CN105511236A - 光传导装置和曝光机 - Google Patents

光传导装置和曝光机 Download PDF

Info

Publication number
CN105511236A
CN105511236A CN201610112447.7A CN201610112447A CN105511236A CN 105511236 A CN105511236 A CN 105511236A CN 201610112447 A CN201610112447 A CN 201610112447A CN 105511236 A CN105511236 A CN 105511236A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
arcuate slots
reflecting optics
perforate
conduction device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610112447.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105511236B (zh
Inventor
孟小龙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201610112447.7A priority Critical patent/CN105511236B/zh
Publication of CN105511236A publication Critical patent/CN105511236A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105511236B publication Critical patent/CN105511236B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70108—Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Camera Data Copying Or Recording (AREA)
  • Illuminated Signs And Luminous Advertising (AREA)

Abstract

本发明提供一种光传导装置，应用于曝光机中，所述光传导装置包括弧形狭缝单元，所述弧形狭缝单元包括主体，所述主体设有弧形狭缝，所述主体还设有开孔，所述光传导装置还包括狭缝导光部和孔导光部，经由所述弧形狭缝的光线由所述狭缝导光部传导至待曝光膜的中间位置，经由所述开孔的光线由所述孔导光部传导至所述待曝光膜的边缘位置。根据本发明的光传导装置能够实现通过一次曝光即可完成曝光工作，防止待曝光膜的边缘出现光阻残留。本发明还提供一种曝光机。

Description

光传导装置和曝光机
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种光传导装置和曝光机。
背景技术
曝光是微加工过程中一个必不可少的工艺，特别是在显示行业，无论是电路的刻蚀，还是彩色滤光片的制作，都与曝光密切相关。
曝光机的有效曝光范围，是依据使用的待曝光膜尺寸、掩膜版尺寸、光学镜组等的匹配设计的，通常曝光区域无法覆盖整面待曝光膜，即使覆盖整面待曝光膜，但由于待曝光膜边缘的光阻厚度不均匀或烘烤温度有差异等因素，会导致边缘出现光阻残留。残留的光阻需要通过边缘曝光机将未曝光或未完全曝光的光阻曝光去除。因此，二次曝光会降低曝光的工作效率。
发明内容
本发明提供一种光传导装置，能够实现通过一次曝光即可完成曝光工作，防止待曝光膜的边缘出现光阻残留。
本发明提供一种光传导装置，应用于曝光机中，所述光传导装置包括弧形狭缝单元，所述弧形狭缝单元包括主体，所述主体设有弧形狭缝，所述主体还设有开孔，所述光传导装置还包括狭缝导光部和孔导光部，经由所述弧形狭缝的光线由所述狭缝导光部传导至待曝光膜的中间位置，经由所述开孔的光线由所述孔导光部传导至所述待曝光膜的边缘位置。
其中，所述开孔的数量为两个，所述两个开孔相对于所述弧形狭缝的对称轴呈对称分布。
其中，所述主体包括一对相对设置的边缘，所述两个开孔分别位于所述弧形狭缝和所述一对边缘之间。
其中，所述孔导光部包括两个反射镜片组，所述两个反射镜片组分别与所述两个开孔相对设置，用于将经由所述两个开孔传导的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，所述反射镜片组被设置成经过所述反射镜片组传导的光线不会干涉经由所述弧形狭缝的光线。
其中，所述弧形狭缝单元呈平板状，每个所述反射镜片组包括两个平行设置的反射镜片，所述两个反射镜片用于反射垂直射至所述弧形狭缝单元的光线，并使得反射后的光线垂直于所述弧形狭缝单元。每个所述反射镜片组的两个所述反射镜片均与所述弧形狭缝单元呈45度夹角。
其中，所述两个开孔分别为第一开孔和第二开孔；在其中一个反射镜片组中，其中一个所述反射镜片位于所述第一开孔的正下方，另一个所述反射镜片位于所述第一开孔之远离所述弧形狭缝的一侧；在另一个反射镜片组中，其中一个所述反射镜片位于所述第二开孔的正下方，另一个所述反射镜片位于所述第二开孔之远离所述弧形狭缝的一侧。
其中，所述孔导光部包括与所述两个开孔分别对应设置的两条光纤束，所述两条光纤束用于将通过所述两个开孔的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，所述光纤束设置成经由所述光纤束传导的光线不会干涉经由所述弧形狭缝的光线。
其中，所述两条光纤束相对设置，所述两条光纤束的一端分别设置在所述两个开孔内。
其中，所述狭缝导光部包括梯形镜片、凹面镜和凸面镜，经由所述弧形狭缝的光线依次经由所述梯形镜片、所述凹面镜和所述凸面镜，并且再依次经过所述凹面镜和所述梯形镜片二次反射从而传导至所述待曝光膜的中间位置。
本发明还提供一种曝光机，包括如前述任一项所述的光传导装置。
本发明中，光源发射的光线会由弧形狭缝单元的弧形狭缝遮挡成弧形光，该弧形光最后会传导至待曝光膜的中间位置，而弧形狭缝单元上设置的孔导光部可以将光源发射的光线传导至前述待曝光膜的边缘处，因此可以通过一次曝光就可完成曝光工作，可防止待曝光膜的边缘出现光阻残留。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本发明的光传导装置的结构示意图。
图2是根据本发明的弧形狭缝单元的平面示意图。
图3是光线在根据本发明的一个实施例的光传导装置中传导的示意图。
图4是根据本发明的另一个实施例的光传导装置的平面示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参照图1，根据本发明的光传导装置包括弧形狭缝单元1和狭缝导光部2，狭缝导光部2包括梯形镜片201、凹面镜202和凸面镜203，弧形狭缝单元1包括主体11，该主体11设有用于形成弧形光的弧形狭缝，光源(未示出)发射的光线会由弧形狭缝单元1的弧形狭缝遮挡成弧形光，该弧形光依次经由梯形镜片201、凹面镜202和凸面镜203，并且再经过凹面镜202和梯形镜片201二次反射至待曝光膜3的中间位置上。经弧形狭缝单元1遮挡后形成的弧形光经过狭缝导光部2的传导至待曝光膜3(例如光刻胶)的中间位置，会保证传导至待曝光膜3上的各点的光线的光程一致，因而可以对待曝光膜3进行均匀曝光。此外，弧形狭缝单元1的主体11设有开孔，经由开孔的光线会由孔导光部传导至待曝光膜的边缘位置，以去除边缘位置处的光阻。因此，待曝光膜3经过曝光机的一次曝光，即可去除待曝光膜上的光阻，从而完成曝光工作。
参照图2，在本发明的一个实施例中，呈平板状的弧形狭缝单元1的主体11包括弧形狭缝101、第一开孔102和第二开孔103，其中，第一开孔102和第二开孔103相对于弧形狭缝101的对称轴呈对称分布。主体11还包括一对相对设置的边缘104和105，第一开孔102和第二开孔103分别位于弧形狭缝101以及一对边缘104和105之间。弧形狭缝101用于将光源发射的光线遮挡成弧形光，该弧形光在经过狭缝导光部2的传导及放大后，会对待曝光膜3的中间位置进行曝光。经由开孔102和103的光线会由设置在开孔102和103下方的孔导光部进行传导，至待曝光膜3的边缘位置，从而对位于边缘位置的光阻进行曝光。因此，待曝光膜3经过曝光机的一次曝光，即可去除待曝光膜上的光阻，从而完成曝光工作，并且防止在待曝光膜3的边缘位置存在残留的光阻。
参照图3，根据本发明的光传导装置的孔导光部包括两个反射镜片组41和42，该两个反射镜片组41和42分别与两个开孔102和103相对设置并且均位于弧形狭缝单元1的同一侧，每个反射镜片组包括两个平行设置的反射镜片，每个反射镜片组的两个反射镜片均与呈平板状的弧形狭缝单元呈45度夹角。两个反射镜片用于反射垂直射至弧形狭缝单元1的光线，并使得反射后的光线垂直于弧形狭缝单元1。其中，在反射镜片组41中，其中一个反射镜片411位于主体11的第一开孔102的正下方，另一个反射镜片412位于第一开孔102之远离弧形狭缝101的一侧；在另一个反射镜片组42中，其中一个反射镜片421位于主体11的第二开孔103的正下方，另一个所述反射镜片422位于第二开孔103之远离弧形狭缝101的一侧。每个反射镜片组的两个反射镜片能够将透过第一开孔102和/或第二开孔103的光线传导至待曝光膜3的边缘位置，以去除边缘位置上的光阻。此外，每个反射镜片组被设置成经过该反射镜片组传导的光线不会干涉经由弧形狭缝101的光线，以防止经由开孔102和103传导的光线对待曝光膜3的正常成像造成影响。
参照图4，示出根据本发明的另一个实施例的光传导装置的弧形狭缝单元1',该弧形狭缝单元1'的本体11'包括弧形狭缝101'、两个开孔102'。弧形狭缝101'用于将光源发射的光线遮挡成弧形光，该弧形光在经过狭缝导光部的传导及放大后，会对待曝光膜的中间位置进行曝光。在本实施例中，光传导装置的孔导光部包括与两个开孔102'分别对应设置的两条光纤束40'，该两条光纤束40'的一端分别设置在两个开孔102'中，该光纤束40'具有一定的长度并且在弧形狭缝单元1'的同一侧延伸，该光纤束40'可以将通过开孔102'的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，因而可以对待曝光膜的边缘位置进行曝光，从而防止待曝光膜的边缘位置存在残留的光阻。因此，待曝光膜经过曝光机的一次曝光，即可去除待曝光膜上的光阻，从而完成曝光工作。此外，光纤束40'被设置成使得经由弧形狭缝101'传导的光线与经由开孔102'传导的光线不会产生干涉，以防止经由开孔102'传导的光线对待曝光膜的正常成像造成影响。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种光传导装置，应用于曝光机中，所述光传导装置包括弧形狭缝单元，所述弧形狭缝单元包括主体，所述主体设有弧形狭缝，其特征在于，所述主体还设有开孔，所述光传导装置还包括狭缝导光部和孔导光部，经由所述弧形狭缝的光线由所述狭缝导光部传导至待曝光膜的中间位置，经由所述开孔的光线由所述孔导光部传导至所述待曝光膜的边缘位置。
2.如权利要求1所述的光传导装置，其特征在于，所述开孔的数量为两个，所述两个开孔相对于所述弧形狭缝的对称轴呈对称分布。
3.如权利要求2所述的光传导装置，其特征在于，所述主体包括一对相对设置的边缘，所述两个开孔分别位于所述弧形狭缝和所述一对边缘之间。
4.如权利要求3所述的光传导装置，其特征在于，所述孔导光部包括两个反射镜片组，所述两个反射镜片组分别与所述两个开孔相对设置，用于将经由所述两个开孔传导的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，所述反射镜片组被设置成经过所述反射镜片组传导的光线不会干涉经由所述弧形狭缝的光线。
5.如权利要求4所述的光传导装置，其特征在于，所述弧形狭缝单元呈平板状，每个所述反射镜片组包括两个平行设置的反射镜片，所述两个反射镜片用于反射垂直射至所述弧形狭缝单元的光线，并使得反射后的光线垂直于所述弧形狭缝单元。
6.如权利要求5所述的光传导装置，其特征在于，所述两个开孔分别为第一开孔和第二开孔；在其中一个反射镜片组中，其中一个所述反射镜片位于所述第一开孔的正下方，另一个所述反射镜片位于所述第一开孔之远离所述弧形狭缝的一侧；在另一个反射镜片组中，其中一个所述反射镜片位于所述第二开孔的正下方，另一个所述反射镜片位于所述第二开孔之远离所述弧形狭缝的一侧。
7.如权利要求3所述的光传导装置，其特征在于，所述孔导光部包括与所述两个开孔分别对应设置的两条光纤束，所述两条光纤束用于将通过所述两个开孔的光线传导至所述待曝光膜的边缘位置，所述光纤束设置成经由所述光纤束传导的光线不会干涉经由所述弧形狭缝的光线。
8.如权利要求7所述的光传导装置，其特征在于，所述两条光纤束相对设置，所述两条光纤束的一端分别设置在所述两个开孔内。
9.如权利要求8所述的光传导装置，其特征在于，所述狭缝导光部包括梯形镜片、凹面镜和凸面镜，经由所述弧形狭缝的光线依次经由所述梯形镜片、所述凹面镜和所述凸面镜，并且再依次经过所述凹面镜和所述梯形镜片二次反射从而传导至所述待曝光膜的中间位置。
10.一种曝光机，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的光传导装置。
CN201610112447.7A 2016-02-29 2016-02-29 光传导装置和曝光机 Active CN105511236B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610112447.7A CN105511236B (zh) 2016-02-29 2016-02-29 光传导装置和曝光机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610112447.7A CN105511236B (zh) 2016-02-29 2016-02-29 光传导装置和曝光机

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105511236A true CN105511236A (zh) 2016-04-20
CN105511236B CN105511236B (zh) 2018-01-09

Family

ID=55719315

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610112447.7A Active CN105511236B (zh) 2016-02-29 2016-02-29 光传导装置和曝光机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105511236B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108051984A (zh) * 2017-12-11 2018-05-18 京东方科技集团股份有限公司 狭缝可调节的曝光装置
CN111462615A (zh) * 2020-04-27 2020-07-28 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02180013A (ja) * 1989-01-05 1990-07-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Ｘ線投影露光装置
CN102486991A (zh) * 2010-12-02 2012-06-06 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 晶圆表面光阻去边的方法
CN103389624A (zh) * 2012-05-11 2013-11-13 佳能株式会社 曝光装置、曝光方法、器件的制造方法以及开口板
JP2014192255A (ja) * 2013-03-26 2014-10-06 Canon Inc 露光装置および物品の製造方法
CN104950582A (zh) * 2014-03-24 2015-09-30 上海微电子装备有限公司 一种边缘曝光系统和边缘曝光方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02180013A (ja) * 1989-01-05 1990-07-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Ｘ線投影露光装置
CN102486991A (zh) * 2010-12-02 2012-06-06 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 晶圆表面光阻去边的方法
CN103389624A (zh) * 2012-05-11 2013-11-13 佳能株式会社 曝光装置、曝光方法、器件的制造方法以及开口板
JP2014192255A (ja) * 2013-03-26 2014-10-06 Canon Inc 露光装置および物品の製造方法
CN104950582A (zh) * 2014-03-24 2015-09-30 上海微电子装备有限公司 一种边缘曝光系统和边缘曝光方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108051984A (zh) * 2017-12-11 2018-05-18 京东方科技集团股份有限公司 狭缝可调节的曝光装置
CN108051984B (zh) * 2017-12-11 2020-05-01 京东方科技集团股份有限公司 狭缝可调节的曝光装置
CN111462615A (zh) * 2020-04-27 2020-07-28 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105511236B (zh) 2018-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20190377187A1 (en) Optical system for near-eye displays
US8498062B2 (en) Optical system
KR20160101110A (ko) 도파관 내부 및 도파관에 관련된 개선
TW200923591A (en) Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
JPS597359A (ja) 照明装置
US10656316B2 (en) Polarization dependent filter, system using the same, and associated kits and methods
JP2008087185A5 (zh)
JP2012168543A5 (ja) 投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
DE102012200407A1 (de) Projektionsvorrichtung und Verfahren zum Betreiben einer Projektionsvorrichtung
JP5039709B2 (ja) 光を均質化するための装置
JP6506982B2 (ja) 少なくとも１つの物体面及び少なくとも１つの像側屈折面を備えたレンズ
CN105511236A (zh) 光传导装置和曝光机
EP2840952B1 (en) Guide star generation
WO2018182923A1 (en) Toroidal micro lens array for use in a wavelength selective switch
JP2015031787A (ja) 波長選択スイッチ及びその製造方法
TW573138B (en) Optical module, alignment method of optical module, and alignment device of optical module
WO2021051960A1 (zh) 一种光谱处理装置以及可重构光分插复用器
JP2008242238A (ja) 露光装置
KR101418781B1 (ko) 고해상도 광학계에서의 조명 균일화 장치
CN106647179A (zh) 复眼匀光系统、光学引擎及光源优化装置
JP2016075936A5 (zh)
KR101815769B1 (ko) 광학 필터장치
US20170123298A1 (en) Lens system including interchangeable elements
JP3879142B2 (ja) 露光装置
US3726594A (en) Image positioning optical arrangement in projection printing system

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant