CN111876746A - 防着板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种防着板，其包括靶材区，所述靶材区包括靶材和附着在所述靶材上的污染物；清洁装置，所述清洁装置包括：本体；定位模块，所述定位模块设置在所述本体上，所述定位模块用于定位所述污染物在所述靶材区上的位置，当使用所述定位模块定位所述污染物时，所述定位模块与所述靶材区相对设置；清洁模块，所述清洁模块用于对所述污染物进行清洁。该方案设置了具有定位模块和清洁模块的清洁装置，先通过定位模块对靶材区的污染物进行定位，再使用清洁模块对污染物进行清洁，提高了使用该防着板制备的薄膜的平整度。

Description

防着板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种防着板。
背景技术
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)利用电浆或电弧的能量将靶材上的原子沉积到基材上形成薄膜。
当靶材纯度不高时，溅射过程中溅射的粒子团沉积在防着板靶材表面形成结瘤，使制备的薄膜表面平整度降低，造成薄膜导电率和透光率均下降。
故，有必要提供一种具有清洁功能的防着板，可以对靶材表面进行清洗。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防着板，可以提高制备的薄膜的平整度。
本发明实施例提供了一种防着板，其包括：
靶材区，所述靶材区包括靶材和附着在所述靶材上的污染物；
清洁装置，所述清洁装置包括：
本体；
定位模块，所述定位模块设置在所述本体上，所述定位模块用于定位所述污染物在所述靶材区上的位置，当使用所述定位模块定位所述污染物时，所述定位模块与所述靶材区相对设置；
清洁模块，所述清洁模块用于对所述污染物进行清洁。
在一实施例中，所述防着板还包括：
非靶材区，所述非靶材区围绕所述靶材区设置；
滑动模块，所述滑动模块包括：
第一轴、第二轴、第三轴、第四轴、第五轴、第六轴以及第七轴，其中所述第一轴、所述第二轴、所述第三轴、所述第四轴、所述第五轴以及所述第六轴设置在所述非靶材区，所述第七轴上设置所述清洁模块，使所述清洁模块沿所述第七轴滑动；
所述第二轴与所述第一轴平行；
所述第三轴的一端与所述第一轴的一端固定，且所述第三轴与所述第一轴相互垂直；
所述第四轴的一端与所述第一轴的另一端固定，所述第四轴与所述第一轴相互垂直，且所述第四轴与所述第三轴相互平行；
所述第五轴的一端与所述第二轴的一端固定，所述第五轴与所述第二轴相互垂直，且所述第五轴与所述第三轴平行；
所述第六轴的一端与所述第二轴的另一端固定，所述第六轴与所述第二轴相互垂直，所述第六轴与所述第五轴相互平行，且所述第六轴与所述第四轴相互平行；
所述第七轴沿所述第四轴和所述第六轴滑动，所述第七轴沿所述第一轴和所述第二轴滑动，且所述第七轴沿所述第三轴和所述第五轴滑动。
在一实施例中，所述防着板还包括:
控制模块，所述控制模块用于控制所述清洁模块在所述第七轴上的滑动速度和滑动方向，所述控制模块还用于控制所述第七轴的滑动速度和滑动方向。
在一实施例中，所述清洁模块还包括：
第一清洁模块，所述第一清洁模块设置在所述本体的一侧；
第二清洁模块，所述第二清洁模块设置在所述本体的另一侧，所述一侧和所述另一侧相邻设置。
在一实施例中，所述清洁模块包括：
分离部，所述分离部用于将所述污染物从所述靶材区上分离，得到分离后的污染物；
去除部，所述去除部用于去除所述分离后的污染物。
在一实施例中，所述清洁模块还包括：
调节部，所述调节部用于根据所述清洁模块的运动方向调节所述分离部和所述去除部的位置，使所述分离部在所述去除部的前方分离所述污染物。
在一实施例中，所述分离部包括刮刀，所述去除部包括刷子。
在一实施例中，所述清洁模块还包括：
激光发射部，所述激光发射部用于向所述污染物发射激光，以去除所述污染物。
在一实施例中，所述清洁模块还包括：
回收部，所述回收部设置在所述去除部下方，所述回收部用于收集所述分离后的污染物。
在一实施例中，所述定位模块包括：
图像采集部，所述图像采集部用于采集所述靶材区的图像信息；
图像分析部，所述图像分析部用于根据所述图像信息，确定所述靶材区上所述污染物的位置。
本发明实施例的防着板中，设置了具有定位模块和清洁模块的清洁装置，先通过定位模块对靶材区的污染物进行定位，再使用清洁模块对污染物进行清洁，提高了使用该防着板制备的薄膜的平整度。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明实施例提供的防着板的结构示意图。
图2为本发明实施例提供的清洁装置的示意图。
图3为本发明实施例提供的第七轴的运动轨迹示意图。
图4为本发明实施例提供的清洁装置清洁防着板的场景示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本发明实施例提供了一种防着板。请参照图1，图1为本发明实施例提供的防着板的结构示意图。如图1所示，防着板1包括靶材区11和清洁装置12。
靶材区11包括靶材111和附着在靶材111上的污染物112。需要说明的是，由于使用防着板进行溅射时，靶材区11上方和下方的磁场最强，因此附着在靶材区11上方和下方的污染物112也相应最多。
如图2所示，清洁装置12包括：本体121、定位模块122和清洁模块123。
定位模块122设置在本体121上，定位模块122用于定位污染物112在靶材区11上的位置，当使用定位模块122定位污染物112时，定位模块122与靶材区11相对设置。
在一实施例中，定位模块122包括：图像采集部和图像分析部。图像采集部用于采集靶材区11的图像信息，其中图像采集部可以为摄像头。进一步的，清洁装置12还包括开关模块，用于控制图像采集部的开启与关闭。图像分析部用于对图像信息进行分析，确定靶材区11上污染物112的位置。
清洁模块123用于对污染物112进行清洁。其中，清洁模块123包括：第一清洁模块1231和第二清洁模块1232。
在一实施例中，可以在本体121的相对侧均设置一第一清洁模块1231，在本体121的另一相对侧均设置一第二清洁模块1232。在对污染物112进行清洁时，即使一侧的第一清洁模块1231没有将污染物112清洁完全，相对侧的第一清洁模块1231可以将污染物进行进一步清理。同理的，即使一侧的第二清洁模块1232没有将污染物112清洁完全，相对侧的第二清洁模块1232可以将污染物进行进一步清理。
在一实施例中，由于靶材区11中的靶材111具有不平整的特点，为了保持清洁装置12在清洁过程中的平稳性，如图1所示，还可以将第一清洁模块1231设置在本体121的一侧，将第二清洁模块1232设置在本体121的另一侧，其中一侧和另一侧相邻设置。
在一实施例中，如图2所示，清洁模块123包括：分离部1233和去除部1234。分离部1233用于将污染物112从靶材区上分离，得到分离后的污染物112。在一实施例中，分离部1233包括刮刀。去除部1234用于去除分离后的污染物112。在一实施例中，去除部1234包括刷子，比如铜刷。
在一实施例中，清洁模块123还包括：调节部。调节部用于根据清洁模块123的运动方向调节分离部1233和去除部1234的位置，使分离部1233在去除部1234的前方分离污染物112，而去除部1234在分离部1233的后方去除分离后的污染物112。
在一实施例中，清洁模块123还包括：激光发射部。激光发射部用于向污染物112发射激光，以去除污染物112。其中，激光发射部发射的激光能量较大，可以去除顽固的污染物112。
在一实施例中，清洁模块123还包括：回收部。回收部设置在去除部1234下方，回收部用于收集分离后的污染物112。可以避免污染物112掉落时对靶材111造成二次污染。
在一实施例中，防着板1还包括：非靶材区13和滑动模块14。其中，非靶材区13围绕靶材区11设置。
滑动模块14包括：第一轴141、第二轴142、第三轴143、第四轴144、第五轴145、第六轴146以及第七轴147，其中第一轴141、第二轴142、第三轴143、第四轴144、第五轴145以及第六轴146设置在靶材区11，第七轴147上设置清洁模块123，使清洁模块123沿第七轴147滑动。其中，第一轴141、第二轴142、第三轴143、第四轴144、第五轴145、第六轴146可以为导轨，比如螺纹状旋进导轨、磁吸导轨等。第七轴147可以为滑轨或滑杆。
第二轴142与第一轴141平行。第三轴143的一端与第一轴141的一端固定，且第三轴143与第一轴141相互垂直。第四轴144的一端与第一轴141的另一端固定，第四轴144与第一轴141相互垂直，且第四轴144与第三轴143相互平行。第五轴145的一端与第二轴142的一端固定，第五轴145与第二轴142相互垂直，且第五轴145与第三轴143平行。第六轴146的一端与第二轴142的另一端固定，第六轴146与第二轴142相互垂直，第六轴146与第五轴145相互平行，且第六轴146与第四轴144相互平行。如图3所示，第七轴147沿第四轴144和第六轴146滑动，第七轴147沿第一轴141和第二轴142滑动，且第七轴147沿第三轴143和第五轴145滑动。结合图1和图3可知，第七轴147绕着靶材区111的上方、正面和下方滑动。
如图1所示，清洁模块123设置在第七轴147上，可以沿第七轴147滑动。清洁模块123可以通过第七轴147沿第一轴141和第二轴142滑动，对靶材区111正面的污染物112进行上下清洁，还可以通过沿第七轴147滑动，对靶材区111正面的污染物112进行左右清洁。同理的，结合图4可知，清洁模块123还可以通过自身沿第七轴147滑动，以及通过第七轴147沿第三轴143和第五轴145滑动，实现对靶材区111上方污染物112的清洁。进一步的，清洁模块123还可以通过自身沿第七轴147滑动，以及通过第七轴147沿第四轴144和第六轴146滑动，实现对靶材区111下方污染物112的清洁。综上，清洁模块123不仅可以清洁靶材区111正面的污染物112，还可以清洁靶材区上方和下方的污染物112，从而确保清洁无死角。
在一实施例中，防着板1还包括:控制模块。控制模块用于控制清洁模块123在第七轴147上的滑动速度和滑动方向，控制模块还用于控制第七轴147的滑动速度和滑动方向。
本发明实施例的防着板中，设置了具有定位模块和清洁模块的清洁装置，先通过定位模块对靶材区的污染物进行定位，再使用清洁模块对污染物进行清洁，提高了使用该防着板制备的薄膜的平整度。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种防着板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种防着板，其特征在于，包括：
靶材区，所述靶材区包括靶材和附着在所述靶材上的污染物；
清洁装置，所述清洁装置包括：
本体；
定位模块，所述定位模块设置在所述本体上，所述定位模块用于定位所述污染物在所述靶材区上的位置，当使用所述定位模块定位所述污染物时，所述定位模块与所述靶材区相对设置；
清洁模块，所述清洁模块用于对所述污染物进行清洁。
2.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，还包括：
非靶材区，所述非靶材区围绕所述靶材区设置；
滑动模块，所述滑动模块包括：
第一轴、第二轴、第三轴、第四轴、第五轴、第六轴以及第七轴，其中所述第一轴、所述第二轴、所述第三轴、所述第四轴、所述第五轴以及所述第六轴设置在所述非靶材区，所述第七轴上设置所述清洁模块，使所述清洁模块沿所述第七轴滑动；
所述第二轴与所述第一轴平行；
所述第三轴的一端与所述第一轴的一端固定，且所述第三轴与所述第一轴相互垂直；
所述第四轴的一端与所述第一轴的另一端固定，所述第四轴与所述第一轴相互垂直，且所述第四轴与所述第三轴相互平行；
所述第五轴的一端与所述第二轴的一端固定，所述第五轴与所述第二轴相互垂直，且所述第五轴与所述第三轴平行；
所述第六轴的一端与所述第二轴的另一端固定，所述第六轴与所述第二轴相互垂直，所述第六轴与所述第五轴相互平行，且所述第六轴与所述第四轴相互平行；
所述第七轴沿所述第四轴和所述第六轴滑动，所述第七轴沿所述第一轴和所述第二轴滑动，且所述第七轴沿所述第三轴和所述第五轴滑动。
3.根据权利要求2所述的防着板，其特征在于，还包括:
控制模块，所述控制模块用于控制所述清洁模块在所述第七轴上的滑动速度和滑动方向，所述控制模块还用于控制所述第七轴的滑动速度和滑动方向。
4.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述清洁模块还包括：
第一清洁模块，所述第一清洁模块设置在所述本体的一侧；
第二清洁模块，所述第二清洁模块设置在所述本体的另一侧，所述一侧和所述另一侧相邻设置。
5.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述清洁模块包括：
分离部，所述分离部用于将所述污染物从所述靶材区上分离，得到分离后的污染物；
去除部，所述去除部用于去除所述分离后的污染物。
6.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述清洁模块还包括：
调节部，所述调节部用于根据所述清洁模块的运动方向调节所述分离部和所述去除部的位置，使所述分离部在所述去除部的前方分离所述污染物。
7.根据权利要求5所述的防着板，其特征在于，所述分离部包括刮刀，所述去除部包括刷子。
8.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述清洁模块还包括：
激光发射部，所述激光发射部用于向所述污染物发射激光，以去除所述污染物。
9.根据权利要求5所述的防着板，其特征在于，所述清洁模块还包括：
回收部，所述回收部设置在所述去除部下方，所述回收部用于收集所述分离后的污染物。
10.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述定位模块包括：
图像采集部，所述图像采集部用于采集所述靶材区的图像信息；
图像分析部，所述图像分析部用于根据所述图像信息，确定所述靶材区上所述污染物的位置。
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