。

本实施例中，所述反光构件400的材料可以为反光材料，包括金属、反光膜，在此不做限定。当所述反光材料为金属时，可以与所述显示面板100的源漏极层或者栅极层同层设置。

S200、将所述反光材料层经图案化处理，形成反光构件400。

本实施例中，步骤S200包括：

S210、在第一衬底200上依次形成第一反光材料层。

S220、将所述第一反光材料层经图案化处理，形成多个第一反光部件410。

本实施例中，通过所述反光构件400的设置，在所述显示面板100的制作过程中，在所述有机膜层300上会有导电材料500的设置，在对导电材料500进行图案化处理时，会在导电材料500上涂布光阻层，因为所述反光构件400的设置，利用反光构件400对光的反射与衍射作用，与使得光阻层在曝光过程中，机膜层边缘处光阻得到充分地曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，所述反光构件400包括多个第一反光部件410，所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410上，具体请参阅图1，将图1中的反光构件400替换为第一反光部件410即可。所述第一反光部件410与所述显示面板100的源漏极层或者栅极层同层设置。通过将所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410上，在曝光过程中，缩小了第一反光部件410与所述机膜层边缘处光阻距离，所述第一反光部件410可以更好地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，在远离所述有机膜层300的方向上，所述第一反光部件410的厚度逐渐减小，具体请参阅图3。将所述第一反光部件410设置为斜坡状，从而进一步减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，并在导电材料500图案化处理过程中，所述第一反光部件410可以更好地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，当所述反光构件400只包括第一反光部件410时，所述第一反光部件410的外形可以为台阶状，在远离所述有机膜层300方向上，所述第一反光部件410的台阶状外形可以为上台阶状或下台阶状，一方面，可以减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，另一方面，在导电材料500图案化处理过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，步骤S200包括：

S210、在第一衬底200上依次形成第二反光材料层、及第一反光材料层。

S220、将所述第二反光材料层、及所述第一反光材料层经图案化处理，形成多个第二反光部件420、及多个第一反光部件410。

本实施例中，所述第一反光部件410与所述第二反光部件420构成所述反光构件400，所述第二反光部件420位于所述第一反光部件410上，所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410及所述第二反光部件420上，在靠近所述有机膜层300的一侧，所述第一反光部件410向所述有机膜层300延伸、以及凸出于所述第二反光部件420，具体请参阅图4。将所述反光构件400设置成包括第一反光部件410与第二反光部件420的台阶状，通过台阶状的反光构件400，在导电材料500图案化处理过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，步骤S200包括：

S210、在第一衬底200上形成第二反光材料层。

S220、将所述第二反光材料层经图案化处理，形成多个第二反光部件420。

S230、在第一衬底200上形成第一反光材料层。

S240、将所述第一反光材料层经图案化处理，形成多个第一反光部件410。

本实施例中，在远离所述有机膜层300的方向上，所述第一反光部件410的厚度逐渐减小，所述第二反光部件420的厚度逐渐减小，所述第一反光部件410的坡度大于所述第二反光部件420的坡度，具体请参阅图5。一方面，可以减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，另一方面，在导电材料500图案化处理过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，在远离所述有机膜层300的一侧，所述第一反光部件410向远离所述有机膜层300方向延伸、以及凸出于所述第二反光部件420。所述有机膜层300覆盖所述第二反光部件420，所述有机膜层300搭接在所述第一反光部件410上，具体请参阅图6。此种为“下台阶”设置方式，可以减缓有机膜层300的坡度变化，减少有机膜层300边缘处的光阻残留，同时，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

S300、在所述第一衬底200上形成有机膜层300，所述有机膜层300位于所述反光构件400上。

本实施例中，所述有机膜层300覆盖所述反光构件400，以及所述反光构件400靠近所述有机膜层300的边缘，具体请参阅图2。此种设置方法，对于制作精度要求不高，结构简单，制作工艺简单，同时，在曝光过程中，反光构件400与机膜层边缘处光阻距离相对较远，曝光效果一般，但是比现有技术中的技术方案效果好。

本实施例中，所述第一反光部件410在所述有机膜层300的外围间隔设置，具体请参阅图7。所述第一反光部件410在所述有机膜层300边缘间隔设置，在导电材料500图案化处理过程中，一方面，会使导电材料500容易出现自身断连，另一方面，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，也方便了对光阻的曝光，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本实施例中，所述有机膜层300为所述显示面板100的色阻层或所述显示面板100的平坦层中的一种。所述色阻层包括多个色阻，所述反光构件400可以位于所述色阻的边缘。

本实施例中，所述显示面板100的制作方法还包括：

S400、在所述第一衬底200上上形成一导电材料500层。

S500、通过图案化处理，将所述导电材料500层形成导电层。

本实施例中，步骤S500包括：

S510、在所述导电材料500层上形成一光阻层。

S520、通过曝光工艺，将所述光阻层进行曝光。

本实施例中，所述曝光工艺的曝光剂量相比现有的常规曝光剂量，曝光强度可以增加0mJ～30mJ。

本实施例中，因为所述反光构件400的设置，使得光阻层在曝光过程中，所述反光构件400可以更好地、多角度地将光线反射衍射，从而更好地对机膜层边缘处光阻曝光，从而使得在后续蚀刻过程中刻蚀掉导电材料500，解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

S530、通过显影刻蚀工艺，将所述导电材料500层形成预定图案的导电层。

本实施例中，有机膜层300会在较大段差、坡度较大的边缘坡处的光阻被曝光充分后，在显影刻蚀工艺时，减少导电材料500的残留，使导电材料500断连，从而解决了导电材料500连残、短路的技术问题。

本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板包括第一衬底、位于该第一衬底上的反光构件、及位于该反光构件上的有机膜层；其中，该反光构件利用反光以减少该有机膜层边缘的非有机膜层残留。本申请通过将有机膜层设置在反光部件上，在图案化导电材料过程中，增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光，从而减少导电材料的残留，解决了导电材料连残、短路的技术问题。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的反光构件、及位于所述反光构件上的有机膜层；

其中，所述反光构件利用反光以减少所述有机膜层边缘的非有机膜层残留。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机膜层覆盖所述反光构件，以及所述反光构件靠近所述有机膜层的边缘。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反光构件包括多个第一反光部件，所述有机膜层搭接在所述第一反光部件上；

所述第一反光部件与所述显示面板的源漏极层或者栅极层同层设置。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在远离所述有机膜层的方向上，所述第一反光部件的厚度逐渐减小。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述反光构件还包括多个位于所述第一反光部件上的第二反光部件，所述有机膜层搭接在所述第一反光部件及所述第二反光部件上；

所述第一反光部件与所述栅极层同层设置，所述第二反光部件与所述源漏极层同层设置；

在靠近所述有机膜层的一侧，所述第一反光部件向所述有机膜层延伸、以及凸出于所述第二反光部件。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，在远离所述有机膜层的方向上，所述第一反光部件的厚度逐渐减小，所述第二反光部件的厚度逐渐减小，所述第一反光部件的坡度大于所述第二反光部件的坡度。

7.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一反光部件在所述有机膜层的外围间隔设置。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机膜层为所述显示面板的色阻层或所述显示面板的平坦层中的一种。

9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在第一衬底上形成反光材料层；

将所述反光材料层经图案化处理，形成反光构件；

在所述第一衬底上形成有机膜层，所述有机膜层位于所述反光构件上；

其中，所述反光构件利用反光以减少所述有机膜层边缘的非有机膜层残留。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在形成反光构件的步骤包括：

在第一衬底上依次形成第二反光材料层、及第一反光材料层；

将所述第二反光材料层、及所述第一反光材料层经图案化处理，形成多个第二反光部件、及多个第一反光部件；

其中，所述第一反光部件与所述第二反光部件构成所述反光构件，所述第二反光部件位于所述第一反光部件上，所述有机膜层搭接在所述第一反光部件及所述第二反光部件上，在靠近所述有机膜层的一侧，所述第一反光部件向所述有机膜层延伸、以及凸出于所述第二反光部件。

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