CN111349895A - 一种清理装置 - Google Patents

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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • B08B1/12
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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    • B08B15/04Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area from a small area, e.g. a tool

Abstract

本发明提供了一种清理装置,涉及工业设备领域。包括:承载架和清洁组件,所述承载架能够在所述真空溅射镀膜设备内移动,所述承载架上设有第一滑道,所述第一滑道上设有第二滑道,所述第二滑道能够沿所述第一滑道往复运动,所述清洁组件设置于所述第二滑道上,所述清洁组件能够沿所述第二滑道往复运动,所述第一滑道与所述第二滑道垂直,所述清洁组件用于对真空溅射镀膜设备内部进行清洁。本发明提供的清理装置通过溅射腔室内的进口和出口出入溅射腔室,并在进入溅射腔室后对溅射腔室进行清洁。避免了对溅射腔室进行开腔清洁,既能保证溅射腔室的清洁度,也不会因开腔导致对靶材等造成污染,大大节约了人力物力。

Description

一种清理装置
技术领域
本发明涉及工业设备领域,具体而言,涉及一种清理装置。
背景技术
作为目前最先进最有发展前景的薄膜发电技术之一,CIGS太阳能电池产业化发展已经开始在中国推广,并得到政府的大力支持。其具有轻薄的特点,可用玻璃、钢、塑料等材料作为基底,并且能制成刚性或柔性的太阳能组件,在建筑、车辆、户外运动、旅游等等方面都可广泛应用。
PVD真空溅射镀膜设备是工业生产中的基础设备,其具有沉积速度快、膜厚均匀性好,能大规模连续作业的优点。在CIGS生产工艺中PVD技术被广泛使用。PVD真空溅射镀膜设备在进行磁控溅射时对于溅射腔室的清洁度要求比较高,如果溅射腔室内部有杂物存在,不仅会造成产品不良,还会造成靶材短路,使机台被迫停机,并进行开腔检修。
在检修需要开腔时,靶材和腔室内器件完全暴露在空气中,靶材和腔室内器件的表面会吸附渗入大量的杂质气体(空气和水汽),暴露的时间越长吸附的杂质越多。在生产时这些杂质气体会缓慢释放,对溅射腔室内的整体气氛形成改变,从而影响PVD真空溅射镀膜设备的正常工作。故而,在每次进行开腔后,都需要更多的时间(一般还要溅射掉靶材表面层,简称烧靶)来讲溅射腔室恢复到无污染高真空状态,所以开腔是一种迫不得已的最终检修手段。
然而,PVD真空溅射镀膜设备在生产过程中也会产生的杂物,比如溅射到腔体内金属挡板上较厚的溅射废膜,在热胀冷缩或者偶然剐蹭下会有细小的片状膜层脱落,这些片状物脱离时若崩落到靶材接缝会伤害靶材,若填充到某些绝缘接缝处会导致靶材与机台导电,损害电源系统或者导致机台启动自保护系统强制停机。
由此可见,这些片状杂物是必然会出现的,而且一旦堆积过多,也必然会造成各种不良影响。所以一旦出现上述问题,必然需要开腔清理,而开腔清理就意味着停产,必然浪费大量时间及人力物力。
发明内容
本发明提供了一种清理装置,旨在改善PVD真空溅射镀膜设备当溅射腔室出现杂物时,只能进行开腔清理的问题。
本发明是这样实现的:
一种清理装置,设置于真空溅射镀膜设备内部,包括:承载架和清洁组件,所述承载架能够在所述真空溅射镀膜设备内移动,所述承载架上设有第一滑道,所述第一滑道上设有第二滑道,所述第二滑道能够沿所述第一滑道往复运动,所述清洁组件设置于所述第二滑道上,所述清洁组件能够沿所述第二滑道往复运动,所述第一滑道与所述第二滑道垂直,所述清洁组件用于对真空溅射镀膜设备内部进行清洁。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清洁组件包括承载板、摄像头和粘取组件,所述承载板设置所述第二滑道上,所述摄像头和所述粘取组件均设置于所述承载板上,所述粘取组件具有粘性。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述粘取组件包括第一伸缩杆和胶团,所述第一伸缩杆一端与所述承载板转动连接,另一端与所述胶团连接,所述胶团具有粘性。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清洁组件还包括清扫组件,所述清扫组件包括第二伸缩杆和扫刷,所述第二伸缩杆一端与所述承载板转动连接,另一端与所述扫刷连接。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清理装置还包括吸尘器,所述吸尘器设置于所述承载架上。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清洁组件还包括测距传感器,所述测距传感器设置于所述承载板上。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清洁组件还包括可变色LED灯,所述可变色LED灯设置于所述承载板上。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清洁组件还包括旋转刷组件,所述旋转刷包括第三伸缩杆和刷头,所述第三伸缩杆一端与所述承载板连接,另一端与所述刷头转动连接,所述刷头呈圆柱状,且所述刷头的轴线与所述承载板垂直。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述清理装置还包括压缩气泵和喷气嘴,所述压缩气泵设置于所述承载架上,所述喷气嘴设置于所述承载板上,所述压缩气泵和所述喷气嘴通过导气管连通。
进一步地,在本发明较佳的实施例中,所述承载架背离所述清洁组件的一侧设有粘贴层,所述粘贴层具有粘性。
本发明的有益效果是:本发明通过上述设计得到的清理装置,设置于真空溅射镀膜设备内部,且能够在真空溅射镀膜设备内移动。具体的,真空溅射镀膜设备内的溅射腔室具有用于待镀膜工件进出的进口和出口,本发明提供的清理装置也能够通过这个进口和出口进出溅射腔室。当清理装置进入溅射腔室后,清洁组件能够对溅射腔室内进行清洁,使溅射腔室的清洁度得以保证,确保真空溅射镀膜设备能够正常进行工作。同时,第一滑道和第二滑道相互配合,能够对清洁组件的位置进行调整,以保证清洁组件能够对溅射腔室内的各个位置进行清洁。本发明提供的清理装置通过溅射腔室内的进口和出口出入溅射腔室,并在进入溅射腔室后对溅射腔室进行清洁。避免了对溅射腔室进行开腔清洁,既能保证溅射腔室的清洁度,也不会因开腔导致对靶材等造成污染,大大节约了人力物力。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施方式的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1是本发明实施例提供的一种清理装置的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的一种清理装置中清洁组件的结构示意图。
图标:承载架1;第一滑道11;第二滑道12;滚轮13;清洁组件2;承载板21;摄像头22;粘取组件23;第一伸缩杆231;胶团232;测距传感器24;清扫组件25;第二伸缩杆251;扫刷252;喷气嘴26;可变色LED灯27;刷头28;吸尘器3;压缩气泵4。
具体实施方式
为使本发明实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施方式中的附图,对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式是本发明一部分实施方式,而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本发明保护的范围。因此,以下对在附图中提供的本发明的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施方式。基于本发明中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
实施例1,请参照图1-图2所示,本实施例提供一种清理装置,设置于真空溅射镀膜设备内部,包括:承载架1和清洁组件2,承载架1能够在真空溅射镀膜设备内移动,承载架1上设有第一滑道11,第一滑道11上设有第二滑道12,第二滑道12能够沿第一滑道11往复运动,清洁组件2设置于第二滑道12上,清洁组件2能够沿第二滑道12往复运动,第一滑道11与第二滑道12垂直,清洁组件2用于对真空溅射镀膜设备内部进行清洁。
本实施例提供的清理装置,设置于真空溅射镀膜设备内部,且能够在真空溅射镀膜设备内移动。具体的,真空溅射镀膜设备内的溅射腔室具有用于待镀膜工件进出的进口和出口,本实施例提供的清理装置也能够通过这个进口和出口进出溅射腔室。当清理装置进入溅射腔室后,清洁组件2能够对溅射腔室内进行清洁,使溅射腔室的清洁度得以保证,确保真空溅射镀膜设备能够正常进行工作。同时,第一滑道11和第二滑道12相互配合,能够对清洁组件2的位置进行调整,以保证清洁组件2能够对溅射腔室内的各个位置进行清洁。本实施例提供的清理装置通过溅射腔室内的进口和出口出入溅射腔室,并在进入溅射腔室后对溅射腔室进行清洁。避免了对溅射腔室进行开腔清洁,既能保证溅射腔室的清洁度,也不会因开腔导致对靶材等造成污染,大大节约了人力物力。
本实施例中,承载架1使用现有真空溅射镀膜设备内部用于运输待镀膜工件进出溅射腔室的物料运输架即可。具体的,承载架1呈中部镂空的方框状,也就是承载架1上具有一个通孔,且通孔为矩形。承载架1的上边缘和下边缘均设有滚轮13,承载架1上设有驱动滚轮13转动的驱动组件,具体可为驱动电机。驱动电机驱动滚轮13转动以带动承载架1在溅射腔室内移动。
第一滑道11设置于承载架1的通孔的边缘上,第二滑道12与第一滑道11滑动连接,且第一滑道11之间与第二滑道12之间也设有用于驱动第二滑道12沿第一滑道11移动的驱动组件,驱动组件可为现有任意一种的滑道驱动组件,例如直线电机,或直流电机配合螺杆和螺母的形式。只要保证能够驱动第二滑道12沿第一滑道11往复运动即可。
进一步地,请参照图2所示,在本实施例中,清洁组件2包括控制器、承载板21、摄像头22和粘取组件23,承载板21设置第二滑道12上,控制器可设置在承载架1上或承载板21上。摄像头22和粘取组件23均设置于承载板21上,粘取组件23具有粘性。摄像头22和粘取组件23均与控制器电连接。控制器能够控制摄像头22和粘取组件23工作。工作时,摄像头22用于对溅射腔室进行可视化检测,以检测溅射腔室内杂物的位置。待确定杂物的位置后,工作人员控制承载架1、第一滑道11以及第二滑道12工作,使清洁组件2运动至杂物所在位置,并控制粘取组件23对杂物进行粘取,以实现对溅射腔室的清洁。本实施例中,控制器可使用单片机、嵌入式处理器或PLC等控制设备,且控制器连接有无线信号收发器,以使工作人员能够在外部对控制器和和部件进行控制。为提高可视化检测精度,本实施例中,摄像头22选用CCD摄像头22。
进一步地,请参照图2所示,在本实施例中,清洁组件2还包括测距传感器24,测距传感器24设置于承载板21上,且与控制器电连接。测距传感器24能够测量与杂物之间的距离,使工作人员能够通过测量结果更准确的对清理装置进行操控。
进一步地,请参照图2所示,在本实施例中,粘取组件23包括第一伸缩杆231和胶团232,第一伸缩杆231一端与承载板21转动连接,另一端与胶团232连接,胶团232具有粘性,第一伸缩杆231的长度方向与承载板21平行,且第一伸缩杆231能够在平行承载板21的平面内转动。粘取组件23与控制器电连接。第一伸缩杆231为现有的电动伸缩杆,使工作人员能够通过控制器控制第一伸缩杆231旋转和伸缩,以使胶团232能够与杂物接触并对其进行粘取。
进一步地,请参照图2所示,在本实施例中,清洁组件2还包括清扫组件25,清扫组件25包括第二伸缩杆251和扫刷252,第二伸缩杆251一端与承载板21转动连接,另一端与扫刷252连接,第二伸缩杆251的长度方向与承载板21平行,且第二伸缩杆251能够在平行承载板21的平面内转动。清理装置还包括吸尘器3,吸尘器3设置于承载架1上,吸尘器3与清扫组件25均与控制器电连接。清扫组件25能够对贴附在溅射腔室内侧壁或内上壁上的杂物进行清扫,使其掉落在溅射腔室的底部。此时,可以通过吸尘器3对杂物进行吸取清理。第二伸缩杆251的结构与第一伸缩杆231类似,差别在于将胶团232替换为扫刷252,此处不加赘述。
进一步地,请参照图2所示,在本实施例中,清洁组件2还包括可变色LED灯27,可变色LED灯27设置于承载板21上。因为不同材质的镀膜采用的材料不同,所以形成的杂物的本质材料也是不同的。有些特殊材料需要在特定颜色的光照下才能被明显的观察到。本实施例中,可通过控制可变色LED灯27的颜色来发出不同颜色的光,已对应各种不同材质的杂物。
进一步地,请参照图2所示,在本实施例中,清洁组件2还包括旋转刷组件,旋转刷包括第三伸缩杆和刷头28,第三伸缩杆一端与承载板21连接,另一端与刷头28转动连接,刷头28呈圆柱状,且刷头28的轴线与承载板21垂直。第三伸缩杆能够在垂直于承载板21的方向上进行伸缩,刷头28能够以轴线为轴旋转。旋转刷组件能够配合清扫组件25对杂物进行清扫,且旋转刷组件在扫刷252时的作用力更大,适合对顽固杂物进行清扫。
进一步地,请参照图1和图2所示,在本实施例中,清理装置还包括压缩气泵4和喷气嘴26,压缩气泵4设置于承载架1上,喷气嘴26设置于承载板21上,压缩气泵4和喷气嘴26通过导气管连通,压缩气泵4与控制器电连接,喷气嘴26可设置为现有的可变向喷气嘴或定向喷气嘴,若设置为定向喷气嘴,定向喷气嘴的喷气方向朝向溅射腔室的内顶面。压缩气泵4内为氩气,压缩气泵4为喷气嘴26提供压缩气体,对溅射腔室进行喷吹。可以高效率的对浮在溅射腔室内表面的杂物进行清理。使其落在底面上被吸尘器3吸取。
进一步地,在本实施例中,承载架1背离清洁组件2的一侧设有粘贴层,粘贴层具有粘性。粘贴层可使用单面或双面胶布制成。能够对漂浮在空中的、扫刷252扫起的或喷气嘴26喷到空中的杂物进行粘取,并带离溅射腔室。粘贴层内可设置金属丝网格栅,以增强粘贴层的强度。
以上所述仅为本发明的优选实施方式而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种清理装置,设置于真空溅射镀膜设备内部,其特征在于,包括:承载架和清洁组件,所述承载架能够在所述真空溅射镀膜设备内移动,所述承载架上设有第一滑道,所述第一滑道上设有第二滑道,所述第二滑道能够沿所述第一滑道往复运动,所述清洁组件设置于所述第二滑道上,所述清洁组件能够沿所述第二滑道往复运动,所述第一滑道与所述第二滑道垂直,所述清洁组件用于对真空溅射镀膜设备内部进行清洁。
2.根据权利要求1所述的清理装置,其特征在于,所述清洁组件包括承载板、摄像头和粘取组件,所述承载板设置所述第二滑道上,所述摄像头和所述粘取组件均设置于所述承载板上,所述粘取组件具有粘性。
3.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述粘取组件包括第一伸缩杆和胶团,所述第一伸缩杆一端与所述承载板转动连接,另一端与所述胶团连接,所述胶团具有粘性。
4.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述清洁组件还包括清扫组件,所述清扫组件包括第二伸缩杆和扫刷,所述第二伸缩杆一端与所述承载板转动连接,另一端与所述扫刷连接。
5.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述清理装置还包括吸尘器,所述吸尘器设置于所述承载架上。
6.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述清洁组件还包括测距传感器,所述测距传感器设置于所述承载板上。
7.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述清洁组件还包括可变色LED灯,所述可变色LED灯设置于所述承载板上。
8.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述清洁组件还包括旋转刷组件,所述旋转刷包括第三伸缩杆和刷头,所述第三伸缩杆一端与所述承载板连接,另一端与所述刷头转动连接,所述刷头呈圆柱状,且所述刷头的轴线与所述承载板垂直。
9.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述清理装置还包括压缩气泵和喷气嘴,所述压缩气泵设置于所述承载架上,所述喷气嘴设置于所述承载板上,所述压缩气泵和所述喷气嘴通过导气管连通。
10.根据权利要求2所述的清理装置,其特征在于,所述承载架背离所述清洁组件的一侧设有粘贴层,所述粘贴层具有粘性。
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